JPH09231512A - 磁気ヘッドの製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 小さな磁気ギャップに対しても摺動面から容
易に観察できる磁気ヘッドの製法を提供する。 【解決手段】 磁気ギャップ形成の接合において、最終
的にヘッドの形になる部分以外のギャップ面１５の一部
あるいは全部を接合させないようにして、摺動面の円筒
研削で接合しない部分１７が臨む位置で一旦終了する。
この時点でギャップ部が黒色で視認され、磁気ヘッドを
ドラムにマウントする。次いで規定のギャップ深さまで
ラッピングする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばビデオテー
プレコーダ（ＶＴＲ）やデジタルデータレコーダ等の高
密度記録可能な磁気記録再生装置に搭載して有用な磁気
ヘッドの製法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えばＶＴＲ（ビデオテープレコーダ）
等の磁気記録再生装置においては、記録信号の高密度化
や高周波数化等が進められており、この高密度記録化に
対応して磁気記録媒体として磁性粉にＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ
等の強磁性金属の粉末を用いた所謂メタルテープや、強
磁性金属材料を蒸着によりベースフィルム上に被着した
所謂蒸着テープ等が使用されるようになっている。そし
て、この種の磁気記録媒体は高い残留磁束密度Ｂｒと高
い保磁力Ｈｃを有するために、記録再生に用いる磁気ヘ
ッドのヘッド材料にも高い飽和磁束密度Ｂｒと高い透磁
率を有することが要求されている。

【０００３】そこで従来、セラミックス等の非磁性基板
上に磁気コアとなる強磁性金属膜を被着形成し、これを
トラック部分とした積層型（所謂ラミネート型）の磁気
ヘッドが開発されている。

【０００４】図８〜図１０は、従来の積層型の磁気ヘッ
ドの製法例を示す。ここでは、磁気ヘッドのギャップ形
成プロセス前後について磁気ヘッドチップ一つに対して
図示する。

【０００５】先ず、図８に示すように、金属磁性膜２１
を挟んで両側に非磁性部材２２及び２３が配され、巻線
溝２４が形成されてなる１対の磁気コア半体２５及び２
６を、その磁気コア半体２５，２６のギャップ面にギャ
ップ材、例えば接合材を兼ねるメタルギャップ（具体例
としてＣｒ及びＡｕをスパッタリングした後、熱処理し
て得られる非磁性メタル膜）を介して接合する。

【０００６】このとき、図１０Ａ及びＢに示すように、
磁気コア半体２５，２６のギャップ面２８の全体、即ち
斜線部分の全体を接合する。

【０００７】次いで、図９に示すように磁気ギャップｇ
の深さ（いわゆるギャップデプス）Ｄ₀ が規定の寸法に
なるまで円筒研削し、破線で示す不要部分２９を除去
し、積層型の磁気ヘッド３０を得ている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
積層型の磁気ヘッドにおいては、短波長記録化にともな
い磁気ギャップが非常に小さくなってきており、摺動面
３１から磁気ギャップｇを見たとき磁気ギャップｇが見
えにくくなっててきいる。ドラムに磁気ヘッド３０をマ
ウントする時には精度上の問題からギャップ位置を把握
する必要があるが、磁気ギャップｇが見え難いことから
ギャップ位置の把握ができず問題となっている。

【０００９】通常のフェライトヘッドのように摺動面か
ら見てコアが絞りこんであるときは直接ギャップが見え
なくても絞りこみの形状から把握できるが、特に積層型
ヘッドのように磁気ギャップ部と磁気ギャップ部以外の
形状に差が小さいときは、磁気ギャップｇを直接見てギ
ャップ位置を判断するしかなく、磁気ギャップｇが見え
難いということは問題である。

【００１０】特に、ギャップ材として非磁性メタル、例
えばクロム（Ｃｒ）及び金（Ａｕ）をスパッタ等により
被着し、熱処理してなるメタル膜を用いたときには、特
に磁気ギャップｇが見え難い。

【００１１】本発明は、上述の従来のものの有する欠点
を解消するために提案されたものであって、通常は磁気
ギャップが小さくて磁気ギャップが見え難い磁気ヘッド
でもドラムに磁気ヘッドをマウントしやすいようにギャ
ップ位置を判り易くするようにした磁気ヘッドの製法を
提供するものである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明に係る磁気ヘッドの製法は、磁気ギャップ
形成の接合において、最終的にヘッドの形になる部分以
外のギャップ面の一部あるいは全部を接合させないこと
を特徴とする。

【００１３】本発明においては、通常では見えないほど
磁気ギャップが小さい磁気ヘッドにおいても、ギャップ
位置が確認できドラムに磁気ヘッドを精度よくマウント
できる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例について詳細に説明する。

【００１５】先ず、本実施例の磁気ヘッドの構成につい
て説明する。本例の磁気ヘッド１は、図１に示すよう
に、金属磁性膜２の両側に例えば非磁性フェライト、セ
ラミックス、結晶化ガラス等による非磁性部材３及び４
が配された磁気コア半体５と、同様に金属磁性膜２の両
側に非磁性部材３及び４が配された磁気コア半体６と
を、その両金属磁性膜２，２が突き合されるようにギャ
ップ材を介して接合合体し、そのギャップ材において磁
気ギャップｇを形成して構成される。７はその巻線孔を
示す。

【００１６】上記金属磁性膜２は、各種強磁性材料の他
に、例えば高飽和磁束密度を有し、かつ軟磁気特性に優
れた強磁性合金材料が使用されるが、かかる強磁性合金
材料としては従来より公知の物がいずれも使用でき、結
晶質、非晶質であるかを問わない。

【００１７】例示するならば、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合
金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ
−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−
Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ系合金、Ｆｅ−Ｓ
ｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系合金
等が挙げられる。

【００１８】さらには、耐蝕性や耐摩耗性等の一層の向
上を図るために、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍ
ｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｒｅ，Ｎｉ，
Ｐｄ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖ等の少くとも一種を添加したもの
であってもよい。

【００１９】また、強磁性非晶質金属合金、いわゆるモ
ルファス合金（例えば、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏの１つ以上の
元素とＰ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの１つ以上の元素とからなる合
金、またはこれらを主成分としてＡｌ，Ｇｅ，Ｂｅ，Ｓ
ｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｈｆ，
Ｎｂ等を含んだ合金等のメタル−メタロイド系アモルフ
ァス合金、あるいはＣｏ，Ｈｆ，Ｚｒ等の遷移元素や希
土類元素等を主成分とするメタル−メタル系アモルファ
ス合金）等が挙げられる。

【００２０】金属磁性膜２の成膜方法としては、膜厚制
御性に優れるスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプ
レーティング法、イオンビーム法等に代表される真空薄
膜形成技術が採用される。さらには、メッキ技術によっ
て成膜されてもよい。

【００２１】なお、上記非磁性部材３，４に成膜する金
属磁性膜２は、高周波帯域での渦電流損失を回避するた
めに、金属磁性膜と絶縁層を交互に何層にも積層した、
いわゆる積層膜でもよい。

【００２２】次に、本発明に係る上記磁気ヘッドの製造
方法の実施例について説明する。ここでは、磁気ギャッ
プ形成工程の前後について磁気ヘッド１つに対して図示
する。

【００２３】図２に示すように、金属磁性膜２を挟んで
両側に非磁性部材３及び４が配され、巻線溝４が形成さ
れた１対の磁気コア５及び６を、その磁気コア半体５及
び６のギャップ面にギャップ材を介して接合して磁気ヘ
ッドチップ１１を得る。実際は、図示せざるも、金属磁
性膜２を挟んで両側に非磁性部材３及び４が配された１
対のコア半体ブロックをギャップ材を介して接合した
後、各チップ毎に切断して図２に示すような磁気ヘッド
チップ１１を得る。

【００２４】接合材は、ギャップ材を兼ねてもよい。本
例では接合材を兼ねるギャップ材として非磁性のメタル
ギャップ材、例えばＣｒ及びＡｕをスパッタリングで被
着した後、熱処理してなる非磁性メタル膜を用いること
ができる。

【００２５】この接合に際して、本発明においては、特
に、例えは図５Ａ，Ｂに示すように、最終的に磁気ヘッ
ドのギャップとなる部分１２，１３のみを接合するよう
に斜線部分において接合する。即ち、例えば同図示のよ
うに、磁気コア半体５，６のギャップ面１５に対しフロ
ントギャップ及びバックギャップとなる部分１２及び１
３のみに例えば接合材を兼ねる非磁性メタルギャップ材
（斜線部分参照）を被着し、フロントギャップ１２の上
部の全部１６には非磁性のメタルギャップ材を被着しな
いようにして接合合体する。

【００２６】または、図６Ａ，Ｂに示すように、最終的
にギャップとなる部分１２の上部一部１７を接合しない
ようにして斜線部分において、一対の磁気コア半体５及
び６を接合する。即ち、例えば同図示のように、磁気コ
ア半体５及び６のギャップ面１５に対して最終的にフロ
ントギャップ１２となる部分の上部一部１７を除いて、
他部全体に例えば接合材を兼ねる非磁性のメタルギャッ
プ材（斜線部分参照）を被着形成し、接合合体する。

【００２７】さらには、図７Ａ，Ｂに示すように最終的
に磁気ギャップとなる部分の上部一部のいわゆる接合さ
せたくない部分を例えばエッチング手段等によりギャッ
プ面１５から後退する凹部１９として形成し、１対の磁
気コア半体５及び６を接合合体する。この場合、凹部１
９に接合材等が充填され、結果的に接合されてもよい。

【００２８】上記のように１対の磁気コア半体５及び６
を一部接合しない部分を有するように接合合体して、図
２に示す磁気ヘッドチップ１１を形成した後、円筒研削
を規定のギャップ深さＤ₀ より少ない位置まで行う。即
ち、接合されない部分が臨む位置ｘ₁ まで円筒研削して
不要部分１８を削除し、図３に示す磁気ヘッド８を形成
する。

【００２９】このように接合されない部分を残すように
研削して作製された磁気ヘッド８は、ギャップ長が小さ
くても、摺動面から接合部を観察したとき、ギャップ部
ｇが黒色に見え、そのギャップ位置が視認できる。

【００３０】この磁気ヘッド８をドラムにマウントした
後、ラッピングテープにより所望のギャップ深さＤ₀ ま
でラッピングし、破線で示す不要部分１８′を除去する
ことで、図４に示すように、規定のギャップ深さＤ₀ の
目的の磁気ヘッド８が得られる。

【００３１】本実施例の磁気ヘッドの製法よれば、最終
的に磁気ギャップ１２となる部分上に接合されない部分
１６，１７又は１９が存在するように１対の磁気コア半
体５及び６を接合合体し、その後、接合される部分１
６，１７又は１９が臨むように規定のギャップ深さＤ₀
より少なく（即ち位置ｘ₁ まで）円筒研削して、一旦磁
気ヘッド８を作製することにより、小さい磁気ギャップ
に対しても、そのギャップ位置を容易に視認することが
でき、磁気ヘッド８のドラムへのマウントを容易にする
ことができる。

【００３２】

【発明の効果】本発明に係る磁気ヘッドの製法によれ
ば、通常では見えにくいほど磁気ギャップが小さい磁気
ヘッドにおいても、摺動面から磁気ギャップが黒色に見
え、ギャップ位置を容易に確認できる。従って、ドラム
に対して磁気ヘッドを精度よくマウントすることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気ヘッドの一例を示す斜視
図である。

【図２】本発明に係る磁気ヘッドの製法の実施例を示す
製造工程図である。

【図３】本発明に係る磁気ヘッドの製法の実施例を示す
製造工程図である。

【図４】本発明に係る磁気ヘッドの製法の実施例を示す
製造工程図である。

【図５】Ａ 本発明に係る磁気ヘッドの製法の一例を示
す磁気ヘッドコアの斜視図である。 Ｂ そのギャップ面の接合される部分を斜線で示す側面
図である。

【図６】Ａ 本発明に係る磁気ヘッドの製法の他の例を
示す磁気ヘッドコアの斜視図である。 Ｂ そのギャップ面の接合される部分を斜線で示す側面
図である。

【図７】Ａ 本発明に係る磁気ヘッドの製法の他の例を
示す磁気ヘッドコアの斜視図である。 Ｂ そのギャップ面の接合される部分を斜線で示す側面
図である。

【図８】従来の磁気ヘッドの製法例を示す製造工程図で
ある。

【図９】従来の磁気ヘッドの製法例を示す製造工程図で
ある。

【図１０】Ａ 従来例に係る磁気ヘッドコアの斜視図で
ある。 Ｂ そのギャップ面の接合される部分を斜線で示す側面
図である。

【符号の説明】

１ 積層型磁気ヘッド、２ 金属磁性膜、３，４ 非磁
性部材、５，６ 磁気コア半体、７ 巻線溝、１１ 磁
気コアチップ、１２ フロントギャップとなる部分、１
３ バックギャップとなる部分、１５ ギャップ面、１
６，１７，１９接合される部分

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁気ギャップ形成の接合において、最終
   的にヘッドの形になる部分以外のギャップ面の一部ある
   いは全部を接合させないことを特徴とする磁気ヘッドの
   製法。