JPH09258205A - カラー液晶表示装置 - Google Patents

カラー液晶表示装置

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JPH09258205A
JPH09258205A JP6072996A JP6072996A JPH09258205A JP H09258205 A JPH09258205 A JP H09258205A JP 6072996 A JP6072996 A JP 6072996A JP 6072996 A JP6072996 A JP 6072996A JP H09258205 A JPH09258205 A JP H09258205A
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JP
Japan
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electrode
substrate
liquid crystal
crystal display
display device
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JP6072996A
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English (en)
Inventor
Atsushi Kubota
篤 窪田
Kaoru Arai
薫 新井
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 カラー液晶表示装置に関し、液晶表示装置に
於ける電極端子部の構成を単純化し、電気的不良の発生
を抑止すると共にTFT基板とCF基板との密着性を改
善し、製造歩留りの向上と製造工程数の削減を実現しよ
うとする。 【解決手段】 TFT基板21上に形成されたAlから
なるゲート電極22及びゲート電極22とは電気的に隔
離されて基板21上に形成され且つ該電極22を外部に
導出する為の単層の端子であるITOからなるゲート端
子23と、CF基板24上に在って電極22と端子23
との離隔された領域に対向して形成された補助電極26
と、電極22及び補助電極26及び端子23とを電気的
に接続するAgペーストからなる接続体28と、基板2
1及び24を貼り合わせる為に介在し且つ少なくとも一
部が端子23上に掛かって設けられたシール材29とを
備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー・フィルタ
基板並びにTFT(thin film transi
stor)基板を備え、電極端子構造を改良したカラー
液晶表示装置に関する。
【0002】一般に、液晶表示装置は、薄型、軽量、低
消費電力などの利点を活かし、様々な分野で多用されて
いて、大型化、高精細化、大容量化、カラー化が要求さ
れていて、製造歩留りの向上及び高品質化が課題になっ
ている。
【0003】本発明に依れば、前記したような要求或い
は課題に応える一手段を提供することができる。
【0004】
【従来の技術】現在、液晶の駆動方式は、TFT駆動方
式が主流であり、高品質の表示画像が得られるのである
が、多層の積層構造が必要である。
【0005】図5は従来のTFT駆動方式に依る液晶表
示装置に於けるTFT基板の構成を表す要部切断側面図
である。
【0006】図に於いて、1はTFT基板に於けるガラ
ス基板、2はAlからなるゲート端子、3はSiNから
なる断線防止膜、4はTiからなる中間電極層、5はS
iNからなる断線防止膜、6はITO(indium
tin oxide)からなるゲート端子、7は電極端
子部をそれぞれ示している。
【0007】Alからなるゲート端子2とITOからな
るゲート端子6を接続するのにTiからなる中間電極層
4を介在しているのは、ITOとAlとの密着性が悪
く、接触抵抗が高いのを解消させる為である。
【0008】SiNからなる断線防止膜3或いは5は、
各電極・配線などを積層することで生成される段差に起
因して断線が起こるのを防ぐ役割を果たすものである。
【0009】ITOからなるゲート端子6を最上層にし
ている理由は、TAB(tapeautomated
bonding)などに於ける実装部品と接続した際の
密着力が高いことに依るものであり、Alなどの金属電
極に実装することは、可能ではあるが、密着力が低いの
で実用化されていない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】前記したように、従来
のTFT駆動方式の液晶表示装置に於いては、多層構成
になる為、製造プロセスが複雑で、コストが高くなる旨
の問題があり、特に、電極端子部に於いては、その多層
構成に起因して、導通不良や隣接導電パターン間の短絡
など、電気的な不良が発生し易い。
【0011】また、TFT基板とカラー・フィルタ(c
olor filter:CF)基板とは、電極端子部
にシール材を設けて貼り合わせるようにしている。
【0012】図6はTFT基板とCF基板とを貼り合わ
せる場合を説明する為の液晶表示装置を表す要部切断側
面図である。
【0013】図に於いて、11はTFT基板、12は多
層の電極端子部、13はCF基板、14はシール材、1
5は液晶層をそれぞれ示している。
【0014】このような構造であるから、電極端子部が
多層構造であれば、電極が単層である場合と比較する
と、TFT基板11とCF基板13間の密着力が小さい
ことは当然である。
【0015】本発明は、液晶表示装置に於ける電極端子
部の構成を単純化し、電気的不良の発生を抑止すると共
にTFT基板とCF基板との密着性を改善し、製造歩留
りの向上と製造工程数の削減を実現しようとする。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明では、電極端子部
に於ける電極端子を単層化し、TFT基板とCF基板と
を貼り合わせる場合の密着性を向上させることが基本に
なっている。
【0017】図1は本発明の原理を解説する為の液晶表
示装置の特に電極端子部近傍を表した要部切断側面図で
ある。
【0018】図に於いて、21はTFT基板、21Aは
ガラス基板、22はAlからなるゲート電極、23はI
TOからなるゲート端子、24はCF基板、24Aはガ
ラス基板、25はCrからなるブラック・マトリクス・
パターン、26はCrからなる補助電極、27はCFパ
ターン、28はAgペーストからなる接続体、29はシ
ール材をそれぞれ示している。
【0019】図から明らかなように、本発明では、CF
基板24側にCrからなる補助電極26を形成してあ
り、この補助電極26を中継ぎとして、TFT基板21
に於けるAlからなるゲート電極22とITOからなる
ゲート端子23とをAgペーストからなる接続体28で
結んでいる。
【0020】前記したところから、本発明に依る液晶表
示装置に於いては、
【0021】(1)相対向する一対の基板(例えばTF
T基板21及びCF基板24)に於ける一方の基板(例
えばTFT基板21)上に形成された電極(例えばAl
からなるゲート電極22)及び該電極とは電気的に隔離
されて同じ基板上に形成され且つ該電極を外部に導出す
る為の単層の端子(例えばITOからなるゲート端子2
3)と、前記一対の基板に於ける他方の基板(例えばC
F基板24)上に在って前記電極と前記端子との離隔さ
れた領域に対向して形成された補助電極(例えばCrか
らなる補助電極26)と、前記電極及び前記補助電極及
び前記端子とを電気的に接続する接続体(例えばAgペ
ーストからなる接続体28)と、前記相対向する一対の
基板を貼り合わせる為に介在し且つ少なくとも一部が前
記端子上に掛かって設けられたシール材(例えばシール
材29)とを備えてなることを特徴とするか、或いは、
【0022】(2)前記(1)に於いて、相対向する一
対の基板がTFT基板及びカラー・フィルタ基板であっ
て且つ補助電極が該カラー・フィルタ基板に於けるブラ
ック・マトリクス・パターン(例えばブラック・マトリ
クス・パターン25)を構成する材料膜(例えばCr
膜)の一部を利用して形成したものであることを特徴と
するか、或いは、
【0023】(3)前記(1)に於いて、相対向する一
対の基板がTFT基板及びカラー・フィルタ基板であっ
て且つ補助電極が該カラー・フィルタ基板に於ける表示
電極(例えば表示電極35:図2参照)を構成する材料
膜(例えばITO膜)の一部を利用して形成したもので
あることを特徴とするか、或いは、
【0024】(4)前記(1)に於いて、相対向する一
対の基板がTFT基板及びカラー・フィルタ基板であっ
て且つ補助電極が該カラー・フィルタ基板に於けるブラ
ック・マトリクス・パターンを構成する材料膜及び表示
電極を構成する材料膜が積層されたものを利用して形成
したことを特徴とするか、或いは、
【0025】(5)前記(1)又は(2)又は(4)に
於いて、補助電極が不透明な材料(例えば金属膜)から
なり且つ接続体との接続部分近傍に該接続体の位置を視
認する為の切欠部分(例えば切欠部分33A:図4参
照)が形成された補助電極を備えてなることを特徴とす
るか、或いは、
【0026】(6)前記(1)乃至(5)の何れか1に
於いて、接続体が金属からなるバンプであることを特徴
とする。
【0027】前記手段を採ることに依り、TFT基板側
の電極端子部は、ITOからなるゲート端子のみの単層
で構成されていることから電気的不良が起きる可能性は
非常に低くなり、そして、シール材を用いてTFT基板
とCF基板とを貼り合わせた場合の密着性は多層の場合
に比較すると遙に良好であり、また、TFT基板に於け
るゲート電極と電極端子部に於けるゲート端子は、両者
ともに単層でありながら、それ等の導電接続は直接接触
させることなく行われているので、両者間の密着性不良
の問題は発生しない。
【0028】このように、構成が簡単であることから、
多層構成の場合と比較して、成膜工程、リソグラフィ工
程、エッチング工程などパターン形成工程の全てに亙っ
て工程数を削減することができる為、製造歩留りの向上
及び高品質化を容易に達成することができる。
【0029】
【発明の実施の形態】図2及び図3は本発明に依る実施
の形態を製造する場合について解説する為の工程要所に
於ける液晶表示装置を表す要部切断側面図であり、以
下、これ等の図を参照しつつ説明する。
【0030】図2(A)参照 2−(1) スパッタリング法を適用することに依り、ガラス基板3
1上に厚さが例えば0.1〔μm〕のCr膜を形成す
る。
【0031】2−(2) リソグラフィ技術に於けるレジスト・プロセス、及び、
エッチャントを硝酸第二セリウムアンモニウム水溶液と
するウエット・エッチング法を適用することに依り、前
記工程2−(1)で形成したCr膜のエッチングを行っ
てブラック・マトリクス・パターン32及び補助電極3
3を形成する。
【0032】尚、前記したように、補助電極33を形成
するには、別個の工程は不要であって、ブラック・マト
リクス・パターン32を形成する工程を利用して同時に
形成することができるから、工程数の増加はない。
【0033】2−(3) スピン・コート法を適用することに依り、赤色、緑色、
青色の何れか一種類の顔料を分散した厚さが例えば1.
5〔μm〕の紫外線硬化樹脂膜を全面に形成する。
【0034】2−(4) マスクを介して紫外線に依る露光を行って、前記工程2
−(3)で形成した顔料含有紫外線硬化樹脂膜の選択硬
化を行う。
【0035】2−(5) アルカリ系現像液に浸漬し、未硬化の紫外線硬化樹脂膜
を除去すると、カラー・フィルタ・パターンが得られ
る。
【0036】2−(6) 前記工程2−(3)乃至2−(5)は、赤色のカラー・
フィルタ、緑色のカラー・フィルタ、青色のカラー・フ
ィルタのそれぞれを作成する為に繰り返され、図では、
そのようにして形成されるカラー・フィルタ・パターン
全体を総合して記号34で指示してある。
【0037】2−(7) スパッタリング法を適用することに依り、厚さが例えば
0.1〔μm〕のITO層を形成する。
【0038】2−(8) リソグラフィ技術に於けるレジスト・プロセス、及び、
エッチャントを塩化鉄塩水溶液とするウエット・エッチ
ング法を適用することに依り、前記工程2−(7)で形
成したITO層のエッチングして表示電極35を形成す
る。以上のようにしてCF基板が完成する。
【0039】図2(B)参照 2─(9) 次に、TFT基板について説明するが、CF基板の作成
及びTFT基板の作成の順序など何れでも良いことは勿
論であり、両者は貼り合わせるものであるから、両方同
時に供給されることが望ましい。
【0040】さて、図示のTFT基板では、通常の技法
に依って、ガラス基板41にTFT(図示せず)が作り
込まれ、Alからなるゲート電極42、ITOからなる
ゲート端子43が形成されているものとする。
【0041】尚、図示されていないが、TFT基板及び
CF基板の何れに於いても、例えばポリイミド系の配向
材を塗布してからラビングを行って得られる配向膜層が
形成されている。
【0042】図3参照 3−(1) スクリーン印刷法を適用することに依り、CF基板側或
いはTFT基板側の何れかにAgペーストからなる接続
体51を形成し、シール材52を施して両基板を貼り合
わせ、熱処理を行って接続体51並びにシール材52を
硬化させる。
【0043】尚、シール材52としては、例えばアクリ
ル樹脂にグラスファイバを混入したものを用いて良い。
この場合、グラスファイバは、シール材52の高さ調整
の為に混入されるものである。
【0044】3−(2) この後、液晶を充填するなど、通常の技法を適用して、
カラー液晶表示装置を完成させる。
【0045】本発明に於いては、実施の形態として説明
した前記カラー液晶表示装置に限られず、他に多くの改
変を実現することができる。
【0046】例えば、補助電極33として、ブラック・
マトリクス・パターン32を構成するCr膜の一部を流
用したが、これは、表示電極35を構成するITO膜の
一部を代替流用することも可能である。
【0047】また、補助電極33を低抵抗化する為、ブ
ラック・マトリクス・パターン32を構成するCr膜と
表示電極35を構成するITO膜とを積層した構造にし
ても良い。
【0048】更にまた、補助電極33とゲート電極42
並びにゲート端子43とを接続するAgペーストからな
る接続体51は、それに代えて、補助電極33上に電解
鍍金法を適用して金(Au)からなるバンプを形成して
も良い。但し、その場合、バンプを形成すべき箇所以外
は例えばレジスト膜などのマスクで覆う必要がある。
【0049】前記したように、補助電極33を形成する
場合、ブラック・マトリクス・パターン32を作成する
為のCr膜を利用するか、或いは、表示電極35を作成
する為のITO膜を利用するか何れかの手段があること
を説明した。
【0050】その際、表示電極35の構成材料であるI
TO膜を利用するのであれば、透明であるから、Agペ
ーストからなる接続体51を形成したとき、印刷ずれな
どは視認することが可能であるが、ブラック・マトリク
ス・パターン32の構成材料であるCr膜を利用した場
合、不透明であるから視認は困難であり、従って、何ら
かの対策が必要である。
【0051】図4は対策を施した補助電極の構成を説明
する為の要部平面図であり、図2乃至図3に於いて用い
た記号と同記号は同部分を表すか或いは同じ意味を持つ
ものとする。
【0052】図に於いて、33Aは補助電極33の両端
に形成した切欠部分、61は切欠部分33Aの形成に依
って高くなった抵抗値を低下させる為のITOからなる
導電膜をそれぞれ示している。
【0053】図4(A)及び(B)から明らかなよう
に、補助電極33の両端、即ち、Agペーストからなる
接続体51をコンタクトさせるべき箇所には、切欠部分
33Aが形成されているので、Agペーストからなる接
続体51を形成した場合、その位置ずれなどを容易に確
認することができる。
【0054】然しながら、そのようにすると、補助電極
33と接続体51との接触面積は小さくなって、接触抵
抗は高くなるから、図4(C)から明らかなように、切
欠部分33A近傍、或いは、全体にITOからなる導電
膜61を形成して回避すると良い。
【0055】
【発明の効果】本発明に依るカラー液晶表示装置に於い
ては、一対の基板に於ける一方の基板上に形成された電
極及び電極とは電気的に隔離されて同じ基板上に形成さ
れ且つ電極を外部に導出する為の単層の端子、一対の基
板に於ける他方の基板上に在って電極と端子との離隔さ
れた領域に対向して形成された補助電極と、電極及び補
助電極及び端子とを電気的に接続する接続体と、一対の
基板を貼り合わせる為に介在し且つ少なくとも一部が端
子上に掛かって設けられたシール材とを備える。
【0056】前記構成を採ることに依り、TFT基板側
の電極端子部は、ITOからなるゲート端子のみの単層
で構成されていることから電気的不良が起きる可能性は
非常に低くなり、そして、シール材を用いてTFT基板
とCF基板とを貼り合わせた場合の密着性は多層の場合
に比較すると遙に良好であり、また、TFT基板に於け
るゲート電極と電極端子部に於けるゲート端子は、両者
ともに単層でありながら、それ等の導電接続は直接接触
させることなく行われているので、両者間の密着性不良
の問題は発生しない。
【0057】このように、構成が簡単であることから、
多層構成の場合と比較して、成膜工程、リソグラフィ工
程、エッチング工程などパターン形成工程の全てに亙っ
て工程数を削減することができる為、製造歩留りの向上
及び高品質化を容易に達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理を解説する為の液晶表示装置の特
に電極端子部近傍を表した要部切断側面図である。
【図2】本発明に依る実施の形態を製造する場合につい
て解説する為の工程要所に於ける液晶表示装置を表す要
部切断側面図である。
【図3】本発明に依る実施の形態を製造する場合につい
て解説する為の工程要所に於ける液晶表示装置を表す要
部切断側面図である。
【図4】対策を施した補助電極の構成を説明する為の要
部平面図である。
【図5】従来のTFT駆動方式に依る液晶表示装置に於
けるTFT基板の構成を表す要部切断側面図である。
【図6】TFT基板とCF基板とを貼り合わせる場合を
説明する為の液晶表示装置を表す要部切断側面図であ
る。
【符号の説明】
21 TFT基板 21A ガラス基板 22 Alからなるゲート電極 23 ITOからなるゲート端子 24 CF基板 24A ガラス基板 25 Crからなるブラック・マトリクス・パターン 26 Crからなる補助電極 27 CFパターン 28 Agペーストからなる接続体 29 シール材

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】相対向する一対の基板に於ける一方の基板
    上に形成された電極及び該電極とは電気的に隔離されて
    同じ基板上に形成され且つ該電極を外部に導出する為の
    単層の端子と、 前記一対の基板に於ける他方の基板上に在って前記電極
    と前記端子との離隔された領域に対向して形成された補
    助電極と、 前記電極及び前記補助電極及び前記端子とを電気的に接
    続する接続体と、 前記相対向する一対の基板を貼り合わせる為に介在し且
    つ少なくとも一部が前記端子上に掛かって設けられたシ
    ール材とを備えてなることを特徴とするカラー液晶表示
    装置。
  2. 【請求項2】相対向する一対の基板がTFT基板及びカ
    ラー・フィルタ基板であって且つ補助電極が該カラー・
    フィルタ基板に於けるブラック・マトリクス・パターン
    を構成する材料膜の一部を利用して形成したものである
    ことを特徴とする請求項1記載のカラー液晶表示装置。
  3. 【請求項3】相対向する一対の基板がTFT基板及びカ
    ラー・フィルタ基板であって且つ補助電極が該カラー・
    フィルタ基板に於ける表示電極を構成する材料膜の一部
    を利用して形成したものであることを特徴とする請求項
    1記載のカラー液晶表示装置。
  4. 【請求項4】相対向する一対の基板がTFT基板及びカ
    ラー・フィルタ基板であって且つ補助電極が該カラー・
    フィルタ基板に於けるブラック・マトリクス・パターン
    を構成する材料膜及び表示電極を構成する材料膜が積層
    されたものを利用して形成したことを特徴とする請求項
    1記載のカラー液晶表示装置。
  5. 【請求項5】補助電極が不透明な材料からなり且つ接続
    体との接続部分近傍に該接続体の位置を視認する為の切
    欠部分が形成された補助電極を備えてなることを特徴と
    する請求項1或いは2或いは4記載のカラー液晶表示装
    置。
  6. 【請求項6】接続体が金属からなるバンプであることを
    特徴とする請求項1乃至5の何れか1記載のカラー液晶
    表示装置。
JP6072996A 1996-03-18 1996-03-18 カラー液晶表示装置 Withdrawn JPH09258205A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100475552B1 (ko) * 2001-11-26 2005-03-11 가부시끼가이샤 도시바 액정표시장치 및 그 제조방법
KR100561645B1 (ko) * 2003-10-13 2006-03-20 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시패널 및 그 제조방법
US9091892B2 (en) 2013-03-15 2015-07-28 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and manufacturing method thereof

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