JPH09162118A - 基板用処理液の脱気装置 - Google Patents
基板用処理液の脱気装置Info
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- JPH09162118A JPH09162118A JP7346459A JP34645995A JPH09162118A JP H09162118 A JPH09162118 A JP H09162118A JP 7346459 A JP7346459 A JP 7346459A JP 34645995 A JP34645995 A JP 34645995A JP H09162118 A JPH09162118 A JP H09162118A
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- JP
- Japan
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- hot water
- substrate
- permeation
- degassing
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D19/00—Degasification of liquids
- B01D19/0031—Degasification of liquids by filtration
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 温度調節機能を有する脱気装置を提供する。
【解決手段】 液体の透過を防止しつつ気体の透過を許
容する気体透過膜で区切られた流路に沿って処理液と温
水とをそれぞれ流動させるための気体透過管４６を設け
る。そして、温度調節器５０によって気体透過管４６に
供給する温水の温度調節を行なうとともに、気体吸引ポ
ンプ７０によって温水中から気体を吸引する。
容する気体透過膜で区切られた流路に沿って処理液と温
水とをそれぞれ流動させるための気体透過管４６を設け
る。そして、温度調節器５０によって気体透過管４６に
供給する温水の温度調節を行なうとともに、気体吸引ポ
ンプ７０によって温水中から気体を吸引する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウェハや
液晶表示装置用のガラス基板等の各種の基板の表面を処
理するための処理液（現像液、レジスト液等の薬液）を
脱気する装置に関する。
液晶表示装置用のガラス基板等の各種の基板の表面を処
理するための処理液（現像液、レジスト液等の薬液）を
脱気する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】回転式基板処理装置において基板を処理
する際には、基板を水平姿勢に保持して回転させなが
ら、処理液を吐出ノズルから基板上に吐出する。この
際、基板上に処理液を均一に塗布することが望ましい。
する際には、基板を水平姿勢に保持して回転させなが
ら、処理液を吐出ノズルから基板上に吐出する。この
際、基板上に処理液を均一に塗布することが望ましい。
【０００３】処理液内に気体が混入したり溶存したりし
ている場合には、基板上に処理液が塗布された際に気泡
が発生する場合がある。気泡が発生すると、処理が均一
でなくなり、処理ムラが発生するという不具合が生じ
る。これは、例えば、基板の現像処理を行なう場合に顕
著である。このような不具合を防止するために、処理液
を回転式基板処理装置に供給する前に脱気する必要があ
る。
ている場合には、基板上に処理液が塗布された際に気泡
が発生する場合がある。気泡が発生すると、処理が均一
でなくなり、処理ムラが発生するという不具合が生じ
る。これは、例えば、基板の現像処理を行なう場合に顕
著である。このような不具合を防止するために、処理液
を回転式基板処理装置に供給する前に脱気する必要があ
る。
【０００４】一方、処理液による処理を適切に行なうた
めには処理液の温度を調節する必要がある。すなわち、
処理液の供給装置としては、処理液の脱気と温度調節と
が必要である。
めには処理液の温度を調節する必要がある。すなわち、
処理液の供給装置としては、処理液の脱気と温度調節と
が必要である。
【０００５】図２は、従来の処理液供給装置の構成を示
す概念図である。この処理液供給装置は、温水で処理液
の温度を調節する温度調節装置１０と、脱気装置２０と
を直列に接続したものである。
す概念図である。この処理液供給装置は、温水で処理液
の温度を調節する温度調節装置１０と、脱気装置２０と
を直列に接続したものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来の処理液供給装置
では、温度調節装置と脱気装置とを別個に設けていたの
で、処理液の配管長が長くなり、装置の内のスペースを
多くとり、装置の大型化を招くという問題があった。さ
らに処理液の配管長が長くなると、送液のために圧力を
高くする必要があり、そのためエアーの溶存量が多くな
りすぎるという欠点も生じる。
では、温度調節装置と脱気装置とを別個に設けていたの
で、処理液の配管長が長くなり、装置の内のスペースを
多くとり、装置の大型化を招くという問題があった。さ
らに処理液の配管長が長くなると、送液のために圧力を
高くする必要があり、そのためエアーの溶存量が多くな
りすぎるという欠点も生じる。
【０００７】この発明は、従来技術における上述の課題
を解決するためになされたものであり、温度調節機能を
有する脱気装置を提供することを目的とする。
を解決するためになされたものであり、温度調節機能を
有する脱気装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】上
述の課題の少なくとも一部を解決するため、第１の発明
は、基板用の処理液を脱気する装置において、液体の透
過を防止しつつ気体の透過を許容する気体透過膜で区切
られた流路に沿って処理液と温水とをそれぞれ流動させ
るための気体透過管を設け、前記気体透過管に供給する
温水の温度調節を行なうとともに前記温水中から気体を
吸引する、ことを特徴とする。
述の課題の少なくとも一部を解決するため、第１の発明
は、基板用の処理液を脱気する装置において、液体の透
過を防止しつつ気体の透過を許容する気体透過膜で区切
られた流路に沿って処理液と温水とをそれぞれ流動させ
るための気体透過管を設け、前記気体透過管に供給する
温水の温度調節を行なうとともに前記温水中から気体を
吸引する、ことを特徴とする。
【０００９】気体透過管において熱交換が行なわれるの
で、処理液が一定温度に調節される。また、温水中から
は気体が吸引されているので、気体透過管で熱交換が行
なわれる際に、処理液の脱気も同時に達成される。
で、処理液が一定温度に調節される。また、温水中から
は気体が吸引されているので、気体透過管で熱交換が行
なわれる際に、処理液の脱気も同時に達成される。
【００１０】第２の発明は、基板用の処理液を脱気する
装置において、液体の透過を防止しつつ気体の透過を許
容する気体透過膜で区切られた流路に沿って処理液と温
水とをそれぞれ流動させるための気体透過管と、前記温
水の温度を調整する温度調節手段と、前記温水中から気
体を吸引する気体吸引手段と、前記気体透過管に前記温
水を供給する温水供給手段と、を備えることを特徴とす
る。
装置において、液体の透過を防止しつつ気体の透過を許
容する気体透過膜で区切られた流路に沿って処理液と温
水とをそれぞれ流動させるための気体透過管と、前記温
水の温度を調整する温度調節手段と、前記温水中から気
体を吸引する気体吸引手段と、前記気体透過管に前記温
水を供給する温水供給手段と、を備えることを特徴とす
る。
【００１１】温水は、温度調節手段で温度調節されると
ともに、気体吸引手段で脱気される。気体透過管は、液
体の透過を防止しつつ気体の透過を許容する気体透過膜
で形成されているので、気体透過管の両側の流路に処理
液と温水とをそれぞれ流動させると、処理液が一定温度
に調節されるとともに処理液の脱気も同時に行なわれ
る。
ともに、気体吸引手段で脱気される。気体透過管は、液
体の透過を防止しつつ気体の透過を許容する気体透過膜
で形成されているので、気体透過管の両側の流路に処理
液と温水とをそれぞれ流動させると、処理液が一定温度
に調節されるとともに処理液の脱気も同時に行なわれ
る。
【００１２】上記第２の発明において、前記温水供給手
段は、前記温水を貯蔵するためのタンクであって、タン
ク内の温水の水面上に形成される気体空間に通ずるノズ
ルを備えるタンクと、前記タンク内に貯蔵された温水を
前記気体透過管と前記タンクとの間で循環させる循環ポ
ンプと、を備え、前記吸引手段は、前記ノズルから前記
タンクの外部に気体を吸引する吸引ポンプを備えること
が好ましい。
段は、前記温水を貯蔵するためのタンクであって、タン
ク内の温水の水面上に形成される気体空間に通ずるノズ
ルを備えるタンクと、前記タンク内に貯蔵された温水を
前記気体透過管と前記タンクとの間で循環させる循環ポ
ンプと、を備え、前記吸引手段は、前記ノズルから前記
タンクの外部に気体を吸引する吸引ポンプを備えること
が好ましい。
【００１３】こうすれば、簡単な構成で温水の脱気を容
易に実現できる。
易に実現できる。
【００１４】また、前記気体透過管は、複数本の中空糸
膜で構成されていることが好ましい。
膜で構成されていることが好ましい。
【００１５】中空糸膜は、液体の透過を防止しつつ気体
の透過を許容する気体透過膜として機能し、また、熱交
換用の管路としての機能も有しているので、気体透過管
として良好である。
の透過を許容する気体透過膜として機能し、また、熱交
換用の管路としての機能も有しているので、気体透過管
として良好である。
【００１６】
【発明の他の態様】この発明は、以下のような他の態様
も含んでいる。第１の態様は、基板用の処理液を脱気す
る方法において、液体の透過を防止しつつ気体の透過を
許容する気体透過膜で区切られた流路に沿って処理液と
温水とをそれぞれ流動させるための気体透過管を設け、
前記気体透過管に供給する温水の温度調節を行なうとと
もに前記温水中から気体を吸引する、ことを特徴とす
る。
も含んでいる。第１の態様は、基板用の処理液を脱気す
る方法において、液体の透過を防止しつつ気体の透過を
許容する気体透過膜で区切られた流路に沿って処理液と
温水とをそれぞれ流動させるための気体透過管を設け、
前記気体透過管に供給する温水の温度調節を行なうとと
もに前記温水中から気体を吸引する、ことを特徴とす
る。
【００１７】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を実施
例に基づき説明する。図１は、この発明の実施例である
脱気装置３０の構成を示す概念図である。この脱気装置
３０は、脱気モジュール４０と、温度調節器５０と、温
水タンク６０と、気体吸引ポンプ７０とを備えている。
例に基づき説明する。図１は、この発明の実施例である
脱気装置３０の構成を示す概念図である。この脱気装置
３０は、脱気モジュール４０と、温度調節器５０と、温
水タンク６０と、気体吸引ポンプ７０とを備えている。
【００１８】温水タンク６０の内部には、温水を脱気モ
ジュール４０と温水タンク６０との間で循環させるため
の循環ポンプ６２が設けられている。温水タンク６０内
の温水の温度は、図示しない温度検出器とヒータとを備
えた温度調節器５０によって適度な温度に調節されてい
る。温水タンク６０には、温水の水面上に一定以上の気
体空間ＡＣが形成される程度に温水が貯蔵される。この
気体空間ＡＣの位置にはノズル６４が設けられ、このノ
ズル６４が気体吸引ポンプ７０の吸気口に接続されてい
る。
ジュール４０と温水タンク６０との間で循環させるため
の循環ポンプ６２が設けられている。温水タンク６０内
の温水の温度は、図示しない温度検出器とヒータとを備
えた温度調節器５０によって適度な温度に調節されてい
る。温水タンク６０には、温水の水面上に一定以上の気
体空間ＡＣが形成される程度に温水が貯蔵される。この
気体空間ＡＣの位置にはノズル６４が設けられ、このノ
ズル６４が気体吸引ポンプ７０の吸気口に接続されてい
る。
【００１９】気体吸引ポンプ７０を運転すると、温水タ
ンク６０の気体空間ＡＣ内の気体が外部に排出されるの
で、気体空間ＡＣが減圧状態となる。この結果、温水タ
ンク６０内の温水中に混入または溶存している気体が排
出される。なお、気体空間ＡＣの圧力は、約２００〜約
６００ｍｍＨｇにすることが好ましい。このような圧力
を実現するために、気体吸引ポンプ７０として、アスピ
レータ（気体吸引器）を用いることができる。これから
解るように、本発明における気体吸引ポンプは、必ずし
も「ポンプ」と呼ばれる手段である必要はなく、気体を
吸引するための種々の手段を利用することができる。
ンク６０の気体空間ＡＣ内の気体が外部に排出されるの
で、気体空間ＡＣが減圧状態となる。この結果、温水タ
ンク６０内の温水中に混入または溶存している気体が排
出される。なお、気体空間ＡＣの圧力は、約２００〜約
６００ｍｍＨｇにすることが好ましい。このような圧力
を実現するために、気体吸引ポンプ７０として、アスピ
レータ（気体吸引器）を用いることができる。これから
解るように、本発明における気体吸引ポンプは、必ずし
も「ポンプ」と呼ばれる手段である必要はなく、気体を
吸引するための種々の手段を利用することができる。
【００２０】脱気モジュール４０は、両端に設けられた
フランジ４１，４２と、フランジ４１，４２の間に設け
られた円筒管４３と、円筒管４３内に設けられた多数の
気体透過管４６とを備えている。気体透過管４６は、液
体の透過を防止しつつ気体の透過を許容する気体透過膜
を用いて形成されている。気体透過管４６としては、例
えば、耐処理液性（耐薬液性）を有する樹脂（例えば四
フッ化エチレン樹脂）で形成された中空糸膜を用いるこ
とができる。中空糸膜は、液体の透過を防止しつつ気体
の透過を許容する気体透過膜として機能し、また、熱交
換用の管路としての機能も有しているので、気体透過管
４６として良好である。
フランジ４１，４２と、フランジ４１，４２の間に設け
られた円筒管４３と、円筒管４３内に設けられた多数の
気体透過管４６とを備えている。気体透過管４６は、液
体の透過を防止しつつ気体の透過を許容する気体透過膜
を用いて形成されている。気体透過管４６としては、例
えば、耐処理液性（耐薬液性）を有する樹脂（例えば四
フッ化エチレン樹脂）で形成された中空糸膜を用いるこ
とができる。中空糸膜は、液体の透過を防止しつつ気体
の透過を許容する気体透過膜として機能し、また、熱交
換用の管路としての機能も有しているので、気体透過管
４６として良好である。
【００２１】第１のフランジ４１に配管４４から供給さ
れた処理液は、多数の気体透過管４６の内部を通過し、
第２のフランジ４２から配管４５へ流出する。配管４５
へ流出した処理液は、回転式基板処理装置（スピンナ）
に供給される。
れた処理液は、多数の気体透過管４６の内部を通過し、
第２のフランジ４２から配管４５へ流出する。配管４５
へ流出した処理液は、回転式基板処理装置（スピンナ）
に供給される。
【００２２】円筒管４３の内部であって気体透過管４６
の外部側は、循環ポンプ６２から供給された温水が流れ
るための流路となっている。気体透過管４６の内側の流
路を流れる処理液は、その外側を流れる温水によって適
切な温度に調節される。また、温水タンク６０内の温水
は気体吸引ポンプ７０によって予め脱気されているの
で、処理液中に混入または溶存している気体は、気体透
過管４６の気体透過膜を通して温水側に排出される。
の外部側は、循環ポンプ６２から供給された温水が流れ
るための流路となっている。気体透過管４６の内側の流
路を流れる処理液は、その外側を流れる温水によって適
切な温度に調節される。また、温水タンク６０内の温水
は気体吸引ポンプ７０によって予め脱気されているの
で、処理液中に混入または溶存している気体は、気体透
過管４６の気体透過膜を通して温水側に排出される。
【００２３】このように、上記実施例では、気体透過管
４６で区切られる２つの流路の一方に沿って処理液を流
通させ、他方の流路に沿って脱気した温水を流通させる
ことによって、処理液を昇温させると同時に、処理液中
の気体を排出することができる。換言すれば、温度調節
機能と脱気機能とを１つの装置で実現することができ
る。この結果、処理液配管の配管長を従来に比べて短縮
することができ、また、処理液供給装置全体のサイズを
小さくすることができる。また、配管長を短くできるこ
とで、処理液の送液のための圧力を低く設定することが
でき、そのため処理液中のエアーの溶存量を低く抑える
ことができ、確実に脱気することができる。また、温水
タンク６０の上部に気体空間ＡＣを設け、この気体空間
ＡＣから気体吸引ポンプ７０で温水中の気体を吸引する
ことによって温水を脱気するようにしたので、簡単な構
成で脱気を行なうことができる。
４６で区切られる２つの流路の一方に沿って処理液を流
通させ、他方の流路に沿って脱気した温水を流通させる
ことによって、処理液を昇温させると同時に、処理液中
の気体を排出することができる。換言すれば、温度調節
機能と脱気機能とを１つの装置で実現することができ
る。この結果、処理液配管の配管長を従来に比べて短縮
することができ、また、処理液供給装置全体のサイズを
小さくすることができる。また、配管長を短くできるこ
とで、処理液の送液のための圧力を低く設定することが
でき、そのため処理液中のエアーの溶存量を低く抑える
ことができ、確実に脱気することができる。また、温水
タンク６０の上部に気体空間ＡＣを設け、この気体空間
ＡＣから気体吸引ポンプ７０で温水中の気体を吸引する
ことによって温水を脱気するようにしたので、簡単な構
成で脱気を行なうことができる。
【００２４】また、上記実施例では、円筒管４３内に多
数の気体透過管４６を備えているので、気体透過管４６
を介しての温水と処理液との接する面積が増加し、熱交
換をスムーズに行うことができ、処理液の温度調節に要
する時間を短縮することができる。
数の気体透過管４６を備えているので、気体透過管４６
を介しての温水と処理液との接する面積が増加し、熱交
換をスムーズに行うことができ、処理液の温度調節に要
する時間を短縮することができる。
【００２５】なお、この発明は上記の実施例や実施形態
に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲に
おいて種々の態様において実施することが可能であり、
例えば次のような変形も可能である。
に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲に
おいて種々の態様において実施することが可能であり、
例えば次のような変形も可能である。
【００２６】（１）上記実施例では、気体透過管４６の
内部の流路を処理液が通過し、外部の流路を温水が通過
するものとしたが、これを逆にすることも可能である。
内部の流路を処理液が通過し、外部の流路を温水が通過
するものとしたが、これを逆にすることも可能である。
【図１】この発明の実施例である脱気装置３０の構成を
示す概念図。
示す概念図。
【図２】従来の処理液供給装置の構成を示す概念図。
１０…温度調節装置 ２０…脱気装置 ３０…脱気装置 ４０…脱気モジュール ４１，４２…フランジ ４３…円筒管 ４４，４５…ノズル ４６…気体透過管 ５０…温度調節器 ６０…温水タンク ６２…循環ポンプ ６４…ノズル ７０…気体吸引ポンプ
Claims (4)
- 【請求項１】 基板用の処理液を脱気する装置におい
て、 液体の透過を防止しつつ気体の透過を許容する気体透過
膜で区切られた流路に沿って処理液と温水とをそれぞれ
流動させるための気体透過管を設け、 前記気体透過管に供給する温水の温度調節を行なうとと
もに前記温水中から気体を吸引する、ことを特徴とする
基板用処理液の脱気装置。 - 【請求項２】 基板用の処理液を脱気する装置におい
て、 液体の透過を防止しつつ気体の透過を許容する気体透過
膜で区切られた流路に沿って処理液と温水とをそれぞれ
流動させるための気体透過管と、 前記温水の温度を調整する温度調節手段と、 前記温水中から気体を吸引する気体吸引手段と、 前記気体透過管に前記温水を供給する温水供給手段と、
を備えることを特徴とする基板用処理液の脱気装置。 - 【請求項３】 請求項２記載の基板用処理液の脱気装置
であって、 前記温水供給手段は、 前記温水を貯蔵するためのタンクであって、タンク内の
温水の水面上に形成される気体空間に通ずるノズルを備
えるタンクと、 前記タンク内に貯蔵された温水を前記気体透過管と前記
タンクとの間で循環させる循環ポンプと、を備え、 前記吸引手段は、 前記ノズルから前記タンクの外部に気体を吸引する吸引
ポンプを備える、基板処理液の脱気装置。 - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかに記載の基
板用処理液の脱気装置であって、 前記気体透過管は、複数本の中空糸膜で構成されてい
る、基板処理液の脱気装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7346459A JPH09162118A (ja) | 1995-12-11 | 1995-12-11 | 基板用処理液の脱気装置 |
| US08/761,246 US5788742A (en) | 1995-12-11 | 1996-12-06 | Method and apparatus for degassing processing solution for substrates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7346459A JPH09162118A (ja) | 1995-12-11 | 1995-12-11 | 基板用処理液の脱気装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09162118A true JPH09162118A (ja) | 1997-06-20 |
Family
ID=18383574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7346459A Pending JPH09162118A (ja) | 1995-12-11 | 1995-12-11 | 基板用処理液の脱気装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5788742A (ja) |
| JP (1) | JPH09162118A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006528835A (ja) * | 2003-07-24 | 2006-12-21 | カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー | マイクロリソグラフィ投影露光装置および浸漬液体を浸漬空間へ導入する方法 |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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