JPH0968699A - 感光性フィルムおよびその製造方法、並びにそれを用いた液晶パネルおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 色調補正機能を有した感光性フィルムの提供
と、任意の位置で選択的にリタデーション量の異なる領
域を形成し得る液晶パネルの提供を図る。 【解決手段】 基板１１ａ、１１ｂの上に帯状の透明電
極１２ａ、１２ｂが対向して形成され、電極１２ａ、１
２ｂの対向する領域が絵素領域１６である。絵素領域１
６には、液晶領域１３が配置され、非絵素領域１７に
は、高分子壁１４が配置されている。また、基板１１ｂ
の外側には、高分子壁１４あるいは非絵素領域１７と一
致するように、複屈折性を有する感光性フィルム１８が
露光、現像処理により配置されている。さらに、必要な
らば、電極１２ａ、１２ｂ上に、電気絶縁膜１９ａ，１
９ｂおよび配向膜２０ａ，２０ｂが形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、たとえばパソコン
などの平面ディスプレイ装置、液晶テレビ、携帯情報端
末のディスプレイなどに利用することができる液晶パネ
ルおよびその製造方法に関する。また、液晶パネルの基
板間に設けられる複屈折性を有するギャップ制御材の代
わりとして、また、光学的に等方性状態である高分子と
異方性を有する液晶とを狭持しているような液晶表示素
子における高分子部の色調を制御する素子に利用できる
新規な複屈折性を有する感光性フィルムおよびその製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】上述した液晶パネルは、薄型、軽量、低
消費電力等の特徴を有し、ＯＡ機器、パソコン、携帯情
報端末等に需要が拡大している。また、液晶パネルは、
大型化、大容量化に伴ってカラー表示が一般化されるよ
うになり、今後一層の需要拡大が期待されている。

【０００３】このように液晶パネルが汎用化されるに伴
って、コストダウンを図る必要性が生じ、構造が比較的
単純であるＳＴＮ型液晶ディスプレイ（ＳＴＮ−ＬＣ
Ｄ）がパソコン等のディスプレイとして多用されるよう
になってきた。しかし、ＳＴＮ−ＬＣＤはカラー表示を
行うには、ＳＴＮ−ＬＣＤのみで白黒表示ができるよう
に色調補正を行う必要があり、このために、従来より、
色調補正用液晶パネル（ＤＳＴＮ）や位相差板（ＦＳＴ
Ｎ）を用いることによりその色調補正が行われている。

【０００４】また、液晶パネルにおいて、液晶層を挟む
一対の基板における間隔の均一性向上のため、あるい
は、液晶パネルの強度向上のために、絵素ごとに液晶を
配置し、その液晶の周囲に高分子を配置している構造の
液晶パネルが提案されている。例えば、レジストによっ
て高分子の柱をスペーサーとして、絵素外に配置してい
る液晶パネル（特開昭５６−９９３８４号）や、同じよ
うに感光性樹脂などでストライプ状の柱をスペーサーと
して絵素外に配置している液晶パネル（特開昭５９−２
０１０２１号）などが提案されている。また、本願出願
人は、液晶と重合性樹脂の相分離を利用して、相分離し
た高分子が絵素の周囲を取り囲んで壁となり、その内部
に液晶が配置された液晶パネルを提案している（特開平
６−３０１０１５号）。

【０００５】また、位相差の異なる領域をパターニング
する技術として、重合性液晶材科を用いてＲＧＢの各絵
素ごとに位相差を異ならせる技術が提案されている
（Ｉ．Ｄ．Ｒ．Ｃ．１９９４年度予稿集ｐｐ１６１〜１
６４）。この提案技術に用いられる位相差フィルムは、
ＲＧＢの各色ごとの印加電圧を異ならせた状態で紫外線
照射をし、重合性液晶分子を硬化させる方法により作製
されている。この方法により、それぞれの色で重合性液
晶分子のティルト角が異なって位相差フィルムを作製す
ることができ、この結果、ＲＧＢそれぞれに対応する位
相差フィルムのリタデーション量を異ならせることがで
きる。この提案技術により、ＲＧＢそれぞれの色ごとに
色調補正を行うことができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】高分子の柱や壁が基板
間に存在する液晶パネルにおいては、高分子にレジスト
や光重合性樹脂を用いた場合、形成された高分子の柱ま
たは壁の部分は液晶と同等の光学的性質を持ち得ない。
このため、液晶パネルに光が入射した場合、液晶部を透
過してくる光の色調と高分子部を透過してくる光の色調
が異なる現象が起こる。よって、液晶パネル全体の色調
を制御することが非常に困難である。この現象は、高分
子部は光学的には等方性状能を示しているため、液晶パ
ネルの両側に配置する偏光板や位相差フィルムによって
発生する色調が、そのまま高分子部の色調となるために
起こるものであり、液晶パネルの色調を制御することを
困難なものとしている。また、その着色によって表示部
全体が暗くなるという問題があった。

【０００７】従来の位相差フィルムでは、高分子フィル
ムを一様に一定方向に延伸することで作製されている。
このため、液晶パネルの基板に対し、任意の形状で選択
的に配置することは非常に困難であった。このため、液
晶パネルの強度を向上させたり、基板の間隔の均一性を
向上させる目的で、光学的に等方性状態である高分子を
狭持しているような液晶パネルにおいて、液晶領域と高
分子領域とをそれぞれ独立して色調補償を行うことは不
可能であった。この問題を解決するものとして、前記
Ｉ．Ｄ．Ｒ．Ｃ．１９９４年度予稿集ｐｐ１６１〜１６
４で提案された方法を適用することが考えられるが、高
分子壁は電圧が印加されない電極非形成部に作製されて
いるので、その提案方法を適用することは不可能であ
る。

【０００８】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、色調補正機能を有した感
光性フィルムおよびその製造方法を提供することを目的
とし、また、任意の位置で選択的にリタデーション量の
異なる領域を形成し得る液晶パネルおよびその製造方法
を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の感光性フィルム
は複屈折性を有し、そのことにより上記目的が達成され
る。

【００１０】本発明の感光性フィルムにおいて、分子
が、一軸方向または二軸方向以上に配向している構成と
することができる。

【００１１】本発明の感光性フィルムにおいて、リタデ
ーション値が９０ｎｍ以上８００ｎｍ以下である構成と
することができる。

【００１２】本発明の感光性フィルムにおいて、少なく
とも光硬化性ポリマーと光硬化性モノマーと光重合開始
剤とを原料として構成することができる。

【００１３】本発明の感光性フィルムにおいて、少なく
とも光分解性ポリマーにより、または、少なくとも感光
剤と該感光剤を保持するための高分子材料とにより、構
成することができる。

【００１４】本発明の感光性フィルムにおいて、高分子
シート、高分子フィルムまたは紙にて、少なくとも一方
の面が覆われている構成とすることができる。

【００１５】本発明の感光性フィルムの製造方法は、上
述した感光性フィルムの製造方法であって、感光性フィ
ルム素材を一軸方向または二軸方向以上に延伸させ、そ
のことにより上記目的が達成される。

【００１６】本発明の液晶パネルは、一対の基板の間に
少なくとも液晶を有する表示媒体が挟まれ、絵素が複数
配されている液晶パネルにおいて、複屈折性を有する感
光性フィルムが、両基板の少なくとも一方であって該表
示媒体側の面に、１または２以上の絵素の周辺を取り囲
むように配置され、そのことにより上記目的が達成され
る。

【００１７】本発明の液晶パネルは、一対の基板の間に
少なくとも液晶を有する表示媒体が挟まれ、絵素が複数
配されている液晶パネルにおいて、複屈折性を有する感
光性フィルムが、両基板の少なくとも一方であって該表
示媒体側の面にストライプ状に配置され、そのことによ
り上記目的が達成される。

【００１８】本発明の液晶パネルにおいて、前記ストラ
イプ状に配置された複屈折性を有する感光性フィルムの
隣合うもの同士と、該隣合う感光性フィルムに掛け渡し
て設けた高分子壁とにより１または２以上の絵素の周辺
が取り囲まれている構成とすることができる。

【００１９】本発明の液晶パネルにおいて、前記感光性
フィルムにスペーサーが含まれている構成とすることが
できる。

【００２０】本発明の液晶パネルは、一対の基板の間に
表示媒体が挟まれ、絵素が複数配されている液晶パネル
において、該表示媒体の表示領域内に、高分子壁、高分
子柱および高分子突起物のうちの少なくとも一つの高分
子部と液晶とが存在し、該高分子部に略一致する状態
に、複屈折性を有する感光性フィルムが両基板の少なく
とも一方であって片面または両面に配置され、そのこと
により上記目的が達成される。

【００２１】本発明の液晶パネルにおいて、前記感光性
フィルムが、基板の表示媒体側の面に設けられている構
成とすることができる。

【００２２】本発明の液晶パネルの製造方法は、上述し
た液晶パネルの製造方法であって、複屈折性を有する感
光性フィルムを圧着すべく、前記一対の基板のうちの該
当する基板を予熱する工程と、予熱された基板に複屈折
性を有する感光性フィルムを押圧すると共に該感光性フ
ィルムと該基板とを加熱して圧着させる工程とを含み、
そのことにより上記目的が達成される。

【００２３】以下に、本発明の作用につき説明する。

【００２４】本発明は、感光性フィルムが複屈折性を有
することを特徴とする。このことにより、位相差を有す
る領域を選択的に発生させることが可能となる。

【００２５】また、感光性フィルム素材を延伸等の配向
処理により、一軸あるいは二軸方向以上に感光性フィル
ムを構成する分子を配向させることで、感光性フィルム
に複屈折性を付与することができる。

【００２６】このとき、感光性フィルムのリタデーショ
ン値が９０ｎｍ以上８００ｎｍ以下であれば、可視光線
の色調を補正することができる。

【００２７】また、感光性フィルムに、少なくとも光硬
化性ポリマーと光硬化性モノマーと光重合開始剤とを含
む組成物により構成されているネガ型のものを用いるこ
とで、延伸により配向処理が可能で、かつ、フォトマス
ク等を介して光を照射することにより、光照射領域にお
いて、光硬化性ポリマーと光硬化性モノマーの重合反応
を行うことができる。

【００２８】また、該感光性フィルムに、少なくとも光
分解性ポリマーにより構成されているか、あるいは、少
なくとも感光剤とそれを保持するための高分子材料とに
より構成されているポジ型のものを使用することによ
り、延伸により配向処理が可能で、かつ、フォトマスク
等を介して光を照射することにより、光照射領域におい
て、該フィルムを構成する高分子材料の光分解反応を行
うことができる。

【００２９】また、高分子シートや高分子フィルム、紙
などにより感光性フィルムの少なくとも一方の面が覆わ
れていることにより、粘着性があるものでも、感光性フ
ィルムをロール状に巻き取ることができる。

【００３０】さらに、このような感光性フィルムは、一
軸あるいは二軸方向以上に延伸処理を行うことで、延伸
方向にフィルムを構成する分子を配向させて作製するこ
とができる。

【００３１】上記感光性フィルムが露光、現像されて、
１または２以上の絵素の周辺を取り囲むように配置され
ている構成とすることで、スペーサーよりも広い面積で
基板間を支えることができる。

【００３２】さらに、感光性フィルムが露光、現像によ
りストライプ状に形成されていれば、液晶の注入を容易
にすることができる。

【００３３】さらに、ストライプ状に配置された感光性
フィルムと、相分離により形成された高分子壁とによ
り、１または２以上の絵素が取り囲まれている構成とす
ることにより、液晶材科の注入が容易で、かつ、高分子
壁、あるいは、感光性フィルムがストライプ状に配置さ
れた場合よりも広い面積で基板間を支えることができ
る。

【００３４】また、該感光性フィルム内にスペーサーを
含んでいる構成とすることで、液晶表示素子の基板間隔
を制御に用いるスペーサーを感光性フィルム内だけに偏
在させることができる。

【００３５】また、基板間隙の表示領域内に高分子部を
狭持しているような液晶表示素子において、該高分子部
に一致するように、上記感光性フィルムを露光、現像に
より配置することで、高分子部の色調を補正することが
できる。

【００３６】更に、該感光性フィルムが基板内面に配置
されていることで、該感光性フィルムの厚みによる視差
を減少させることができる。

【００３７】上記感光性フィルムを熱圧着により基板に
粘着することで、広範囲にわたって、フィルムを同時に
基板に貼着することができる。

【００３８】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施形態を具体
的に説明する。なお、本発明は以下に述べる実施形態に
限るものではない。

【００３９】（実施形態１）実施形態１では、感光性フ
ィルムとして、アルカリ性溶液で現像するドライフィル
ムを用いた場合について述べる。

【００４０】本実施形態で用いたドライフィルムは、ポ
リエステルフィルム／フォトレジスト層／ポリエチレン
フィルムの３層からなる構造をしている。ポリエステル
フィルムはベースフィルムとして用いられ、フォトレジ
ストを塗布してフォトレジスト層を形成するためのフィ
ルム基材であり、その材質には、例えばポリエチレンテ
レフタレートなどが用いられる。

【００４１】フォトレジスト層は、光が照射されること
により、重合するような官能基が付与された感光性ポリ
マーと光重合性モノマーと光重合開始剤、さらには、カ
ルボキシル基などを含有する熱可塑性樹脂などにより構
成されている。

【００４２】また、ポリエチレンフィルムはカバーフィ
ルムとして用いられ、フォトレジスト層の乾燥や膨潤を
防ぐとともに、フォトレジスト層が接着しないように、
ドライフィルムをロール状に巻き取ることができるよう
にしている。

【００４３】次に、この感光性フィルムの製造方法につ
いて述べる。

【００４４】ドライフィルムはＮＩＴ２１５（日本合成
化学社製）を用いた。このドライフィルムはネガ型のも
のである。このドライフィルムを例えば、予熱をした
後、テンターによりＭＤあるいはＴＤ方向に延伸を行っ
た。そして、必要に応じて熱固定ゾーンと、冷却ゾーン
を通過させ、延伸処理フィルムを作製した。

【００４５】このようにして作製した延伸処理感光性フ
ィルムは、カバーフィルムおよびベースフィルムを剥離
した後、クロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に挟
んでみると、該フィルムを挟まない場合よりも、２枚の
偏向板を透過してくる光の量が多いことがわかった。こ
の結果は、該感光性フィルムはリタデーションを有して
いることを示している。

【００４６】また、この感光性フィルムをフォトマスク
によって、照射強度分布を発生させ、紫外線を露光後、
現像処理を施すと、フォトマスクパターンに従って、ネ
ガ型の樹脂パターンが形成された。このことから、該フ
ィルムは感光性を有していることがわかる。

【００４７】図１に基づき、本感光性フィルムが任意の
形状にパターニングされる仕組みについて説明する。

【００４８】まず、図１（Ａ）に示す感光性ポリマーと
光重合性モノマーと光重合開始剤とを少なくとも含むよ
うな原反フィルムａを、図１（Ｂ）に示すように、延伸
処理により一軸方向に延伸する。このように延伸処理さ
れた感光性フィルムｂは、感光性フィルムを形成する分
子が一軸方向に配向しており、複屈折性を有するように
なる。このフィルムに、図１（Ｃ）に示すように、フォ
トマスクなどを介して露光すると、光が照射された領域
で重合反応が起こり、図１（Ｄ）に示すように現像処理
によりフォトマスクのネガパターンが形成される。

【００４９】このようにして作製されたネガパターン
も、構成する分子が一軸方向に配向しているため、露光
前の複屈折性を有している。

【００５０】（実施例１）ドライフィルムはＮＩＴ２１
５（日本合成化学社製）を用いた。このドライフィルム
を、９０℃で予熱後、テンターによりＴＤ方向に２．５
倍延伸をした。このときテンター内は９０℃に保ってい
た。その後、２００℃の熱固定ゾーンを１時間、１００
℃の冷却ゾーンを１時間通過させた。

【００５１】このようにして作製したリタデーション付
き感光性フィルムは、カバーフィルムおよびベースフィ
ルムを剥離した後、自動複屈折計｛ＫＯＢＲＡ−２１Ａ
ＤＨ（新王子製紙社製）｝で、そのリタデーション量を
測定した。その結果、リタデーション量は４２０ｎｍで
あることがわかった。

【００５２】（実施形態２）本実施形態では、感光性フ
ィルムに感光性ポリマーを用いた場合について述べる。

【００５３】本発明の感光性フィルムはネガ型タイプで
あり、感光性ポリマーと光重合性モノマーと光重合開始
剤とを少なくとも含む混合物により形成される。

【００５４】前記感光性ポリマーとしては、例えば、完
全けん化ポリビニルアルコールや部分けん化ポリビニル
アルコール等に見られるように、水酸基などの反応性残
基を有するポリマーに光重合性モノマーを結合させ、感
光性を付与したポリマーが挙げられる。

【００５５】前記反応性残基を有するポリマーはポリ−
Ｄ（またはＬ）−リジンやポリ−Ｄ（またはＬ）−グル
タミン酸、ポリ−Ｄ（またはＬ）−ヒスチジン等のポリ
ペプチドも用いることができ、通常、これらのポリマー
は単独で、または、２種類以上を混合して用いられる。
また、必要に応じて、他の反応性残基を持たないポリマ
ーを混合し、フィルムの形状が崩れないようにしてもよ
い。

【００５６】前記反応性残基を有するポリマーに（メ
タ）アクリル酸を直接反応させて感光性を付与してもよ
いが、必要であれば、ジイソシアネート基など２官能性
を有する化合物をスペーサーとして用いてもよい。かか
るジイソシアネート基を有する実施例としては、例え
ば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリ
レンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネー
ト、ジフェニルメタン４，４’−ジイソシアネート、ヘ
キサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシア
ネート、リジンイソシアネート、これらの変性ジイソシ
アネート、水添化ジイソシアネートなどが挙げられ、こ
れらは単独でまたは２種類以上を混合して用いられる。

【００５７】次に、前記ジイソシアネート基など２官能
性を有する化合物を用いた場合には、（メタ）アクリル
系モノマーを反応させる。

【００５８】前記（メタ）アクリル系モノマーの実施例
としては、２−ヒドロキシメチルアクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、Ｎ−ビニルピロリドン、２−ヒドロキシエチルアク
リロイルフォスフェート、アクリルアミド、メタクリル
アミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロー
ルメタクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミ
ド、Ｎ−エトキシメチルアクリルアミド、エチレングリ
コールモノアクリレート、ジプロピレングリコールモノ
アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチレンアクリ
レート等が挙げられ、これらの（メタ）アクリレート系
モノマーは単独でまたは２種類以上を混合して用いられ
る。

【００５９】また、本発明に用いられる光重合性モノマ
ーとしては、イソボルニルメタクリレートやヘキサメチ
レンジオールジアクリレートなどの（メタ）アクリル基
などの光重合性基を有する化合物であれば、どのような
化合物でも用いることができる。

【００６０】また、本発明に用いられる光重合開始剤と
しては、例えばＩｒｕｇａｃｕｒｅ６５１（チバガイギ
ー製）などが挙げられる。

【００６１】次に、感光性フィルムの作製方法について
述べる。

【００６２】まず、前記感光性ポリマーと光重合性モノ
マーと光重合開始剤とを少なくとも含む混合物を加熱
し、Ｔダイキャスト成形法などにより原反フィルムを成
形する。このとき必要であれば、スペーサーを混合して
もよい。スペーサーを混入することで、液晶表示素子な
どに本感光性フィルムを適用する場合に、液晶パネルの
基板間隔を制御することができるとともに、スペーサー
を感光性フィルムが配置されている部分にだけ偏在させ
ることができ、スペーサーによる液晶の配向不良を減少
させることができる。

【００６３】次に、この原反フィルムを必要であれば、
予熱をした後、テンターなどによりＭＤあるいはＴＤ方
向に一軸延伸処理、あるいは、同時二軸延伸、逐次二軸
延伸などの二軸延伸を施し、延伸処理フィルムを作製し
た。そして、必要であれば、熱固定ゾーンと冷却ゾーン
を通過させてもよい。

【００６４】該感光性フィルムに粘着性等がある場合に
は、必要に応じて、該感光性フィルムの少なくとも一方
の面を高分子シート、あるいは、高分子フィルム、ある
いは、紙等で覆われた構成とし、ロール状に巻き取れる
ようにしてもよい。該感光性フィルムをロール状に巻き
取ることで、作製された該感光性フィルムを基板等に連
続的に貼着することができ、作業の効率化を図ることが
できる。

【００６５】このようにして作製した延伸処理感光性フ
ィルムは、クロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に
挟んでみると、該フィルムを挟まない場合よりも、２枚
の偏光板を透過してくる光の量が多いことがわかった。
この結果は、該感光性フィルムはリタデーションを有し
ていることを示している。

【００６６】また、このフィルムをフォトマスクによっ
て、照射強度分布を発生させ、紫外線を露光後、現像処
理を施すと、フォトマスクパターンに従って、ネガ型の
樹脂パターンが形成された。このことから、該フィルム
は感光性を有していることがわかる。

【００６７】本実施形態の感光性フィルムもネガ型であ
り、パターンを形成する仕組みは図１と同様である。

【００６８】（実施例２）上記実施形態２について本実
施例で詳しく説明する。

【００６９】感光性ポリマーは以下のようにして作製し
た。

【００７０】まず、ポリビニルアルコール（重量平均分
子量１０００００）に対し、等量のｍ−キシリレンジイ
ソシアネートを加える。この混合液を６０℃〜９０℃で
攪拌をし、残存イソシアネート基が２．２重量％の時点
で、反応生成物１モルに対して、２−ヒドロキシエチル
アクリレートを２．５モルを加え、６０℃で９時間攪拌
し、イソシアネート基が０．４重量％残存している時点
で反応を止めた。

【００７１】このようにして作製した反応生成物に対
し、感光性モノマーのヘキサメチレンジオールジアクリ
レートと光重合開始剤のＩｒｕｇａｃｕｒｅ６５１（チ
バガイギー社製）を反応生成物に対し、それぞれ、１０
重量％、０．５重量％加え、２３０℃で２時間攪拌し
た。

【００７２】この混合液をＴダイキャスト成形法によ
り、キャスティング時の温度を２３０℃として原反フィ
ルムを作製した。

【００７３】次に、この原反フィルムを、１００℃で予
熱をした後、テンターにより１００℃でＴＤ方向に４．
６倍に延伸処理を施した。これに引き続き、２００℃の
熱固定ゾーンと１００℃の冷却ゾーンとを通過させた。
このとき、延伸処理時間に対し、熱固定ゾーンでは１．
３倍、冷却ゾーンでは０．６倍の処理時間をそれぞれ要
した。

【００７４】このようにして作製した延伸処理感光性フ
ィルムのリタデーション量を、自動複屈折計｛ＫＯＢＲ
Ａ−２１ＡＤＨ（新王子製紙社製）｝にて測定した。そ
の結果、リタデーション量は４８０ｎｍであることがわ
かった。

【００７５】（実施形態３）本実施形態では、ポジ型の
感光性フィルムについて述べる。

【００７６】本実施形態の感光性フィルムはポジ型であ
り、少なくとも光分解性ポリマーを含むような組成物に
より構成されているか、あるいは、少なくとも感光剤と
その感光剤を保持するための高分子樹脂を含むような組
成物により構成されている。感光性ポリマーはエチレン
−一酸化炭素共重合体や塩化ビニル−一酸化炭素共重合
体のようなケトン構造を持つポリマーやポリブタジエン
のような不飽和結合を持つポリマーなどの光分解をして
低分子化するポリマーが挙げられる。

【００７７】また、感光剤とこの感光剤を保持するため
のベースポリマーとを少なくとも含むような組成物によ
り構成されるポリマーとして、例えば、ナフトキノンア
ジド系化合物やオニウム塩などの感光剤とノボラック樹
脂、スチレン−マレイミド系共重合体やポリメチルメタ
クリレート−メタクリル酸系共重合体などのポリマーを
組み合わせ、光照射された感光剤によりポリマーの現像
液に対する溶解性を変化させ、パターニングを行うもの
や、ポリマー中に光分解剤を添加し、光照射された領域
のポリマーを分解して現像液に可溶化するものなどが挙
げられる。ここで、光分解剤としては、例えば、ベンゾ
フェノンなどのケトン類、アントラキノン類、ジチオカ
ルバミン酸の遷移金属（Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃａ、Ｚｎ）塩、
オレフィン類、テルペン類等の不飽和結合を持つ化合物
等が挙げられる。そして、これら光分解剤をポリマー中
に混入し、光照射によりポリマーを酸化分解して、現像
液に対する溶解性を異ならせ、パターニングを行うもの
である。

【００７８】次に、感光性フィルムの作製方法について
述べる。

【００７９】まず、前記感光性ポリマー、あるいは、ポ
リマーと感光剤とを少なくとも含む混合物を加熱し、Ｔ
ダイキャスト成形法などにより原反フィルムを成形す
る。必要に応じて、フィルム形状を向上させるためのポ
リマーや露光時の像形性能を向上させるため増感剤など
を加えてもよく、さらに必要であれば、スペーサーを混
合してもよい。スペーサーを混入することで、液晶表示
素子などに本感光性フィルムを適用する場合に、液晶パ
ネルの基板間隔を制御することができるとともに、スペ
ーサーを感光性フィルムが配置されている部分にだけ偏
在させることができ、スペーサーによる液晶の配向不良
を減少させることができる。

【００８０】次に、この原反フィルムを必要であれば、
予熱をした後、テンターなどによりＭＤあるいはＴＤ方
向に一軸延伸処理、あるいは、同時二軸延伸、逐次二軸
延伸などの二軸延伸を施し、延伸処理フィルムを作製し
た。そして、必要であれば、熱固定ゾーンと冷却ゾーン
を通過させてもよい。

【００８１】該感光性フィルムに粘着性等がある場合に
は、必要に応じて、該感光性フィルムの少なくとも一方
の面を高分子シート、あるいは、高分子フィルム、ある
いは、紙等で覆われた構成とし、さらにロール状に巻き
取れるようにしてもよい。該感光性フィルムをロール状
に巻き取ることで、作製された該感光性フィルムを基板
等に連続的に貼着することができ、作業の効率化を図る
ことができる。

【００８２】このようにして作製した延伸処理感光性フ
ィルムは、クロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に
挟んでみると、該フィルムを挟まない場合よりも、２枚
の偏向板を透過してくる光の量が多いことがわかった。
この結果は、該感光性フィルムはリタデーションを有し
ていることを示している。

【００８３】また、このフィルムをフォトマスクによっ
て、照射強度分布を発生させ、紫外線を露光後、現像処
理を施すと、フォトマスクパターンに従って、ポジ型の
樹脂パターンが形成された。このことから、該フィルム
は感光性を有していることがわかる。

【００８４】図２に基づき、本感光性フィルムが任意の
形状にパターニングされる仕組みについて説明する。

【００８５】まず、図２（Ａ）に示す感光剤とそれを保
持するような高分子材料を少なくとも含むような原反フ
ィルムａを、図２（Ｂ）に示すように延伸処理により一
軸方向に延伸する。このように延伸処理された感光性フ
ィルムｂは、フィルムを形成する分子が一軸方向に配向
しており、複屈折性を有するようになる。このフィルム
に、図２（Ｃ）に示すようにフォトマスクなどを介して
露光すると、光が照射された領域で高分子の分解反応が
起こり、図２（Ｄ）に示すように現像処理によりフォト
マスクのポジパターンが形成される。このようにして作
製されたポジパターンも、構成する分子が一軸方向に配
向しているため、露光前の複屈折性を有している。

【００８６】（実施例３）上記実施形態３について、本
実施例で詳細に説明する。

【００８７】本実施例の複屈折性を有する感光性ポリマ
ーは以下のようにして作製した。

【００８８】まず、エチレン−一酸化炭素共重合体（重
量平均分子量１５００００）をＴダイキャスト成形法に
より、キャスティング時の温度を２３０℃として原反フ
ィルムを作製した。

【００８９】次に、この原反フィルムを、１００℃で予
熱をした後、テンターにより１００℃でＴＤ方向に４．
６倍に延伸処理を施した。これに引き続き、２００℃の
熱固定ゾーンと１００℃の冷却ゾーンとを通過させた。
このとき、延伸処理時間に対し、熱固定ゾーンでは１．
３倍、冷却ゾーンでは０．６倍の処理時間をそれぞれ要
した。

【００９０】このようにして作製した延伸処理感光性フ
ィルムのリタデーション量を、自動複屈折計｛ＫＯＢＲ
Ａ−２１ＡＤＨ（新王子製紙社製）｝にて測定した。そ
の結果、リタデーション量は５００ｎｍであることがわ
かった。

【００９１】（実施例４）本実施例では、感光剤とポリ
マーを組み合わせ、感光性ポリマーを作製した場合につ
いて述べる。

【００９２】本実施例の複屈折性を有する感光性ポリマ
ーは以下のようにして作製した。

【００９３】まず、ポリエチレンテレフタレート（重量
平均分子量１２００００）に対し、ベンゾフェノンを２
重量％混合して加熱した後、Ｔダイキャスト成形法によ
り、キャスティング時の温度を２６０℃として原反フィ
ルムを作製した。

【００９４】次に、この原反フィルムを、１００℃で予
熱をした後、テンターにより１００℃でＴＤ方向に４．
３倍に延伸処理を施した。これに引き続き、２００℃の
熱固定ゾーンと１００℃の冷却ゾーンとを通過させた。
このとき、延伸処理時間に対し、熱固定ゾーンでは１．
３倍、冷却ゾーンでは０．６倍の処理時間をそれぞれ要
した。

【００９５】このようにして作製した延伸処理感光性フ
ィルムのリタデーション量を、自動複屈折計｛ＫＯＢＲ
Ａ−２１ＡＤＨ（新王子製紙社製）｝にて測定した。そ
の結果、リタデーション量は５３０ｎｍであることがわ
かった。

【００９６】なお、以上の説明における感光性フィルム
は、プリント配線板の配線パターンを作製する際に用い
られるドライフィルムや特公昭５６一５７６１公報に見
られるように、スクリーン印刷板の製版用に用いられる
感光性フィルムとは異なるものである。つまり、これら
の感光性フィルムは、液体レジストが塗布できないよう
なフィルムやシート上におけるパターン作製に用いられ
ている。これに対して本発明の感光性フィルムは複屈折
性を有するものであり、異なっている。

【００９７】（実施形態４）本実施形態では、感光性フ
ィルムを液晶パネルに用いた場合について述べる。図３
は、本実施形態における液晶パネルを示す断面図であ
る。

【００９８】図３中の１ａ、１ｂはガラス、プラスティ
ックフィルムなどからなる基板である。この基板１ａ、
１ｂの上には帯状の透明電極２ａ、２ｂが形成され、互
いに交差（図では直交）するように対向されている。ま
た、必要であれば、その上を覆うように、電気絶縁膜
（図示せず）がそれぞれ形成され、更にその上に、配向
膜（図示せず）がそれぞれ形成されている。

【００９９】また、この帯状の透明電極２ａ、２ｂが互
いに交差する領域は絵素３であり、この絵素３に液晶領
域４が形成されている。また、この絵素３を取り囲むよ
うに、感光性フィルム５が、露光、現像されて配置され
ている。

【０１００】上記対向配設された基板１ａ、１ｂの端部
はシール材６によって貼り合わされており、必要に応じ
て、基板１ａ、１ｂの間隙には基板ギャップ制御材とし
てスペーサー（図示せず）が存在している。

【０１０１】このような構造をした液晶表示素子は、例
えば、以下のようにして製造することができる。

【０１０２】まず、基板１ａ、１ｂ上にそれぞれ、例え
ばスパッタ法によりＩＴ０膜を厚み７００オングストロ
ームに堆積し、帯状の透明電極２ａ、２ｂをそれぞれ形
成する。上記基板材科としては、少なくとも一方の基板
が光を透過する透明材料であればよく、ガラス、プラス
ティックフィルム等を使用できる。また、一方の基板が
透明であれば、他方の基板には透明でない金属膜等を設
けた基板であってもよい。

【０１０３】次に、この透明電極２ａ、２ｂを覆うよう
に、必要であれば、例えばスパッタ法により電気絶縁膜
をそれぞれ形成する。

【０１０４】更に、必要であれば、その上に配向膜をそ
れぞれ形成し、それぞれの配向膜に対して、ナイロン布
などでラビング処理を行う。

【０１０５】次に、この状態の少なくとも一方の基板１
ａ（または１ｂ）に実施形態１あるいは２のどちらか一
方で示したような方法で作製された感光性フィルム５を
貼着する。

【０１０６】貼着方法は、まず、必要であれば、上記基
板１ａ（または１ｂ）を６０℃で予熱し、実施形態１の
ドライフィルムのようにカバーフィルムが貼り合わされ
ている場合には、そのカバーフィルムを剥がしながら、
基板１ａ（または１ｂ）と感光性フィルム５を８０℃に
加熱し、４ｋｇ／ｃｍ²の圧力を加えながら、１．５ｍ
／ｍｉｎの速度で、熱圧着する。

【０１０７】また、これ以外の方法として、接着剤や光
硬化性樹脂または熱硬化性樹脂などにより少なくとも一
方の基板１ａ（または１ｂ）と感光性フィルム５を貼着
してもよい。

【０１０８】このようにして基板１ａ（または１ｂ）に
貼着された感光性フィルム５はフォトマスク等により照
射強度分布を有する光で露光し、実施形態１のドライフ
ィルムのようにベースフィルムが存在する場合には、こ
のベースフィルムを剥離した後、現像液で現像処理を行
う。

【０１０９】本実施形態では、ネガ型の感光性フィルム
を用い、絵素３の部分には紫外線が照射されないよう
に、フォトマスクなどを介して露光した。そのときの露
光量は８０〜１６０ｍＪ／ｃｍ²でよい。また、１％炭
酸ナトリウム水溶液により、現像処理を行った。

【０１１０】このようにして作製された基板１ａ（また
は１ｂ）上に液晶材料を滴下し、基板１ａ、１ｂ上に形
成された透明電極２ａ、２ｂが互いに交差（例えば直
交）するように、基板１ａ、１ｂの端部をシール材６に
より貼り合わせた。また、必要に応じて、液晶材料をキ
ャストする前に、基板ギャップ制御材としてスペーサー
を散布してよい。

【０１１１】上記液晶材料としては従来のＴＮモード、
ＳＴＮモード、ＥＣＢモード、強誘電性液晶表示モー
ド、光散乱モード等の液晶表示素子に用いられる液晶材
料のいずれでも用いることができる。例えば、カイラル
剤（Ｓ−８１１）を０．３％添加したＭＬＣ−６０６９
（メルク社製）等が挙げられる。

【０１１２】以上のようにして作製された液晶表示素子
は、外部からの押圧に対し、セルギヤップの変化量が減
少し、また、パネル内でのセルギャップが均一性が向上
していた。

【０１１３】（実施形態５）本実施形態では、感光性フ
ィルムを液晶表示素子に適用した場合について述べる。

【０１１４】本実施形態における液晶表示素子の構成
は、図３において、感光性フィルム５が絵素３を取り囲
むように格子状に形成されていたものが、素子の長手方
向にストライプ状に形成されているものである。

【０１１５】この液晶表示素子の製造方法は、実施形態
４とほぼ同じであるので、以下には実施形態４と異なる
点について述べる。

【０１１６】感光性フィルム５に紫外線を照射する際、
基板の表示領域内の透明電極の非形成部のみに紫外線が
照射されるようにフォトマスクなどを介して感光性フィ
ルムに対し露光した。そのときの露光量は実施形態４と
同様に８０〜１６０ｍＪ／ｃｍ²でよい。

【０１１７】また、一対の基板１ａ、１ｂはその端部を
シール材によって貼り合わせるが、感光性フィルムの配
置パターンとシール材のシールパターンは、たとえば図
４のようにし、液晶材料が真空注入できるようにする。

【０１１８】このようにして作製した一対の基板１ａ、
１ｂ間に実施形態４に示しとものと同様の液晶材料を公
知の注入法で真空注入した。

【０１１９】以上の点以外は実施形態４と同様で良い。

【０１２０】このようにして作製した液晶表示素子は、
外部からの押圧に対し、セルギャップの変化量が減少
し、また、パネル内でのセルギャップが均一性が向上し
ていた。

【０１２１】（実施例５）本実施例では、実施形態５に
ついて図３を参照して更に詳しく述べる。

【０１２２】基板１ａ、１ｂとして、例えば、７０５９
ガラス（コーニング社製）を用い、基板１ａ、１ｂ上
に、ＩＴＯをスパッタ法により厚み７００オングストロ
ームに堆積し、ＩＴＯからなる透明電極２ａ，２ｂを帯
状に形成する。なお、電極幅は２８０μｍとし、電極間
隔は２０μｍとした。この両基板１ａ、１ｂの電極２
ａ，２ｂ上にＳｉ０₂の電気絶縁膜とポリイミドの配向
膜をそれぞれ形成する。さらに、配向膜の表面をナイロ
ン布でラビング処理を施す。

【０１２３】次に、感光性フィルムを熱圧着により、少
なくとも一方の基板１ａ（あるいは１ｂ）に貼着する。
本実施例では、感光性フィルムとして実施形態２に示し
た方法により作製されたリタデーション量が４８０ｎｍ
のものを用いた。なお、この感光性フィルムには、粒径
４．５μｍのスペーサーが含まれている。

【０１２４】貼着方法は、まず、上記基板１ａ（また１
ｂ）を６０℃で予熱し、実施形態１のドライフィルムの
ようにカバーフィルムが貼り合わされている場合には、
そのカバーフィルムを剥がしながら、基板１ａ（または
１ｂ）と感光性フィルム５とを８０℃に加熱し、４ｋｇ
／ｃｍ²の圧力を加えながら、１．５ｍ／ｍｉｎの速度
で熱圧着する。

【０１２５】このようにして基板１ａ（または１ｂ）に
貼着された感光性フィルムはフォトマスクを介して紫外
線を照射した。紫外線照射領域は基板１ａ（または１
ｂ）上で透明電極２ａ（または２ｂ）が形成されていな
い部分とし、そのときの露光量は１２０ｍＪ／ｃｍ²と
した。実施形態１のドライフィルムのようにベースフィ
ルムが存在する場合には、このベースフィルムを剥離し
た後、現像液で現像処理を行う。このとき、１％炭酸ナ
トリウム水溶液により、現像処理を行った。

【０１２６】このようにして作製された一対の基板１
ａ、１ｂは、それぞれの基板１ａ、１ｂ上に形成された
透明電極２ａ、２ｂが互いに直交するように対向させ、
基板１ａ、１ｂの端部をシール材により貼り合わせた。
基板上に露光、現像されて配置された感光性フィルムと
シール材の位置関係は図４に示すとおりである。つま
り、シール材の形成を省略した注入口より注入される液
晶の流れる方向と平行となるように感光性フィルムをス
トライプ状に設けられている。

【０１２７】上記液晶材料としては、カイラル剤（Ｓ−
８１１）を０．３％添加したＭＬＣ−６０６９（メルク
社製）を用いた。

【０１２８】このようにして作製した液晶パネルのセル
ギヤップを測定したところ、平均４．４μｍ、３σ＝
０．０９μｍであった。

【０１２９】また、この液晶パネルを先端径１ｍｍφの
金属棒により２００ｇ／ｍｍφの圧力で押圧してみた
が、セルギヤップの変化による液晶の配向不良は観察さ
れなかった。

【０１３０】このようにして作製した液晶パネルに偏光
板、反射板、位相差板を貼り合わせ液晶表示素子を作製
した。偏光板の角度は図５のようにし、位相差板は電圧
無印加時において、絵素部の白表示が最も明るくなるよ
うに配置した。

【０１３１】この素子のＣＩＥのＬ^*、ａ^*、ｂ^*を測定
したところ、Ｌ^*＝４７．８、ａ^*＝２．８、ｂ^*＝３．
２であった。図６にＣＩＥのＬ^*、ａ^*、ｂ^*と色調の関
係を示す。 このようにして作製された液晶表示素子
は、絵素部にスペーサーを含んでいないので、液晶分子
の配向不良を減少させることができ、外部からの押圧に
対し、セルギヤップの変化が少なく、また、感光性フィ
ルム領域が位相差を有するので、液晶セル内に高分子壁
を含むことに起因する色調の低下を減少させることがで
きる。

【０１３２】（比較例１）本比較例では、上記実施例５
において、液晶セル内に感光性フィルムを配置しない場
合について述べる。

【０１３３】液晶表示素子の構造については、一対の基
板１ａ、１ｂ間に感光性フィルム８が存在せず、スペー
サーが存在すること以外は図３と同様である。

【０１３４】このような液晶表示素子は、上記実施例３
において、液晶セル内に感光性フィルムを配置する工程
を除き、一対の基板１ａ、１ｂを透明電極２ａ、２ｂが
直交するように対向させて、基板１ａ、１ｂの端部をシ
ール材により貼り合わせる際に、スペーサーを散布する
工程を加えることにより作製することができる。

【０１３５】この液晶パネルを先端径１ｍｍφの金属棒
により２００ｇ／ｍｍφの圧力で押圧したところ、セル
ギャップの変化による液晶の配向不良が観察された。

【０１３６】このようにして作製した液晶パネルに、実
施例５と同様に偏光板、反射板、位相差板を配置して貼
り合わせ、液晶表示素子を作製した。

【０１３７】このようにして作製した液晶表示素子は、
外部からの押圧により、セルギャップが変化し、散布さ
れたスペーサーによって液晶分子の配向不良が生じ、表
示の際に点欠陥として現れた。

【０１３８】（比較例２）本比較例では、上記実施例５
において、液晶セル内に感光性フィルムの代わりに、液
体レジストにより高分子壁を配置した場合について述べ
る。

【０１３９】液晶表示素子の構造については、一対の基
板１ａ、１ｂ間に配置されている感光性フィルム８がレ
ジスト等の高分子壁であること以外は図１と同様であ
る。

【０１４０】このような液晶表示素子は、上記実施例５
において、液晶セル内に感光性フィルムを配置する工程
を除き、新たに以下のような工程を加える。

【０１４１】少なくとも一方の基板１ａ（または１ｂ）
上に、配向膜１０ａ（または１０ｂ）を設けている場合
には、その上に、また、配向膜１０ａ（または１０ｂ）
が設けられていない場合には、透明電極２ａ（または２
ｂ）上に、ポジ型の液体レジストＯＦＰＲ−８００（東
京応化社製）に粒径４．５μｍのスペーサーを１重量％
あらかじめ混合し、これをスピンコートにより塗布す
る。露光、現像処理により、透明電極２ａ（または２
ｂ）の非形成部に土手状に形成する。

【０１４２】次に、基板１ａ、１ｂを透明電極２ａ、２
ｂが互いに直交するように対向させて、基板１ａ、１ｂ
の端部をシール材により貼り合わせ、実施例５に示した
ものと同様の液晶材料を基板間隙に注入し、液晶パネル
を作製した。

【０１４３】このようにして作製した液晶パネルのセル
ギヤップを測定したところ、平均４．３μｍ、３σ＝
０．２８μｍであった。

【０１４４】このようにして作製した液晶パネルに、実
施例５と同様にして偏光板、位相差板、反射板を貼り合
わせた。

【０１４５】この液晶表示素子のＣＩＥのＬ^*、ａ^*、ｂ
^*を測定したところ、Ｌ^*＝３７．２、ａ^*＝−１８、ｂ^*
＝−２０であった。また、このように作製した液晶表示
素子は、全体に青みがかっており、色調が暗くなってい
た。

【０１４６】（比較例３）本比較例では、様々なリタデ
ーション量を有する感光性フィルムにより、実施例５に
示したものと同様の方法で液晶表示素子を作製し、その
ときの明るさの比較をＣＩＥ系のＬ^*値により行った。

【０１４７】図７は、Ｌ^*値を用いた感光性フィルムの
リタデーション量による変化を示したものである。この
図７より、感光性フィルムを用いることによって、Ｌ^*
値が大きくなる範囲は９０ｎｍ〜８００ｎｍであること
がわかる。

【０１４８】（実施形態６）本実施形態では、一対の基
板間隙に、前記感光性フィルムが露光、現像されてスト
ライプ状に配置され、該感光性フィルムと液晶材料とか
ら相分離されて形成された高分子壁とにより、１または
２以上の絵素を取り囲むように配置されているような液
晶パネルについて述べる。

【０１４９】図８は、本液晶パネルを示す斜視図であ
り、図３と同一部分には同一番号を付している。ここで
は、帯状の電極が互いに交差するように一対の基板に形
成された単純マトリクス型について説明する。

【０１５０】図８中の１ａ、１ｂはガラス、プラスティ
ックフィルムなどからなる基板である。基板１ａ、１ｂ
の上には帯状の透明電極２ａ、２ｂが形成され、互いに
交差（図では直交）するように対向されている。透明電
極２ａは基板１ａ上にその長手方向に形成されており、
透明電極２ｂは基板１ｂ上に前記長手方向と直交するよ
うに形成されている。また、必要であれば、その上を覆
うように、電気絶縁膜（図示せず）がそれぞれ形成さ
れ、更にその上に、配向膜（図示せず）がそれぞれ形成
されている。

【０１５１】また、この帯状の透明電極２ａ、２ｂが互
いに交差する領域は絵素３であり、この絵素３に液晶領
域４が形成されている。また、感光性フィルム５が、基
板１ａ上に形成されている帯状電極２ａの非電極部に露
光、現像されて配置されている。

【０１５２】また、相分離により形成された高分子壁７
が、基板１ｂ上に形成された帯状の透明電極２ｂの非電
極部に配置され、前記感光性フィルム５と該高分子壁７
とにより１または２以上の絵素３を取り囲むような構造
になっている。

【０１５３】上記対向配設された基板１ａ、１ｂの端部
は、注入口８を設けてシール材６によって貼り合わされ
ており、必要に応じて、基板１ａ、１ｂの間隙には基板
ギャップ制御材としてスペーサー（図示せず）が存在し
ている。

【０１５４】このような構造をした液晶パネルは、例え
ば、以下のようにして製造することができる。

【０１５５】まず、基板１ａ、１ｂ上にそれぞれ、例え
ばスパッタ法によりＩＴ０膜を厚み２０００オングスト
ロームに堆積し、帯状の透明電極２ａ、２ｂをそれぞれ
形成する。透明電極２ａはストライプの方向を基板１ａ
の長手方向となるように形成され、透明電極２ｂは基板
１ｂ上に前記長手方向と直交する方向に形成されてい
る。上記基板材料としては、少なくとも一方の基板が光
を透過する透明材料であればよく、ガラス、プラスティ
ックフィルム等を使用できる。また、一方の基板が透明
であれば、他方の基板には透明でない金属膜等を設けた
基板であってもよい。

【０１５６】次に、この透明電極２ａ、２ｂを覆うよう
に、必要であれば、例えばスパッタ法により電気絶縁膜
をそれぞれ形成する。更に、必要であれば、その上に配
向膜をそれぞれ形成し、それぞれの配向膜に対して、ナ
イロン布などでラビング処理を行う。

【０１５７】次に、この状態の基板１ａに実施形態１あ
るいは２のどちらか一方で示したような方法で作製され
た感光性フィルム５を貼着する。

【０１５８】貼着方法は、まず、必要であれば、上記基
板１ａを６０℃で予熱し、実施形態１のドライフィルム
のようにカバーフィルムが貼り合わされている場合に
は、そのカバーフィルムを剥がしながら、基板１ａと感
光性フィルム５とを８０℃に加熱し、４ｋｇ／ｃｍ²の
圧力を加えながら、１．５ｍ／ｍｉｎの速度で熱圧着す
る。また、これ以外の方法として、接着剤や光硬化性樹
脂または熱硬化性樹脂などにより基板１ａと感光性フィ
ルム５を貼着してもよい。

【０１５９】このようにして基板１ａに貼着された感光
性フィルム５はフォトマスク等により照射強度分布を有
する光で露光し、実施形態１のドライフィルムのように
ベースフィルムが存在する場合には、このベースフィル
ムを剥離した後、現像液で現像処理を行う。

【０１６０】本実施形態では、ネガ型の感光性フィルム
を用い、基板１ａの非電極部には紫外線が照射されない
ように、フォトマスクなどを介して露光した。そのとき
の露光量は８０〜１６０ｍＪ／ｃｍ²でよい。また、１
％炭酸ナトリウム水溶液により、現像処理を行った。基
板１ａ、１ｂ上に形成された透明電極２ａ、２ｂが互い
に直交するように、必要に応じて、基板ギャップ制御材
としてスペーサーを散布して、基板１ａ、１ｂの端部を
シール材により貼り合わせた。

【０１６１】ここでは、説明を簡略化するために帯状の
透明電極２ａ、２ｂの方向を規定し、基板１ａ上に感光
性フィルム５を配置しているが、図８に示すように、一
対の基板を帯状の電極２ａ、２ｂが交差するように対向
させて貼り合わせたときに、どちらか一方の基板上に形
成された帯状の電極の非電極部に感光性フィルムがスト
ライプ状に配置され、かつ、注入口と感光性フィルムの
ストライプ方向が図８のような配置となっていれば、そ
の途中の過程において、本実施形態と構造が異なる方法
を採ってもよい。

【０１６２】このようにして得られた基板間隙に表示媒
体を注入するが、ここでは少なくとも液晶材料と重合性
化合物とを含む混合材料を注入し、液晶と重合性化合物
との相分離を利用する。

【０１６３】上記液晶材料としては、従来のＴＮモー
ド、ＳＴＮモード、ＥＣＢモード、強誘電性液晶表示モ
ード、光散乱モードなど、液晶パネルに用いられる液晶
材料のいずれを用いることができる。

【０１６４】例えば、液晶材料として、カイラル剤（Ｓ
−８１１）を３％添加したＭＬＣ−６０６９（メルク社
製）等が挙げられる。また、重合性材料としては、光照
射により重合して硬化するものであればいずれでも用い
ることができる。例えば、Ｒ−６８４（日本化薬社
製）、ｐ−フェニルスチレン（日本化薬社製）、イソボ
ルニルメタクリレート（日本化薬社製）、パーフルオロ
メタクリレート（日本化薬社製）など種々のものを用い
ることができる。また、重合性化合物は単独で用いても
数種類を組み合わせて用いてもよい。さらに、混合材料
には重合開始剤を含んでもよい。光重合開始剤としては
Ｉｒｕｇａｃｕｒｅ６５１（チバガイギー社製）等を用
いることができる。また注入口８は、後の紫外線照射工
程で基板の表示部に光が当らないよう、紫外線硬化樹脂
または２液性混合硬化樹脂などで封止しておく。

【０１６５】次に、液晶セルの外部から、上記混合材料
に紫外線などの光を照射する。このとき、光が照射され
る側の基板を、絵素３に対応する部分、あるいは、絵素
３と感光性フィルム５の形成領域に対応する部分に遮光
部を有するフォトマスクで覆い、このフォトマスク越し
に紫外線照射を行う。例えば、光源として平行光が得ら
れる紫外線照射用の高圧水銀ランプを使用し、その照射
位置は高圧水銀ランプ下の１０ｍＷ／ｃｍ²の位置で行
う。この紫外線照射時の基板温度は常温で行ってもよ
く、基板間において液晶が等方性液晶状態となる温度域
としても良い。その場合には、液晶の配向を安定化する
ことができる。

【０１６６】この紫外線を照射する場合には、上記のよ
うにフォトマスクにより遮光部を形成するほか、金属膜
や無機膜、または、有機膜等により紫外線を吸収させ
て、選択的に透過光量分布を発生させてもよい。例え
ば、液晶セル内に形成されたＩＴＯ等の透明電極などを
用いることにより、選択的に照射光分布を容易に発生さ
せることができる。このようにエネルギー強度分布を選
択的に発生させることにより、液晶と重合性化合物とを
相分離する。

【０１６７】また、液晶の配向を安定させるために基板
温度を高温にして紫外線照射を行った場合には、徐冷オ
ーブン内で室温まで徐冷する。徐冷スピードは、−３℃
／ｈ〜−２０℃／ｈが好ましく、さらに好ましくは−５
℃／ｈ〜−１０℃／ｈである。

【０１６８】また、高分子壁７の形成後、未反応物を硬
化させ、高分子の架橋を充分行うために、さらに紫外線
照射を短時間・弱照度で行っても良い。また、液晶分子
の配向を安定させるために、さらに、必要であれば、基
板間において液晶が等方性液晶状態となる温度域で、３
０分間以上、基板を加熱し、徐冷オーブンで、上記に示
したような徐冷スピードで徐冷を行っても良い。

【０１６９】以上のようにして作製された液晶パネル
は、ストライプ状に感光性フィルムを配置しただけの場
合よりも、外部からの押圧に対し、セルギヤップの変化
量が減少していた。

【０１７０】（実施例６）本実施例では、実施形態６の
液晶表示素子について図８を参照して更に詳しく説明す
る。

【０１７１】基板１ａ、１ｂとして、例えば、７０５９
ガラス（コーニング社製）を用い、基板１ａ、１ｂ上
に、ＩＴＯをスパッタ法により厚み２０００オングスト
ロームに堆積し、ＩＴＯからなる透明電極２ａ，２ｂを
帯状に形成する。電極幅は２８０μｍとし、電極間隔は
２０μｍとする。実施形態６に記載したものと同様の理
由により、透明電極２ａは基板１ａの長手方向にストラ
イプの方向が一致するように形成し、透明電極２ｂは基
板１ｂ上に前記透明電極２ａの方向と直交する方向に形
成する。この両基板１ａ、１ｂの透明電極２ａ，２ｂの
上に、ＳｉＯ₂からなる電気絶縁膜とポリイミドからな
る配向膜とをそれぞれ形成する。さらに、配向膜表面を
ナイロン布でラビング処理を施す。

【０１７２】次に、感光性フィルムを熱圧着により、基
板１ａに貼着する。本実施例では、感光性フィルムとし
て実施形態２に示した方法により作製されたものを用い
た。なお、この感光性フィルムには、粒径４．５μｍの
スペーサーが含まれている。貼着方法は、まず、上記基
板１ａを６０℃で予熱し、実施形態１のドライフィルム
のようにカバーフィルムが貼り合わされている場合に
は、そのカバーフィルムを剥がしながら、基板１ａと感
光性フィルム５を８０℃に加熱し、４ｋｇ／ｃｍ²の圧
力を加えながら、１．５ｍ／ｍｉｎの速度で熱圧着す
る。

【０１７３】このようにして基板１ａに貼着された感光
性フィルムはフォトマスクを介して紫外線を照射した。
紫外線照射領域は基板１ａ上で透明電極２ａが形成され
ていない部分とし、そのときの露光量は１２０ｍＪ／ｃ
ｍ²とした。実施形態１のドライフィルムのようにベー
スフィルムが存在する場合には、このベースフィルムを
剥離した後、現像液で現像処理を行う。このとき、１％
炭酸ナトリウム水溶液により、現像処理を行った。

【０１７４】このようにして作製された一対の基板１
ａ、１ｂは、それぞれの基板１ａ、１ｂ上に形成された
透明電極２ａ、２ｂが互いに直交するように対向させ、
基板１ａ、１ｂの端部をシール材により貼り合わせた。
基板上に露光、現像され配置された感光性フィルムとシ
ール材の位置関係は図８に示すとおりである。

【０１７５】このように作製した一対の基板間隙に液晶
と光重合性化合物、および光重合開始剤を少なくとも含
む材料を注入する。ここでは、液晶材料として、カイラ
ル剤（Ｓ−８１１）を０．３％を含むＭＬＣ−６０６９
（メルク社製）４．２ｇを、光重合性化合物としてＲ−
６８４（日本化薬社製）０．２ｇとｐ−フェニルスチレ
ン（日本化薬社製）０．０８ｇを、光重合開始剤として
Ｉｒｕｇａｃｕｒｅ６５１（チバガイギー社製）を０．
０２ｇを混合した混合材料を約３０℃の雰囲気温度で注
入した。

【０１７６】その後、液晶と重合性化合物とを紫外線照
射により相分離を行うが、本実施例では電極の交差部分
を絵素とし、この絵素が遮光部となるように位置を合わ
せたフォトマスクを一方の基板外部に設置して、このフ
ォトマスク側から紫外線を照射する。このとき、光源は
平行光線が得られる高圧水銀ランプを用いて、照射強度
が１０ｍＷ／ｃｍ²のランプ下の位置で、フォトマスク
側から紫外線を照射し、その際、基板間隙に注入された
液晶材料が等方性状態となるように１２０℃で保った。
この照射後、徐冷オーブン内で徐冷速度−７℃／ｈで徐
冷した。更に、未反応物を硬化させ、高分子の架橋を十
分行わせるために、短時間、弱照度で紫外線照射を行っ
た。

【０１７７】このようにして作製した液晶パネルのセル
ギヤップを測定したところ、平均４．４μｍ、３σ＝
０．０９μｍであった。

【０１７８】また、この液晶パネルを先端径１ｍｍφの
金属棒により３００ｇ／ｍｍφの圧力で押圧してみた
が、セルギヤップの変化による液晶の配向不良は観察さ
れなかった。

【０１７９】このようにして作製した液晶パネルに、偏
光板、反射板、位相差板を貼り合わせ液晶表示素子を作
製した。偏光板の角度は図５のようにし、位相差板は電
圧無印加時において、絵素部の白表示が最も明るくなる
ように配置した。

【０１８０】この素子のＣＩＥのＬ^*、ａ^*、ｂ^*を測定
したところ、Ｌ^*＝４４．２、ａ^*＝−３．６、ｂ^*＝−
４．２であった。

【０１８１】このようにして作製された液晶表示素子
は、絵素部にスペーサーを含んでいないので、液晶分子
の配向不良を減少させることができ、感光性フィルムと
高分子壁により、絵素が取り囲まれているため、ストラ
イプ状に感光性フィルムだけを配置した場合よりも外部
からの押圧に対し、セルギヤップの変化が少なく、ま
た、感光性フィルム領域が位相差を有するので、セル内
に高分子壁を含むことに起因する色調の低下を減少させ
ることができる。

【０１８２】（実施形態７）本実施形態では、高分子領
域が絵素または複数の絵素を取り囲むように配置されて
いるような液晶パネルに、前記複屈折性を有する感光性
フィルムを適用した場合について述べる。

【０１８３】図９（ａ）は、本実施形態にかかる液晶パ
ネルを示す斜視図を示し、（ｂ）はその断面図を示す。
ここでは、帯状の電極が互いに交差するように一対の基
板に形成された単純マトリクス型について説明する。

【０１８４】一対の透明な基板１１ａ、１１ｂの上に帯
状の透明電極１２ａ、１２ｂが形成されており、これら
帯状の電極１２ａ、１２ｂが対向して形成されており、
これら電極１２ａ、１２ｂの対向する領域が絵素領域１
６である。この絵素領域１６には、液晶領域１３が配置
され、非絵素領域１７には、高分子壁１４が配置されて
いる。

【０１８５】また、基板１１ｂの外側には、高分子壁１
４と一致するように、あるいは、一対の基板１１ａ、１
１ｂの液晶と接している面の非絵素領域１７と一致する
ように、複屈折性を有する感光性フィルム１８が露光、
現像処理により配置されている。さらに、必要ならば、
電極１２ａ、１２ｂ上に、電気絶縁膜１９ａ，１９ｂお
よび配向膜２０ａ，２０ｂが形成されていてもよい。

【０１８６】上記一対の基板１１ａ、１１ｂの端部はシ
ール材１５によって貼り合わされており、基板１１ａ、
１１ｂの間隙には基板ギャップ制御材としてスペーサー
２１が存在している。

【０１８７】このように構成された液晶パネルは、例え
ば以下のようにして製造することができる。

【０１８８】まず、基板１１ａ、１１ｂ上にそれぞれ、
例えばスパッタ法によりＩＴＯ膜を厚み２０００オング
ストロームに堆積し、帯状の透明電極１２ａ、１２ｂを
それぞれ形成する。上記基板材料としては、少なくとも
一方の基板が光を透過する透明材料であればよく、ガラ
ス、プラスティックフィルムなどを使用できる。また、
一方の基板が透明であれば、他方の基板には透明でない
金属膜などを設けた基板であってもよい。

【０１８９】次に、この透明電極１２ａ、１２ｂを覆う
ように、例えば、スパッタ法により電気絶縁膜１９ａ、
１９ｂをそれぞれ形成し、さらにこの上に、配向膜２０
ａ、２０ｂをそれぞれ形成し、配向膜２０ａ、２０ｂに
対してナイロン布などでラビング処理を行う。なお、電
気絶縁膜１９ａ、１９ｂ、および、配向膜２０ａ、２０
ｂは、必要でない場合は形成しなくてもよい。

【０１９０】この状態の両基板１１ａ、１１ｂを透明電
極１２ａ、１２ｂが互いに交差（ここでは直交）するよ
うに対向させて、スペーサー２１を散布し、基板１１
ａ、１１ｂの端部をシール材１５により貼り合わせて液
晶セルを作製する。

【０１９１】このようにして得られた基板間隙に表示媒
体を注入するが、ここでは少なくとも液晶材料と重合性
化合物とを含む混合材料を注入し、液晶と重合性化合物
との相分離を利用する。上記液晶材料としては、従来の
ＴＮモード、ＳＴＮモードＥＣＢモード、強誘電性液晶
表示モード、光散乱モードなど、液晶パネルに用いられ
る液晶材料のいずれでも用いることができる。

【０１９２】例えば、液晶材料として、カイラル剤（Ｓ
−８１１）を３％添加したＭＬＣ−６０６９（メルク社
製）等が挙げられる。また、重合性材料としては、光照
射により重合して硬化するものであればいずれでも用い
ることができる。例えば、Ｒ−６８４（日本化薬社
製）、ｐ−フェニルスチレン、イソボルニルメタクリレ
ート、パーフルオロメタクリレートなど種々のものを用
いることができる。また、重合性化合物は単独で用いて
も数種類を組み合わせて用いてもよい。さらに、混合材
料には重合開始剤を含んでもよい。光重合開始剤として
はＩｒｕｇａｃｕｒｅ６５１（チバガイギー社製）等を
用いることができる。また、注入孔は、後の紫外線照射
工程で基板の表示部に光が当らないよう、紫外線硬化樹
脂または２液性混合硬化樹脂などで封止しておく。

【０１９３】次に、液晶セルの外部から、上記混合材料
に紫外線などの光を照射する。このとき、光が照射され
る側の基板を、絵素に対応する部分に遮光部を有するフ
ォトマスクで覆い、このフォトマスク越しに紫外線照射
を行う。例えば、光源として平行光が得られる紫外線照
射用の高圧水銀ランプを使用し、その照射位置は高圧水
銀ランプ下の１０ｍＷ／ｃｍ²の位置で行う。この紫外
線照射時の基板温度は常温で行ってもよく、基板間にお
いて液晶が等方性液晶状態となる温度域としても良い。
その場合には、液晶の配向を安定化することができる。

【０１９４】この紫外線を照射する場合には、フォトマ
スクで遮光したり、金属膜や無機膜、または、有機膜等
により紫外線を吸収させて、選択的に透過光量分布を発
生させる。例えば、セル内に形成されたＩＴＯ等の透明
電極などを用いることにより、選択的に照射光分布を容
易に発生させることができる。このようにエネルギー強
度分布を選択的に発生させることにより、液晶と重合性
化合物を相分離する。また、液晶の配向を安定させるた
めに基板温度を高温にして紫外線照射を行った場合に
は、徐冷オーブン内で室温まで徐冷する。徐冷スピード
は、−３℃／ｈ〜−２０℃／ｈが好ましく、さらに好ま
しくは−５℃／ｈ〜−１０℃／ｈである。

【０１９５】また、高分子壁７の形成後、未反応物を硬
化させ、高分子の架橋を充分行うために、さらに紫外線
照射を短時間・弱照度で行っても良く、液晶分子の配向
を安定させるために、さらに、必要であれば、基板間に
おいて液晶が等方性液晶状態となる温度域で、３０分間
以上、基板を加熱し、徐冷オーブンで、上記に示したよ
うな徐冷スピードで徐冷を行っても良い。

【０１９６】このように作製した基板の少なくとも一方
の面に、前記実施形態で述べたような感光性フィルム１
８を貼着する。貼着方法は、まず、必要であれば、上記
一対の基板を予熱し、実施形態１のドライフィルムのよ
うにカバーフィルムが貼り合わされている場合には、そ
のカバーフィルムを剥がしながら、一対の基板と感光性
フィルム１８を加熱し、加圧しながら、一定の速度で熱
圧着する。また、これ以外の方法として、接着剤や光硬
化性樹脂または熱硬化性樹脂などにより少なくとも一方
の基板１１ａ（または１１ｂ）と感光性フィルム１８を
貼着してもよい。

【０１９７】このようにして基板１１ａ（または１１
ｂ）に貼着された感光性フィルム１８はフォトマスク等
により照射強度分布を有する光で露光し、実施形態１の
ドライフィルムのようにベースフィルムが存在する場合
には、このベースフィルムを剥離した後、現像液で現像
処理を行う。

【０１９８】本実施形態では、ネガ型の感光性フィルム
を用い、一対の基板間に挟持されている高分子壁１４の
領域にのみ紫外線が照射されるように、フォトマスクな
どを介して露光した。そのときの露光量は８０〜１６０
ｍＪ／ｃｍ²でよい。また、１％炭酸ナトリウム水溶液
により、現像処理を行った。なお、この露光量、現像液
は用いる感光性フィルム１８の種類やフィルム厚により
異なる。

【０１９９】このようにして作製した液晶パネルに配置
されている感光性フィルムのリタデーション値は、ノー
マリーホワイト時において、電圧無印加状態のときの液
晶表示素子の色調が最も白に近くなるように設定した。

【０２００】また、別の方法として、感光性フィルム１
８を一対の基板１１ａ、１１ｂ間に配置しても良い。そ
のときは、少なくとも一方の基板１１ａ（または１１
ｂ）に形成された透明電極１２ａ（または１２ｂ）上
に、必要により配向膜２０ａ（または２０ｂ）を設けて
いる場合は、配向膜２０ａ（または２０ｂ）上に感光性
フィルム１８を前記と同様にして貼着し、露光、現像し
て配置する。このとき、ネガ型の感光性フィルムを用い
るときには、非絵素領域１７にのみ紫外線が照射される
ようにフォトマスク等を介して露光する。

【０２０１】この状態の両基板１１ａ、１１ｂを透明電
極１２ａ、１２ｂが互いに交差（ここでは直交）するよ
うに対向させて、スペーサー２１を散布し、基板１１
ａ、１１ｂの端部をシール材１５により貼り合わせて液
晶セルを作製する。

【０２０２】このようにして作製された液晶セルの間
隙、つまり基板１１ａ、１１ｂの間隙に、少なくとも液
晶材料、光重合性化合物および光重合開始剤を含む混合
材料を注入する。このそれぞれの材料については、前述
したとおりである。これ以降の工程については、液晶セ
ルの外に感光性フィルムを配置しないこと以外は、前記
したとおりである。

【０２０３】このような方法を用いると、液晶セルの外
面に感光性フィルムを露光、現像して配置した場合に生
じる視差を低減し、液晶パネルの視認性を向上すること
ができる。

【０２０４】本実施形態では感光性フィルムとしてネガ
型のものを用いているが、例えば、前記したようなポジ
型の感光性フィルムを用いてもよい。

【０２０５】（実施例７）本実施例では、ＳＴＮ液晶を
用いた単純マトリクス型液晶パネルについて図９を参照
して記載する。

【０２０６】一対の基板１１ａ、１１ｂに７０５９ガラ
ス（コーニング社製）を用い、この基板１１ａ、１１ｂ
の上にスパッタ法によりＩＴＯを膜厚２０００オングス
トローム堆積し、ＩＴＯからなる透明電極１２ａ，１２
ｂを帯状に形成する。なお、電極幅は２８０μｍとし、
電極間隔は２０μｍとした。この両基板１１ａ、１１ｂ
の電極１２ａ，１２ｂ上に、ＳｉＯ₂からなる電気絶縁
膜１９ａ、１９ｂと、ポリイミドからなる配向膜２０
ａ、２０ｂとをそれぞれ形成する。さらに、配向膜２０
ａ、２０ｂの表面をナイロン布でラビング処理を施す。

【０２０７】次に、スペーサー２１を散布して、一対の
基板１１ａ、１１ｂを電極１２ａ，１２ｂが交差するよ
うに対向させ、シール材を用いて貼り合せる。

【０２０８】このように作製した一対の基板間隙に液晶
と高分子とを形成するが、ここでは液晶と重合性化合物
との相分離を利用する。まず、液晶と重合性化合物の混
合物を注入する。ここでは、液晶材料としての、カイラ
ル剤（Ｓ−８１１）を０．３％を含むＭＬＣ−６０６９
（メルク社製）を３．４８ｇと、光重合性化合物として
のＲ−６８４（日本化薬社製）を０．４ｇと、同じくｐ
−フェニルスチレンを０．１ｇと、光重合開始剤として
のＩｒｕｇａｃｕｒｅ６５１（チバガイギー社製）を
０．０２ｇとを混合した混合材料を、約３０℃の雰囲気
温度で注入した。その後、液晶と重合性化合物とを紫外
線照射により相分離を行うが、本実施例では電極の交差
部分を絵素とし、この絵素に位置を合わせたフォトマス
クを一方の基板外部に設置して、このフォトマスク側か
ら紫外線を照射する。このとき、光源は平行光線が得ら
れる高圧水銀ランプを用い、照射強度が１０ｍＷ／ｃｍ
²のランプ下の位置でフォトマスク側から紫外線を照射
した。この照射後、徐冷オーブン内で徐冷した。更に、
未反応物を硬化させ、高分子の架橋を十分行わせるため
に、短時間、弱照度で紫外線照射を行った。

【０２０９】次に、感光性フィルムを一方の基板上に貼
着した。本実施例では、用いる液晶材料とセル厚とを考
慮して、リタデーション値が５００ｎｍのものを用い
た。貼着方法は、まず、一対の基板を６０℃で予熱し、
実施形態１で作製した感光性フィルムからカバーフィル
ムを剥がしながら、基板と感光性フィルム１８とを７０
℃で加熱し、４ｋｇ／ｃｍ²の圧力を加えながら、１．
５ｍ／ｍｉｎの速度で熱圧着する。

【０２１０】このようにして基板１１ａ（または１１
ｂ）に貼着された感光性フィルム１８には、フォトマス
クを介して紫外線を照射した。紫外線照射領域は、基板
１１ａ（または１１ｂ）上に透明電極１２ａ（または１
２ｂ）が形成されていない部分とし、そのときの露光量
は１２０ｍＪ／ｃｍ²とした。続いて、ベースフィルム
を剥離した後、現像液で現像処理を行う。このとき、１
％炭酸ナトリウム水溶液により、現像処理を行った。

【０２１１】最後に、液晶パネルの外側に、偏光板と位
相差板、反射板を貼り合わせて液晶表示素子を作製し
た。この液晶表示素子のＣＩＥのＬ^*、ａ^*、ｂ^*、を測
定したところ、Ｌ^*＝４７．６、ａ^*＝３．０、ｂ^*＝
３．２であった。図６にＣＩＥのＬ^*、ａ^*、ｂ^*と色調
の関係を示す。また、この液晶表示素子のコントラスト
を測定した結果、７であった。

【０２１２】この液晶表示素子と、以下に記載した比較
例４とを比較すると、明るさは位相差フィルムを本実施
例のようにパターニングした方が明るくなった。また、
表示色は、電圧無印加時は白色系に、電圧印加時には黒
色系になっていた。

【０２１３】（比較例４）実施例７と同様にして、液晶
と高分子とを挟持した液晶パネルを作製した。この液晶
パネルの一方の基板の外部には、感光性フィルムを配置
しない状態とした。かかる液晶パネルの両側に、液晶部
が最も白に近くなるように偏光板、位相差板、反射板を
設置した液晶表示素子を作製したところ、高分子部は非
常に濃い青色を呈しており、基板全体が青く見えた。

【０２１４】このとき、液晶パネル全体におけるＣＩＥ
のＬ^*、ａ^*、ｂ^*、を測定したところ、Ｌ^*＝３８．５、
ａ^*＝−１８、ｂ^*＝−２３であった。また、この液晶表
示素子のコントラストを測定した結果、５であった。こ
の比較例と実施例７とを比較した場合、ａ^*、ｂ^*とも青
色側へ数値がシフトしており、白黒表示には程遠く、コ
ントラストの低下にもつながっている。

【０２１５】なお、上記実施形態および実施例において
は単純マトリクス駆動により表示が行われる液晶パネル
について説明したが、本発明はこれに限らず、ＴＦＴ
（薄膜トランジスタ）やＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ Ｉｎｓｕ
ｌａｔｏｒ Ｍｅｔａｌ）等を用いたアクティブ駆動等
により表示が行われる液晶パネルにも適用することがで
き、駆動方法については限定されない。また、本発明
は、カラーフィルターやブラックマトリクスを形成して
カラー表示を行う構成のものにも適用することもでき
る。また、本発明は、ＳＴＮモード以外に、ＴＮモー
ド、ＦＬＣモード、ＥＣＢモード、光散乱モード、軸対
称配向モード等に用いられる液晶を挟持した液晶パネル
にも同様に適用することができ、透過型液晶パネルおよ
び反射型液晶パネルのいずれにも適用することができ
る。さらに、上記実施形態および実施例においては絵素
が格子状に配置された液晶パネルについて説明したが、
本発明はこれに限らず、絵素がデルタ配列されたもの
や、絵素の形状が正方形、長方形のものなど、絵素の配
列や形状によらず、いずれの液晶パネルにも適用するこ
とができる。

【０２１６】次に、本発明において行われる、ポリマー
の光分解機構について詳細に説明する。

【０２１７】オレフィン類、カルボニル類（ケトン構
造）、芳香族環など不飽和結合を有する官能基を有する
ポリマーは、光照射により光分解を起こすことが知られ
ている。その一例として、ケトン構造を持つポリマーを
例に挙げて、その光分解機構を以下に説明する。

【０２１８】エチレン−一酸化炭素共重合体は、図１０
に示すように、光照射（ｈν）によりＮｏｒｒｉｓｈ反
応を生じて分解が進むといわれている。よって、このよ
うな構造を有するポリマーにより、フォトマスクなどに
より露光、現像処理を行うことで、ポリマーフィルムの
パターニングが可能である。

【０２１９】次に、ノボラック系樹脂とナフトキノンジ
アジド（ＮＱＤ）系感光剤とからなるポジ型レジストの
像形成プロセスについて、図１１に基づいて説明する。
ポジ型レジストの感光剤のＮＱＤは、露光によって窒素
を放出し、転移反応でケテンとなり、このケテンが系中
の水と反応して、現像液であるアルカリ水に可溶なイン
デンカルボン酸を生じてノボラック樹脂とともに溶解す
る。このような材料を含むポジ型レジストにおいては、
非露光部では、ＮＱＤがノボラック村脂に対して溶解抑
制剤として作用する。すなわち、露光部に可溶なポジ型
画像が形成される。

【０２２０】また、光分解剤を添加した場合は、ポリマ
ーの酸化分解反応が、図１２のようにして進行し、ポリ
マーの分解が生じる。

【０２２１】また、光増感剤を混合した場合、つまりベ
ンゾフェノン等のケトン類、アントラキノン類といった
光三重項励起によって、図１３に示すようにポリマーか
ら水素引き抜き反応を行う物質（光増感剤）をポリマー
に混合する場合には、この光増感剤によるポリマー分子
からの水素引き抜きにより、ポリマーの酸化分解が誘起
される。

【０２２２】また、遷移金属化合物を混合する場合、つ
まり、熱では安定であるが、光によって容易に分解する
有機遷移金属化合物を混合する場合には、光分解の際に
はポリマーを酸化する活性ラジカルおよびパーオキサイ
ドの分解を促進する金属イオンを生じるので、著しいポ
リマーの分解が起こるとされている。代表例としてジチ
オカルバミン酸の遷移金属（Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃａ、Ｚｎ
等）塩は、０．０１％程度の徴量の混合量で、図１４の
ように分解するとみられている。

【０２２３】また、不飽和結合を持つ化合物を混合する
場合、つまりオレフィン類、テルペン類等の不飽和結合
を持つ化合物が、図１５のように光照射によって酸素と
反応する場合には、アリル位にパーオキサイド基を形成
しやすいという性質を利用している。

【０２２４】なお、上述した実施形態においては感光性
フィルムの製造において、分子が一軸方向または二軸方
向に配向するようにしているが、本発明はこれに限ら
ず、三軸方向以上に分子を配向するようにしてもよい。
このように分子が三軸方向以上に配向している場合に
も、同様に複屈折を有するものとなる。

【０２２５】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明による場合
には、感光性フィルムが複屈折性を有することで、複屈
折性を有するフィルムのパターニングが可能で、任意の
位置に複屈折性を有する領域を形成することができる。

【０２２６】また、感光性フィルムを構成する分子が、
一軸あるいは二軸方向以上に配向していることで、感光
性フィルムに複屈折性を付与することができ、露光、現
像処理により、任意の位置に選択的に一軸あるいは二軸
以上の配向領域を形成することができる。このとき、感
光性フィルムのリタデーション値が９０ｎｍ以上８００
ｎｍ以下であれば、表示に用いられる可視光線の色調を
補正することができ、ＳＴＮ型液晶パネル等の表示素子
の色調補正にきわめて有効である。

【０２２７】また、該感光性フィルムに、少なくとも光
硬化性ポリマーと光硬化性モノマーと光重合開始剤とを
含む組成物により構成されているものを使用することに
より、光照射部において構成材料の重合反応を行うこと
ができ、光非照射部より光照射部の現像液に対する溶解
性が悪くすることができるため、ネガ型の感光性フィル
ムを作製することができる。

【０２２８】また、該感光性フィルムに、少なくとも光
分解性ポリマーにより構成されているか、あるいは、少
なくとも感光剤とそれを保持するための高分子材料によ
り構成されているものを使用することにより、光照射部
において高分子材料の光分解反応を行うことができ、光
非照射部より光照射部の現像液に対する溶解性をよくす
ることができ、ポジ型の感光性フィルムを作製すること
ができる。

【０２２９】また、高分子シート、高分子フィルムまた
は紙などを、感光性フィルムの少なくとも一方の面を覆
う構成とすることにより、感光性フィルムをロール状に
巻き取ることができ、感光性フィルムを基板に連続的に
貼着することができる。

【０２３０】さらに、このような感光性フィルムは、一
軸方向または二軸方向以上に延伸処理を行うことで、延
伸方向にフィルムを構成する分子を配向させることがで
き、フィルムに位相差を付与することができる。

【０２３１】上記感光性フィルムが露光、現像されて、
１または２以上の絵素の周辺を取り囲むように配置され
ている構成とすることで、スペーサーのように点でなく
面で一対の基板を支えることになるので、外部からの押
圧に対するパネル強度を向上させることができる。

【０２３２】さらに、感光性フィルムが露光、現像によ
りストライプ状に形成されていれば、前記パネル強度の
向上に加え、必要な液晶量を最小限に抑えることがで
き、生産性の高い液晶表示素子を作製することができ
る。

【０２３３】また、該感光性フィルム内にスペーサーを
含んでいる構成とすることで、液晶パネルの基板間隙を
制御するスペーサを感光性フィルム内だけに偏在させる
ことができ、スペーサーによる液晶分子の配向不良を低
減させることができる。

【０２３４】また、基板間隙の表示領域内に高分子を挟
持しているような液晶パネルにおいて、該高分子部に一
致するように、上記感光性フィルムを露光、現像により
配置することで、高分子部の色調を補正することがで
き、光学的に等方性状態である高分子壁による表示明る
さの低下を減少させることができる。

【０２３５】更に、該感光性フィルムが基板内面に配置
されていることで、基板の厚みによる視差を減少させる
ことができ、視認性の高い液晶パネルを製造することが
できる。

【０２３６】上記感光性フィルムを熱圧着により基板に
貼着することで、密着性に優れ、広範囲にわたって、フ
ィルムを同時に基板に貼着することができ、生産効率の
高い液晶パネルの製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のネガ型感光性フィルムのパターン形成
を説明する図である。

【図２】本発明のポジ型感光性フィルムのパターン形成
を説明する図である。

【図３】本実施形態４における液晶パネルの一例を示す
断面図である。

【図４】本実施形態５における液晶パネルにおいて、感
光性フィルムの配置パターンとシール材のシールパター
ンとの位置関係を示す図である。

【図５】実施例５における液晶表示素子において、偏光
板の角度を説明する図である。

【図６】ＣＩＥにおけるＬ^*、ａ^*、ｂ^*と色調との関係
を示す図である。

【図７】Ｌ^*値を用いた感光性フィルムのリタデーショ
ン量による変化を示す図である。

【図８】実施形態６の液晶パネルを示す斜視図である。

【図９】（ａ）は実施形態７にかかる液晶パネルを示す
斜視図であり、（ｂ）はその断面図である。

【図１０】Ｎｏｒｒｉｓｈ反応による分解を説明する図
である。

【図１１】ポジ型レジストの像形成プロセスを説明する
図である。

【図１２】光分解剤を添加した場合におけるポリマーの
酸化分解反応を説明する図である。

【図１３】光増感剤を混合した場合における光三重項励
起によってポリマーから水素引き抜きの反応が起こると
きの反応を説明する図である。

【図１４】ジチオカルバミン酸の遷移金属塩の分解を説
明するための図である。

【図１５】不飽和結合を持つ化合物の光照射による酸素
との反応を示す図である。

【符号の説明】

１ａ、１ｂ 基板 ２ａ、２ｂ 透明電極 ３ 絵素 ４ 液晶領域 ５ 感光性フィルム ６ シール材 ７ 高分子壁 ８ 注入口 １１ａ、１１ｂ 基板 １２ａ、１２ｂ 透明電極 １３ 液晶領域 １４ 高分子壁 １５ シール材 １６ 絵素領域 １７ 非絵素領域 １８ 感光性フィルム １９ａ、１９ｂ 電気絶縁膜 ２０ａ、２０ｂ 配向膜 ２１ スペーサー

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複屈折性を有する感光性フィルム。
2. 【請求項２】 分子が、一軸方向または二軸方向以上に
   配向している請求項１に記載の感光性フィルム。
3. 【請求項３】 リタデーション値が９０ｎｍ以上８００
   ｎｍ以下である請求項１または２に記載の感光性フィル
   ム。
4. 【請求項４】 少なくとも光硬化性ポリマーと光硬化性
   モノマーと光重合開始剤とを原料として構成されている
   ネガ型の請求項１または２に記載の感光性フィルム。
5. 【請求項５】 少なくとも光分解性ポリマーにより、ま
   たは、少なくとも感光剤と該感光剤を保持するための高
   分子材料とにより、構成されているポジ型の請求項１ま
   たは２に記載の感光性フィルム。
6. 【請求項６】 高分子シート、高分子フィルムまたは紙
   にて、少なくとも一方の面が覆われている請求項１乃至
   ５のいずれか一つに記載の感光性フィルム。
7. 【請求項７】 請求項１乃至６のいずれか一つに記載の
   感光性フィルムの製造方法であって、 感光性フィルム素材を一軸方向または二軸方向以上に延
   伸させる感光性フィルムの製造方法。
8. 【請求項８】 一対の基板の間に少なくとも液晶を有す
   る表示媒体が挟まれ、絵素が複数配されている液晶パネ
   ルにおいて、 複屈折性を有する感光性フィルムが、両基板の少なくと
   も一方であって該表示媒体側の面に、１または２以上の
   絵素の周辺を取り囲むように配置されている液晶パネ
   ル。
9. 【請求項９】 一対の基板の間に少なくとも液晶を有す
   る表示媒体が挟まれ、絵素が複数配されている液晶パネ
   ルにおいて、 複屈折性を有する感光性フィルムが、両基板の少なくと
   も一方であって該表示媒体側の面にストライプ状に配置
   されている液晶パネル。
10. 【請求項１０】 前記ストライプ状に配置された複屈折
    性を有する感光性フィルムの隣合うもの同士と、該隣合
    う感光性フィルムに掛け渡して設けた高分子壁とにより
    １または２以上の絵素の周辺が取り囲まれている液晶パ
    ネル。
11. 【請求項１１】 前記感光性フィルムにスペーサーが含
    まれている請求項８乃至１０のいずれか一つに記載の液
    晶パネル。
12. 【請求項１２】 一対の基板の間に表示媒体が挟まれ、
    絵素が複数配されている液晶パネルにおいて、 該表示媒体の表示領域内に、高分子壁、高分子柱および
    高分子突起物のうちの少なくとも一つの高分子部と液晶
    とが存在し、該高分子部に略一致する状態に、複屈折性
    を有する感光性フィルムが両基板の少なくとも一方であ
    って片面または両面に配置されている液晶パネル。
13. 【請求項１３】 前記感光性フィルムが、基板の表示媒
    体側の面に設けられている請求項１２に記載の液晶パネ
    ル。
14. 【請求項１４】 請求項８乃至１３のいずれか一つの液
    晶パネルの製造方法であって、 複屈折性を有する感光性フィルムを圧着すべく、前記一
    対の基板のうちの該当する基板を予熱する工程と、 予熱された基板に複屈折性を有する感光性フィルムを押
    圧すると共に該感光性フィルムと該基板とを加熱して圧
    着させる工程とを含む液晶パネルの製造方法。