JPS60255120A - 脱気用装置 - Google Patents
脱気用装置Info
- Publication number
- JPS60255120A JPS60255120A JP11258684A JP11258684A JPS60255120A JP S60255120 A JPS60255120 A JP S60255120A JP 11258684 A JP11258684 A JP 11258684A JP 11258684 A JP11258684 A JP 11258684A JP S60255120 A JPS60255120 A JP S60255120A
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- JP
- Japan
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- vacuum chamber
- liquid
- temp
- dissolved
- eluted
- Prior art date
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D19/00—Degasification of liquids
- B01D19/0063—Regulation, control including valves and floats
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は液体中に溶存する気体を除去する脱気用装置に
関し、さらに詳しくは液体クロマトグラフによる分析に
おいて、試料および溶it液中に溶存する空気を除去す
る脱気用装置に関する。
関し、さらに詳しくは液体クロマトグラフによる分析に
おいて、試料および溶it液中に溶存する空気を除去す
る脱気用装置に関する。
従来技術
液体クロマトグラフにより分離、分析を行なう場合、そ
の分析性能を向上させるため、試料および溶離液中の溶
存空気を除去する脱気用装置が使用されるようになって
きた。
の分析性能を向上させるため、試料および溶離液中の溶
存空気を除去する脱気用装置が使用されるようになって
きた。
一般に上記脱気用装置Aは、第2図にそのフローを示す
ように、スパイラルチューブ状高分子膜1が内蔵された
真空チャンバ2と、この真空度を検出して、制御回路3
を介して、上記真空チャンバ2の内圧を低下させる真空
ポンプ4を始動或いは停止させる圧力センサ5によって
構成されている。
ように、スパイラルチューブ状高分子膜1が内蔵された
真空チャンバ2と、この真空度を検出して、制御回路3
を介して、上記真空チャンバ2の内圧を低下させる真空
ポンプ4を始動或いは停止させる圧力センサ5によって
構成されている。
上記脱気用装置Aによって溶離液6等の溶存する空気を
除去する場合には、真空チャンバ2の内圧を所定の範囲
の減圧状態に保持しながら、溶離液6をチューブ状高分
子膜内を所定速度で通過させることにより溶存空気をチ
ューブ状高分子膜1゜を通して真空チャンバ2内に拡散
させ除去し、空気の除去された溶離液6を液体クロマト
グラフ7に供給している。
除去する場合には、真空チャンバ2の内圧を所定の範囲
の減圧状態に保持しながら、溶離液6をチューブ状高分
子膜内を所定速度で通過させることにより溶存空気をチ
ューブ状高分子膜1゜を通して真空チャンバ2内に拡散
させ除去し、空気の除去された溶離液6を液体クロマト
グラフ7に供給している。
従来技術の問題点
ところで、上記脱気用装置によって溶存する空気を除去
する速度は相当の幅で変動し、残存空気濃度は一定せず
、そのため液体クロマトグラフの性能が安定しないばか
りでなく、十分な除去が行なわれないことがあった。
する速度は相当の幅で変動し、残存空気濃度は一定せず
、そのため液体クロマトグラフの性能が安定しないばか
りでなく、十分な除去が行なわれないことがあった。
本発明の目的および構成
本発明は、上記の事情に鑑み、鋭意研究した結果、上記
チューブ状高分子膜内に溶離液を通過させて溶存する空
気を高分子膜を透過させて除去する際の除去速度は、真
空チャンバ内の温度によっても、大幅に変ることを知見
した。
チューブ状高分子膜内に溶離液を通過させて溶存する空
気を高分子膜を透過させて除去する際の除去速度は、真
空チャンバ内の温度によっても、大幅に変ることを知見
した。
本発明は上記の知見に基づいてなされたもので、安定な
性能を有する脱気用装置を提供することを目的とするも
ので、その要旨は、気体を溶存する液体を、真空チャン
バ内に設けられたチューブ状高分子膜を通過させて、溶
存する気体を除去する脱気用装置において、上記真空チ
ャンバ外側底部に、その内部温度を所定温度範囲に保持
する加熱手段を設けてなる脱気用装置にある。
性能を有する脱気用装置を提供することを目的とするも
ので、その要旨は、気体を溶存する液体を、真空チャン
バ内に設けられたチューブ状高分子膜を通過させて、溶
存する気体を除去する脱気用装置において、上記真空チ
ャンバ外側底部に、その内部温度を所定温度範囲に保持
する加熱手段を設けてなる脱気用装置にある。
本発明の具体的構成、効果
第1図は、本発明に係る脱気用装置の一実施例を示すも
ので、第2図と同一部分には同一符号を付してその説明
を省略する。図中符号11は、チューブ状高分子膜1が
内蔵された真空チャンバ2外側底部に設けられ、その内
部を所定の温度に加温する自己制御型面ヒータである。
ので、第2図と同一部分には同一符号を付してその説明
を省略する。図中符号11は、チューブ状高分子膜1が
内蔵された真空チャンバ2外側底部に設けられ、その内
部を所定の温度に加温する自己制御型面ヒータである。
まlご、本発明において用いられる高分子膜としては、
通常ポリ四フッ化エチレン、等が用いられる。
通常ポリ四フッ化エチレン、等が用いられる。
上記脱気用装置Aの真空チャンバ2内部を所定の湿度、
圧に保持して、空気を溶存した溶離液を一定速度で通過
させると、溶離液6中の溶存空気は、はぼ同じ量が除去
され、通過した溶離中の溶存空気はは一定濃度に低下さ
れ、液体クロマトグラフに好適に使用される。
圧に保持して、空気を溶存した溶離液を一定速度で通過
させると、溶離液6中の溶存空気は、はぼ同じ量が除去
され、通過した溶離中の溶存空気はは一定濃度に低下さ
れ、液体クロマトグラフに好適に使用される。
この場合、温度が高い方が、空気の残存濃度が低下する
。これは、高分子III 1の気体拡散速度が高くなる
ためである。しかし、温度が高ずぎると、液体の蒸気も
透過するようになるので、40℃以下の温度に保持する
のが好ましい。
。これは、高分子III 1の気体拡散速度が高くなる
ためである。しかし、温度が高ずぎると、液体の蒸気も
透過するようになるので、40℃以下の温度に保持する
のが好ましい。
なお、真空チャンバ2内部を所定温度に加温するどとも
に、チューブ状高分子膜1に導入する溶離液6を上記温
度に加温しても、真空チャンバ2のみを加温した場合と
差が認められない。これは、上記チューブ状高分子膜1
内に導入された溶離液6が、化較的早く昇温し、真空チ
ャンバ1内部と同じ温度となるためと思料する。また、
上記説明では、加熱手段として自己制御型面ヒータを用
いたがこれに限るものでなく、所定温度に真空チャンバ
2内を加熱出来るものであればよい。
に、チューブ状高分子膜1に導入する溶離液6を上記温
度に加温しても、真空チャンバ2のみを加温した場合と
差が認められない。これは、上記チューブ状高分子膜1
内に導入された溶離液6が、化較的早く昇温し、真空チ
ャンバ1内部と同じ温度となるためと思料する。また、
上記説明では、加熱手段として自己制御型面ヒータを用
いたがこれに限るものでなく、所定温度に真空チャンバ
2内を加熱出来るものであればよい。
実施例
次に実施例を示して本発明を説明する。
真空チャンバ2内に内径+1.3mm1外径:2.2+
11111、長さ:10mのパイプ状ポリ四フッ化エチ
レン膜を設け、真空チャンバ2内を圧力ニ50Torr
、温度:10.20.30℃の温度で、酸素:1101
)l1溶存する照面水を通過させ、通過した照面水中の
溶存酸素濃度を測定した。
11111、長さ:10mのパイプ状ポリ四フッ化エチ
レン膜を設け、真空チャンバ2内を圧力ニ50Torr
、温度:10.20.30℃の温度で、酸素:1101
)l1溶存する照面水を通過させ、通過した照面水中の
溶存酸素濃度を測定した。
5−
その結果、真空チャンバ2内部が一定濃度で通過した照
面水中の酸素濃度はほぼ一定であり、温度を変えた場合
の、通過した照面水中の酸素8I廓は、10°G :
5.21111m 、 20℃:3.7ppm。
面水中の酸素濃度はほぼ一定であり、温度を変えた場合
の、通過した照面水中の酸素8I廓は、10°G :
5.21111m 、 20℃:3.7ppm。
30℃:3.2r111111であった。10℃の場合
と30℃の場合とでは、30℃の方が除去率が大幅によ
くなることわかる。
と30℃の場合とでは、30℃の方が除去率が大幅によ
くなることわかる。
本発明の効果
以−ト述べたように本発明に係る脱気用装置は、真空チ
ャンバ内の温度を上昇せしめて一定範囲に保持すること
により、大幅、かつ一定の脱気が可能となり、液体クロ
マトグラフ分離性能を安定して向上せしめるものである
。
ャンバ内の温度を上昇せしめて一定範囲に保持すること
により、大幅、かつ一定の脱気が可能となり、液体クロ
マトグラフ分離性能を安定して向上せしめるものである
。
第1図は本発明に係る脱気用装置の一実施例を示す7日
−図、第2図は、従来の脱気用装置のフロー図である。 1・・・・・・チューブ状高分子膜、2・・・・・・真
空チャンバ、3・・・・・・制御回路、4・・・・・・
真空ポンプ、5・・・・・・圧力センサ、6・・・・・
・溶離液、7・・・・・・液体クロマト6− グラフ、11・・・・・・自己制御型面ヒータ(加熱手
段)A・・・・・・脱気用装置。 7一
−図、第2図は、従来の脱気用装置のフロー図である。 1・・・・・・チューブ状高分子膜、2・・・・・・真
空チャンバ、3・・・・・・制御回路、4・・・・・・
真空ポンプ、5・・・・・・圧力センサ、6・・・・・
・溶離液、7・・・・・・液体クロマト6− グラフ、11・・・・・・自己制御型面ヒータ(加熱手
段)A・・・・・・脱気用装置。 7一
Claims (3)
- (1)気体を溶存する液体を、真空チャンバ内に設けら
れたチューブ状高分子膜を通過させて、溶存する気体を
除去する脱気用装置において、上記真空チャンバ外側底
部に、その内部温度を所定瀧疫に保持する加熱手段を設
けたことを特徴とする脱気用装置。 - (2)チューブ状高分子膜がポリ四フッ化エチレンであ
る特許請求の範囲第1項記載の脱気用装置。 - (3)加熱手段が自己制御型面ヒーターである特許請求
の範囲第1項記載の脱気用装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11258684A JPS60255120A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 脱気用装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11258684A JPS60255120A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 脱気用装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60255120A true JPS60255120A (ja) | 1985-12-16 |
JPH0249762B2 JPH0249762B2 (ja) | 1990-10-31 |
Family
ID=14590435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11258684A Granted JPS60255120A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 脱気用装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60255120A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4729773A (en) * | 1986-03-04 | 1988-03-08 | Erma Inc. | Unit for degassing liquids |
JPH01215312A (ja) * | 1988-02-22 | 1989-08-29 | Takuma Co Ltd | 液中溶存気体の除去処理方法 |
US5788742A (en) * | 1995-12-11 | 1998-08-04 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method and apparatus for degassing processing solution for substrates |
WO2007091654A1 (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-16 | Arkray, Inc. | 液体クロマトグラフィ装置 |
WO2024004830A1 (ja) * | 2022-06-27 | 2024-01-04 | Dic株式会社 | 脱気装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54123785A (en) * | 1978-02-24 | 1979-09-26 | Du Pont | Deaerator |
JPS572104U (ja) * | 1980-06-04 | 1982-01-07 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5312962A (en) * | 1976-07-21 | 1978-02-06 | Nissan Motor | Device for producing corrugated fiberboard interior material |
-
1984
- 1984-06-01 JP JP11258684A patent/JPS60255120A/ja active Granted
Patent Citations (2)
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JPS54123785A (en) * | 1978-02-24 | 1979-09-26 | Du Pont | Deaerator |
JPS572104U (ja) * | 1980-06-04 | 1982-01-07 |
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US5788742A (en) * | 1995-12-11 | 1998-08-04 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method and apparatus for degassing processing solution for substrates |
WO2007091654A1 (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-16 | Arkray, Inc. | 液体クロマトグラフィ装置 |
EP1988392A1 (en) * | 2006-02-09 | 2008-11-05 | Arkray, Inc. | Liquid chromatograph |
EP1988392A4 (en) * | 2006-02-09 | 2009-04-08 | Arkray Inc | LIQUID PHASE CHROMATOGRAPH |
US20090275119A1 (en) * | 2006-02-09 | 2009-11-05 | Arkray, Inc. | Liquid Chromatograph |
US8361390B2 (en) * | 2006-02-09 | 2013-01-29 | Arkray, Inc. | Liquid chromatograph |
JP5260967B2 (ja) * | 2006-02-09 | 2013-08-14 | アークレイ株式会社 | 液体クロマトグラフィ装置 |
WO2024004830A1 (ja) * | 2022-06-27 | 2024-01-04 | Dic株式会社 | 脱気装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0249762B2 (ja) | 1990-10-31 |
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