JPH09274736A - 光ディスク及びその製造方法 - Google Patents

光ディスク及びその製造方法

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JPH09274736A
JPH09274736A JP8082584A JP8258496A JPH09274736A JP H09274736 A JPH09274736 A JP H09274736A JP 8082584 A JP8082584 A JP 8082584A JP 8258496 A JP8258496 A JP 8258496A JP H09274736 A JPH09274736 A JP H09274736A
Authority
JP
Japan
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disk
single plate
recording layer
disc
ultraviolet
Prior art date
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Application number
JP8082584A
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English (en)
Inventor
Minoru Kikuchi
稔 菊地
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録層が形成された第1の単板ディスク3
と、記録層が形成された第2の単板ディスク6とが、紫
外線硬化型接着剤7によって貼り合わせてなる両面構成
の貼り合わせディスクにおいて、接着剤7を硬化させる
ための紫外線照射工程でのタクトタイムを短縮するとと
もに、基板1,4の熱変形を防止する。 【解決手段】 第1の単板ディスク3と第2の単板ディ
スク6の少なくともいずれか一方を、紫外線に対する透
過率が0.2%以上、透明基板側から照射される再生光
に対する反射率が30%以上となるようにする。これら
単板ディスクの紫外線に対する透過率や再生光に対する
反射率は、記録層の膜厚を変化させることによって制御
できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、記録層が形成され
た第1の単板ディスクと、記録層が形成された第2の単
板ディスクとが貼り合わされて構成される、いわゆる貼
り合わせ構造の光ディスク及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザ光の照射により情報の記録・再生
を行う光ディスクとしては、光磁気ディスク、各種追記
型光ディスク、デジタルオーディオディスク(いわゆる
コンパクトディスク)、光学式ビデオディスク(いわゆ
るレーザディスク)等が実用化されている。
【0003】このうち、コンパクトディスクやレーザデ
ィスクは、再生専用(Read Only Memor
y:ROM)型の光ディスクである。これらの光ディス
クは、透明基板上に、情報信号に対応したピットが再生
光波長の1/4程度の深さを有して凹凸形状で形成さ
れ、この上にAl反射層が50nm以上の厚さで成膜さ
れてなっている。このような光ディスクでは、ピットで
生じる光干渉による反射率変化を検出することで情報信
号が再生される。
【0004】一方、追記型光ディスク、光磁気ディスク
は、ユーザによって任意情報の書き込みが行えるRAM
(Random Access Memory)型の光
ディスクである。
【0005】すなわち、追記型光ディスクは、ユーザに
よって一度だけ書き込みが行える光ディスクであり、透
明基板上に、レーザ光の照射によって光学特性が変化し
たり凹凸形状が形成される追記型の記録層が形成されて
構成される。この記録層としては、例えば初期状態で結
晶状態を呈し、レーザ光が照射されることでアモルファ
ス状態に相変化する、GeSbTe相変化材料等が用い
られる。この記録層では、情報信号に対応して微小領域
を相変化させることで記録ピットが形成され、ピットに
相当するアモルファス部分とそれ以外の結晶領域との反
射率変化を検出することで情報信号が再生される。
【0006】光磁気ディスクは、ユーザによって情報の
書き込み・消去が繰り返し行える、書き換え可能型の光
ディスクであり、透明基板上に、TbFeCo非晶質合
金薄膜等の、磁気光学効果(例えばカー効果)を有する
垂直磁化膜が形成されて構成される。この光磁気ディス
クでは、情報信号に対応して垂直磁化膜の微小領域を上
向きあるいは下向きに磁化することで記録ピットが形成
される。そして、反射光での直線偏光の回転角θk(カ
ー回転角)が、垂直磁化膜の磁化の向きによって異なる
ことを利用して情報信号が再生される。
【0007】なお、このような光磁気ディスクや上述の
追記型光ディスクでは、記録層の酸化防止や多重干渉に
よる信号変調度の増大を目的として、記録層の両側を透
明な誘電体層で挟み込み、さらにその上にAl反射層を
積層した4層構造が採られる場合が多い。なお、誘電体
層としては、窒化シリコン膜やZnS−SiO2混成膜
等が用いられる。
【0008】ところで、最近、このような光ディスクを
デジタル映像記録用として用いるための検討が盛んに行
われており、そのような光ディスクとしてデジタル・ビ
デオ・ディスク(DVD)が開発されるに至っている。
【0009】このDVDは、CDと同じ120mm径と
しながら、映画1本分に相当する映像情報を記録し、現
行テレビ並みの画質で再生できるようになされたもので
ある。
【0010】ここで、このような映像情報を光ディスク
に記録するには、例えばCDの6〜8倍の記録容量が必
要になる。このため、DVDでは、レーザ波長をCDで
の780nmに対して630〜680nmと短波長化す
るとともに対物レンズの開口数NAをCDでの0.45
に対して0.52あるいは0.6に増大させることでト
ラックピッチやピットの最短記録マーク長を縮め、記録
密度を上げるようにしている。
【0011】但し、このうち対物レンズの開口数NAの
増大は、ディスク基板の反りに対する許容量を小さくす
る。このため、DVDでは、基板の厚さをCDでの1.
2mmに対して0.6mmと薄くすることで、レーザ光
がディスク基板を透過する距離を短くし、反りに対する
許容量を補償するようにしている(日経エレクトロニク
ス 1995年2月27日号 No.630)。そし
て、さらに基板を薄くすることによるディスク強度の低
下を補うため、基板の記録層が形成された側の面にさら
に基板を貼り合わせる、いわゆる貼り合わせ構造が採ら
れている。
【0012】このような貼り合わせ構造の光ディスク
(以下、貼り合わせディスクと称する)としては、貼り
合わされる2枚の基板の両方に記録層が形成される両面
タイプのものと、一方の基板のみに記録層が形成される
片面タイプのものが提案されている。これら貼り合わせ
ディスクの記録層としては、上述の単板構成で用いられ
るROM型の記録層、RAM型の記録層のいずれもが採
用でき、また、両面タイプとする場合の記録層の組み合
せは、ROM−ROM、ROM−RAM、RAM−RA
Mがある。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】ところで、貼り合わせ
ディスクにおいて、基板同士を貼り合わせるための接着
剤としては、一般に、ホットメルト型接着剤、紫外線硬
化型接着剤、熱硬化性接着剤あるいは両面接着シート等
が用いられる。
【0014】但し、DVDでは、基板の厚さが薄く、強
度の確保が要求されることから、比較的強度に優れた紫
外線硬化型接着剤を用いるのが望ましい。
【0015】しかしながら、特に両面タイプの貼り合わ
せディスクでは、紫外線硬化型接着剤を貼り合わせ用の
接着剤として用いるのが難しいのが実情である。
【0016】すなわち、紫外線硬化型接着剤を用いて両
面タイプの貼り合わせを行うには、透明基板上に記録層
が形成されてなる2枚の単板ディスク(第1の単板ディ
スク,第2の単板ディスク)を作製し、第1の単板ディ
スクの記録層が形成された側の面に紫外線硬化型接着剤
を塗布するとともに、第2の単板ディスクの記録層が形
成された側の面に紫外線硬化型接着剤を塗布する。そし
て、この第1の単板ディスクと第2の単板ディスクと
を、紫外線硬化型接着剤同士を対向させて貼り合わせ、
ディスクの両側から紫外線を照射する。これによって、
紫外線硬化型接着剤が硬化し、第1の単板ディスクと第
2の単板ディスクとが貼り合わされた状態で固定される
ことになる。
【0017】この紫外線照射に際して、両面タイプの光
ディスクでは、第1の単板ディスクと第2の単板ディス
クの両方に記録層が形成されているので、ディスクの両
側から照射された紫外線は、いずれも記録層を介して紫
外線硬化型接着剤に照射されることになる。このとき、
記録層として例えば厚さが50nm以上のAl反射層が
形成されている場合、紫外線はこの反射層で大部分が反
射または吸収され、実際に紫外線硬化型接着剤に与えら
れる紫外線光量は出射光量よりも小さくなる。このた
め、硬化に多大な時間を要する。また、紫外線が直接照
射される基板の方は、樹脂が硬化するまでの間に非常の
大きな積算照射量で紫外線の照射を被り、これによる熱
変形が問題になる。
【0018】そこで本発明はこのような従来の実情に鑑
みて提案されたものであり、貼り合わせ用接着剤として
紫外線硬化型接着剤を用いた場合に、紫外線照射工程で
のタクトタイムが短縮されるとともに、基板の熱変形が
防止される、貼り合わせ構造の光ディスク及びその製造
方法を提供することを目的とする。
【0019】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明者等が鋭意検討を重ねた結果、両面タイプ
の貼り合わせディスクでは、記録層の光学特性を規制す
ることにより、貼り合わせ用の接着剤として紫外線硬化
型接着剤の使用が可能になるとの知見を得るに至った。
【0020】本発明の光ディスクは、このような知見に
基づいて提案されたものであり、透明基板上に少なくと
も1層の記録層が形成されてなる第1の単板ディスク
と、透明基板上に少なくとも1層の記録層が形成されて
なる第2の単板ディスクとが、記録層同士を対向させ、
紫外線硬化型接着剤によって貼り合わされてなり、第1
の単板ディスクと第2の単板ディスクの少なくとも一方
は、紫外線の透過率が0.2%以上、透明基板側から照
射される再生光の反射率が30%以上であることを特徴
とするものである。
【0021】また、本発明の光ディスクの製造方法は、
透明基板上に少なくとも1層の記録層が形成されてなる
第1の単板ディスクと、透明基板上に少なくとも1層の
記録層が形成されてなる第2の単板ディスクとを、記録
層同士を対向させ、紫外線硬化型接着剤によって貼り合
わせるに際して、第1の単板ディスクと第2の単板ディ
スクの少なくとも一方を、紫外線の透過率を0.2%以
上、透明基板側から照射される再生光の反射率を30%
以上とすることを特徴とするものである。
【0022】貼り合わせディスクにおいて、少なくとも
一方の単板ディスクの、紫外線に対する透過率が0.2
%以上であると、貼り合わされたディスクの両側から紫
外線を照射して紫外線硬化型接着剤を硬化させるに際し
て、光学特性が規制された単板ディスクでは照射された
紫外線が効率良く透過し、接着剤に照射される。このた
めディスクに照射する積算照射光量が小さく抑えられ、
これにより、紫外線照射工程でのタクトタイムが短縮さ
れ、また基板の熱変形が抑えられる。
【0023】また、この単板ディスクは、再生光に対す
る反射率が30%以上になされているので、十分な再生
出力が得られる。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。
【0025】図1に、本発明の光ディスクの第1の実施
の形態を示す。
【0026】この光ディスクは、透明基板1上に記録層
2が形成されてなる第1の単板ディスク3と、透明基板
4上に記録層5が形成されてなる第2の単板ディスク6
とが、記録層側同士を対向させ紫外線硬化型接着剤7に
よって貼り合わされてなる光ディスク、すなわち両面タ
イプの貼り合わせディスクである。この光ディスクのそ
れぞれの単板ディスクでは、透明基板1,4側からレー
ザ光を照射し、記録層2,5に集光させることで当該記
録層2,5に記録された情報信号が再生される。
【0027】この光ディスクにおいて、透明基板1,4
の材料としては、通常、光ディスクに使用されている基
板材料であればいずれでもよく、アクリル樹脂,ポリカ
ーボネート樹脂,ポリオレフィン樹脂,エポキシ樹脂等
のプラスチック材料の他、ガラス等も使用される。この
プラスチック材料の中では、成形性に優れ、また吸水性
が低く、寸法安定性を有することからポリカーボネート
が好適である。
【0028】なお、この透明基板1,4には、必要に応
じて各種信号が凹凸形状8,9で形成される。この凹凸
の形成方法としては、基板にプラスチック材料を用いる
場合にはスタンパを用いた射出成形法が使用され、ガラ
ス板を用いる場合には2P(Photo−Polyme
rization)法が使用される。なお、透明基板の
厚さは、例えばディジタル・ビデオ・ディスクでは0.
6mm程度に設定される。
【0029】この透明基板1,4上に形成される記録層
2,5は、再生専用(ROM)型の記録層であってもユ
ーザによって任意情報が書き込めるRAM型の記録層で
あっても良い。
【0030】再生専用型では、基板上に情報信号に対応
して凹凸パターンを形成しておき、この上にAlやAu
等を主体とする金属反射層が形成される。なお、この金
属反射層は、Al、Auの単独で構成してもよく、これ
らの金属に腐食防止のためのTiが添加されたものであ
っても良い。
【0031】RAM型の記録層としては、ユーザによっ
て一度だけ書き込みが可能な追記型あるいは書き込み・
消去が繰り返し行える書き換え可能型がある。
【0032】追記型では低融点金属薄膜,GeSbTe
膜等の相変化膜,有機色素を含有する膜等が記録層とし
て成膜される。
【0033】また、書き換え可能型では、TbFeCo
非晶質合金薄膜等の、磁気光学特性(カー効果やファラ
デー効果)を有する垂直磁化膜等が記録層として成膜さ
れる。
【0034】なお、これらのRAM型においては、記録
層の他に、反射率や信号変調度の増大、さらには記録層
の保護を目的として誘電体層や反射層を設け、例えば第
1の誘電体層、記録層、第2誘電体層及び反射層よりな
る多層構成の記録部を形成するようにしても良い。
【0035】この誘電体層としては、酸化物や窒化物等
が使用可能であり、たとえば窒化珪素や窒化アルミニウ
ムよりなる薄膜、さらにはZnS−SiO2混成膜等が
用いられる。
【0036】また、反射層は、前記第2の誘電体層との
境界でレーザ光を70%以上反射する高反射率の膜によ
り構成することが好ましく、AlやAu等を主体とする
金属反射層が好適である。なお、この金属反射層は、A
l、Auの単独で構成してもよく、これらの金属に腐食
防止のためのTiが添加されたものであっても良い。
【0037】なお、これらの記録層や反射層、誘電体層
は、蒸着やスパッタ等の,いわゆる気相メッキ技術等に
よって成膜される。
【0038】記録層2,5の組み合わせとしては、例え
ば第1の単板ディスク3と第2の単板ディスク6の両方
がROM型、あるいは第1の単板ディスク3と第2の単
板ディスク6のいずれか一方がROM型、他の一方がR
AM型といったような組み合わせ等が挙げられる。
【0039】光ディスクは、このような記録層2が形成
された第1の単板ディスク3と、記録層4が形成された
第2の単板ディスク6とが、記録層2,5が形成された
側同士を対向させ、紫外線硬化型接着剤7によって貼り
合わされて構成されている。
【0040】この紫外線硬化型接着剤7は、第1の単板
ディスク3と第2の単板ディスク6を貼り合わせるとと
もに、記録層2,5を外部環境の水分等から保護する保
護膜としての役割も兼ねる。したがって、この紫外線硬
化型接着剤7としては、防水性に優れるアクリル系の紫
外線硬化型接着剤が好ましい。
【0041】以上が両面タイプの貼り合わせディスクの
基本的な構成であるが、この光ディスクでは、特に第1
の単板ディスク3と第2の単板ディスク6の少なくとも
一方は、紫外線の透過率が0.2%以上、基板側から照
射される再生光の反射率が30%以上となされている。
【0042】まず、単板ディスクの紫外線に対する透過
率を0.2%以上に規制するのは、ディスクの両側から
照射される紫外線が、当該単板ディスクを介して接着剤
に効率よく照射されるようにし、ディスクに照射する紫
外線の積算照射量(時間×光量/面積)を小さく抑える
ためである。
【0043】すなわち、第1の単板ディスクと第2の単
板ディスクとを貼り合わせるには、第1の単板ディスク
の記録層が形成された側の面と、第2の単板ディスクの
記録層が形成された側の面に紫外線硬化型接着剤を塗布
する。この塗布方法は、スピンコート法やシルクスクリ
ーン法等が用いられる。そして、第1の単板ディスクと
第2の単板ディスクとを、紫外線硬化型接着剤同士を対
向させて貼り合わせ、貼り合わされたディスクの両側か
ら紫外線を照射する。このとき、紫外線は基板と記録層
を通過して紫外線硬化型接着剤に照射され、接着剤を硬
化させる。これにより、第1の単板ディスクと第2の単
板ディスクとが貼り合わされた状態で固定されることに
なる。
【0044】ここで、単板ディスクの紫外線に対する透
過率が0.2%を下回る場合には、ディスクに照射され
た紫外線のうち、当該単板ディスクを通過して実際に紫
外線硬化型接着剤に照射される光量は非常に小さいもの
となる。このため、接着剤を硬化させるには、大きな積
算照射量、具体的には5000mJ/cm2を超える積
算照射量でディスクに紫外線を照射しなければならな
い。この場合、硬化に多大な時間を要することになり、
また例えばポリカーボネート等のプラスチック基板を用
いた場合にはこの基板に熱変形が生じることになる。本
発明では、このような不都合を回避するために、単板デ
ィスクの紫外線に対する透過率を0.2%以上に規制す
る。
【0045】一方、単板ディスク3,6の再生光に対す
る反射率を30%以上に規制するのは、この単板ディス
ク3,6から十分な再生出力が得られるようにするため
である。
【0046】なお、単板ディスク3,6の再生光に対す
る反射率は、CDとの互換性を得る上ではCDと同じ7
0%以上であるのが望ましい。また紫外線照射の工程で
実用的なタクトタイムを得るには紫外線の積算照射量は
2000mJ/cm2以下であるのが望ましく、そのよ
うな積算照射量で接着剤を硬化させるには、単板ディス
クの紫外線に対する透過率は、0.5%以上であるのが
望ましい。
【0047】単板ディスク3,6の紫外線に対する透過
率を高めるには、紫外線の反射や吸収が主に記録層2,
5で生じることから、当該記録層2,5の膜厚を薄くす
ることが有効である。
【0048】例えば、Al反射層やAlにTi等を微量
添加した反射層が形成されているROM型の単板ディス
クでは、反射層の膜厚を40nm以下にすることによ
り、紫外線に対する透過率が0.2%以上になる。但
し、反射層の膜厚が5nmを下回ると再生光に対して3
0%以上の反射率が得られなくなる。したがって、これ
らの反射層は、5〜40nmの膜厚とするのが適当であ
る。なお、CDと同じ70%以上の反射率を得るととも
に紫外線の積算照射量を2000mJ/cm2以下に抑
えるには、反射層の膜厚は20〜35nmとするのが望
ましい。
【0049】一方、RAM型の単板ディスクにおいて
は、上述の如く記録層の他に誘電体層や反射層を設け、
多層構成の記録部を形成する場合がある。このような多
層構成では、膜厚を制御することによって紫外線に対す
る透過率を高めるのが難しい。したがって、ROM型の
単板ディスクとRAM型の単板ディスクを組み合わせた
貼り合わせディスクでは、ROM型の単板ディスクの光
学特性を所定の範囲に規制する方が良い。
【0050】次に、本発明の光ディスクの第2の実施の
形態を、図2に示す。
【0051】この光ディスクは、透明基板11上に2層
の記録層12,13が形成されてなる第1の単板ディス
ク14と、透明基板15上に2層の記録層16,17が
形成されてなる第2の単板ディスク18とが、記録層1
3,17側同士を対向させ紫外線硬化型接着剤19によ
って貼り合わせて構成されている。第1の単板ディスク
14及び第2の単板ディスク18は、透明基板11,1
5上に第1の記録層12,16が形成され、この第1の
記録層12,16上に紫外線硬化樹脂中間層20,21
を介して第2の記録層13,17が形成されてなってい
る。この光ディスクの第1の単板ディスク14では、透
明基板11側からレーザ光を照射し第1の記録層12に
集光させることで当該第1の記録層12に記録された情
報信号が独立に再生される。また、透明基板側11から
レーザ光を照射し、第1の記録層12を透過させ、さら
に第2の記録層13に集光させることで当該第2の記録
層13に記録された情報信号が独立に再生される。ま
た、第2の単板ディスク18においても、透明基板15
側からレーザ光を照射し第1の記録層16に集光させる
ことで当該第1の記録層16に記録された情報信号が独
立に再生される。また、透明基板側15からレーザ光を
照射し、第1の記録層16を透過させ、さらに第2の記
録層17に集光させることで当該第2の記録層17に記
録された情報信号が独立に再生される。
【0052】この光ディスクにおいて、透明基板11,
15の材料や、第1の記録層12,16及び第2の記録
層13,17の材料は、第1の実施の形態の光ディスク
で例示したものがいずれも使用可能である。ただし、第
1の記録層12,16としては、第2の記録層13,1
7にレーザ光を照射する都合上、再生用のレーザ光をあ
る程度透過し得るものを選択する必要がある。
【0053】第1の記録層12,16と第2の記録層1
3,17の間に形成される紫外線硬化樹脂中間層20,
21は、第1の記録層12,16と第2の記録層13,
17とを光学的に分離するための層であり、例えば2P
法によって30〜50μmの厚さで形成される。
【0054】そして、この光ディスクでは、特に、第1
の単板ディスク14と第2の単板ディスク18の少なく
とも一方が、基板側から照射される紫外線の透過率が
0.2%以上、再生光の反射率が30%以上となされて
いる。
【0055】したがって、貼り合わされたディスクの両
側から紫外線を照射して紫外線硬化型接着剤を硬化させ
るに際して、光学特性が規制された単板ディスクでは照
射された紫外線が効率良く透過し、接着剤に照射され
る。このためディスクに照射する積算照射光量が小さく
抑えられ、これにより、紫外線照射工程でのタクトタイ
ムが短縮され、また基板の熱変形が抑えられる。
【0056】また、この単板ディスクは、再生光に対す
る反射率が30%以上になされているので、十分な再生
出力が得られる。
【0057】なお、この場合もCDとの互換性を得ると
ともに、紫外線照射工程でのタクトタイムをさらに短縮
するには、単板ディスクの紫外線に対する透過率は0.
5%以上、再生光に対する反射率は70%以上であるの
が望ましい。
【0058】また、単板ディスク14,18の紫外線に
対する透過率や再生光に対する反射率は、第1の記録層
12,16や第2の記録層13,17の膜厚を変えるこ
とによって制御することができる。
【0059】
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて実験結果に基づいて説明する。
【0060】まず、光学特性の適正な単板ディスクを得
るために以下の予備実験を行った。
【0061】Al反射層の膜厚と、紫外線の透過率の検
ポリカーボネート樹脂(三菱ガス化学社製 光学グレー
ド 商品名ユーピロンH−4000シリーズ)を射出成
形することで、片面に凹凸形状のピットが形成された厚
さ0.6mmの透明基板を作製した。そして、この透明
基板のピットが形成されている側の面に、RF(高周
波)スパッタリングによってAl反射層を成膜すること
で各種単板ディスクを作製した。なお、このAl反射層
の膜厚は5〜50nmの範囲で変化させた。このように
して作製された単板ディスクに、基板側から紫外線を照
射し、その透過率を測定した。
【0062】図3に、Al反射層の膜厚と、単板ディス
クの紫外線に対する透過率の関係を示す。なお、紫外線
の透過率は、紫外線ランプのピーク波長365nmでの
透過率であり、対数で表示した。
【0063】図3からわかるように、単板ディスクの紫
外線に対する透過率は、Al反射層の膜厚が増加するに
伴ってリニアに減少する。このことから、単板ディスク
の紫外線に対する透過率は、Al反射層の膜厚を変える
ことによって制御できることがわかった。
【0064】Al反射層の膜厚と、樹脂の硬化に要する
紫外線の積算照射量の検討 上述の検討例と同様にして単板ディスクを作製し、Al
反射層上に紫外線硬化型接着剤を塗布した。そして、基
板側から紫外線を照射することで接着剤を硬化させた。
なお、このとき接着剤には紫外線が直接照射されないよ
うにした。
【0065】そして、硬化させた接着剤を抽出し、ゲル
分率を測定した。その結果、接着剤のゲル分率は90%
であり、これ以上に紫外線を照射しても、さらにゲル分
率が増加することはなかった。このことから、この紫外
線硬化型接着剤では、ゲル分率が90%となったところ
で完全に硬化したと見なせることがわかった。
【0066】次に、Al反射層の膜厚を変えて各種単板
ディスクを作製し、Al反射層上に紫外線硬化型接着剤
を塗布した。そして、基板側から紫外線を照射すること
で接着剤を硬化させ、接着剤のゲル分率が90%になる
のに要した、紫外線の最小積算照射量を調べた。
【0067】図4に、Al反射層の膜厚と、ゲル分率が
90%になるのに要した紫外線の最小積算照射量の関係
を示す。なお、紫外線の積算照射量は、基板面上で計測
される紫外線の積算照射量であり、対数で表示した。
【0068】図4からわかるように、ゲル分率が90%
になるのに要した最小積算照射量は、Al反射層の膜厚
が厚くなるのに伴ってリニアに増加する。
【0069】ここで、ポリカーボネートの透明基板は、
紫外線の積算照射量が5000mJ/cm2を超えると
熱変形が生じてくる。図4を見ると、ゲル分率が90%
となるのに要した最小積算照射量が5000mJ/cm
2以下に抑えられるのは、Al反射層の膜厚が40nm
以下の場合である。そして、図3を見ると、Al反射層
の膜厚が40nm以下であるときの、単板ディスクの紫
外線に対する透過率は0.2%以上であることがわか
る。
【0070】このことから、樹脂を十分に硬化させなが
ら基板の熱変形を抑えるためにはAl反射層の膜厚を4
0nm以下とし、単板ディスクの紫外線に対する透過率
を0.2%以上とすることが必要なことがわかった。な
お、紫外線照射の工程で実用的なタクトタイムを得るに
は、紫外線の積算照射量は2000mJ/cm2以下に
抑えられていることが望ましく、したがってAl反射層
の膜厚は35nm以下とされているのがより好ましい。
【0071】Al反射層と、再生光の反射率の検討 Al反射層の膜厚を変化させた各種サンプルディスク
に、630nmあるいは680nmのレーザ光(いずれ
もDVDで用いる再生波長)を基板側から照射した場合
の反射率を、計算によって求めた。図5に、Al反射層
の膜厚と、計算によって求めた反射率の関係を示す。な
お、この反射率は、記録層での反射と基板での反射の両
方を含めた値である。
【0072】図5からわかるように、630nmに対す
る反射率と680nmに対する反射率は、ほぼ等しい変
化を示し、いずれの反射率も、Al反射層の膜厚が薄く
なるのに伴って減少する。ここで、既に実用化されてい
る光磁気ディスクや相変化型ディスクの反射率は20〜
30%程度であり、光ディスクは20〜30%程度の反
射率を有していれば信号再生が可能である。図5を見る
と、30%以上の反射率が得られているのは、Al反射
層の膜厚が5nm以上の場合である。
【0073】このことから、光ディスクとして信号再生
が可能ものにするには、Al反射層の膜厚は5nm以上
とする必要があることがわかった。なお、CDとの互換
性を得るには、反射率はCDと同じ70%以上であるこ
とが望ましく、したがってAl反射層の膜厚は、70%
以上の反射率が得られるところの、20nm以上である
のがより好ましい。
【0074】実施例1 次に、先の検討例で最適範囲とされた膜厚、5〜40n
mでAl反射層を形成し、貼り合わせディスクを作製し
た。
【0075】ポリカーボネート樹脂を射出成形すること
で、片面に凹凸形状のピットが形成された厚さ0.6m
mの透明基板を2枚作製した。そして、この透明基板の
ピットが形成されている側の面に、RFスパッタリング
によってAl反射層を成膜することで2枚の単板ディス
ク(第1の単板ディスク,第2の単板ディスク)を作製
した。なお、このAl反射層の膜厚は5〜40nmの範
囲である。
【0076】そして、第1の透明基板と第2の透明基板
の記録層が形成された側の面に、それぞれスピンコート
法により紫外線硬化型接着剤を30μmの厚さで塗布
し、接着剤同士を対向させ、貼り合わせた。そして、デ
ィスクの両側から紫外線を照射することで、接着剤を硬
化させ、貼り合わせディスクを作製した。なお、このと
き紫外線の積算照射量は5000mJ/cm2以下であ
り、この照射量で十分に接着剤を硬化させることができ
た。
【0077】このようにして作製された貼り合わせディ
スクについて、630nmと680nmのレーザ光で信
号再生を行った。その結果、十分な再生信号を得ること
ができた。
【0078】以上、ROM−ROMの組み合わせの貼り
合わせディスクについて特性の評価を行ったが、RAM
−ROMの組み合わせの貼り合わせディスクについても
同様の結果が得られる。
【0079】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明では、透明基板上に少なくとも1層の記録層が形成さ
れてなる第1の単板ディスクと、透明基板上に少なくと
も1層の記録層が形成されてなる第2の単板ディスクと
が、記録層同士を対向させ、紫外線硬化型接着剤によっ
て貼り合わされてなる光ディスクにおいて、第1の単板
ディスクと第2の単板ディスクの少なくとも一方を、紫
外線の透過率を0.2%以上、透明基板側から照射され
る再生光の反射率を30%以上とするので、十分な再生
出力を確保しながら、接着剤の紫外線硬化の工程で、タ
クトタイムが短縮できるとともに基板の熱変形を防止す
ることができる。
【0080】したがって、本発明によれば、このような
両面タイプの貼り合わせディスクで紫外線硬化型接着剤
を使用することが可能になり、この貼り合わせディスク
の信頼性向上に大いに貢献できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した光ディスクの1構成例を示す
概略断面図である。
【図2】本発明を適用した光ディスクの他の構成例を示
す概略断面図である。
【図3】Al反射層の膜厚と、単板ディスクの紫外線に
対する透過率の関係を示す特性図である。
【図4】Al反射層の膜厚と、紫外線硬化型接着剤の硬
化に要した紫外線の積算照射量の関係を示す特性図であ
る。
【図5】Al反射層の膜厚と、単板ディスクの、630
nmあるいは680nmのレーザ光に対する反射率の関
係を示す特性図である。
【符号の説明】
1,4,11,15 透明基板、2,5 記録層、3,
14 第1の単板ディスク、6,18 第2の単板ディ
スク、7,19 紫外線硬化型接着剤、12,16 第
1の記録層、13,17 第2の記録層、20,21
紫外線硬化樹脂中間層

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明基板上に少なくとも1層の記録層が
    形成されてなる第1の単板ディスクと、透明基板上に少
    なくとも1層の記録層が形成されてなる第2の単板ディ
    スクとが、記録層同士を対向させ、紫外線硬化型接着剤
    によって貼り合わされてなり、 第1の単板ディスクと第2の単板ディスクの少なくとも
    一方は、紫外線の透過率が0.2%以上、透明基板側か
    ら照射される再生光の反射率が30%以上であることを
    特徴とする光ディスク。
  2. 【請求項2】 第1の単板ディスクに形成された記録層
    と第2の単板ディスクに形成された記録層の少なくとも
    一方は、膜厚が5〜40nmのAlを主体とする金属反
    射層であることを特徴とする請求項1記載の光ディス
    ク。
  3. 【請求項3】 透明基板上に少なくとも1層の記録層が
    形成されてなる第1の単板ディスクと、透明基板上に少
    なくとも1層の記録層が形成されてなる第2の単板ディ
    スクとを、記録層同士を対向させ、紫外線硬化型接着剤
    によって貼り合わせるに際して、 第1の単板ディスクと第2の単板ディスクの少なくとも
    一方を、紫外線の透過率を0.2%以上、透明基板側か
    ら照射される再生光の反射率を30%以上とすることを
    特徴とする光ディスクの製造方法。
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