JP2001228305A

JP2001228305A - 反射防止層

Info

Publication number: JP2001228305A
Application number: JP2000168645A
Authority: JP
Inventors: Nobuyuki Kurata; 信行蔵田; Tetsuji Hattori; 哲治服部; Akiko Shimizu; 朗子清水
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 1999-12-06
Filing date: 2000-06-06
Publication date: 2001-08-24

Abstract

(57)【要約】【課題】可視光の広い波長範囲に亙って反射率の低い
反射防止層を提供する。【解決手段】透光性基材の表面に設けられ、該透光性
基材側から空気層側へ順に、樹脂および屈折率が１．５
以上である粒子からなり屈折率が１．７０〜１．８０で
あり光学膜厚が０．２１λ〜０．２９λである第１層
と、屈折率が２．２０以上であり光学膜厚が０．４１λ
〜０．５４λである第２層と、屈折率が１．４４〜１．
４９であり光学膜厚が０．２２λ〜０．２７λである第
３層とが積層されていることを特徴とする反射防止層。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止層に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来から、冷陰極線管（ＣＲＴ）、プラ
ズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）なの前面に配置され
る光学フィルター、液晶表示装置、エレクトロルミネッ
センス表示装置（ＥＬＰ）などの表面には、外光の写り
込みを防止するための反射防止層が設けられている。か
かる反射防止層としては、可視光の広い波長範囲に亙り
反射率の小さい反射防止層が求められている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、可視光の広い波長範囲に亙って反射率の低い反射防
止層を開発するべく鋭意検討した結果、反射防止層を３
層構成とし、第３層を屈折率１．４４〜１．４９で光学
膜厚を０．２２λ〜０．２７λとし、第２層の屈折率を
２．２０以上で光学膜厚を０．２１λ〜０．２９λとす
ると共に、第１層の屈折率を１．７０〜１．８０とする
ことにより、可視光の全波長範囲に亙り低い反射率とし
得ることを見出し、本発明に至った。

【０００４】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、透
光性基材の表面に設けられ、該透光性基材側から空気層
側へ順に、樹脂および屈折率が１．５以上である粒子か
らなり屈折率が１．７０〜１．８０であり光学膜厚が
０．２１λ〜０．２９λである第１層と、屈折率が２．
２０以上であり光学膜厚が０．４１λ〜０．５４λであ
る第２層と、屈折率が１．４４〜１．４９であり光学膜
厚が０．２２λ〜０．２７λである第３層とが積層され
ていることを特徴とする反射防止層を提供するものであ
る。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止層に適用される
透光性基材は、その形状が板状、フィルム状、シート状
などの平面状であってもよいし、レンズなどのように曲
面を有する形状であってもよい。

【０００６】かかる透光性基材としては、例えば石英ガ
ラス、アルカリガラスなどの無機ガラス、サファイアな
どの無機材料であってもよい。また、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニ
ルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオ
ニルセルロース、ニトロセルロース、アセテートブチレ
ートセルロースなどのセルロース樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチ
レンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジ
メチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフ
ェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレートなどの
ポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリア
クリロニトリル、ポリメタクリロニトリルなどのアクリ
ル樹脂、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ社製）などのノルボルネン
樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペン
テン、ＺＥＯＮＥＸ（日本ゼオン社製）などのポリオレ
フィン樹脂、ポリウレタン樹脂、芳香族ポリアミドなど
のポリアミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルス
ルホン樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリエーテルイ
ミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオ
キシエチレン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリビニルアル
コール樹脂、ポリ４フッ化エチレン、ポリフッ化ビニル
などのフッ素樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルア
セタール樹脂などの高分子材料であってもよい。これら
の樹脂は結晶性であってもよいし、非晶性であってもよ
い。かかる透光性基材の屈折率は１．４８〜１．６０で
あることが好ましい。

【０００７】透光性基材は、帯電防止処理が施されてい
てもよい。帯電防止処理としては、例えば透光性基材と
して界面活性剤などの帯電防止剤を含有させる方法が挙
げられる。また、透光性基材の表面に界面活性剤、アン
モニウム塩などからなるカチオン系帯電防止剤、アニオ
ン系帯電防止剤、酸化スズ、酸化インジウム、酸化アン
チモンなどの導電性無機化合物の粒子がペンタエリスリ
トールなどのバインダーに分散された無機帯電防止剤な
どからなる層を設けてもよい。かかる層は塗工などの通
常の方法で透光性基材の表面に設けることができる。

【０００８】透光性基材はその表面に、中間層を有して
いてもよい。中間層は、例えば第１層との密着性を向上
するためや表面の硬度を向上させるたに用いられる。か
かる中間層としては、例えばアクリル樹脂、ウレタン樹
脂、シリコン樹脂、カルド樹脂、ポリシラザン樹脂など
の高分子からなる層が挙げられる。かかる中間層は硬化
性化合物を塗布後硬化させる通常の方法により設けるこ
とができる。また、酸化ケイ素、酸化アルミニウムなど
の金属酸化物や、クロムなどの金属などからなる層など
も挙げられ、その厚みは通常３ｎｍ〜２０ｎｍ程度であ
る。かかる中間層は、帯電防止処理が施されていてもよ
く、例えば中間層に帯電防止剤を含有させておけばよ
い。

【０００９】透光性基材は、その表面に凹凸が設けられ
ていて防眩性が付与されていてもよい。かかる凹凸を設
けるには、例えば中間層として、シリカゲル、樹脂ビー
ズ、ガラスビーズなどの粒子が樹脂に分散された層を透
光性基材の表面に設けてもよいし、基材表面にエッチン
グ処理、マット処理などを施してもよい。具体的には、
無定形シリカ粒子を含有する硬化被膜を設ける方法（特
公昭６３−４０２８２号公報、特公平４−６５０９５号
公報など）、サンドブラストにより表面をマット処理す
る方法（特公平１−５３８３５号公報）、エンボス加工
を施す方法（特開昭５９−１０９００４号公報）などが
挙げられる。

【００１０】透光性基材はその表面に表面処理が施され
ていてもよい。表面処理としては、例えば真空中での加
熱処理、コロナ処理、イオンボンバード処理、プラズマ
処理、紫外線照射処理、電子線照射処理などが挙げられ
る。

【００１１】本発明の反射防止層は、かかる透光性基材
の表面に設けられるものであり、該透光性基材側から空
気層側へ順に、第１層と第２層と第３層とが積層されて
いる。

【００１２】第１層は、樹脂および屈折率が１．５以上
である粒子からなる。樹脂としては、例えば熱硬化樹
脂、電離放射線硬化樹脂などが挙げられ、これらはそれ
ぞれ単独で用いられてもよいし、混合されて用いられて
もよい。かかる第１層は、例えば硬化性化合物および粒
子の混合物を透光性基材の表面に塗布して塗膜とし、こ
れを硬化させる方法により設けることができる。

【００１３】硬化性化合物としては、アクリレート系官
能基を有する化合物が好ましく、例えばエステル化合
物、エーテル化合物、アクリル化合物、エポキシ化合
物、ウレタン化合物、アルキッド化合物、スピロアセタ
ール、ブタジエン、チオールポリエン化合物、多価アル
コールなどの多官能化合物のアクリレートまたはメタク
リレートなどのオリゴマーやプレオリゴマーなど、エチ
ルアクリレート、エチルヘキシルアクリレート、エチル
メタクリレート、エチルヘキシルメタクリレートなどの
単官能ポリマー、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、トリメチロールエタントリアクリレート、１，４
−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ヘキサンジオールアクリレー
ト、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１，
２，４−シクロヘキサンテトラメタクリレート、１，６
ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレートなどの多官能アクリレート、エチル
メタクリレート、エチルヘキシルメタクリレート、スチ
レン、ビニルトルエン、Ｎ−ビニルピロリドンなどの単
官能ポリマー、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、１，
４−シクロヘキサンジメタクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラメタクリレート、ヘキサンジオールメタク
リレート、トリプロピレングリコールジメタクリレー
ト、ジエチレングリコールジメタクリレート、ペンタエ
リスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメ
タクリレート１，２，４−シクロヘキサンテトラメタク
リレート、１，６ヘキサンジオールジメタクリレート、
ネオペンチルグリコールジメタクリレートなどの多官能
メタクリレートなどがあげられる。多官能アクリレート
の市販品としては、例えば「ＵＶ−６３００Ｂ」（日本
合成化学社製）があげられる。単官能アクリレート、多
官能アクリレートは、溶剤としても使用される。

【００１４】また、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビ
ニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，
４−ジビニルシクロヘキサノンなどのスチレン誘導体、
ジビニルスルホンなどのビニルスルホン類、メチレンビ
スアクリルアミドなどのアクリルアミド類、メタクリル
アミド類、「デナコールＥＸ−３１３」（長瀬化成
製）、「デナコールＥＸ−５２１」（長瀬化成製）など
の多官能エポキシ化合物も用いることができる。さらに
一分子中に例えばイソシアナート基を有する２官能アク
リレート化合物（市販品としては「ＵＶ−８０００Ｂ」
（日本合成化学製）など）も用いることができる。

【００１５】粒子としては、例えばＺｎＯ、ＴｉＯ₂、
Ｓｂ₂Ｏ₅、ＳｎＯ₂、インジウム−スズ複合酸化物、Ｙ₂
Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｈｆ₂Ｏ₃、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｂｉ₂
Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅、ＭｏＯ₃およびＺｒＯ₂から選ばれる１
種以上の粒子が挙げられる。粒子の粒径は通常５〜５０
ｎｍである。かかる粒子の屈折率は１．５以上である
が、通常は３以下である。

【００１６】第１層は、かかる硬化性化合物および粒子
の混合物を透光性基材の表面に塗布後、硬化させる方法
により設けることができるが、硬化性化合物が電離放射
線により硬化する電離放射線硬化性化合物である場合、
硬化性化合物と粒子との混合物は、反応性有機ケイ素化
合物を含有していてもよい。反応性有機ケイ素化合物と
しては、一般式（１）Ｒ_mＳｉ（ＯＲ’）_n （１）（式中、Ｒ、Ｒ’はそれぞれ独立に炭素数１〜１０のア
ルキル基を表し、ｍ、ｎはそれぞれ正の数であり、ｍ＋
ｎ＝４である。）で示される化合物が挙げられ、具体的
にはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トラ-ｉｓｏ-プロポキシシラン、テトラ-ｎ-プロポキシ
シラン、テトラ-ｎ-ブトキシシラン、テトラ-ｓｅｃ-ブ
トキシシラン、テトラ-ｔｅｒｔ-ブトキシシラン、テト
ラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロ
ポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、
テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓ
ｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブト
キシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルト
リブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチ
ルジエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチ
ルエトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチ
ルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジ
エトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシランなどが例
示される。

【００１７】また、硬化性化合物および粒子の混合物
は、溶剤、添加剤を含有していてもよい。添加剤として
は、例えば光重合開始剤、増感剤などが挙げられる。光
重合開始剤としては、例えばアセトフェノン類、ベンゾ
フェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−ア
ミロキシムエステル、チオキサントン類などが挙げられ
る。増感剤としては、例えばｎ−ブチルアミン、トリエ
チルアミン、トリｎ−ブチルホスフィンなどやこれらの
混合物などが挙げられる。

【００１８】かかる混合物は、例えばエアドクターコー
ティング、ブレードコーティング、ナイフコーティン
グ、リバースコーティング、トランスファロールコーテ
ィング、グラビアロールコーティング、キスコーティン
グ、キャストコーティング、スプレーコーティング、ス
ロットオリフィスコーティング、カレンダーコーティン
グ、電着コーティング、ディップコーティング、ダイコ
ーティングなどのコーティング方法、フレキソ印刷等の
凸版印刷、ダイレクトグラビア印刷、オフセットグラビ
ア印刷などの凹版印刷、オフセット印刷などの平版印
刷、スクリーン印刷などの孔版印刷などの印刷手法によ
り、透光性基材上に塗布することができる。混合物が溶
剤を含有している場合には、塗布後、乾燥させる。

【００１９】次いで、得られた塗膜を硬化させるが、硬
化性化合物が熱硬化性化合物である場合には、加熱すれ
ばよく、電離放射線硬化性化合物である場合には、電離
放射線を照射すればよい。

【００２０】加熱方法は特に限定されず、通常の方法で
加熱すればよい。電離放射線が電子線である場合には、
例えばコックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振
変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン
型、高周波型などの電子線加速器から放出される５０〜
１０００ＫｅＶ程度のエネルギーを有する電子線を照射
すればよい。紫外線を照射するには、例えば超高圧水銀
灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノ
ンアーク、メタルハライドランプなどの光源から発せら
れる紫外線を照射すればよい。

【００２１】かかる第１層は、凹凸が形成されていても
よい。第１層に凹凸を形成するには、例えば透光性基材
の表面に凹凸が設けられている場合には、該表面上に硬
化性化合物と粒子との混合物を塗布し、硬化させて第１
層を形成すればよい。

【００２２】また、透光性基材の表面に硬化性化合物と
粒子とからなる混合物を塗布して硬化性化合物および粒
子からなる塗膜を設け、次いでその上に凹凸を有する賦
型フィルムを積層して、加熱処理または電離放射線処理
して両塗膜を硬化させてもよい。透光性基材がその表面
に高分子からなる中間層を有する場合には、該表面に硬
化性化合物を塗布して硬化性化合物からなる塗膜を設
け、その上に硬化性化合物と粒子とからなる混合物を塗
布して硬化性化合物および粒子からなる塗膜を設け、次
いでその上に凹凸を有する賦型フィルムを積層して、加
熱処理または電離放射線処理して両塗膜を硬化させれば
よい。硬化後、賦型フィルムを除去すれば、凹凸が形成
された第１層を得ることができる。

【００２３】さらに、表面に凹凸を有する賦型フィルム
の表面に硬化性化合物と粒子との混合物を塗布して塗膜
を得、これに透光性基材を積層し、次いで加熱処理また
は電離放射線処理して硬化してもよい。透光性基材の表
面には、硬化性化合物を塗布した中間層があってもよ
い。また、硬化性化合物と粒子との混合物を塗布して得
た塗膜の上に、硬化性化合物を塗布して更に中間層を設
けてもよい。硬化後、賦型フィルムを除去すれば、凹凸
が形成された第１層を得ることができる。

【００２４】第１層は、その屈折率が１．７０〜１．８
０であり、好ましくは１．７２〜１．８０程度である。
ここで屈折率とは波長６３２．８ｎｍで測定した値であ
る。第１層をかかる屈折率とするには、第１層を構成す
る樹脂の屈折率、粒子の屈折率および樹脂と粒子との使
用量比を適宜選択すればよい。第１層の可視光領域での
透過率は通常８０％以上である。

【００２５】また、第１層はその光学膜厚が０．２１λ
〜０．２９λであり、好ましくは０．２５λ程度であ
る。ここでλとは設計波長であり、液晶表示装置などを
始めとする表示装置に用いる場合には通常、可視光の波
長範囲から任意に設定され、一般的には５５０ｎｍとし
て設定される。光学膜厚とは、第１層の厚みと屈折率と
の積である。屈折率は、波長６３２．８ｎｍで測定した
値である。第１層の厚みは通常６０ｎｍ〜９５ｎｍ程度
の範囲である。

【００２６】本発明の反射防止層は、かかる第１層の上
に第２層および第３層が積層されてなる物であるが、第
２層は、その屈折率が２．２０以上である。ここで屈折
率とは波長６３２．８ｎｍで測定した値である。また、
可視光領域での透過率は通常８０％以上である。かかる
第２層としては、例えば無機誘電体からなる層が挙げら
れ、材料の価格、製膜速度などの点からＮｂおよびＴｉ
から選ばれる少なくとも１の酸化物からなる層が好まし
く、該層は他の成分を含んでいてもよい。

【００２７】第２層は、光学膜厚が０．４１λ〜０．５
４λであり、好ましくは０．５０λ程度である。ここで
λとは設計波長であり、液晶表示装置などを始めとする
表示装置に用いる場合には通常、可視光の波長範囲から
任意に設定され、一般的には５５０ｎｍとして設定され
る。光学膜厚とは、第２層の厚みと屈折率との積であ
る。屈折率は、波長６３２．８ｎｍで測定した値であ
る。第２層の厚みは通常、９０ｎｍ〜１２５ｎｍ程度の
範囲である。

【００２８】第３層は、その屈折率が１．４４〜１．４
９である。ここで屈折率とは波長６３２．８ｎｍで測定
した値である。また、可視光領域での透過率は通常８０
％以上である。かかる第３層としては、例えば無機誘電
体からなる層が挙げられ、表面硬度の点、撥水・撥油性
を容易に付与できる点などから、Ｓｉの酸化物からなる
層が好ましく、該層は他の成分を含んでいてもよい。

【００２９】第３層は、厚みが光学膜厚０．２２λ〜
０．２７λであり、好ましくは０．２５λ程度である。
ここでλとは設計波長であり、液晶表示装置などを始め
とする表示装置に用いる場合には通常、可視光の波長範
囲から任意に設定され、一般的には５５０ｎｍとして設
定される。光学膜厚とは、第３層の厚みと屈折率との積
である。屈折率は、波長６３２．８ｎｍで測定した値で
ある。第３層の厚みは通常、８０ｎｍ〜１００ｎｍ程度
の範囲である。

【００３０】第２および／または第３層は、例えば真空
プロセスにより形成することができる。真空プロセスと
しては、例えば電子ビーム蒸着法、誘導加熱方式蒸着
法、抵抗加熱蒸着法、スパッタリング法、イオンプレー
ティング法など物理気相堆積法〔ＰＶＤ（Physical Vap
or Deposition）法〕やプラズマＣＶＤ法等が挙げられ
る。第２層や第３層が２種以上の化合物の混合物からな
る層である場合には、２種類の蒸着材料を別々の蒸着源
から蒸発させて混合膜を形成する２元蒸着法や、２種類
の無機誘電体の混合材料を用いた真空蒸着法やスパッタ
リング法などの方法により透光性基材の表面に設けるこ
とができる。また、２種以上の金属の合金ターゲットを
用いたスパッタリング法により透光性基材の表面に設け
ることもできる。

【００３１】第１層、第２層および第３層は、透光性基
材が板状、シート状である場合やレンズである場合に
は、バッチ式、インライン式などの製造装置により設け
ることができる。また、透光性基材が連続フィルム状で
ある場合には、巻き取り式の製造装置を用いることもで
きる。

【００３２】本発明の反射防止層は、透光性基材の片面
に設けてもよいし、両面に設けてもよい。かかる反射防
止層は、帯電防止処理が施されていてもよく、例えば第
２層や第３層に無機誘電体からなる層を用いる場合に
は、該層を構成する無機誘電体として導電性を示す材料
を用いればよい。また、反射防止層の上に界面活性剤、
アンモニウム塩などからなるカチオン系帯電防止剤、ア
ニオン系帯電防止剤、酸化スズ、酸化インジウム、酸化
アンチモンなどの導電性無機化合物の粒子がペンタエリ
スリトールなどのバインダーに分散された無機帯電防止
剤などからなる層を設けてもよい。かかる層は塗工など
の通常の方法で反射防止層の上に設けることができる。

【００３３】本発明の反射防止層の上には、防汚層が設
けられてもよい。防汚層を設けることにより、汚れの付
着を防止し得ると共に、反射防止層を保護することも可
能である。

【００３４】防汚層としては、反射防止層の反射防止機
能を阻害せず、高い撥水性、発油性を示し、汚染の付着
を防止し得るものであれば特に限定されず、有機化合物
からなる層であってもよいし、無機化合物からなる層で
あってもよいが、汚れの付着を防止し得る点で、純水に
対する接触角度が９０°以上、さらには１００°以上で
あるものが好ましい。高い撥水性、発油性を示す防汚層
としては、有機ケイ素化合物からなる層、フッ素原子を
有する有機化合物からなる層が挙げられる。

【００３５】かかる防汚層として具体的には、パーフル
オロシラン、フルオロカーボン、フルオロアルキル基ま
たはフルオロシクロアルキル基を有する有機ケイ素化合
物、含フッ素エポキシ重合体、エポキシ基含有フルオロ
シリコン重合体、含フッ素アクリル酸エステル、含フッ
素メタクリル酸エステル、含フッ素フマル酸ジエステ
ル、含フッ素不飽和二塩基酸ジエステル、末端シラノー
ルの有機ポリシロキサン、フルオロアルキルアシル基含
有のポリシロキサン、パーフルオロアルキルアクリレー
ト若しくはパーフルオロアルキルメタクリレートとアル
コキシシラン基を有する単量体との共重合体、長鎖のフ
ルオロアルキル基を有するアクリレート若しくはメタク
リレートとシリコン含有の重合性不飽和単量体との共重
合体、長鎖のパーフルオロアルキル基若しくはパーフル
オロアルキルエーテル基を有する有機シラザンの共重合
体、フッ素系界面活性剤を含有する化合物など形成され
る層が挙げられる。防汚層の厚みは、通常５０ｎｍ以下
であり、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。

【００３６】かかる防汚層は、形成する防汚層に応じて
適宜選択され、例えば蒸着法、スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法などの物理気相堆積法、化学気相堆
積法（ＣＶＤ、Chemical Vapor Deposition）、プラズ
マ重合法などの真空プロセス、マイクログラビア法、ス
クリーンコート法、ディップコート法などのウェットプ
ロセスなどの通常のコーティング法により形成すること
ができる。

【００３７】かかる防汚層には、帯電防止処理が施され
ていてもよく、例えば防汚層の上に界面活性剤、アンモ
ニウム塩などからなるカチオン系帯電防止剤、アニオン
系帯電防止剤、酸化スズ、酸化インジウム、酸化アンチ
モンなどの導電性無機化合物の粒子がペンタエリスリト
ールなどのバインダーに分散された無機帯電防止剤など
からなる層を設ければよい。かかる層は塗工などの通常
の方法で反射防止層の上に設けることができる。

【００３８】本発明の反射防止層が透光性基材の表面に
設けられた反射防止透光性基材として用いることができ
る。透光性基材は、例えば偏光板、位相差板、タッチパ
ネル、ＶＤＴフィルター、ＰＤＰ前面板、プロジェクシ
ョンテレビ前面板などの光学フィルター、メガネ、サン
グラス、カメラ、望遠鏡、顕微鏡、プロジェクションテ
レビ用のレンズ、プリズム、ミラーなどの光学製品、Ｃ
ＲＴの画像表示面、有機ＥＬＰ、無機ＥＬＰなどのＥＬ
Ｐの画像表示面、ＥＬＰ、ＣＲＴへ貼合するフィルムが
挙げられるがこれに限定されるものではない。透光性基
材が偏光板である場合には、通常の偏光板と同様に液晶
表示装置の最表面を構成する部材として使用することが
できる。透光性基材が光学フィルターやタッチパネルで
ある場合には、ＣＲＴ、ＰＤＰ、液晶表示装置、ＥＬＰ
などの画像表示装置の前面に配置して使用することがで
きる。

【００３９】偏光板、光学フィルター、およびタッチパ
ネルなどへの該反射防止層を設ける方法としては、偏光
板、光学フィルター、タッチパネルなどに直接反射防止
層を設けてもよいし、反射防止層を設けた透光性基材を
粘着剤層などを介して偏光板、光学フィルター、タッチ
パネルなどに積層する方法もある。ここで、透光性基材
としては、透明な高分子フィルムを用いることができ
る。

【００４０】透光性基材として用いられる偏光板は、２
色性色素としてヨウ素を用いたヨウ素系偏光板であって
もよいし、２色性染料を用いた染料系偏光板であっても
よく、例えばヨウ素または２色性染料などの２色性色素
により染色された一軸延伸ポリビニルアルコール樹脂フ
ィルムの片面または両面に保護フィルムが積層された偏
光板を用いることができる。

【００４１】ポリビニルアルコール樹脂フィルムを構成
するポリビニルアルコール樹脂は、例えばポリ酢酸ビニ
ル樹脂をケン化する方法により製造される。ポリ酢酸ビ
ニル樹脂としては、例えばポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル
およびこれと共重合可能な他の単量体の共重合体などが
挙げられる。他の単量体としては、例えば不飽和カルボ
ン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スル
ホン酸類などが挙げられる。ケン化度は通常８５モル％
〜１００モル％、好ましくは９８モル％〜１００モル％
である。ポリビニルアルコール樹脂は、さらに変成され
た変成ポリビニルアルコール樹脂であってもよく、例え
ばポリビニルホルマール、ポリビニルアセタールなどが
挙げられる。ポリビニルアルコール樹脂の重合度は通常
１０００〜１００００の範囲、好ましくは１５００〜１
００００の範囲である。

【００４２】かかるポリビニルアルコール樹脂フィルム
を一軸延伸し、ヨウ素または染料などの２色性色素によ
り染色された後、ホウ酸処理される。一軸延伸は、周速
の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロール
を用いて一軸に延伸してもよい。また、大気中で延伸を
行う乾式延伸であってもよいし、溶剤により膨潤された
状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は
通常４〜８倍程度である。

【００４３】染色は、例えば２色性色素を含有する水溶
液にポリビニルアルコール樹脂フィルムを浸漬すればよ
い。２色性色素としてヨウ素を用いる場合には、例えば
ヨウ素およびヨウ化カリウムを含有する水溶液にポリビ
ニルアルコール樹脂フィルムを浸漬すればよい。かかる
水溶液におけるヨウ素の含有量は水１００重量部あたり
通常０．０１〜０．５重量部程度であり、ヨウ化カリウ
ムの含有量は水１００重量部あたり０．５〜１０重量部
程度である。水溶液の温度は通常２０〜４０℃程度であ
り、浸漬時間は通常３０〜３００秒程度である。２色性
色素として２色性染料の水溶液にポリビニルアルコール
樹脂フィルムを浸漬すればよい。水溶液における２色性
染料の含有量は水１００重量部あたり通常１×１０^-3〜
１×１０^-2重量部程度である。水溶液は硫酸ナトリウム
などの無機塩を含有していてもよい。水溶液の温度は通
常２０〜８０℃程度であり、浸漬時間は通常３０〜３０
０秒程度である。

【００４４】ホウ酸処理は、例えば２色性色素により染
色された後のポリビニルアルコール樹脂フィルムをホウ
酸水溶液に浸漬することにより行われる。ホウ酸水溶液
におけるホウ酸の含有量は水１００重量部あたり通常２
〜１５重量部程度、好ましくは５〜１２重量部程度であ
る。ホウ酸水溶液の温度は通常５０℃以上、好ましくは
５０〜８５℃程度であり、浸漬時間は通常１００〜１２
００秒程度、好ましくは１５０〜６００秒程度、さらに
好ましくは２００〜５００秒程度である。

【００４５】２色性染料としてヨウ素を用いた場合に
は、ホウ酸水溶液はヨウ化カリウムを含有していてもよ
い。ヨウ化カリウムを含有する場合、その含有量は水１
００重量部あたり通常２〜２０重量部程度、好ましくは
５〜１５重量部程度である。

【００４６】一軸延伸、染色およびホウ酸処理の順序
は、一軸延伸の後に染色を行い、ホウ酸処理を行っても
よいし、一軸延伸と染色とを同時に行った後にホウ酸処
理を行ってもよいし、染色した後に一軸延伸をし次いで
ホウ酸処理を行ってもよいし、染色したのちに一軸延伸
とホウ酸処理とを同時に行ってもよい。

【００４７】ホウ酸処理後のポリビニルアルコール樹脂
フィルムを水洗し、乾燥する。水洗処理は、例えばポリ
ビニルアルコール樹脂フィルムを水に浸漬することによ
り行われる。水の温度は、通常５〜４０℃程度であり、
浸漬時間は通常２〜１２０秒程度である。乾燥は、通常
１００℃以下、好ましくは４０〜９５℃程度で行われ、
乾燥時間は通常１２０〜６００秒程度である。

【００４８】乾燥後のポリビニルアルコール樹脂フィル
ムは、そのまま偏光板として用いることもできるが、通
常は、その片面または両面に保護フィルムを貼合して偏
光板として用いられる。保護フィルムとしては、例えば
トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースなどの
セルロース樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリノ
ルボルネンなどの環状ポリオレフィン樹脂などからなる
フィルムが用いられ、その厚みは通常３０〜２００μｍ
程度である。

【００４９】貼合には、通常、ポリビニルアルコール系
の接着剤が用いられる。貼合に用いる接着剤は、帯電防
止剤を含有していてもよい。帯電防止剤としては、界面
活性剤、アンモニウム塩などからなるカチオン系帯電防
止剤、アニオン系帯電防止剤、酸化スズ、酸化インジウ
ム、酸化アンチモンなどの導電性無機化合物の粒子など
が挙げられる。かかる帯電防止剤を含有することによ
り、偏光板に帯電防止性能を与えることができる。

【００５０】本発明の反射防止層を液晶表示装置に用い
る場合、かかる液晶表示装置には粘着剤、位相差板、光
拡散フィルム、反射板、半透過反射板、輝度向上フィル
ムなどが適宜組合されて用いられる。粘着剤としては、
アクリル酸系ベースポリマー、メタクリル酸系ベースポ
リマー、ブチルゴム系ベースポリマー、シリコーン系ベ
ースポリマーなどのベースポリマーを用いた粘着剤を用
いることができる。偏光板に用いられる粘着剤には、ア
クリル酸ブチル、アクリル酸エチル、アクリル酸イソオ
クチル、アクリル酸２−エチルヘキシルなどのアクリル
酸エステルを単量体として得られるアクリル酸系ベース
ポリマー、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸エチル、
メタクリル酸イソオクチル、メタクリル酸２−エチルヘ
キシルなどのメタクリル酸エステルを単量体として得ら
れるメタクリル酸系ベースポリマーなどや、上記アクリ
ル酸エステルおよびメタクリル酸エステルの共重合体か
らなるベースポリマーを用いた粘着剤が好ましく用いら
れる。

【００５１】かかるベースポリマーに共重合される極性
モノマーとしては、例えばアクリル酸、アクリル酸−２
−ヒドロキシエチル、アクリル酸−２−ヒドロキシプロ
ピル、アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアミノエチ
ルアクリレート、グリシジルアクリレート、メタクリル
酸、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル、メタクリル
酸−２−ヒドロキシプロピル、メタクリルアミド、Ｎ，
Ｎ’−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジ
ルメタクリレートなどのカルボキシル基、水酸基、アミ
ド基、アミノ基、エポキシ基などを有するモノマーを用
いることができる。

【００５２】架橋剤としては、例えば２価または多価金
属イオンのカルボン酸塩、ポリアミン化合物、ポリエポ
キシ化合物、ポリオール、ポリイソシアネートなどが挙
げられ、これらはそれぞれ単独または２種以上を混合し
て用いられる。ポリアミン化合物はアミド結合を形成
し、ポリエポキシ化合物およびポリオールはエステル結
合を形成し、ポリイソシアネートはアミド結合を形成し
て、それぞれ架橋する。

【００５３】粘着剤は、通常、偏光板に塗布して用いら
れ、目的とする使用環境に応じて適宜選択されるが、ベ
ースポリマーの分子量は、耐熱性、耐湿性の点で重要で
あり、例えばゲルパーミエーションクロマトグラフ（Ｇ
ＰＣ）により測定されるスチレン換算の重量平均分子量
が１０万〜３００万程度のベースポリマーは、好ましく
使用される。

【００５４】また、液晶セルに貼合した後に、剥離して
再度貼合をする場合を考慮して、ガラスに対する剥離強
度が０．５〜３０Ｎ／２５ｍｍであることが好ましい。
粘着剤のガラス転移温度は、−７０〜０℃程度であるこ
とが、特に自動車用途などの車載用液晶表示装置には好
ましい。温度や湿度により偏光板の寸法変化による応力
の発生を少なくするために、粘着剤の弾性率は１×１０
²〜１×１０⁵Ｎ／ｍであることが好ましい。偏光板に塗
布される粘着剤の厚みは、通常２〜５０μｍ程度であ
る。

【００５５】粘着剤は、帯電防止剤を含有していてもよ
い。帯電防止剤としては、界面活性剤、アンモニウム塩
などからなるカチオン系帯電防止剤、アニオン系帯電防
止剤、酸化スズ、酸化インジウム、酸化アンチモンなど
の導電性無機化合物の粒子などが挙げられる。かかる偏
光板としては、例えば「スミカランＳＱ１８５２−ＡＧ
７」（住友化学社製）などが挙げられ、これは表面に凹
凸面が設けられている。

【００５６】位相差板としては、ポリカーボネート樹
脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリサルフォン樹脂、
ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポ
リエチレンテレフタレート樹脂、環状ポリオレフィン樹
脂、セルロース樹脂、液晶性高分子、樹脂および液晶性
物質の混合物などからなるフィルムをテンター延伸法、
ロール間延伸法などの延伸方法により延伸した延伸フィ
ルムのほか、液晶性物質を含有する層が塗布により表面
に設けられたフィルム、無機層状化合物からなる層が塗
布により表面に設けられたフィルムなどの塗布型位相差
板などが挙げられる。位相差板の素材、光学特性および
厚みは目的とする液晶表示装置に応じて適宜選択され
る。

【００５７】光拡散フィルムとしては、透明粒子を含
み、該透明粒子とは異なる屈折率の透明樹脂からなるフ
ィルム、透明粒子を含み、該透明粒子とは異なる屈折率
の透明樹脂からなる透明層が透明フィルムの表面に形成
された積層フィルムなどを用いることができる。

【００５８】透明粒子は、球形であってもよいし、不定
形であってもよい。透明粒子の平均粒径は通常１〜２０
μｍである。平均粒径が１μｍ未満であると散乱による
着色が発生したり、光を拡散する機能が不十分となり易
い。平均粒径が２０μｍを超えると光を拡散する機能が
不十分となり易い。透明粒子の粒径分布は単分散であっ
てもよいし、粒径が幅広く分布していてもよい。かかる
透明粒子としては、例えば無定型シリカゲル（サイリシ
アシリーズ；富士シリシア化学(株)製）、球形アクリル
系樹脂ビーズ（エポスターＭＡシリーズ；(株)日本触媒
製）、球形シリカビーズ（トスパールシリーズ；東レシ
リコーン(株)製）、球形架橋ポリスチレンビーズ（ケミ
スノーＳＧＰシリーズ；綜研研化学）、球形メラミンホ
ルムアルデヒド樹脂（エポスターＳシリーズ；(株)日本
触媒製）などが挙げられる。

【００５９】透明樹脂は、透明粒子と異なる屈折率を有
していればよく、例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネートなどの線
状ポリマー、アクリルウレタン系紫外線硬化樹脂、アク
リルエーテル系紫外線硬化樹脂、アクリルエステル系紫
外線硬化樹脂などの紫外線硬化樹脂、ウレタン系熱硬化
樹脂、シリコン系熱硬化樹脂などの熱硬化樹脂などが挙
げられる。また、アルキルアクリレート系樹脂の熱硬化
物を用いることにより、粘着性を付与してもよい。

【００６０】透明基材は、透明であれば特に限定される
ものではなく、例えばトリアセチルセルロース、ジアセ
チルセルロースなどのセルロース樹脂からなるフィルム
が挙げられる。

【００６１】かかる光拡散フィルムは、例えば透明粒子
と透明樹脂との混合物をフィルム化することにより製造
することができる。具体的には、球状シリカビーズとポ
リメチルメタクリレートとの混合物を溶融押出してフィ
ルム化することができる。また、球形架橋ポリスチレン
ビーズとアクリルウレタン系紫外線硬化樹脂との混合物
をトリアセチルセルロースフィルムの上にキャストした
後、紫外線を照査して硬化させてもよいし、離型処理が
施されたポリエチレンテレフタレートフィルムの上に球
状架橋ポリスチレンビーズと多価イソシアネートなどの
架橋剤が添加されたブチルアクリレート−アクリル酸共
重合体との混合物を溶剤キャストしたのち、熱硬化させ
て光拡散フィルムを得てもよい。

【００６２】反射板としては、ポリエチレンテレフタレ
ート、トリアセチルセルロースなどの基材の表面にＡ
ｌ、Ａｇなどを製膜したものが挙げられる（特開昭６２
−２２８４６１号公報、特開昭６２−２２８４６２号公
報、特開平７−３３３４３号公報など）。

【００６３】半透過反射板としては、樹脂にパールマイ
カ粒子などを分散させた層からなるものが知られている
（特開昭５５−４６７２０号公報）。

【００６４】輝度向上フィルムとしては、例えばある振
動面の偏光光は透過し、該振動面と直交する振動面の偏
光光は反射する機能を有する反射型偏光素子が挙げられ
る。かかる反射型偏光素子としては、ブリュースター角
による偏光成分の反射率の差を利用した反射型偏光素子
（特表平６−５０８４４９号公報）、コレステリック液
晶による選択反射特性を利用した反射型偏光素子（特開
平３−４５９０６号公報）、微細な金属線状パターンが
施された反射型偏光素子（特開平２−３０８１０６号公
報）、２種の高分子フィルムを積層し屈折率異方性を利
用した反射型偏光素子（特表平９−５０６８３７号公
報）、高分子フィルム中に海島構造を有し屈折率異方性
による反射率の異方性を利用する反射型偏光素子（米国
特許第５８２５５４３号)、高分子フィルム中に粒子が
分散され屈折率異方性による反射率の異方性を利用した
反射型偏光素子（特表平１１−５０９０１４号公報）、
高分子フィルム中に無機粒子が分散しサイズによる散乱
能の差に基づく反射率の異方性を利用した反射型偏光素
子（特開平９−２９７２０４号公報）などが挙げられ
る。

【００６５】かかる反射型偏光素子の厚みは特に限定さ
れないが、通常は１ｍｍ以下、好ましくは０．２ｍｍ以
下であり、コレステリック液晶による選択反射特性を利
用した反射型偏光素子、２種の高分子フィルムを積層し
屈折率異方性を利用した反射型偏光素子、高分子フィル
ム中に海島構造を有し屈折率異方性による反射率の異方
性を利用する反射型偏光素子などが容易に薄膜化し得る
点で好ましい。

【００６６】本発明の反射防止層が透光性基材の表面に
設けられた反射防止透光性基材は、その表面にプロテク
トフィルムが貼合されてもよい。プロテクトフィルムを
貼合することにより、反射防止透光性基材を運搬する際
や取り扱うの際に透光性基材やその表面に設けられた反
射防止層が傷付くことや汚損されることを防止すること
ができる。プロテクトフィルムとしては、例えばポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン、エチレン−酢酸
ビニル共重合体、トリアセチルセルロースなどのプラス
チックからなるフィルムが挙げられる。あっかるプロテ
クトフィルムには、帯電防止処理が施されていてもよ
い。

【００６７】

【発明の効果】本発明の反射防止層は、可視光領域の反
射防止効果に優れている。

【００６８】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。

【００６９】実施例１透光性基材（ポリエチレンテレフタレート）の表面に、
樹脂と屈折率が１．５以上である粒子（ＺｒＯ2）から
なる混合物が塗布後、硬化されて、第１層が形成されて
いる基材〔「ＰＥＴ５」、大日本印刷社製〕の第１層の
上に、スパッタリング装置（ＣＦＳ−８ＥＰ−５５型、
徳田製作所製）を用いて第２層および第３層を順次形成
して反射防止層を得た。この第１層の厚みは約６４ｎｍ
（６４０Å）、屈折率は１．７５であった。

【００７０】第２層は、Ｎｂターゲット用い、製膜時の
系内の圧力が０．６６６Ｐａ（５×１０^-3Ｔｏｒｒ）と
なるようにＡｒと酸素との混合ガス（酸素濃度は混合ガ
スの容積１００容量部あたり５．５容量部）を導入し
て、出力７５０Ｗの条件でＤＣマグネトロンスパッタリ
ング法により形成した。エリプソメーターによりこの第
２層の屈折率（６３２．８ｎｍで測定）を測定したとこ
ろ、屈折率（６３２．８ｎｍで測定）は２．３０であっ
た。また、触針式膜厚計にてこの第２層の膜厚を測定し
たところ厚みは１１５ｎｍ（１１５０Å）であった。な
お、屈折率、膜厚の測定には、上記透光性基材と一緒に
鏡面研磨されたＳｉ基板を系内に保持することで得られ
た、第２層だけが製膜されたＳｉ基板を用いた。

【００７１】第３層は、ＳｉＯ２ターゲット用い、製膜
ガスとしてＡｒを導入して製膜時の圧力が０．２６６Ｐ
ａ（２×１０^-3Ｔｏｒｒ）となるように調節し、出力５
００Ｗの条件でＲＦマグネトロンスパッタリング法によ
り形成した。エリプソメーターによりこの第３層の屈折
率（６３２．８ｎｍで測定）を測定したところ、屈折率
（６３２．８ｎｍで測定）は１．４８であった。また、
触針式膜厚計にてこの第３層の膜厚を測定したところ厚
みは９４ｎｍ（９４０Å）であった。なお、屈折率、膜
厚の測定には、上記透光性基材と一緒に鏡面研磨された
Ｓｉ基板を系内に保持することで得た第３層だけが製膜
されたＳｉ基板を用いた。この様にして形成された反射
防止層は透明であった。図１にこの反射防止層を有する
ポリエチレンテレフタレートフィルムの反射防止層が形
成された側の面の反射スペクトルを示す。

【００７２】実施例２第１層の厚みが約８７ｎｍ（８７０Å）である以外は実
施例１と同じ基材（ＰＥＴ５）を用い、スパッタリング
装置〔ＳＰＷ−１３０、日本真空技術（株）製、巻き取
り式スパッタリング装置〕を用いて、第２層および第３
層を順次形成して反射防止層を得た。この第１層の厚み
は約８７ｎｍ（８７０Å）であり、屈折率は１．７５で
ある。

【００７３】第２層は、Ｔｉターゲット用い、製膜時の
系内の圧力が０．１３３Ｐａ（１×１０^-3Ｔｏｒｒ）と
なるようにＡｒと酸素との混合ガス（酸素濃度は混合ガ
スの容積１００容量部あたり６．２容量部）を導入し
て、出力３０ｋＷの条件でＤＣマグネトロンスパッタリ
ング法により形成した。エリプソメーターによりこの第
２層の屈折率（６３２．８ｎｍで測定）を測定したとこ
ろ、屈折率（６３２．８ｎｍで測定）は２．３５であっ
た。また、触針式膜厚計にてこの第２層の膜厚を測定し
たところ厚みは１１２ｎｍ（１１２０Å）であった。な
お、屈折率、膜厚の測定には、上記透光性基材と一緒に
鏡面研磨されたＳｉ基板を系内に保持することで得られ
た、第２層だけが製膜されたＳｉ基板を用いた。

【００７４】第３層は、Ｓｉターゲット用い、製膜ガス
としてＡｒと酸素との混合ガス（酸素濃度は混合ガスの
容積１００容量部あたり２０容量部）を導入して製膜時
の圧力が０．０４２Ｐａ（０．３２×１０^-3Ｔｏｒｒ）
となるように調節し、出力１０ｋＷの条件でＡＣマグネ
トロンスパッタリング法により第３層を形成し、反射防
止層を設けた。エリプソメーターによりこの第３層の屈
折率（６３２．８ｎｍで測定）を測定したところ、屈折
率（６３２．８ｎｍで測定）は１．４６であった。ま
た、触針式膜厚計にてこの第３層の膜厚を測定したとこ
ろ厚みは８９ｎｍ（８９０Å）であった。なお、屈折
率、膜厚の測定には、上記透光性基材と一緒に鏡面研磨
されたＳｉ基板を系内に保持することで得られた、第３
層だけが製膜されたＳｉ基板を用いた。

【００７５】この様にして形成された反射防止層は透明
であった。図２にこの反射防止層を有するポリエチレン
テレフタレートフィルムの反射防止層が形成された側の
面の反射スペクトルを示す。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例２で得た反射防止層が形成されたポリエ
チレンテレフタレートフィルムの反射防止層側の反射ス
ペクトルを示すグラフである。

【図２】実施例２で得た反射防止層が形成されたポリエ
チレンテレフタレートフィルムの反射防止層側の反射ス
ペクトルを示すグラフである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者清水朗子愛媛県新居浜市惣開町５番１号住友化学工業株式会社内Ｆターム(参考） 2H091 FA08X FA37X FB02 FB04 FB13 FC22 FC23 LA03 LA17 2K009 AA06 AA12 BB02 BB11 CC03 CC09 CC42 CC47 DD02 DD03 DD04 DD06 DD07 DD17 EE03 EE05 5G435 AA01 BB05 BB12 DD13 FF14 HH03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透光性基材の表面に設けられ、該透光性基
材側から空気層側へ順に、樹脂および屈折率が１．５以
上である粒子からなり屈折率が１．７０〜１．８０であ
り光学膜厚が０．２１λ〜０．２９λである第１層と、
屈折率が２．２０以上であり光学膜厚が０．４１λ〜
０．５４λである第２層と、屈折率が１．４４〜１．４
９であり光学膜厚が０．２２λ〜０．２７λである第３
層とが積層されてなることを特徴とする反射防止層。
【請求項２】透光性基材の表面に設けられ、該透光性基
材側から空気層側へ順に、樹脂および屈折率が１．５以
上である粒子からなり、厚みが６０ｎｍ〜９５ｎｍであ
る第１層と、ＴｉおよびＮｂから選ばれる少なくとも一
の元素の酸化物からなり、厚みが９０ｎｍ〜１２５ｎｍ
である第２層と、Ｓｉの酸化物からなり厚みが８０ｎｍ
〜１００ｎｍである第３層とが積層されてなることを特
徴とする反射防止層。
【請求項３】樹脂が熱硬化樹脂および／または電離放射
線硬化樹脂であり、粒子がＺｎＯ、ＴｉＯ₂、Ｓｂ
₂Ｏ₅、ＳｎＯ₂、インジウム−スズ複合酸化物、Ｙ
₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｈｆ₂Ｏ₃、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｂｉ
₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅、ＭｏＯ₃およびＺｒＯ₂ から選ばれる１
種以上の粒子である請求項１または請求項２に記載の反
射防止層。
【請求項４】第１層に凹凸が形成されている請求項１〜
請求項３のいずれかに記載の反射防止層。
【請求項５】第２層および／または第３層が真空プロセ
スで形成された層である請求項１〜請求項４のいずれか
に記載の反射防止層。
【請求項６】透光性基材の表面に請求項１〜請求項５の
いずれかに記載の反射防止層を有することを特徴とする
光学フィルター。
【請求項７】透光性基材の表面に請求項１〜請求項５の
いずれかに記載の反射防止層を有することを特徴とする
偏光板。
【請求項８】透光性基材の表面に請求項１〜請求項５の
いずれかに記載の反射防止層を有することを特徴とする
液晶表示装置。
【請求項９】透光性基材の表面に請求項１〜請求項５の
いずれかに記載の反射防止層を有することを特徴とする
エレクトロルミネッセンス表示装置。