JPH09235375A - シロキサン系共重合体の製造方法 - Google Patents

シロキサン系共重合体の製造方法

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JPH09235375A
JPH09235375A JP8045242A JP4524296A JPH09235375A JP H09235375 A JPH09235375 A JP H09235375A JP 8045242 A JP8045242 A JP 8045242A JP 4524296 A JP4524296 A JP 4524296A JP H09235375 A JPH09235375 A JP H09235375A
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JP
Japan
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group
hydrocarbon group
carbon atoms
bis
carbonate
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Withdrawn
Application number
JP8045242A
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English (en)
Inventor
Tomoki Hiiro
知樹 日色
Hirosuke Kawabata
裕輔 川端
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication of JPH09235375A publication Critical patent/JPH09235375A/ja
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 簡便かつ安価に製造可能であり、十分な物性
(例えば、機械的特性、耐衝撃性、耐熱性、耐候性)を
発現し得る分子量および分子量分布を有するシロキサン
系共重合体。 【解決手段】 エステル化またはエステル交換触媒の存
在下、少なくとも1種のポリカーボネートおよび/また
はジオールのジカーボネートと、必要に応じて少なくと
も1種のジカルボン酸のジエステルと、ケイ素化合物と
を反応させる、シロキサン系共重合体の製造方法であっ
て、上記ケイ素化合物が、以下の一般式(I)および/
または(II)で表される化合物からなる群から選択され
る少なくとも1種であり、そして上記反応の途中でビス
カーボネート化合物が添加される、製造方法: (式中、R1、R2、R3およびR4ならびにXおよびY
は、それぞれ独立して、水素原子、または、有機基、a
は、0〜5000の整数、bは、3〜20の整数であ
る。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、シロキサン系共重
合体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】熱可塑性高分子は、一般に、プラスチッ
ク容器、フィルム、繊維、接着剤、押出シートなどに用
いられる工業的に有用な成形材料である。特に、テレフ
タル酸および/またはイソフタル酸とカーボネート成分
と2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン
(別名:ビスフェノールA)とを主単位とするポリエス
テルカーボネート樹脂、ならびにテレフタル酸および/
またはイソフタル酸とビスフェノールAとを主単位とす
るポリエステル樹脂は、優れた機械特性、電気特性、耐
熱性、寸法安定性、透明性を有しており、その成型品は
幅広く使用されている。
【0003】しかし、熱可塑性高分子は、一般に、燃え
やすく、さらに燃焼時に有害なガスを生じるという欠点
を有している。それゆえ、難燃性が要求される用途にお
いて熱可塑性高分子を用いる場合は、通常、ハロゲン系
およびリン系化合物に代表される難燃剤を添加すること
により、上記の燃えやすいという欠点が補われている。
しかし、このような難燃剤は、燃焼時に有害なガスを生
じるために、環境問題上から好ましくなく、さらに添加
量によっては物性(例えば、機械的特性、電気特性、耐
熱性、耐候性)の低下を引き起こすという問題点を有す
る。
【0004】熱可塑性高分子の難燃性、さらには成形性
を向上させる手段の1つとして、熱可塑性高分子にシロ
キサン化合物を添加する方法が提案された。しかし、こ
の方法では、シロキサン化合物と熱可塑性高分子との相
溶性が低い場合には、難燃性および成形性が十分に向上
しなかったり、シロキサン化合物が表面にブリードする
といった問題点があった。
【0005】このような問題点を解決する手段として、
熱可塑性高分子にポリシロキサンを共重合する技術が提
案されている。例えば、特開平2−196823号公
報、特開平3−106937号公報、および特開平7−
2999号公報には、ビスフェノール類、ジカルボン酸
ジクロライド、ホスゲン、およびフェノール末端ジメチ
ルポリシロキサンを用いて界面重縮合法によるポリエス
テルカーボネート−シロキサン共重合体の製造方法が提
案されている。さらに、特開平5−222173号公報
においても、フェノール末端ジメチルポリシロキサンを
用いて界面重縮合法によるポリエステルカーボネート−
シロキサン共重合体の製造方法が提案されている。しか
し、界面重縮合法においては、原料であるホスゲンおよ
び酸クロライドの入手が困難であり、そして塩化メチレ
ンなどのハロゲン化合物を用いるため環境上好ましくな
いという問題点を有する。
【0006】界面重縮合法における問題点を解決する手
段の1つとして、特開平4−91125号公報には、ジ
カルボン酸ジエステル、ジオール、およびフェノール末
端ジメチルポリシロキサンを用いて溶融重縮合法による
ポリエステル−シロキサンブロック共重合体の製造方法
が提案されている。しかし、この方法においても、高価
で特殊なケイ素化合物を用いるため、製造コストがかか
り、そしてブロック共重合体であるため、シロキサンユ
ニットの導入量を増加させると、相分離による物性低下
が起こるなどの問題点がある。
【0007】一方、Curryらは、ジオールおよびビス
(アニリノ)ジフェニルシランから得られるシロキサン
共重合体の合成方法を報告している(J. Appl. Polym.
Sci.,9, 295(1965))。この方法では、生成するポリマ
ーが交互共重合体となるため、シロキサンの導入量を増
加させることが可能である。しかし、この方法では、高
価な特殊なケイ素化合物を用いるため、製造コストがか
かり、反応に長時間を要するなどの問題点がある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
課題を解決するためになされたものであり、その目的と
するところは、上記従来のシロキサン系共重合体の製造
方法の欠点を克服し、優れた難燃性および成形性を有す
るシロキサン系共重合体が得られるだけでなく、簡便か
つ安価で商業的に有利に製造可能であり、十分な物性
(例えば、機械的特性、耐衝撃性、耐熱性、耐候性)を
発現し得る分子量および分子量分布を有するシロキサン
系共重合体の製造方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を重ねた結果、エステル化またはエステル交換触媒の存
在下、少なくとも1種のポリカーボネートおよび/また
はジオールのジカーボネートと、必要に応じて少なくと
も1種のジカルボン酸のジエステルと、特定のケイ素化
合物を反応させる、シロキサン系共重合体の製造方法で
あって、上記反応の途中でビスカーボネート化合物が添
加される、製造方法が、上記問題点を解決し得ることを
見い出し、本発明を完成した。本発明の製造方法は新規
であり、これにより上記目的が達成される。
【0010】すなわち、本発明は、エステル化またはエ
ステル交換触媒の存在下、少なくとも1種のポリカーボ
ネートおよび/またはジオールのジカーボネートと、必
要に応じて少なくとも1種のジカルボン酸のジエステル
と、特定のケイ素化合物とを反応させる、シロキサン系
共重合体の製造方法であって、上記ケイ素化合物が、以
下の一般式(I)および/または(II)で表される化合
物からなる群から選択される少なくとも1種であり、そ
して上記反応の途中でビスカーボネート化合物が添加さ
れる、製造方法に関する:
【0011】
【化7】
【0012】
【化8】
【0013】式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞ
れ独立して、水素原子、または、置換または非置換の有
機基であり;XおよびYは、それぞれ独立して、水素原
子、または、置換または非置換の有機基であり;aは、
0〜5000の整数であり;そしてbは、3〜20の整
数である。
【0014】好適な実施態様においては、上記ビスカー
ボネート化合物は、以下の一般式(III)で表される:
【0015】
【化9】
【0016】式中、R5は、1〜20個の炭素原子を有
する2価の炭化水素基;炭化水素基の水素原子の少なく
とも一部が、ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基
およびフェノキシ基から選択される少なくとも1つで置
換されている1〜20個の炭素原子を有する2価の炭化
水素基;あるいはR7−X−R8(ここで、R7およびR8
は、それぞれ独立して、6〜20個の炭素原子を有する
2価の芳香族炭化水素基であり、Xは、単結合、-O-、
-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、および1〜20個の
炭素原子を有する2価の炭化水素基からなる群から選択
される)であり; R6は、1〜20の炭素原子を有する
炭化水素基であり;そしてc、は0または1である。
【0017】好適な実施態様においては、上記ビスカー
ボネート化合物は、ジフェニルカーボネート、2,2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンのビス(メチ
ルカーボネート)、および2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパンのビス(フェニルカーボネート)
からなる群から選ばれる。
【0018】好適な実施態様においては、上記ポリカー
ボネートは、以下の一般式(IV)で表される:
【0019】
【化10】
【0020】式中、R9は、1〜20個の炭素原子を有
する2価の炭化水素基;炭化水素基の水素原子の少なく
とも一部が、ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ
基、およびフェノキシ基からなる群から選択される少な
くとも1つで置換されている1〜20個の炭素原子を有
する2価の炭化水素基;あるいはR10−X−R11基(こ
こで、R10およびR11は、それぞれ独立して、6〜20
個の炭素原子を有する2価の芳香族炭化水素基であり、
Xは、単結合、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO
-、および1〜20個の炭素原子を有する2価の炭化水
素基からなる群から選択される)であり;そしてdは、
10000以下の正の整数である。
【0021】好適な実施態様においては、上記ジオール
のジカーボネートは、以下の一般式(V)で表される:
【0022】
【化11】
【0023】式中、R12は、1〜20個の炭素原子を有
する2価の炭化水素基;炭化水素基の水素原子の少なく
とも一部が、ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ
基、およびフェノキシ基からなる群から選択される少な
くとも1つで置換されている1〜20個の炭素原子を有
する2価の炭化水素基;あるいはR14−X−R15(ここ
で、R14およびR15は、それぞれ独立して、6〜20個
の炭素原子を有する2価の芳香族炭化水素基であり、X
は、単結合、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、
および1〜20個の炭素原子を有する2価の炭化水素基
からなる群から選択される)であり;そしてR13は、1
〜20個の炭素原子を有する炭化水素基である。
【0024】好適な実施態様においては、上記ジカルボ
ン酸のジエステルは、以下の一般式(VI)で表される:
【0025】
【化12】
【0026】式中、R16は、1〜20個の炭素原子を有
する2価の炭化水素基;炭化水素基の水素原子の少なく
とも一部が、ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ
基、およびフェノキシ基からなる群から選択される少な
くとも1つで置換されている1〜20個の炭素原子を有
する2価の炭化水素基であり;そしてR17は、1〜20
個の炭素原子を有する炭化水素基である。
【0027】好適な実施態様においては、上記ケイ素化
合物は、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリ
シロキサン、ジメトキシジメチルシラン、ジメトキシジ
フェニルシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサ
ン、およびオクタフェニルシクロテトラシロキサンから
なる群から選ばれる。
【0028】好適な実施態様においては、上記ポリカー
ボネートは、2,2’−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンのポリカーボネートである。
【0029】好適な実施態様においては、上記ジオール
のジカーボネートは、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパンのビス(メチルカーボネート)または
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンのビ
ス(フェニルカーボネート)である。
【0030】好適な実施態様においては、上記ジカルボ
ン酸のジエステルは、テレフタル酸ジメチル、イソフタ
ル酸ジメチル、およびナフタレン−2,6−ジカルボン
酸ジメチルからなる群から選ばれる。
【0031】好適な実施態様においては、上記エステル
化またはエステル交換触媒は、スズ系化合物である。
【0032】好適な実施態様においては、上記エステル
化またはエステル交換触媒は、リチウム、ナトリウム、
カリウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、スト
ロンチウム、亜鉛、カドミウム、チタン、ジルコニウ
ム、スズ、アンチモン、鉛、マンガン、コバルトからな
る群から選ばれる金属の、酢酸塩、炭酸塩、ホウ酸塩、
酸化物、水酸化物、水素化物、アルコラート、およびフ
ェノラートからなる群から選ばれる少なくとも1種であ
る。
【0033】好適な実施態様においては、上記エステル
化またはエステル交換触媒は、上記生成するシロキサン
系共重合体100重量部に対して、0.0001〜1重
量部使用される。
【0034】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。
【0035】本発明に用いられるケイ素化合物は、好ま
しくは、上記一般式(I)および/または(II)で表さ
れる。ここで、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ独
立して、水素原子、または、置換または非置換の有機基
であり;XおよびYは、それぞれ独立して、水素原子、
または、置換または非置換の有機基であり;aは、0〜
5000の整数であり;そしてbは、3〜20の整数で
ある。置換または非置換の有機基としては、炭素数1〜
20の炭化水素基(ただし、炭化水素基の水素原子の一
部または全部が、それぞれ独立して、水酸基、ハロゲン
原子、アルコキシ基、フェノキシ基、アミノ基、アンモ
ニウム塩を含む基、アルキルアミノ基、カルボキシル
基、エステル基、ポリエーテル基、エポキシ基、ビニル
基、ビニルエーテル基、ビニルエステル基、アリル基、
アクリル基、メタクリル基、メルカプト基、イソシアネ
ート基からなる群から選ばれる少なくとも一つの基で置
換されていてもよい。)、水酸基、ハロゲン原子、アル
コキシ基、フェノキシ基、アミノ基、アンモニウム塩を
含む基、アルキルアミノ基、カルボキシル基、エステル
基、ポリエーテル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエ
ーテル基、ビニルエステル基、アリル基、アクリル基。
メタクリル基、メルカプト基、イソシアネート基などが
挙げられる。
【0036】上記ケイ素化合物の具体例としては、以下
に示すものが挙げられる。例えば、ジメトキシジメチル
シラン、ジエトキシジメチルシラン、オクタデシルトリ
メトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、オ
クタデシルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエ
トキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリ
エトキシシラン、5−ヘキセニルトリメトキシシラン、
メチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエ
トキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニ
ルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フ
ェニルトリエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメ
トキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノ
プロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピル
トリエトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメト
キシシラン、(3−グリシドキシプロピル)メチルジエ
トキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメ
トキシシランなどのアルコキシシラン類、ジフェニルシ
ラン、ジフェニルシランジオールなどのフェニルシラン
類、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘキサフェニ
ルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシ
ロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、
1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサ
ン、1,3,5,7−テトラビニルテトラメチルシクロ
テトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン
などの環状シロキサン類、ヘキサメチルジシロキサン、
オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキ
サン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチ
ルヘキサシロキサン、ヘキサデカメチルヘプタシロキサ
ン、オクタデカメチルオクタシロキサン、エイコサメチ
ルエニアシロキサン、ドコサメチルデカシロキサン、
3,3−ジフェニルヘキサメチルトリシロキサン、シロ
キサンオリゴマー類、ジメチルポリシロキサン、メチル
フェニルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、
アルキル変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロ
キサン、クロロアルキル変性ポリシロキサン、フッ素変
性ポリシロキサン、ポリエーテル変性ポリシロキサン、
アルコール変性ポリシロキサン、アミノ変性ポリシロキ
サン、エポキシ変性ポリシロキサン、フェノール変性ポ
リシロキサン、カルボキシ変性ポリシロキサン、メルカ
プト変性ポリシロキサンなどのポリシロキサンが挙げら
れる。これらのケイ素化合物は単独で用いても良く、ま
た混合して用いても良い。
【0037】これらのうち、ジメチルポリシロキサン、
メチルフェニルポリシロキサン、ジメトキシジメチルシ
ラン、ジメトキシジフェニルシラン、オクタメチルシク
ロテトラシロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロ
キサンが好ましい。
【0038】本発明に用いられるビスカーボネート化合
物は、例えば、上記一般式(III)で表される。ここ
で、R5は、1〜20個の炭素原子を有する2価の炭化
水素基;炭化水素基の水素原子の少なくとも一部が、ハ
ロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基およびフェノキ
シ基から選択される少なくとも1つで置換されている1
〜20個の炭素原子を有する2価の炭化水素基;あるい
はR7−X−R8(ここで、R7およびR8は、それぞれ独
立して、6〜20個の炭素原子を有する2価の芳香族炭
化水素基であり、Xは、単結合、-O-、-S-、-SO-、
-SO2-、-CO-、および1〜20個の炭素原子を有す
る2価の炭化水素基からなる群から選択される)であ
り; R6は、1〜20の炭素原子を有する炭化水素基で
あり;そしてc、は0または1である。
【0039】上記ビスカーボネート化合物の具体例とし
ては、以下に示すものが挙げられる。例えば、ジメチル
カーボネート、ジエチルカーボネート、ジプロピルカー
ボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカ
ーボネート、ジフェニルカーボネートなどのカーボネー
トが挙げられる。さらに、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパン(別名:ビスフェノールA)、ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒド
ロキシ−3,5−ジメチルフェニル)メタン、ビス(4
−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)メタン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシ
ルメタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エ
タン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−
フェニルエタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン(別名:
ビスフェノールTMC)、4,4’−ジヒドロキシジフ
ェニルエーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメ
チルフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチ
ルフェニル)スルホン、4,4’−ジヒドロキシベンゾ
フェノン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)プロパン、テトラブロモビスフェノー
ルA、テトラクロロビスフェノールA、ジヒドロキシジ
フェニル、ハイドロキノン、レゾルシノール、ジヒドロ
キシナフタレン、ジヒドロキシアントラセン、フェノー
ルフタレイン、フルオレセイン、2,2’−ジヒドロキ
シ−1,1−ジナフチルメタン、4,4’−ジヒドロキ
シジナフチルなどの芳香族ジオール、あるいはエチレン
グリコール、プロピレングリコール、テトラメチレング
リコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール、ポリエチレングリコール、1,3−プロパンジオ
ール、1,2−プロパンジオール、1,4−ブタンジオ
ール、1,3−ブタンジオール、1,2−ブタンジオー
ル、1,6−ヘキサンジオール、1,10−デカンジオ
ールなどの脂肪族ジオールの、ビス(メチルカーボネー
ト)、ビス(エチルカーボネート)、ビス(プロピルカ
ーボネート)、ビス(ブチルカーボネート)、ビス(シ
クロへキシルカーボネート)、ビス(フェニルカーボネ
ート)が挙げられる。これらのビスカーボネート化合物
は、単独で用いても良く、また混合して使用しても良
い。
【0040】本発明に用いられるビスカーボネート化合
物のうち、ジフェニルカーボネート、ビスフェノールA
のビス(メチルカーボネート)、ビスフェノールAのビ
ス(フェニルカーボネート)が好ましい。
【0041】本発明に用いられるポリカーボネートは、
好ましくは、上記一般式(IV)で表される。ここで、R
9は、1〜20個の炭素原子を有する2価の炭化水素
基;炭化水素基の水素原子の少なくとも一部が、ハロゲ
ン原子、炭化水素基、アルコキシ基、およびフェノキシ
基からなる群から選択される少なくとも1つで置換され
ている1〜20個の炭素原子を有する2価の炭化水素
基;あるいはR10−X−R11基(ここで、R10およびR
11は、それぞれ独立して、6〜20個の炭素原子を有す
る2価の芳香族炭化水素基であり、Xは、単結合、-O
-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、および1〜20個
の炭素原子を有する2価の炭化水素基からなる群から選
択される)であり;そしてdは、10000以下の正の
整数である。
【0042】上記ポリカーボネートの具体例としては、
以下に示すジオールに由来するポリカーボネートが挙げ
られる。例えば、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン(別名:ビスフェノールA)、ビス(4−
ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジクロロフェニル)メタン、1,1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシルメタン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,
1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエ
タン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,
3,5−トリメチルシクロヘキサン(別名:ビスフェノ
ールTMC)、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエー
テル、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)スルホン、4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル
フェニル)プロパン、テトラブロモビスフェノールA、
テトラクロロビスフェノールA、ジヒドロキシジフェニ
ル、ハイドロキノン、レゾルシノール、ジヒドロキシナ
フタレン、ジヒドロキシアントラセン、フェノールフタ
レイン、フルオレセイン、2,2’−ジヒドロキシ−
1,1−ジナフチルメタン、4,4’−ジヒドロキシジ
ナフチルなどの芳香族ジオールに由来するポリカーボネ
ート、またエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、1,3−プロパンジオール、1,2−プロパンジオ
ール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオー
ル、1,2−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオー
ル、1,10−デカンジオールなどの脂肪族ジオールに
由来するポリカーボネートが挙げられる。これらのポリ
カーボネートは単独で用いても良く、また混合して使用
しても良い。
【0043】本発明に用いられるポリカーボネートのう
ち、ビスフェノールAに由来するポリカーボネートが好
ましい。
【0044】本発明に用いられるジオールのジカーボネ
ートは、好ましくは、上記一般式(V)で表される。こ
こで、式中、R12は、1〜20個の炭素原子を有する2
価の炭化水素基;炭化水素基の水素原子の少なくとも一
部が、ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基、およ
びフェノキシ基からなる群から選択される少なくとも1
つで置換されている1〜20個の炭素原子を有する2価
の炭化水素基;あるいはR14−X−R15(ここで、R14
およびR15は、それぞれ独立して、6〜20個の炭素原
子を有する2価の芳香族炭化水素基であり、Xは、単結
合、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、および1
〜20個の炭素原子を有する2価の炭化水素基からなる
群から選択される)であり;そしてR13は、1〜20個
の炭素原子を有する炭化水素基である。
【0045】上記ジオールのジカーボネートの具体例と
しては、以下に示すものが挙げられる。例えば、2,2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(別名:ビ
スフェノールA)、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メ
タン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロ
フェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)シクロヘキシルメタン、1,1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシク
ロヘキサン(別名:ビスフェノールTMC)、4,4’
−ジヒドロキシジフェニルエーテル、ビス(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジメチルフェニル)エーテル、ビス(4
−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)スルホン、4,4’−
ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、テトラ
ブロモビスフェノールA、テトラクロロビスフェノール
A、ジヒドロキシジフェニル、ハイドロキノン、レゾル
シノール、ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシアン
トラセン、フェノールフタレイン、フルオレセイン、
2,2’−ジヒドロキシ−1,1−ジナフチルメタン、
4,4’−ジヒドロキシジナフチルなどの芳香族ジオー
ル、またエチレングリコール、プロピレングリコール、
テトラメチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ポリエチレングリコール、1,
3−プロパンジオール、1,2−プロパンジオール、
1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、
1,2−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、
1,10−デカンジオールなどの脂肪族ジオールの、ビ
ス(メチルカーボネート)、ビス(エチルカーボネー
ト)、ビス(プロピルカーボネート)、ビス(ブチルカ
ーボネート)、ビス(シクロへキシルカーボネート)、
ビス(フェニルカーボネート)が挙げられる。これらの
ジオールのジカーボネートは単独で用いても良く、また
混合して使用しても良い。
【0046】本発明に用いられるジオールのジカーボネ
ートのうち、ビスフェノールAのビス(メチルカーボネ
ート)およびビスフェノールAのビス(フェニルカーボ
ネート)が好ましい。
【0047】本発明に用いられるジカルボン酸のジエス
テルは、好ましくは、上記一般式(VI)で表される。こ
こで、R16は、1〜20個の炭素原子を有する2価の炭
化水素基;炭化水素基の水素原子の少なくとも一部が、
ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基、およびフェ
ノキシ基からなる群から選択される少なくとも1つで置
換されている1〜20個の炭素原子を有する2価の炭化
水素基であり;そしてR17は、1〜20個の炭素原子を
有する炭化水素基である。
【0048】上記ジカルボン酸のジエステルの具体例と
しては、以下に示すものが挙げられる。例えば、テレフ
タル酸、メトキシテレフタル酸、エトキシテレフタル
酸、フルオロテレフタル酸、クロロテレフタル酸、メチ
ルテレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、メトキシイ
ソフタル酸、ジフェニルメタン−4,4’−ジカルボン
酸、ジフェニルメタン−3,3’−ジカルボン酸、ジフ
ェニルエーテル−4,4’−ジカルボン酸、ジフェニル
−4,4’−ジカルボン酸、ナフタレン−1,4−ジカ
ルボン酸、ナフタレン−1,5−ジカルボン酸、ナフタ
レン−2,6−ジカルボン酸などの芳香族ジカルボン
酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデ
カンジカルボン酸、3−メチルアゼライン酸などの脂肪
族ジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン
酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2−シ
クロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロペンタンジ
カルボン酸、1,5−デカヒドロナフタレンジカルボン
酸、2,6−デカヒドロナフタレンジカルボン酸、2,
7−デカヒドロナフタレンジカルボン酸などの脂環式ジ
カルボン酸などの、ジメチルエステル、ジエチルエステ
ル、ジプロピルエステル、ジブチルエステル、ジシクロ
へキシルエステル、ジフェニルエステルが挙げられる。
これらのジカルボン酸のジエステルは単独で用いても良
く、また混合して使用しても良い。
【0049】本発明に用いられるジカルボン酸のジエス
テルのうち、テレフタル酸ジメチル、イソフタル酸ジメ
チル、ナフタレン−2,6−ジカルボン酸ジメチルが好
ましい。
【0050】本発明に用いられる触媒としては、公知の
エステル化またはエステル交換触媒が使用され得る。こ
れらの触媒としては、リチウム、ナトリウム、カリウム
などのアルカリ金属、マグネシウム、カルシウム、バリ
ウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属、亜鉛、
カドミウム、チタン、ジルコニウム、スズ、アンチモ
ン、鉛、マンガン、コバルトなどの金属の、酢酸塩、炭
酸塩、ホウ酸塩、酸化物、水酸化物、水素化物、アルコ
ラート、フェノラートなどが挙げられる。これらのエス
テル化またはエステル交換触媒は、単独で用いてもよ
く、また混合して用いてもよい。
【0051】これらのうち、スズ系化合物が好ましく、
例えば、アシル第一スズ、テトラアシル第二スズ、ジブ
チルスズオキサイド、ジブチルスズジアセテート、ジブ
チルスズラウレート、ジメチルスズマレート、スズジオ
クタノエート、スズテトラアセテート、塩化第一スズ、
塩化第二スズ、酢酸第一スズ、トリクロロブチルスズ、
ジクロロジブチルスズ、酸化第一スズ、酸化第二スズが
挙げられる。
【0052】これらの触媒の使用量は、特に制限されな
いが、生成されるシロキサン系共重合体100重量部に
対して、好ましくは0.0001〜1.0重量部、より好
ましくは0.0005〜0.1重量部が使用される。使用
する触媒が、0.0001重量部未満では、反応が十分
に進行せず、そして1.0重量部より多ければ、生成す
るポリマーの着色が激しくなり、耐加水分解性などの物
性が低下する。
【0053】本発明においては、異なる温度での2段階
の工程により反応を行うことが好ましい。第1工程で
は、常圧下、好ましくは150〜300℃、より好まし
くは200〜300℃で加熱する。第2工程では、好ま
しくは200〜400℃、より好ましくは250〜35
0℃で加熱し、かつ減圧下(0.05〜1.0 torr)で
反応を行う。しかし、本発明は、上記2段階工程での反
応に限定されるものではなく、多段階の温度および減圧
度で反応させてもよいし、あるいは反応を通して同一温
度条件で反応させてもよい。
【0054】本発明においては、ポリカーボネートを出
発原料として用いる場合、第1工程では、ポリカーボネ
ートとジカルボン酸のジエステルとケイ素化合物との解
重合およびエステル交換反応が生起し、シロキサン系オ
リゴマーが生成する。第2工程では、減圧下で、さらに
エステル交換が進行し、高分子量のシロキサン系共重合
体が得られる。
【0055】ポリカーボネートの代わりにジオールのジ
カーボネートを出発原料として用いた場合は、第1工程
でジオールのジカーボネートとジカルボン酸のジエステ
ルとをエステル交換させると同時に、この生成物とケイ
素化合物とをエステル交換させて、シロキサン系オリゴ
マーを生成させる。さらに、第2工程で減圧下とするこ
とにより、高分子量のシロキサン系共重合体が得られ
る。
【0056】さらに、ジカルボン酸のジエステルを用い
ない場合は、第1工程でポリカーボネートおよび/また
はジオールのジカーボネートとケイ素化合物とのエステ
ル交換反応が生起し、第2工程で減圧下とすることによ
り、高分子量のシロキサン系共重合体が得られる。
【0057】本発明は、上記反応の途中の段階でビスカ
ーボネート化合物を添加することを特徴とする。
【0058】反応の途中の段階でビスカーボネート化合
物を添加することにより、エステル交換反応の反応性が
大幅に向上し、短時間で高分子量のシロキサン系共重合
体を与える。さらに、反応が短時間となるために、熱な
どによる副反応が抑制され、本来共重合体が有する十分
な物性(例えば、機械的特性、耐衝撃性、耐熱性、耐候
性)を発現し得る分子量および分子量分布を有するシロ
キサン系共重合体を与える。
【0059】本発明の製造方法において使用されるビス
カーボネート化合物の使用量に特に制限はないが、反応
性と物性(例えば、機械的特性、耐熱性、耐候性、耐薬
品性)のバランスから、ポリカーボネートに対して、好
ましくは2〜50モル%、より好ましくは5〜20モル
%使用される。ビスカーボネート化合物の使用量が、2
モル%未満の場合は、反応性の向上が十分ではなく、そ
して50モル%を越える場合は、生成するポリマーの物
性の低下が大きい。
【0060】ビスカーボネート化合物は、上記の反応の
途中であれば、任意の段階で添加され得る。反応性の向
上の効果の観点からは、上記の第1工程の途中で添加す
るのが好ましい。
【0061】ビスカーボネート化合物が反応性を向上さ
せる理由に関しては、反応系中に存在する活性の低い反
応末端とビスカーボネート化合物とが選択的に反応する
ことにより、反応性を向上させるものと考えられる。
【0062】本発明の製造方法においては、各反応成分
の使用量および反応条件を適宜調節することによって、
種々のシロキサン系共重合体を製造することができる。
すなわち、本発明の製造方法において、ジカルボン酸の
ジエステルを使用した場合、ポリカーボネートおよび/
またはジオールのジカーボネートの(繰り返し単位)1
モルに対して、ジカルボン酸のジエステルおよびケイ素
化合物を合計で1モル以上の割合で使用すると、カーボ
ネート部分は完全に反応し、その結果カーボネート部分
は消失し、ポリエステル−シロキサン系共重合体が生成
する。それに対して、ポリカーボネートおよび/または
ジオールのジカーボネートの(繰り返し単位)1モルに
対して、ジカルボン酸のジエステルおよびケイ素化合物
を合計で1モル未満の割合で使用すると、カーボネート
部分は完全には反応せず、その結果カーボネート部分が
残存するために、ポリエステルカーボネート−シロキサ
ン系共重合体が生成する。さらに、ジカルボン酸のジエ
ステルを使用しない場合には、ポリカーボネートおよび
/またはジオールのジカーボネートの(繰り返し単位)
1モルに対してケイ素化合物を1モル以上の割合で使用
すると、カーボネート部分は完全に反応し、その結果カ
ーボネート部分は消失し、ポリオール−シロキサン系共
重合体が生成する。それに対して、ポリカーボネートお
よび/またはジオールのジカーボネートの(繰り返し単
位)1モルに対してケイ素化合物を1モル未満の割合で
使用すると、カーボネート部分は完全に反応せず、その
結果カーボネート部分が残存するために、ポリカーボネ
ート−シロキサン系共重合体が生成する。
【0063】本発明において、適当な補助溶媒、例え
ば、ジフェニルエーテル、ビフェニル、置換されたシク
ロヘキサン、デカヒドロナフタレン、1,2,4,5−
テトラメチルベンゼンを用いてもよい。あるいは、生成
するポリマーと相溶化しない非溶剤、例えば、ポリ(フ
ッ化アルキレンオキシド)を用いてもよい。
【0064】本発明の製造方法により得られるシロキサ
ン系共重合体は、ペレット化(チップ化)してから成形
してもよく、あるいは押出機などを用いて所望の形状に
成形することもできる。
【0065】さらに、本発明の製造方法により得られる
シロキサン系共重合体は、公知の他の樹脂とブレンドす
ることも可能であり、かつ必要に応じて添加剤を加えて
もよい。
【0066】上記公知の他の樹脂としては、公知の熱可
塑性樹脂、熱硬化性樹脂、エラストマーなどが挙げら
れ、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レン、ポリメチルメタクリレート、ポリアミド、ポリカ
ーボネート、ポリエステル、ポリフェニレンオキシド、
ポリスルホンが挙げられる。
【0067】上記添加剤としては、上記触媒のほかに、
安定剤、顔料、染料、蛍光増白剤、核剤、重合促進剤、
充填剤、補強材(例えば、ガラス繊維、炭素繊維)など
を重合時あるいは生成したポリマーに添加することも可
能である。
【0068】さらに、本発明の製造方法により得られる
共重合体は、難燃性樹脂組成物の主成分として、あるい
は公知の他の樹脂の難燃性を向上させるための難燃剤と
して用いることができる。本発明の製造方法により得ら
れる共重合体を難燃性樹脂組成物の主成分として用いる
場合、組成物中、本発明の製造方法により得られる高分
子量の共重合体(重量平均分子量として、10000〜
300000程度が好ましい)を少なくとも30重量%
含有するのが好ましい。一方、本発明の製造方法により
得られる共重合体を難燃剤として用いる場合、組成物
中、本発明の製造方法により得られる低分子量の共重合
体(重量平均分子量として、2000〜20000程度
が好ましい)を1重量%から30重量%未満含有するの
が好ましい。本発明の製造方法により得られる共重合体
の分子量の調節は、触媒の量など公知の方法により調節
され得る。
【0069】発明の製造方法により得られるシロキサン
系共重合体は、難燃性、成形加工性、離型性および表面
滑性に優れており、さらに他の優れた特性を維持しつつ
難燃性に特に優れる。
【0070】本発明の製造方法により得られるシロキサ
ン系共重合体は、形状のある物品、繊維、フィラメン
ト、フィルムなどの製造のために幅広く使用できる。本
発明の製造方法により得られるシロキサン系共重合体
は、共重合体自身が有する優れた難燃性、成形加工性、
離型性および表面滑性を利用し、さらに高い耐熱性、強
靭性、耐加水分解性、耐クリープ性などが要求される物
品に好適である。例えば、家電分野、照明分野、および
自動車分野における物品に特に好適である。
【0071】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳し
く説明するが、本発明は下記実施例に限定されるもので
はなく、その要旨を変更しない範囲において、適宜変更
実施可能なものである。
【0072】なお、ポリマーの特性は以下に示す方法に
従って測定した。
【0073】(1)ポリマーの重量平均分子量(Mw) ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法
により測定した。Waters社製510型GPCシステムを
用いて、クロロホルムを移動相とし、ポリマー濃度2m
g/mlでカラム温度35℃にて測定した。ポリスチレ
ンを標準試料として用いて重量平均分子量を算出した。
【0074】(2)ポリマーのガラス転移温度(Tg) Perkin-Elmer社製DSC−7を用いて、窒素気流下、昇
温速度20℃/分の条件にて示差走査熱量測定を行っ
た。
【0075】(3)ポリマーのケイ素(Si)原子含有
量 ポリマーを硫酸で加熱後、炭酸ナトリウムおよび炭酸カ
ルシウムを加え、そして電気炉で加熱処理した後、IC
P(Inductively Coupled Plasma)発光分光分析法によ
り定量した。
【0076】(実施例1)撹拌翼、窒素導入口、冷却
管、および留出口を備えた内容積14Lの反応容器に、
ポリカーボネート(帝人化成(株)製、パンライトL−1
250W、Mv=25000)1271g(繰り返し単
位5.0モル)、ジメチルテレフタレート583g(3.
0モル)、ジメトキシジメチルシラン(東京化成工業
(株)製)361g(3.0モル)、ジブチルスズジアセ
テート585mg(1.7ミリモル)を仕込み、窒素置
換した後、窒素フローの状態で280℃に加熱した。1
時間そのままの温度で保持し、内容物を溶融させた。次
いで、撹拌翼の回転を開始し、60分間そのままの温度
で生成してくるジメチルカーボネートを還流させた。続
いて、300℃まで昇温し、1時間かけて留去口よりジ
メチルカーボネートを除去した。ビスフェノールAのビ
ス(フェニルカーボネート)234g(0.5モル)を
加え、そのままの温度で30分間撹拌した。反応系をゆ
っくりと減圧(30分で1 torr)にし、それと同時に
320℃まで昇温し、そのまま2時間保持した。撹拌停
止後、窒素により大気圧まで戻した後、反応混合物を取
り出し、ポリマーを得た。得られたポリマーを塩化メチ
レンに溶解し、大量のヘキサン中へ投入してポリマーを
再沈させることにより精製した。
【0077】得られたポリマーのIRスペクトルを図1
に示す。原料であるポリカーボネートには1775cm
-1にカーボネート結合に由来するC=O伸縮振動の吸収
が認められるが、得られたポリマーにはそのような吸収
は認められず、代わりにエステル結合に由来するC=O
伸縮振動の吸収が1745cm-1に確認された。また、
940cm-1にO−Si−R(芳香族)結合に由来する
Si−O伸縮振動の吸収が確認された。また、ポリマー
をアルカリ溶融したものをICP発光分光分析法により
分析すると、ケイ素(Si)原子含有量は3.4重量%
であった。これらの結果により、得られたポリマーはポ
リエステル−シロキサン系共重合体であることが示され
た。
【0078】得られたポリマーを上記(1)〜(3)の
試験に供し、特性を評価した。結果を表1に示す。
【0079】(比較例1)ビスフェノールAのビス(フ
ェニルカーボネート)を使用しなかった以外は、実施例
1と同様に行った。
【0080】得られたポリマーの物性値を表1に示す。
【0081】(実施例2)ビスフェノールAのビス(フ
ェニルカーボネート)の代わりに、ジフェニルカーボネ
ート107g(0.5モル)使用した以外は、実施例1
と同様に行った。同様の分析方法による結果により、得
られたポリマーはポリエステル−シロキサン共重合体で
あった。
【0082】得られたポリマーの物性値を表1に示す。
【0083】(実施例3)ジメチルテレフタレートを5
82g(3.0モル)、ジメトキシジメチルシランを1
20g(1.0モル)用いた以外は、実施例1と同様に
行った。
【0084】得られたポリマーのIRスペクトルを図2
に示す。得られたポリマーには1775cm-1にカーボ
ネート結合に由来するC=O伸縮振動の吸収が認めら
れ、かつエステル結合に由来するC=O伸縮振動の吸収
が1740cm-1に確認された。また、940cm-1
O−Si−R(芳香族)結合に由来するSi−O伸縮振
動の吸収が確認された。また、ポリマーをアルカリ溶融
したものをICP発光分光分析法により分析すると、ケ
イ素原子含有量は3.3重量%であった。これらの結果
により、得られたポリマーはポリエステルカーボネート
−シロキサン系共重合体であることが示された。
【0085】得られたポリマーの物性値を表1に示す。
【0086】(実施例4)ジメチルテレフタレートを使
用しなかった以外は、実施例1と同様に行った。
【0087】得られたポリマーのIRスペクトルを図3
に示す。得られたポリマーには、1775cm-1にカー
ボネート結合に由来するC=O伸縮振動の吸収が認めら
れ、940cm-1にO−Si−R(芳香族)結合に由来
するSi−O伸縮振動の吸収が確認された。また、ポリ
マーをアルカリ溶融したものをICP発光分光分析法に
より分析すると、ケイ素(Si)原子含有量は2.9重
量%であった。これらの結果により、得られたポリマー
はポリカーボネート−シロキサン系共重合体であること
が示された。
【0088】得られたポリマーの物性値を表1に示す。
【0089】
【表1】
【0090】上記表1の結果により、反応途中でのビス
カーボネート化合物の添加により得られたシロキサン系
共重合体は、反応途中でビスカーボネート化合物を添加
しない場合に比べて、分子量分布が狭く、数平均分子量
が大きいことがわかる。
【0091】
【発明の効果】本発明の製造方法により、十分な物性
(例えば、機械的特性、耐衝撃性、耐熱性、耐候性)を
発現し得る分子量および分子量分布を有するシロキサン
系共重合体を簡便かつ安価に製造することが可能であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1により得られたポリエステル−シロキ
サン系共重合体のIRスペクトル図である。
【図2】実施例3により得られたポリエステルカーボネ
ート−シロキサン系共重合体のIRスペクトル図であ
る。
【図3】実施例4により得られたポリカーボネート−シ
ロキサン系共重合体のIRスペクトル図である。

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エステル化またはエステル交換触媒の存
    在下、少なくとも1種のポリカーボネートおよび/また
    はジオールのジカーボネートと、必要に応じて少なくと
    も1種のジカルボン酸のジエステルと、ケイ素化合物と
    を反応させる、シロキサン系共重合体の製造方法であっ
    て、該ケイ素化合物が、以下の一般式(I)および/ま
    たは(II)で表される化合物からなる群から選択される
    少なくとも1種であり、そして該反応の途中でビスカー
    ボネート化合物が添加される、製造方法: 【化1】 【化2】 式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ独立して、
    水素原子、または、置換または非置換の有機基であり;
    XおよびYは、それぞれ独立して、水素原子、または、
    置換または非置換の有機基であり;aは、0〜5000
    の整数であり;そしてbは、3〜20の整数である。
  2. 【請求項2】 前記ビスカーボネート化合物が、以下の
    一般式(III)で表される、請求項1に記載の製造方
    法: 【化3】 式中、R5は、1〜20個の炭素原子を有する2価の炭
    化水素基;炭化水素基の水素原子の少なくとも一部が、
    ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基およびフェノ
    キシ基から選択される少なくとも1つで置換されている
    1〜20個の炭素原子を有する2価の炭化水素基;ある
    いはR7−X−R8(ここで、R7およびR8は、それぞれ
    独立して、6〜20個の炭素原子を有する2価の芳香族
    炭化水素基であり、Xは、単結合、-O-、-S-、-SO
    -、-SO2-、-CO-、および1〜20個の炭素原子を有
    する2価の炭化水素基からなる群から選択される)であ
    り; R6は、1〜20の炭素原子を有する炭化水素基で
    あり;そしてc、は0または1である。
  3. 【請求項3】 前記ビスカーボネート化合物が、ジフェ
    ニルカーボネート、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
    ニル)プロパンのビス(メチルカーボネート)、および
    2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンのビ
    ス(フェニルカーボネート)からなる群から選ばれる、
    請求項1または2に記載の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記ポリカーボネートが、以下の一般式
    (IV)で表される、請求項1〜3のいずれかに記載の製
    造方法: 【化4】 式中、R9は、1〜20個の炭素原子を有する2価の炭
    化水素基;炭化水素基の水素原子の少なくとも一部が、
    ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基、およびフェ
    ノキシ基からなる群から選択される少なくとも1つで置
    換されている1〜20個の炭素原子を有する2価の炭化
    水素基;あるいはR10−X−R11基(ここで、R10およ
    びR11は、それぞれ独立して、6〜20個の炭素原子を
    有する2価の芳香族炭化水素基であり、Xは、単結合、
    -O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、および1〜2
    0個の炭素原子を有する2価の炭化水素基からなる群か
    ら選択される)であり;そしてdは、10000以下の
    正の整数である。
  5. 【請求項5】 前記ジオールのジカーボネートが、以下
    の一般式(V)で表される、請求項1〜4のいずれかに
    記載の製造方法: 【化5】 式中、R12は、1〜20個の炭素原子を有する2価の炭
    化水素基;炭化水素基の水素原子の少なくとも一部が、
    ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基、およびフェ
    ノキシ基からなる群から選択される少なくとも1つで置
    換されている1〜20個の炭素原子を有する2価の炭化
    水素基;あるいはR14−X−R15(ここで、R14および
    15は、それぞれ独立して、6〜20個の炭素原子を有
    する2価の芳香族炭化水素基であり、Xは、単結合、-
    O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、および1〜20
    個の炭素原子を有する2価の炭化水素基からなる群から
    選択される)であり;そしてR13は、1〜20個の炭素
    原子を有する炭化水素基である。
  6. 【請求項6】 前記ジカルボン酸のジエステルが、以下
    の一般式(VI)で表される、請求項1〜5のいずれかに
    記載の製造方法: 【化6】 式中、R16は、1〜20個の炭素原子を有する2価の炭
    化水素基;炭化水素基の水素原子の少なくとも一部が、
    ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基、およびフェ
    ノキシ基からなる群から選択される少なくとも1つで置
    換されている1〜20個の炭素原子を有する2価の炭化
    水素基であり;そしてR17は、1〜20個の炭素原子を
    有する炭化水素基である。
  7. 【請求項7】 前記ケイ素化合物が、ジメチルポリシロ
    キサン、メチルフェニルポリシロキサン、ジメトキシジ
    メチルシラン、ジメトキシジフェニルシラン、オクタメ
    チルシクロテトラシロキサン、およびオクタフェニルシ
    クロテトラシロキサンからなる群から選ばれる、請求項
    1〜6のいずれかに記載の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記ポリカーボネートが、2,2’−ビ
    ス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンのポリカーボネ
    ートである、請求項1〜7のいずれかに記載の製造方
    法。
  9. 【請求項9】 前記ジオールのジカーボネートが、2,
    2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンのビス
    (メチルカーボネート)または2,2−ビス(4−ヒド
    ロキシフェニル)プロパンのビス(フェニルカーボネー
    ト)である、請求項1〜8に記載の製造方法。
  10. 【請求項10】 前記ジカルボン酸のジエステルが、テ
    レフタル酸ジメチル、イソフタル酸ジメチル、およびナ
    フタレン−2,6−ジカルボン酸ジメチルからなる群か
    ら選ばれる、請求項1〜9のいずれかに記載の製造方
    法。
  11. 【請求項11】 前記エステル化またはエステル交換触
    媒が、スズ系化合物である、請求項1〜10のいずれか
    に記載の製造方法。
  12. 【請求項12】 前記エステル化またはエステル交換触
    媒が、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウ
    ム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、亜鉛、カ
    ドミウム、チタン、ジルコニウム、スズ、アンチモン、
    鉛、マンガン、コバルトからなる群から選ばれる金属
    の、酢酸塩、炭酸塩、ホウ酸塩、酸化物、水酸化物、水
    素化物、アルコラート、およびフェノラートからなる群
    から選ばれる少なくとも1種である、請求項1〜10の
    いずれかに記載の製造方法。
  13. 【請求項13】 前記エステル化またはエステル交換触
    媒が、前記生成するシロキサン系共重合体100重量部
    に対して、0.0001〜1重量部使用される、請求項
    1〜12のいずれかに記載の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN116333465A (zh) * 2023-05-23 2023-06-27 北京助天科技集团有限公司 一种新型有机-无机复合材料、其制备方法及应用

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