JPH03202128A - Nf↓3の除害方法 - Google Patents
Nf↓3の除害方法Info
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- JPH03202128A JPH03202128A JP1338271A JP33827189A JPH03202128A JP H03202128 A JPH03202128 A JP H03202128A JP 1338271 A JP1338271 A JP 1338271A JP 33827189 A JP33827189 A JP 33827189A JP H03202128 A JPH03202128 A JP H03202128A
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、HP3の除害方法に係り、特にIIF。
5in1.12等の弗化物及び/又は窒素酸化物が共存
しているガス中から、NF、を効率よく分解除去するこ
とのできるNhの除害方法に関する。
しているガス中から、NF、を効率よく分解除去するこ
とのできるNhの除害方法に関する。
NF3はロケット燃料のほか、最近では超LSIのエツ
チングガスやCVDのクリーニングガスとして使用され
ている。しかしながらこのガスは常温できわめて安定で
あると同時に水に対する溶解度も低く、かつまたTLV
値がlQppmとされており、除害すべきではあるが処
理困難な物質の1つである。
チングガスやCVDのクリーニングガスとして使用され
ている。しかしながらこのガスは常温できわめて安定で
あると同時に水に対する溶解度も低く、かつまたTLV
値がlQppmとされており、除害すべきではあるが処
理困難な物質の1つである。
HP3の除害方法としては、(1)炭素塊と300〜6
00℃で反応させる方法(特開昭62−237929号
公報) 、(2)金属チタンと200t:以上の温度で
接触させる方法(特開昭61−287424号公報)
、(3)金属シリコンと100℃以上で反応させる方法
(特開昭63−12322号公報)、(4)金属タング
ステンないし金属モリブテンと250℃以上の温度で接
触させる方法(特開昭62−225228号公報)があ
る。
00℃で反応させる方法(特開昭62−237929号
公報) 、(2)金属チタンと200t:以上の温度で
接触させる方法(特開昭61−287424号公報)
、(3)金属シリコンと100℃以上で反応させる方法
(特開昭63−12322号公報)、(4)金属タング
ステンないし金属モリブテンと250℃以上の温度で接
触させる方法(特開昭62−225228号公報)があ
る。
従来技術はいずれも単体とNFaを高温で反応させる方
法を採用しているが、一般的にNF3を含む排ガスは弗
化物等を含む場合が多く、そのような場合には弗化物等
により処理剤が消耗しNF3処理容量が低下する。
法を採用しているが、一般的にNF3を含む排ガスは弗
化物等を含む場合が多く、そのような場合には弗化物等
により処理剤が消耗しNF3処理容量が低下する。
処理剤としてsl、 W1TI% 5I02等を使用し
た場合にはその弗化物が、また、活性炭等を使用した場
合にはHPや窒素酸化物が生成し、いずれの場合も、さ
らに、これらの反応生成物を処理するためのガス処理工
程が必要となる。
た場合にはその弗化物が、また、活性炭等を使用した場
合にはHPや窒素酸化物が生成し、いずれの場合も、さ
らに、これらの反応生成物を処理するためのガス処理工
程が必要となる。
そこで、本発明は、上記のような問題点のない、弗化物
とか窒素酸化物が共存していてもNF3処理容量の低下
がなく、また副生ガスの心配のないNF3の除害方法を
提供することを目的とする。
とか窒素酸化物が共存していてもNF3処理容量の低下
がなく、また副生ガスの心配のないNF3の除害方法を
提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、本発明では、IIF。
SiF4、P2等の弗化物及び/又は窒素酸化物とNF
3とを含むガスを、収着剤により処理した後、残留する
NPsを250℃以上の温度で、当該金属処理剤と反応
させることを特徴とするNF3の除害方法としたもので
ある。
3とを含むガスを、収着剤により処理した後、残留する
NPsを250℃以上の温度で、当該金属処理剤と反応
させることを特徴とするNF3の除害方法としたもので
ある。
すなわち、本発明は、弗化物及び/又は窒素酸化物とN
F3を含むガスを処理するにあたってまず初めに、活性
炭、アルミナ、シリカゲル、モレキュラシーブ、CuO
lMnO2、ホブカライド、Ca (O)I) 2 、
CaO、MgO1Mg (OH) 2等からなる収着剤
により、弗化物、窒素酸化物を処理し、しかる後に、残
留するNF、を処理することにより、弗化物等による処
理剤の消耗をなくした。
F3を含むガスを処理するにあたってまず初めに、活性
炭、アルミナ、シリカゲル、モレキュラシーブ、CuO
lMnO2、ホブカライド、Ca (O)I) 2 、
CaO、MgO1Mg (OH) 2等からなる収着剤
により、弗化物、窒素酸化物を処理し、しかる後に、残
留するNF、を処理することにより、弗化物等による処
理剤の消耗をなくした。
NF、処理剤として、当該金属の弗化物の融点がNF、
との反応温度以上である金属処理剤を用いて、NF3を
反応させ分解除去することにより、処理後のガス中には
反応生成物が存在せず、それ以上の除害工程を必要とし
ない。
との反応温度以上である金属処理剤を用いて、NF3を
反応させ分解除去することにより、処理後のガス中には
反応生成物が存在せず、それ以上の除害工程を必要とし
ない。
NF3処理剤である金属を繊維状に成形することにより
、処理剤とNF、との接触面積を増やし処理効率を上げ
ることができる。
、処理剤とNF、との接触面積を増やし処理効率を上げ
ることができる。
フッ化物及び/又は窒素酸化物とNFaを含むガスを、
活性炭、アルくす、シリカゲル、モレキュラシーブ、C
uOlMnL、ホブカライド、Ca(0)1)a 、C
aO、MgO1Mg (OH>、等の収着剤により、フ
ッ化物、窒素酸化物を処理し、しかる後に、残留するN
F、を処理することにより、フッ化物等によるNF3処
理剤の消耗をなくし、安定したNF、処理性能を実現し
た。
活性炭、アルくす、シリカゲル、モレキュラシーブ、C
uOlMnL、ホブカライド、Ca(0)1)a 、C
aO、MgO1Mg (OH>、等の収着剤により、フ
ッ化物、窒素酸化物を処理し、しかる後に、残留するN
F、を処理することにより、フッ化物等によるNF3処
理剤の消耗をなくし、安定したNF、処理性能を実現し
た。
NF3処理剤として、当該金属のフッ化物の融点がNF
3との反応温度以上である金属、たとえばPe Cu、
を用いて、250℃以上当該金属の融点以下で、NF、
を処理することにより、反応にまり生成した金属フッ化
物は気化することなく、処理装置内に捕捉される。した
がって、NF3処理後のガスは無害化されており、さら
に処理、工程を設ける必要がない。
3との反応温度以上である金属、たとえばPe Cu、
を用いて、250℃以上当該金属の融点以下で、NF、
を処理することにより、反応にまり生成した金属フッ化
物は気化することなく、処理装置内に捕捉される。した
がって、NF3処理後のガスは無害化されており、さら
に処理、工程を設ける必要がない。
N17.処理剤の形状を、繊維状にすることにより、処
理剤とNhとの接触面積を増やし、処理効率を上げた。
理剤とNhとの接触面積を増やし、処理効率を上げた。
また、繊維状であるので空気抵抗が低く、圧力損失が少
ない。
ない。
繊維の形状としては、1 m+nφ以下、好ましくは1
00μmφ以下とし、長さは適宜調節できる。
00μmφ以下とし、長さは適宜調節できる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明は、これらの実施例に限定されるものではない。
明は、これらの実施例に限定されるものではない。
実施例1
40φのSuS製容器に層高100 mmになるようフ
ァイバー状に成形した鉄を充填し、処理剤層の中心温度
が350t:±50℃になるよう外部からヒータで加熱
し、三弗化窒素2 vo1%、窒素98vo1%の組成
を有する混合ガスを0.51/l1lInの流量にて導
入し、8時間連続して処理゛を行った。
ァイバー状に成形した鉄を充填し、処理剤層の中心温度
が350t:±50℃になるよう外部からヒータで加熱
し、三弗化窒素2 vo1%、窒素98vo1%の組成
を有する混合ガスを0.51/l1lInの流量にて導
入し、8時間連続して処理゛を行った。
連続処理時間中排ガスのNF、 15度は10ppm以
下、窒素酸化物は1 ppm以下、フッ素分は3ppm
以下であった。
下、窒素酸化物は1 ppm以下、フッ素分は3ppm
以下であった。
実施例2
40φのアクリル容器に層高8011II11になるよ
うCa (OH) 2を充填し、その後に実施例1で用
いたNP3処理カラムをもうけ、三弗化窒素2 vo1
%、フッ素4 vo1%、窒素94 vo1%の組成を
有する混合ガスを0.5A/minの流量にて導入し、
8時間連続して処理を行った。
うCa (OH) 2を充填し、その後に実施例1で用
いたNP3処理カラムをもうけ、三弗化窒素2 vo1
%、フッ素4 vo1%、窒素94 vo1%の組成を
有する混合ガスを0.5A/minの流量にて導入し、
8時間連続して処理を行った。
連続処理時間中、排ガスのNF、濃度は10 ppm以
下、窒素酸化物は1ppm以下、フッ素分は3ppm以
下であった。
下、窒素酸化物は1ppm以下、フッ素分は3ppm以
下であった。
実施例3
100φのアクリル容器に層高100凧になるようCa
(OH) 2を充填し、さらに層高70mmになるよ
うに活性炭を充填し、その後に実施例1で用いたNP3
処理カラムをもうけ、三弗化窒素2v01%、フッ素4
vo1%、二酸化窒素4 vo1%、−酸化窒素2
vo1%、窒素88vo1%の組成を有する混合ガスを
0.5j?/minの流量にて導入し、8時間連続して
処理を行った。
(OH) 2を充填し、さらに層高70mmになるよ
うに活性炭を充填し、その後に実施例1で用いたNP3
処理カラムをもうけ、三弗化窒素2v01%、フッ素4
vo1%、二酸化窒素4 vo1%、−酸化窒素2
vo1%、窒素88vo1%の組成を有する混合ガスを
0.5j?/minの流量にて導入し、8時間連続して
処理を行った。
連続処理時間中、排ガスのNF3濃度は10ppm以下
、窒素酸化物は1 ppm以下、フッ素分は3ppm
321下であった。
、窒素酸化物は1 ppm以下、フッ素分は3ppm
321下であった。
本発明によれば、NF3の除害処理において5IF4.
12等のフッ化物及び/又は窒素酸化物等が共存しても
これらの妨害をうけることなく NF。
12等のフッ化物及び/又は窒素酸化物等が共存しても
これらの妨害をうけることなく NF。
を効率よく除去することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、HF、SiF_4、F_2等の弗化物及び/又は窒
素酸化物とNF_3とを含むガスを、収着剤により処理
した後、残留するNF_3を、250℃以上の温度で、
当該金属の弗化物の融点が反応温度以上である金属処理
剤と反応させることを特徴とするNP_3の除害方法。 2、収着剤が、活性炭、アルミナ、シリカゲル、モレキ
ュラシーブ、CuO、MnO_2、ホプカライト、Ca
(OH)_2、CaO、MgO、Mg(OH)_2から
選ばれた1種以上からなる請求項1記載のNF_3の除
害方法。 3、金属処理剤が、繊維状の形状である請求項1記載の
NF_3の除害方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1338271A JPH03202128A (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | Nf↓3の除害方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1338271A JPH03202128A (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | Nf↓3の除害方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03202128A true JPH03202128A (ja) | 1991-09-03 |
JPH0523814B2 JPH0523814B2 (ja) | 1993-04-05 |
Family
ID=18316556
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1338271A Granted JPH03202128A (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | Nf↓3の除害方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03202128A (ja) |
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CN102447486A (zh) * | 2010-10-06 | 2012-05-09 | 三星电机株式会社 | 具有自适应延迟控制功能的数据接口设备 |
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-
1989
- 1989-12-28 JP JP1338271A patent/JPH03202128A/ja active Granted
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