JPH09267027A

JPH09267027A - 有害ガスの浄化剤

Info

Publication number: JPH09267027A
Application number: JP8104077A
Authority: JP
Inventors: Hideki Fukuda; 秀樹福田; Kenji Otsuka; 健二大塚
Original assignee: Japan Pionics Ltd
Current assignee: Japan Pionics Ltd
Priority date: 1996-03-29
Filing date: 1996-03-29
Publication date: 1997-10-14

Abstract

(57)【要約】【課題】半導体製造プロセスから排出される排ガスな
どに含まれるふっ素、塩素、六ふっ化タングステンなど
のハロゲン系ガスを効率よく除去しうる浄化剤を開発す
る。【解決手段】二酸化マンガン、水酸化カリウム、アル
カリ土類金属水酸化物を主成分とした浄化剤とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は有害ガスの浄化剤に
関し、さらに詳細にはふっ素、塩素、六ふっ化タングス
テン、三ふっ化塩素、など半導体製造工程において使用
されるハロゲン系ガスの浄化剤に関する。近年、半導体
工業やオプロエレクトロニクス工業の発展とともに、こ
れらの産業で使用されるふっ素、塩素、六フッ化タング
ステン、三ふっ化塩素などのハロゲン系ガスの種類およ
び使用量が増加している。

【０００２】これらのハロゲン系ガスはシリコン半導体
や化合物半導体製造工程などにおいて、エッチングガ
ス、クリーニングガス、膜成長用ガスとして不可欠な物
質である。そしてこれらのハロゲン系ガスは半導体製造
工程でそのまま、あるいはヘリウム、アルゴン、窒素な
どで希釈された状態で使用されたのち、そのまま、ある
いはさらに窒素、空気などで希釈された状態で排出され
ることから、その濃度は一定していない。そしてこれら
ハロゲン系ガスは、いずれも毒性が高く、人体及び環境
に悪影響を与えるので、これらハロゲン系ガスを含む有
害なガスは半導体製造工程などで使用された後、大気に
放出されるに先立って浄化する必要がある。

【０００３】

【従来の技術】従来、ガス中に含まれるハロゲン系ガス
を除去する手段として、スクラバー、スプレー塔、回転
式微細気泡発生装置などを用い、これらのガスを水酸化
ナトリウムなどのアルカリ水溶液と接触させて吸収分解
させる湿式法（特開昭６１−２０４０２２号公報、特開
昭６２−１２５８２７号公報など）、およびマグネシウ
ム、ナトリウム、カリウムの酸化物、炭酸塩などの吸着
剤（特開昭６３−２３２８４４号公報、特開昭６０−６
８０５１号公報）、あるいはソーダライムなどを有効成
分とする吸着剤、さらに最近は四三酸化鉄を主成分とす
る組成物を用いた浄化剤（特開平７−２７５６４６号公
報）等を用いる乾式法が知られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、湿式法
は一般的に後処理に困難性があり、装置が複雑で大型と
なるばかりでなく、設備、保守ともに費用を要するとい
う問題点がある。一方、乾式法として、マグネシウム、
ナトリウム、カリウムの酸化物、炭酸塩などの吸着剤で
は吸着剤単位容積当たりの除去能力が小さい。また、亜
鉛化合物とアルカリ金属化合物などを活性炭に含浸させ
た吸着剤を用いた浄化剤も除去容量が必ずしも十分とは
いえず、対象ガス量の濃度が高かったり、ガス量が多い
場合には、処理しきれないという問題点があるばかりで
なく、ふっ素など反応性の極めて高いガスの処理におい
ては火災の危険性もある。

【０００５】さらに、ソーダライムは上記の浄化剤に比
べ幾分処理能力が大きいものの、浄化剤が乾燥したり、
ハロゲン系ガスの濃度が低い場合には、処理能力が大幅
に低下するという問題点があるほか、ソダーライムは潮
解性を有しており、処理ガス中に含まれる水分量によっ
て浄化筒の閉塞が起こる恐れがあるなどの不都合があっ
た。一方、四三酸化鉄を主成分とする浄化剤の場合は、
常温で大きな浄化能力を有し、安全にしかも完全に浄化
できるなど優れた浄化剤であるが、浄化剤が乾燥した場
合には浄化能力が低下するという不都合があった。従っ
て、有害ガスが低濃度であり、しかも乾燥状態といっ
た、半導体製造プロセスなどから排出されるようなハロ
ゲン系ガスに対して除去性能が優れ、浄化の際に火災な
どの危険性がなく、かつ、高い効率で除去できる浄化剤
の出現が望まれていた。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、これらの
問題点を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、二酸化マン
ガン、水酸化カリウム、アルカリ土類金属水酸化物の３
成分を主成分とした浄化剤を用いることにより、半導体
製造工程などから排出されるハロゲン系ガスの除去に対
し、乾燥した状態においても浄化能力の低下することが
なく、火災などを生ずる危険性がなく安全に、しかも極
めて効率よく浄化することができることを見いだし、本
発明を完成した。すなわち本発明は、有害なハロゲン系
ガスを含むガスから、該ハロゲン系ガスを除去するため
の浄化剤であって、二酸化マンガン、水酸化カリウム、
アルカリ土類金属水酸化物の３成分を主成分とすること
を特徴とする有害ガスの浄化剤である。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の浄化剤は、半導体プロセ
スなどから排出される排ガスなどに含まれるハロゲン系
ガスの浄化に適用される。浄化の対象となる有害ガスと
しては、窒素、アルゴン、ヘリウム、空気などに含まれ
る、ふっ素、塩素、六フッ化タングステン、三ふっ化塩
素、などのハロゲン系ガスの１種または２種以上を含む
ガスである。特に本発明の浄化剤により、多量の有害ガ
スを迅速にかつ効率よく、しかも常温で浄化することが
できる。

【０００８】本発明において、浄化剤は二酸化マンガ
ン、水酸化カリウム、アルカリ土類金属水酸化物の３成
分を主成分としたものである。二酸化マンガン（ＭｎＯ
₂）は、粉末状で純度８５％以上、あるいは９１％以上
の物が市販されているので、通常はこれらのものを用い
ることができる。水酸化カリウム（ＫＯＨ）は、純度８
５％以上の物が市販されているので、通常はこれらの市
販品を用いることができる。

【０００９】アルカリ土類金属の水酸化物としては、水
酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）₂）、水酸化カルシウ
ム（Ｃａ（ＯＨ）₂）、水酸化ストロンチウム（Ｓｒ
（ＯＨ）₂）、水酸化バリウム（Ｂａ（ＯＨ）₂）など
である。水酸化ストロンチウム、水酸化バリウムは８水
和物（Ｓｒ（ＯＨ）₂・８Ｈ₂Ｏ、Ｂａ（ＯＨ）₂・８
Ｈ₂Ｏ）が通常の市販品であるため、予め乾燥を行い、
無水物としたのちに使用することが好ましい。これらの
アルカリ土類金属の水酸化物はそれぞれ単独で用いても
よく、または２種以上混合した状態で使用してもよい。

【００１０】二酸化マンガン、水酸化カリウム、アルカ
リ土類金属の水酸化物の割合は、有害ガス中に含まれる
ハロゲン系ガスの種類によって異なり一概に特定できな
いが、二酸化マンガン、水酸化カリウム、アルカリ土類
金属水酸化物のモル比（ＭｎＯ₂：ＫＯＨ：Ｍ（以後ア
ルカリ土類金属の水酸化物をＭと略する））で通常は
１：０．２〜２：０．１〜２、好ましくは１：０．２５
〜１：０．３〜１．５程度とされる。

【００１１】浄化剤の調製方法としては種々の方法を用
いることができる。例えば二酸化マンガン、水酸化カリ
ウム、アルカリ土類金属水酸化物を所定の割合で均一に
混合したのち打錠成型する方法、あるいは二酸化マンガ
ン、水酸化カリウム、アルカリ土類金属水酸化物を所定
の割合に混合したものに水を加えてかき混ぜ得られたス
ラリーまたはケーキを押し出し成型し、適当な長さに切
断して得られたペレットを乾燥機中不活性雰囲気下で所
定の加熱乾燥して浄化剤とする方法、そのほか二酸化マ
ンガン、水酸化カリウム、アルカリ土類金属水酸化物か
らなる混合粉体を造粒機などを用いて、粒状に成型し不
活性雰囲気下で加熱乾燥をして浄化剤とする方法などが
ある。このほか、二酸化マンガン、水酸化カリウム、ア
ルカリ土類金属水酸化物を所定の割合で均一に混合し、
成型することがきる方法であれば本発明の浄化剤の調製
方法に適用することができる。これらのうち加工性およ
び形状、大きさの選択の容易さなどから、一般的には押
し出し成型によりペレット状とするのが好ましい。

【００１２】成型体の大きさおよび形状には特に制限は
ないが、球形、円柱状、円筒形および粒状などが代表例
として挙げられる。その大きさは球状であれば直径０．
５〜１０ｍｍ、ペレット、タブレットなど円柱状であれ
ば直径０．５〜１０ｍｍ、高さ２〜２０ｍｍ程度であ
り、破砕状など不定形のものであれば、ふるいの目の開
きで０．８〜６ｍｍ程度のものである。成型体を浄化筒
に充填した場合の充填密度は通常は０．８〜２．０ｇ／
ｍｌ程度である。

【００１３】本発明の浄化剤は、その水分含量が低い場
合においても浄化能力が低下しない特徴を有している。
浄化剤中の水分含量として、結晶水を含め通常は０〜１
０ｗｔ％程度の物が使用される。浄化剤中の水分含量が
多い場合には、浄化剤が乾燥したガスと接触した際に乾
燥収縮を生じ、浄化筒内に空隙ができることによりガス
の偏流を生じる恐れがあることから、好ましくは水分含
量として０〜５ｗｔ％程度である。本発明の浄化剤は水
分含量を上記のように調製することにより、乾燥したガ
スの場合であっても浄化能力が低下することがなく、浄
化能力を安定に保持させることができる。

【００１４】本発明の浄化剤は、調製の際に空気に長時
間接触させた状態で加熱乾燥をおこなうと浄化能力が著
しく低下する。したがて、浄化剤の調製において加熱乾
燥を行う場合は窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性
ガス雰囲気下で行うことが好ましい。

【００１５】本発明の浄化剤は固定床の他、移動床、流
動床として用いることも可能であるが、通常は固定床と
して用いられる。浄化剤は浄化筒内に充填され、ハロゲ
ン系ガスを含有するガスはこの浄化筒内に流され、浄化
剤と接触させることにより、有害成分であるハロゲン系
ガスのみが除去される。本発明の浄化剤が適用される有
害ガス中に含まれるハロゲン系ガスの濃度に特に制限は
ないが、一般的に半導体製造時における排ガスを浄化す
る場合、数万ｐｐｍの高濃度から、数ｐｐｍの低濃度で
あっても充分に浄化可能である。

【００１６】浄化筒はハロゲン系ガス濃度、浄化対象と
なる有害ガスの量、許容できる圧力損失などに応じて設
計される。浄化筒内の浄化剤の充填長はガスの流量およ
び有害ガスの濃度などによって異なり一概に特定はでき
ないが、通常は、５０〜１５００ｍｍ程度とされる。ま
た浄化筒の内径は筒内を流れるガスの空筒基準線速度
（ＬＶ）が０．１〜５０ｃｍ／ｓｅｃ程度となるように
設計される。一般的にはこれらは充填層の圧力損失、ガ
スの接触効率およびハロゲン系ガスの濃度などによって
定められる。

【００１７】浄化を行う際の温度は通常は０〜９０℃で
あり、空気に含まれるハロゲン系ガスを浄化する場合は
温度が低い方が良いことなどから、好ましくは常温付近
の温度（０〜４０℃）で操作され、特に加熱や冷却を必
要としない。なお、接触開始後は反応熱により、ハロゲ
ン系ガスの種類、濃度などによっては温度が若干上昇す
ることもあるが、活性炭などのような可燃物を使用して
いないため発火などの危険性はない。接触時の圧力は通
常は常圧で行われるが、０．５〜２ｋｇ／ｃｍ²ａｂｓ
などのような減圧乃至加圧下で操作することも可能であ
る。次に本発明を実施例によりさらに詳しく説明する
が、本発明はこれらの例により限定されるものではな
い。

【００１８】

【実施例】

（浄化剤の調製）実施例１二酸化マンガン（ＭｎＯ₂）３４８ｇ、水酸化カリウム
（ＫＯＨ）２２５ｇ、水酸化カルシウム（Ｃａ（ＯＨ）
₂）１４８ｇを均一に混合し、これに水３０ｇを加えて
充分に分散混合させた（ｍｏｌ比、ＭｎＯ₂：ＫＯＨ：
Ｍ＝１：１：０．５）。得られたケーキを押し出し成型
機（フジパウダル（株）製）によって１．６ｍｍφのノ
ズル板より押し出した成型物を切断して長さ３〜５ｍｍ
程度のペレットとし、窒素雰囲気中乾燥器で９０℃で加
熱しながら１２時間加熱乾燥し、７２０ｇの浄化剤Ａを
得た。この浄化剤の充填密度は１．３１ｇ／ｍｌであっ
た。浄化剤の水分含水率を乾量式水分計（株式会社チノ
ー製ＣＺＡ１０００）で測定したところ、０．１ｗｔ％
であった。結果を表１に示す。

【００１９】実施例２二酸化マンガン３４８ｇ、水酸化カリウム２２５ｇ、水
酸化カルシウム１４８ｇ、水酸化ストロンチウム（Ｓｒ
（ＯＨ）₂）６１ｇ、水３０ｇを均一に混合した（ｍｏ
ｌ比、ＭｎＯ₂：ＫＯＨ：Ｍ＝１：１：０．６２５）。
得られたケーキを実施例１と同様の方法で成型、窒素雰
囲気下９０℃で１２時間加熱乾燥を行い、７７５ｇの浄
化剤Ｂを得た。この浄化剤の充填密度は１．２８ｇ／ｍ
ｌであった。また、浄化剤の含水率は０．２ｗｔ％であ
った。結果を表１に示す。

【００２０】実施例３二酸化マンガン６９６ｇ、水酸化カリウム２２５ｇ、水
酸化カルシウム１４８ｇ、水酸化ストロンチウム６１
ｇ、水６０ｇを均一に混合した（ｍｏｌ比、ＭｎＯ₂：
ＫＯＨ：Ｍ＝１：０．５：０．３１３）。得られたケー
キから実施例１と同様の方法で成型後、窒素雰囲気下９
０℃で１２時間加熱乾燥を行い、１１２５ｇの浄化剤Ｃ
を得た。この浄化剤の充填密度は１．３１ｇ／ｍｌであ
った。また、浄化剤の含水率は０．１ｗｔ％であった。
結果を表１に示す。

【００２１】実施例４二酸化マンガン３４８ｇ、水酸化カリウム１１３ｇ、水
酸化カルシウム１４８ｇ、水酸化ストロンチウム６１
ｇ、水３０ｇを均一に混合した（ｍｏｌ比、ＭｎＯ₂：
ＫＯＨ：Ｍ＝１：０．５：０．６２５）。得られたケー
キから実施例１と同様の方法で成型後、窒素雰囲気下９
０℃で１２時間加熱乾燥を行い、６６５ｇの浄化剤Ｄを
得た。この浄化剤の充填密度は１．２６ｇ／ｍｌであっ
た。また浄化剤の含水率は０．１ｗｔ％であった。結果
を表１に示す。

【００２２】実施例５二酸化マンガン３４８ｇ、水酸化カリウム２２５ｇ、水
酸化カルシウム２９６ｇ、水酸化ストロンチウム６１
ｇ、水４５ｇを均一に混合した（ｍｏｌ比，ＭｎＯ₂：
ＫＯＨ：Ｍ＝１：１：１．１２５）。得られたケーキか
ら実施例１と同様の方法で成型後、窒素雰囲気下９０℃
で１２時間加熱乾燥を行い、９２０ｇの浄化剤Ｅを得
た。この浄化剤の充填密度は１．３３ｇ／ｍｌであっ
た。また浄化剤の含水率は０．２ｗｔ％であった。結果
を表１に示す。

【００２３】実施例６二酸化マンガン６９６ｇ、水酸化カリウム１１３ｇ、水
酸化カルシウム１４８ｇ、水酸化ストロンチウム６１
ｇ、水６０ｇを均一に混合した（ｍｏｌ比、ＭｎＯ₂：
ＫＯＨ：Ｍ＝１：０．２５：０．３１３）。得られたケ
ーキから実施例１と同様の方法で成型後、窒素雰囲気下
９０℃で１２時間加熱乾燥を行い、１００６ｇの浄化剤
Ｆを得た。この浄化剤の充填密度は１．３４ｇ／ｍｌで
あった。また浄化剤の含水率は０．１ｗｔ％であった。
結果を表１に示す。

【００２４】実施例７二酸化マンガン３４８ｇ、水酸化カリウム２２５ｇ、水
酸化カルシウム１４８ｇ、水酸化マグネシウム（Ｍｇ
（ＯＨ）₂）５８ｇ、水３０ｇを均一に混合した（ｍｏ
ｌ比、ＭｎＯ₂：ＫＯＨ：Ｍ＝１：１：０．７５）。得
られたケーキから実施例１と同様の方法で成型後、窒素
雰囲気下９０℃で１２時間加熱乾燥を行い、７６９ｇの
浄化剤Ｇを得た。この浄化剤の充填密度は１．３０ｇ／
ｍｌであった。また浄化剤の含水率は０．１ｗｔ％であ
った。結果を表１に示す。

【００２５】

【表１】表１実施例ｍｏｌ比充填密度水分含量 MnO₂： KOH ： Ca(OH)₂+ Sr(OH)₂ + Mg(OH)₂ ｇ／ｍｌｗｔ％１ 1 1 0.5 0 1.31 0.1 ２ 1 1 0.5 0.125 1.28 0.2 ３ 1 0.5 0.25 0.063 1.31 0.1 ４ 1 0.5 0.5 0.125 1.26 0.1 ５ 1 1 1 0.125 1.33 0.2 ６ 1 0.25 0.25 0.063 1.34 0.1 ７ 1 1 0.50 0.25 1.30 0.1

【００２６】比較例１二酸化マンガン３４８ｇに水１５ｇを均一に混合した。
得られたケーキを押し出し成型機（フジパウダル（株）
製）を用い、１．６ｍｍφのノズル板より押し出した成
型物を切断して長さ３〜５ｍｍ程度のペレットとし、窒
素雰囲気下乾燥機で９０℃で１２時間加熱乾燥すること
によって３３０ｇの浄化剤Ｈを得た。この浄化剤の充填
密度は１．０１ｇ／ｍｌであった。また浄化剤の含水率
は０．１ｗｔ％であった。結果を表２に示す。

【００２７】比較例２５ｍｍφの粒状水酸化カリウム２２５ｇを窒素雰囲気下
乾燥機で９０℃で１２時間加熱乾燥し２１８ｇの浄化剤
Ｉを得た。この浄化剤の含水率は０．１ｗｔ％であっ
た。結果を表２に示す。

【００２８】比較例３水酸化カルシウム１４８ｇに水１５ｇを混合し、実施例
１と同様の方法で成型、乾燥し１４０ｇの浄化剤Ｊを得
た。この浄化剤の充填密度は１．１２ｇ／ｍｌであっ
た。また浄化剤の含水率は０．１ｗｔ％であった。結果
を表２に示す。

【００２９】比較例４二酸化マンガン３４８ｇ、水酸化カリウム２２５ｇ、水
１４ｇを均一に混合し、得られたケーキから実施例１と
同様の方法で成型後、窒素雰囲気下９０℃で１２時間加
熱乾燥を行い、５７０ｇの浄化剤Ｋを得た。この浄化剤
の充填密度は１．１２ｇ／ｍｌであった。また浄化剤の
含水率は０．１ｗｔ％であった。結果を表２に示す。

【００３０】比較例５二酸化マンガン３４８ｇ、水酸化カルシウム１４８ｇ、
乾燥水酸化ストロンチウム６１ｇ、水１５ｇを均一に混
合した。得られたケーキから実施例１と同様の方法で成
型後、窒素雰囲気下９０℃で１２時間加熱乾燥を行い、
５５０ｇの浄化剤Ｌを得た。この浄化剤の充填密度は
１．０５ｇ／ｍｌであった。また浄化剤の含水率は０．
２ｗｔ％であった。結果を表２に示す。

【００３１】比較例６水酸化カリウム２２５ｇに、水酸化カルシウム１４８
ｇ、乾燥水酸化ストロンチウム６１ｇ、水１０ｇを均一
に混合した。得られたケーキから実施例１と同様の方法
で成型後、窒素雰囲気下９０℃で１２時間加熱乾燥を行
い、４２９ｇの浄化剤Ｍを得た。この浄化剤の充填密度
は１．１８ｇ／ｍｌであった。また浄化剤の含水率は
０．２ｗｔ％であった。結果を表２に示す。

【００３２】

【表２】表２比較例ｍｏｌ比充填密度水分含量 MnO₂： KOH ： Ca(OH)₂+ Sr(OH)₂ + Mg(OH)₂ ｇ／ｍｌｗｔ％１ 1 1.01 0.1 ２ 1 0.1 ３ 1 1.12 0.1 ４ 1 1 1.12 0.1 ５ 1 0.5 0.125 1.05 0.2 ６ 1 0.5 0.125 1.18 0.2

【００３３】実施例８実施例２と同一の組成で成型後、アルゴン雰囲気下９０
℃で１２時間で加熱乾燥を行い、７６５ｇの浄化剤Ｎを
得た。この浄化剤の充填密度は１．３０ｇ／ｍｌであっ
た。また浄化剤の含水率は０．１ｗｔ％であった。結果
を表３に示す。

【００３４】実施例９実施例２と同一の組成で成型後、ヘリウム雰囲気下９０
℃で１２時間加熱乾燥を行い、７６６ｇの浄化剤Ｏを得
た。この浄化剤の充填密度は１．３０ｇ／ｍｌであっ
た。浄化剤の含水率は０．１ｗｔ％であった。結果を表
３に示す。

【００３５】比較例７実施例２と同一の組成で成型後、空気中９０℃で１２時
間で加熱乾燥を行い、７８１ｇの浄化剤Ｐを得た。この
浄化剤の充填密度は１．２５ｇ／ｍｌであった。浄化剤
の含水率は０．１ｗｔ％であった。結果を表４に示す。

【００３６】

【表３】表３実施例ｍｏｌ比乾燥雰囲気充填密度水分含量ｇ／ｍｌｗｔ％８実施例２に同じアルゴン１．３００．１９実施例２に同じヘリウム１．３００．１

【００３７】

【表４】表４比較例ｍｏｌ比乾燥雰囲気充填密度水分含量ｇ／ｍｌｗｔ％７実施例２に同じ空気１．２５０．１

【００３８】（浄化実験）実施例１〜９、比較例１〜７
で調製した浄化剤のそれぞれについて、ハロゲン系ガス
を含む有害ガスの浄化試験を行った。内径４０ｍｍ、長
さ２００ｍｍの石英ガラス製の浄化筒に、浄化剤を１２
５．６ｍｍｌ（充填長１００ｍｍ）充填し、これに各種
ハロゲン系ガス１０００ｐｐｍを含む窒素を２０℃、常
圧下で２２６０ｍｌ／ｍｉｎ（空筒基準線速度ＬＶ＝３
ｃｍ／ｓｅｃ）の流量で流通させ、破過までの時間を測
定し、これより浄化剤１リットル当たりに対するハロゲ
ン系ガスの浄化量（浄化能力）を求めた。ハロゲン系ガ
スの破過の検知は浄化筒の出口ガスの一部をサンプリン
グし、ガス種に応じて検知管（ガステック（株）製）に
て測定し、１ｐｐｍに到達した時点を破過とした。それ
ぞれの浄化剤およびガスの種類についての実験結果を表
５に示す。

【００３９】

【表５】表５実験番号浄化剤のハロゲン系ガスの破過までのハロゲン系ガスの種類種類濃度時間浄化能力（実施例番号）（ｐｐｍ）（ｍｉｎ）（Ｌ／Ｌ浄化剤）１Ａ（実施例１）塩素１０００２４６８４５２Ｂ（実施例２）塩素１０００３１３４５６３Ｂ〃ふっ素１０００１５８９２９４Ｂ〃六フッ化タンク゛ステン１０００８８３１６５Ｂ〃三ふっ化塩素１０００１１９９１９６Ｃ（実施例３）塩素１０００２５５６４６７Ｄ（実施例４）塩素１０００２３９０４３８Ｅ（実施例５）塩素１０００２２２３４０９Ｆ（実施例６）塩素１０００２２２３４０１０Ｇ（実施例７）塩素１０００２７７９５０１１Ｈ（比較例１）塩素１０００１５１＞１２Ｉ（比較例２）塩素１０００１６１＞１３Ｊ（比較例３）塩素１０００１５１＞１４Ｋ（比較例４）塩素１０００１８９３１５Ｌ（比較例５）塩素１０００１６１＞１６Ｍ（比較例６）塩素１０００１５１＞１７Ｎ（実施例８）塩素１０００３１３５５６１８Ｏ（実施例９）塩素１０００３０９６５６１９Ｐ（比較例７）塩素１０００１５１＞

【００４０】

【発明の効果】本発明の浄化剤は、乾燥した状態におい
てもハロゲン系ガスの浄化能力が大きく、しかも安全に
浄化できるので、半導体製造工程などから排出されるハ
ロゲン系ガスを含むガスの浄化に優れた効果が得られ
る。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】有害なハロゲン系ガスを含むガスから、該
ハロゲン系ガスを除去するための浄化剤であって、二酸
化マンガン、水酸化カリウム、アルカリ土類金属水酸化
物の３成分を主成分とすることを特徴とする有害ガスの
浄化剤。
【請求項２】ハロゲン系ガスがふっ素、塩素、六ふっ化
タングステン、三ふっ化塩素から選ばれる１種または２
種以上である請求項１に記載の浄化剤
【請求項３】アルカリ土類金属水酸化物が水酸化マグネ
シウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水
酸化バリウムから選ばれる１種または２種以上である請
求項１に記載の浄化剤。
【請求項４】空気中で加熱乾燥せずに調製されたもので
ある請求項１に記載の浄化剤。