JPH09290364A

JPH09290364A - ウェーハの研磨装置

Info

Publication number: JPH09290364A
Application number: JP10496496A
Authority: JP
Inventors: Norio Kudo; 紀夫工藤; Yasuo Inada; 安雄稲田; Makoto Nakajima; 誠中島; Masanori Fukushima; 政法福島
Original assignee: Fujikoshi Machinery Corp
Current assignee: Fujikoshi Machinery Corp
Priority date: 1996-04-25
Filing date: 1996-04-25
Publication date: 1997-11-11
Anticipated expiration: 2016-04-25
Also published as: DE69711254T2; US5879225A; EP0803329A3; EP0803329B1; EP0803329A2; JP3734878B2; DE69711254D1

Abstract

(57)【要約】【課題】ウェーハの研磨むらを防止してウェーハの平
坦度をさらに向上させると共に、研磨定盤の表面に貼ら
れたクロス等の磨耗を均一にする。【解決手段】ウェーハ表面を研磨定盤１０の研磨面１
０ａに当接させ、ウェーハ２０に所定の荷重を与えつつ
ウェーハ２０と研磨定盤１０とを相対的に運動させてウ
ェーハ表面を鏡面研磨するウェーハの研磨装置におい
て、研磨定盤１０を研磨面１０ａに直交する軸線を中心
に回転可能に支持する支持台部２２と、支持台部２２に
搭載され支持台部２２に対して研磨定盤１０を前記軸線
を中心として回転させる回転駆動手段２５と、支持台部
２２を支持する基台３０と、基台３０に対して支持台部
２２を研磨面１０ａと平行な面内で自転しない円運動を
させる円運動装置３２とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ウェーハの研磨装
置に関する。ウェーハの研磨装置にはポリッシング装置
およびラッピング装置がある。ポリッシング装置の基本
的な構成として、ウェーハの保持部、そのウェーハの保
持部に対向して配されウェーハを研磨する研磨面を有す
る定盤（研磨定盤）、ウェーハ表面を研磨面に当接させ
るべくウェーハの保持部と定盤とを接離動させる接離動
機構、ウェーハの保持部に保持されたウェーハを研磨面
に所定の押圧力で押圧する押圧機構、ウェーハが定盤に
当接・押圧された状態で該ウェーハと定盤とを回転およ
び／または往復動によって相対的に運動させる駆動機
構、スラリー等を含む液状の研磨剤の供給機構等を備え
ている。研磨定盤は、金属板またはセラミックス板から
なる定盤の表面上に、布もしくはフェルト状のクロス、
またはスポンジもしくは短毛刷子状の部材が固定されて
構成される。このウェーハの研磨装置によれば、薄板状
の被研磨部材であるウェーハ（例えば、半導体装置用の
シリコンウェーハ、ガラス薄板材等の脆性部材の表面）
を鏡面状に研磨することができる。

【０００２】

【従来の技術】従来、ウェーハの研磨装置では、ウェー
ハを研磨定盤に押しつけてウェーハを研磨定盤を相対的
に移動させて研磨するが、研磨定盤は、その中心軸を中
心に回転運動すると共に、ウェーハの研磨むらを防止す
るためと研磨定盤の上記クロス等の磨耗を均一にするた
め、直線往復運動（揺動運動）も合わせて行っている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、回転す
る研磨定盤にウェーハを押しつけて研磨するのでは、ウ
ェーハの研磨定盤の外径側に接した側と、内径側に接し
た側とでは研磨定盤との相対速度（周速）が異なり、研
磨むらが発生する。それに対して上記にように研磨定盤
を揺動運動させても、揺動運動は滑らかな運動にならな
いため、すなわち、折り返す際には急激に方向を変更
し、速度を一定に保つことが困難である。従って、回転
運動と揺動運動を合わせて研磨する方法で、ウェーハの
平坦度をさらに向上させるには限界があった。

【０００４】そこで、本発明の目的は、ウェーハの研磨
むらを防止してウェーハの平坦度をさらに向上させると
共に、研磨定盤の表面に貼られたクロス等の磨耗を均一
にすることのできるウェーハの研磨装置を提供すること
にある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は次の構成を備える。すなわち、本発明は、
ウェーハ表面を研磨定盤の研磨面に当接させ、該ウェー
ハに所定の荷重を与えつつウェーハと研磨定盤とを相対
的に運動させてウェーハ表面を鏡面研磨するウェーハの
研磨装置において、前記研磨定盤を該研磨面に直交する
軸線を中心に回転可能に支持する支持台部と、該支持台
部に搭載され支持台部に対して前記研磨定盤を前記軸線
を中心として回転させる回転駆動手段と、前記支持台部
を支持する基台と、該基台に対して前記支持台部を前記
研磨面と平行な面内で自転しない円運動をさせる円運動
装置とを具備する。

【０００６】また、前記円運動装置は、前記研磨定盤の
軸線に平行な軸線を中心に基台に回転可能に設けられた
基台側の軸と、該基台側の軸に平行であると共に所定の
距離偏心した軸線を中心に支持台部に回転可能に設けら
れた支持台部側の軸とがクランク状に一体に形成され、
基台と支持台部の間に基台側の軸と支持台部側の軸との
偏心距離が同一に少なくとも３ヵ所に配された偏心アー
ムと、該少なくとも３ヵ所に配された偏心アームを同期
させて回転運動させ、前記支持台部を前記基台に対して
自転しない円運動させる円運動駆動手段とを備えること
で、基台に対して支持台部を好適に円運動させることが
できる。

【０００７】また、ウェーハ表面を研磨定盤の研磨面に
当接させるようにウェーハを保持し、ウェーハを研磨定
盤の研磨面に押圧するウェーハの押圧装置が、ウェーハ
を回転させる回転機構を備えることで、ウェーハ表面を
より均一に研磨することができる。

【０００８】また、前記回転駆動手段は、前記支持台部
に固定された回転動用モータと、該回転用駆動モータの
出力軸に固定されたウォームギアと、該ウォームギアに
歯合し、前記研磨定盤側に固定されたウォームホイール
とからなることで、前記モータの出力を好適に減速して
研磨定盤を回転できると共に、その減速機構を複雑化さ
せることなく小型軽量化できる。

【０００９】また、円運動駆動装置は、前記各偏心アー
ムに対応してそれぞれ配され基台に固定された円運動用
モータであることで、基台に対して支持台部をバランス
良く好適に円運動させることができる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施例を添
付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明にかか
るウェーハの研磨装置の一実施例を示す模式的な断面図
であり、図２は図１の実施例の構成を模式的に示した平
面図である。この図１および図２では、ウェーハ表面を
研磨定盤１０の研磨面１０ａに当接させ、該ウェーハ２
０に所定の荷重を与えつつウェーハ２０と研磨定盤１０
とを相対的に運動させてウェーハ表面を鏡面研磨するウ
ェーハの研磨装置における、研磨定盤１０を駆動させる
運動機構が模式的に示されている。

【００１１】研磨定盤１０は、定盤受け部１２と、その
定盤受け部１２上に載置される定盤１４とに分割可能に
設けられており、定盤１４は定盤受け部１２に吸着によ
って着脱可能に固定されている。定盤１４は、金属板ま
たはセラミックス板を基体とし、その表面には布もしく
はフェルト状のクロス、またはスポンジもしくは短毛刷
子状の部材等が固定されて構成される。また、定盤受け
部１２の定盤１４を受ける側と反対面の方向には軸部１
６が一体に突設されている。

【００１２】また、定盤受け部１２は、二層の平板部１
２ａ、１２ｂによって構成されている。平板部１２ｂ
が、軸部１６と一体に形成され、平板部１２ａとの間に
冷却水が循環できる循環水路１３が形成されている。循
環水路１３は軸部１６を貫通する冷却水供給路１３ａと
冷却水排出路１３ｂに連通しており、不図示の冷却水供
給源によって冷却水が供給循環される。また、平板部１
２ａの定盤１４が載置される表面には、定盤１４を真空
吸着するための真空通路１５が形成されている。なお、
真空通路１５は平板部１２ａの上面全面に連通してお
り、軸部の通路１５ａを通って真空源（不図示）に連通
される。さらに、１２ｃは平板部１２ａに固定されたピ
ンであり、定盤１４に設けられた凹部１４ａに嵌入され
る。このピン１２ｃと凹部１４ａとは複数設けられてお
り、定盤受け部１２に対する定盤１４の位置決めとして
用いられる。

【００１３】２２は支持台部であり、研磨定盤１０をそ
の研磨面１０ａに直交する軸線を中心に回転可能に支持
する。支持台部２２の中央に貫通された貫通孔２２ａに
研磨定盤１０の軸部１６が挿通されており、スラスト軸
受２３およびラジアル軸受１８、１８、１９、１９によ
って、研磨定盤１０が支持台部２２に対して、その軸線
を中心に回転可能に軸受けされている。

【００１４】２５は回転駆動手段であり、支持台部２２
に搭載され、その支持台部２２に対して研磨定盤１０を
前記軸線を中心として回転させる。この回転駆動手段２
５は、例えば本実施例のように、支持台部２２に固定さ
れた回転用駆動モータ２４（図２参照）と、その回転用
駆動モータ２４の出力軸に固定されたウォームギア２６
と、ウォームギア２６に歯合し、研磨定盤１０側に固定
されたウォームホイール２７とからなる。なお、ウォー
ムホイール２７は前記軸部１６とキー２８によって一体
に回転するように連結・固定されている。また、２９は
ディストリビュータ部であり、後述するウェーハの押圧
装置４０のディストリビュータ部９２と略同様な機構に
よって、軸部１６が回転しても、冷却水を循環水路１３
に対して給排できると共に、真空源が真空通路１５に連
通するように設けられている。

【００１５】３０は基台であり、支持台部２２を支持す
る。図１に図示した基台３０は装置本体のフレームの一
部であり、実際には支柱フレーム（不図示）によって、
基礎面上に固定されている。３２は円運動装置であり、
基台３０に対して支持台部２２を研磨面１０ａと平行な
面内で自転しない円運動をさせる。この円運動装置３２
は、例えば本実施例のように、偏心アーム３４と円運動
用モータ３６からなる。

【００１６】偏心アーム３４は、研磨定盤１０の軸線に
平行な軸線を中心に基台３０に回転可能に設けられた基
台側の軸３５と、その基台側の軸３５に平行であると共
に所定の距離偏心した軸線を中心に支持台部２２に回転
可能に設けられた支持台部側の軸３８とがクランク状に
一体に形成されている。そして、基台側の軸３５と支持
台部側の軸３８との偏心距離Ｌが同一である同一形状の
偏心アーム３４が、基台３０と支持台部２２の間に、図
２に示すように３ヵ所に配されている。なお、本実施例
では偏心アーム３４を３ヵ所に配した場合を説明した
が、本実施例はこれに限らず、支持台部２２をバランス
良く基台３０上に支持するために４ヵ所以上に配しても
よいのは勿論である。

【００１７】円運動用モータ３６は、少なくとも３ヵ所
に配された偏心アーム３４を同期させて回転運動させ、
支持台部２２を基台３０に対して自転しない円運動させ
る円運動駆動手段として作動する。円運動用モータ３６
は、各偏心アーム３４に対応してそれぞれ配されてお
り、基台３０に固定されている。

【００１８】次に、図３に基づいて、ウェーハの押圧装
置４０について説明する。ウェーハの押圧装置４０は、
研磨定盤１０の上方に位置し、ウェーハ表面を研磨定盤
１０の研磨面１０ａに当接させるようにウェーハ２０を
保持し、ウェーハ２０を研磨定盤１０の研磨面１０ａに
押圧する。５０は保持部材であり、表面５０ａにウェー
ハ２０を水等の液体（本実施例では水）の表面張力によ
って保持できる。この保持部材５０は、セラミックプレ
ートを基材とし、そのセラミックプレートの表面に弾性
材であってウェーハ２０を吸着する吸着性の優れたバッ
キング材が接着等によって付着されて形成されている。
バッキング材の材質は、ポリウレタンを主体とする高分
子材料の微孔質シートであり、その弾性によってウェー
ハ２０に好適に馴染んで密着し易い。

【００１９】また、保持部材５０の表面には、テンプレ
ート５２が接着によって装着されている。このテンプレ
ート５２は、リング状に形成されており、ウェーハ２０
の周囲を取り囲んでウェーハ２０の滑り移動を防止して
いる。テンプレート５２の内径は、ウェーハ２０の横滑
りを抑え、ウェーハ２０が容易に内嵌するように設定さ
れている。また、ウェーハ２０の厚さの３分の２程度の
厚さに設定されている。なお、テンプレート５２は嵌め
込み式に装着されていてもよい。

【００２０】５３は凹部であり、下方に向けて開放して
いる。５４は板状の弾性部材であり、例えば硬質のゴム
板材によってドーナツ形の平板状に形成され、外周部が
凹部５３の内上面の外周段部に固定されると共に内周部
が保持部材５０の上面に固定されており、保持部材５０
を上下方向及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可
能に吊持する。５５は圧力室であり、前記凹部５３を保
持部材５０および板状の弾性部材５４によって画成して
設けられている。この圧力室５５内に所定圧力の流体
が、流体の供給手段（図示せず）によって供給できる。

【００２１】また、６２は主軸であり、筒状に形成され
ており、その筒内に高圧流体源である圧縮空気源（図示
せず）に連通する管６４が挿入されている。この管６４
は前記圧力室５５に連通しており、ウェーハ２０の表面
を研磨定盤１０の研磨面１０ａ（図１参照）に当接させ
た際に、この圧力室５５内に圧縮空気が導入されると、
保持部材５０の上面の略全面に均一な圧力が負荷され
る。これにより、所望の圧力によってウェーハ２０の表
面をその全面に均等な荷重を負荷しつつ、研磨面１０ａ
に押圧することができる。このとき、圧力室５５に充填
された圧縮空気は流体（本実施例では空気）であるた
め、保持部材５０の全面を均等に押圧し、ウェーハ２０
の表面を研磨面１０ａの傾斜に素早く追随させることが
できる。

【００２２】６６はベース部材であり、保持部材５０に
よって保持されるウェーハ２０を研磨面１０ａ上へ供給
すると共にその研磨面１０ａ上から排出するべく移動可
能に設けられている。また、主軸６２の先端に固定され
たウェーハの保持部４２を主軸６２等を介して回転可能
に支持している。

【００２３】６８は係止部であり、主軸６２の上部に設
けられ、下側よりも小径に形成されている。この係止部
６８は、シリンダ装置７０のロッド７２に固定されたア
ーム部７４に、回転及びスラスト方向の両方向に軸受け
する軸受部７６、７６を介して係止されている。また、
ウェーハの保持部４２と一体に設けられた主軸６２は、
ベース部材６６に対して回転軸受７８、７８を介して回
転可能に設けられた回転伝達部材８０内に挿入されてい
る。回転軸受７８、７８はベース部材６６に一体に固定
された立設筒部８２内に装着されている。この回転伝達
部材８０と主軸６２とは、主軸６２側に固定されたキー
８４が、回転伝達部材８０側に設けられたキー溝８１内
に臨むことで連繋されている。このため、回転伝達部材
８０と主軸６２とは一体的に回転動する。また、キー溝
８１が長手方向である軸線方向に長く設けられているた
め、主軸６２は、シリンダ装置７０によって所定の範囲
内でベース部材６６に対して上下方向に移動できる。な
お、図３では、ウェーハの保持部４２はシリンダ装置７
０によって上方に移動した状態にある。８６は駆動モー
タであり、ピニオンギア８８及び従動ギア９０を介し
て、その従動ギア９０がキー９１によって連結された回
転伝達部材８０を回転させる。なお、この回転伝達部材
８０は、ベース部材６６との間に配設された回転軸受７
８、７８によって、ベース部材６６に対して回転可能に
設けられている。

【００２４】９２はディストリビュータ部であり、圧縮
空気源と連通するための連結ポート部である。このディ
ストリビュータ部９２に内嵌した主軸６２の先端部６２
ａを、その先端部６２ａが回転できるように受けてい
る。９４は連通路であり、管６４に連通している。ま
た、９６はシール部材であり、このシール部材９６、９
６にシールされて全周のリング状の空間９７が形成され
ており、そのリング状の空間９７に連通して高圧源連結
ポート９８が設けられている。このため、先端部６２ａ
が回転しても、圧縮空気源は、高圧源連結ポート９８、
リング状の空間９７、連通路９４、管６４を通して常に
圧力室５５に連通できる。また、１００はエンコーダ装
置であり、主軸６２の回転位置を検知し、ウェーハの保
持部４２を所定の位置で停止させる定位置停止装置の検
知装置として作用する。

【００２５】次に以上の構成からなるウェーハの研磨装
置に関して、その作動状態について説明する。研磨面１
０ａには、スラリー等を含む液状研磨剤が供給され、保
持部材５０の下面に保持されたウェーハ２０の表面がそ
の研磨面１０ａに所定の荷重を与えられつつ当接・押圧
されると共に、ウェーハ２０と研磨定盤１０とを相対的
に運動させることでウェーハ２０の表面を鏡面研磨する
ことができる。このとき、研磨定盤１０は、複数の偏心
アーム３４による支持台部２２を自転しないで円運動
（この自転しない円運動のことを、以下では単に円運動
という。）させる運動と、支持台部２２に対して回転
（自転）する運動とが合成された運動をする。また、ウ
ェーハの押圧装置４０の側では、ウェーハ２０を回転
（自転）させるよう、ウェーハの保持部４２が運動す
る。円運動は回転運動と異なり、研磨定盤１０上のいか
なる点も同一の速度を発生させる運動であり、ウェーハ
２０のいかなる点も同一の条件で研磨することができ
る。従って、ウェーハ２０の表面を非常に均一に精度よ
く研磨することができる。他の条件を同一にした場合、
従来のウェーハの研磨装置では８インチのシリコンウェ
ーハで０．５μｍだった平坦度が、本発明のウェーハの
研磨装置によれば０．２μｍ以下の平坦度が容易に得ら
れるようになった。また、このように均一に研磨できる
ので、研磨定盤１０の研磨面を構成するクロス等自体の
磨耗が均一化し、研磨定盤１０の調整作業等が簡略化で
き、研磨作業を効率化できる。なお、揺動運動でも同一
速度を得られるが、この場合は、折り返しの際に急激な
速度変化を生じ、円運動のような滑らかな運動とならな
い。このため、従来のウェーハの研磨装置では、ウェー
ハの平坦度の向上には限界があったのである。

【００２６】次に研磨工程を工程順に詳細に説明する。
先ず、所定の位置に載置されたウェーハ２０の上方から
ウェーハの保持部４２をシリンダ装置７０によって下降
させ、保持部材５０の表面に水の表面張力によって吸着
させる。次に、ベース部材６６を移動させることにより
ウェーハ２０を研磨定盤１０の上方まで搬送し、さら
に、シリンダ装置７０によって、ウェーハの保持部４２
を下方に下げることにより、ウェーハ２０の表面を研磨
面１０ａに当接させる。

【００２７】次に、所定の圧力の圧縮空気を圧力室５５
に導入することによって、ウェーハ２０の表面を研磨面
１０ａに所望の圧力で押圧することができる。このと
き、圧縮空気は流体であるから保持部材５０の全面を均
等に押圧して、シリコンウェーハ２０の表面を研磨面１
０ａの傾斜に素早く追随させることができる。また、圧
縮空気によって保持部材５０の上面全面に均等な圧力を
負荷することができる。このため、シリコンウェーハ２
０の表面が研磨面１０ａの傾斜に追随した状態において
も、シリコンウェーハ２０の表面全面を研磨面１０ａに
均等な圧力で押圧することができる。そして、上記の如
く好適にシリコンウェーハ２０に荷重が負荷された状態
で、研磨面１０ａ上にスラリーを供給しつつ、ウェーハ
２０と研磨定盤１０とが上記のように相対的に運動され
て、ウェーハ２０が鏡面研磨される。

【００２８】以上に説明してきたウェーハの研磨装置
は、ウェーハの押圧装置のセラミックプレートとしてバ
ッキング材を接着させた保持部材５０を利用している。
これは、セラミックスは、金属材に比べ線膨張係数の小
さく、変形しにくいため、ウェーハ２０を均一に精度よ
く研磨するために有効であることによるが、セラミック
プレートに代えて、金属材または樹脂材からなるプレー
トを利用してもよいのは勿論である。また、保持部材と
しては、変形しにくいプレート状の形態を備えているも
のに限らず、弾性部材によって形成された薄膜状のもの
も含まれる。そのような保持部材でも、ウェーハ２０を
液体圧を介して研磨面１０ａに均一な圧力で当接させる
ことが可能である。

【００２９】また、ウェーハの保持部４２は、ウェーハ
２０を水貼りで保持部材５０に貼ることで保持するが、
これに限らず、他の構成からなるものでもよい。例え
ば、ウェーハ２０を吸着して保持して供給排出を行い、
実際に研磨をする際には吸着しない状態でウェーハ２０
を押圧するウェーハの保持部４２でもよい。また、以上
に説明してきた実施例では、圧縮空気によって保持部材
５０を介してウェーハ２０を研磨面に押圧する場合を説
明したが、他の流体圧例えば水圧または油圧を利用する
こともできる。

【００３０】また、前記保持部材５０が複数のウェーハ
２０を保持可能なように大型に設けられた場合には、テ
ンプレート５２に、ウェーハ２０が内嵌される複数の穴
を設け、複数のウェーハ２０を同時に研磨することがで
きる。以上、本発明の好適な実施例について種々述べて
きたが、本発明はこの実施例に限定されるものではな
く、発明の精神を逸脱しない範囲内でさらに多くの改変
を施し得るのは勿論のことである。

【００３１】

【発明の効果】本発明のウェーハの研磨装置によれば、
研磨定盤は、複数の偏心アームによる支持台部を自転し
ないで円運動させる運動（円運動）と、支持台部に対し
て回転（自転）する運動とが合成された運動をする。円
運動は回転運動と異なり、研磨定盤上のいかなる点も同
一の速度を発生させる運動であり、ウェーハのいかなる
点も同一の条件で研磨することができる。従って、ウェ
ーハの表面を非常に均一に精度よく研磨することができ
るという著効を奏する。また、このように均一に研磨で
きるので、研磨定盤の研磨面を構成するクロス等自体の
磨耗が均一化し、研磨定盤の調整作業等が簡略化でき、
研磨作業を効率化できるという効果もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかるウェーハの研磨装置の一実施例
を示す断面図である。

【図２】図１の実施例の模式的な平面図である。

【図３】本発明にかかるウェーハの研磨装置に用いられ
るウェーハの押圧装置の断面図である。

【符号の説明】

１０研磨定盤１０ａ研磨面１２定盤受け部１４定盤１６軸部２０ウェーハ２２支持台部２４回転用駆動モータ２５回転駆動手段２６ウォームギア２７ウォームホイール３０基台３２円運動装置３４偏心アーム３５基台側の軸３６円運動用モータ３８支持台部側の軸４０ウェーハの押圧装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者福島政法長野県長野市松代町清野1650番地不二越機械工業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ウェーハ表面を研磨定盤の研磨面に当接
させ、該ウェーハに所定の荷重を与えつつウェーハと研
磨定盤とを相対的に運動させてウェーハ表面を鏡面研磨
するウェーハの研磨装置において、前記研磨定盤を該研磨面に直交する軸線を中心に回転可
能に支持する支持台部と、該支持台部に搭載され支持台部に対して前記研磨定盤を
前記軸線を中心として回転させる回転駆動手段と、前記支持台部を支持する基台と、該基台に対して前記支持台部を前記研磨面と平行な面内
で自転しない円運動をさせる円運動装置とを具備するこ
とを特徴とするウェーハの研磨装置。
【請求項２】前記円運動装置は、前記研磨定盤の軸線に平行な軸線を中心に基台に回転可
能に設けられた基台側の軸と、該基台側の軸に平行であ
ると共に所定の距離偏心した軸線を中心に支持台部に回
転可能に設けられた支持台部側の軸とがクランク状に一
体に形成され、基台と支持台部の間に基台側の軸と支持
台部側の軸との偏心距離が同一に少なくとも３ヵ所に配
された偏心アームと、該少なくとも３ヵ所に配された偏心アームを同期させて
回転運動させ、前記支持台部を前記基台に対して自転し
ない円運動させる円運動駆動手段とを具備することを特
徴とする請求項１記載のウェーハの研磨装置。
【請求項３】ウェーハ表面を研磨定盤の研磨面に当接
させるようにウェーハを保持し、ウェーハを研磨定盤の
研磨面に押圧するウェーハの押圧装置が、ウェーハを回
転させる回転機構を備えることを特徴とする請求項１ま
たは２記載のウェーハの研磨装置。
【請求項４】前記回転駆動手段は、前記支持台部に固
定された回転用駆動モータと、該回転用駆動モータの出
力軸に固定されたウォームギアと、該ウォームギアに歯
合し、前記研磨定盤側の軸部に固定されたウォームホイ
ールとからなることを特徴とする請求項１、２または３
記載のウェーハの研磨装置。
【請求項５】円運動駆動装置は、前記各偏心アームに
対応してそれぞれ配され基台に固定された円運動用モー
タであることを特徴とする請求項１、２、３または４記
載のウェーハの研磨装置。