JPH09159420A - 非球面形状測定用干渉計 - Google Patents
非球面形状測定用干渉計Info
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- JPH09159420A JPH09159420A JP31513995A JP31513995A JPH09159420A JP H09159420 A JPH09159420 A JP H09159420A JP 31513995 A JP31513995 A JP 31513995A JP 31513995 A JP31513995 A JP 31513995A JP H09159420 A JPH09159420 A JP H09159420A
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Abstract
構成を簡単にでき、しかも測定精度も向上できる非球面
形状測定用干渉計を提供する。 【解決手段】 光源1と、光源1からの光を参照光と測
定光とに分割すると共に、被検面61で反射した測定光と
参照光とを合成して干渉縞を生じさせるための分割合成
素子3と、この分割合成素子3と被検面61との間に配置
した干渉測定用ヌル原器10とを有する非球面形状測定用
干渉計において、干渉測定用ヌル原器10は、相対的位置
を一定に保持した、回折格子からなる被検面測定用パタ
ーン41を形成した第1の光学部材4と、回折格子からな
る被検面アライメント用パターン51を形成した第2の光
学部材5とを有する。
Description
状、特に、非球面形状を測定する干渉計に関するもので
ある。
方法は、従来種々提案されている。かかる測定方法にお
いては、被検面の非球面量が小さい場合には、球面測定
用干渉計で評価することもできるが、非球面量が大きく
なると測定が困難になるため、何らかの対策が必要にな
る。その対策として、例えば、干渉計の光路中に非球面
波を発生させるヌル原器と呼ばれるものを配置して、非
球面の被検面に垂直に光を入射させるようにしたものが
従来提案されており、また、この場合に用いるヌル原器
として、回折光学素子(DOE)であるホログラムを利
用するホログラム原器と呼ばれるものや、ゾーンプレー
トを利用するゾーンプレート原器と呼ばれるものが提案
されている。
して、特開平6−11323号公報には、以下のような
方法が提案されている。 測定波発生部材(ヌル原器)の片面に波長λ1の波
長に対応した形状測定波面を生成するためのパターンを
形成し、その反対面にλ2の波長の光が入射したときに
球面波を発生させるパターンを形成して、球面波をアラ
イメントに用いる方法。 測定波発生部材の同一面に、形状測定波面用パター
ンと、球面波用パターンとの2つを重ねて形成する方
法。 測定波発生部材の異なる領域に、形状測定波面用パ
ターンと球面波用パターンとを形成する方法。 測定波発生部材を液晶素子で形成し、形状測定波面
用パターンと球面波用パターンとの切り替えを、液晶に
印加する電圧分布を変えることにより実現する方法。
く場合には容易に位置合わせすることができるが、例え
ば球面波中に置く場合には、平行光束中に配置する場合
に比べてアライメント軸が2軸増えるために、アライメ
ントが困難になる。このように、ヌル原器を球面波中に
置く場合のアライメント方法として、例えば、 特公平5−13441号公報に開示されているよう
に、位置合わせマークを有する調整用ホログラム原器を
所定位置に配置して、アライメント光学系のレチクルの
指標を位置合わせマークに合致させ、次に調整用ホログ
ラム原器と測定用ホログラム原器とを交換する方法。 特開平5−157532号公報に開示されているよ
うに、1枚の基板上に測定用の透過型計算機ホログラム
と位置合わせ用の反射型計算機ホログラムとを形成し、
反射型ホログラムを用いて干渉計に位置合わせした後、
基板を所定量移動させて透過型ホログラムを所定の位置
にセットして、測定する方法。がある。
た従来の非球面形状測定用干渉計にあっては、以下のよ
うな問題点がある。 問題点1 上記の方法においては、例えば波長λ1の光は、形状
測定波面を発生させるためのパターンだけでなく、その
反対面の球面波を発生させるパターンにも入射して、2
つのパターンで回折されるため、光の利用効率が低下す
る。このような現象は、波長λ2の光を用いる場合に
も、同様に発生する。
ねて形成されているため、入射光が2つのパターンで回
折され、これがため形状測定光、アライメント光の利用
効率が低下する。
に2つのパターンが形成されているため、異なる被検面
に対応するには、全体を作り直さなければならず、汎用
性に欠ける。
が複雑になると共に、液晶素子の電極パターンが決まっ
ているために、液晶素子に正確な位相分布を持たせるこ
とができず、測定精度に限界がある。
測定波面用とアライメント波面用の2つのパターンが必
要になる。
が必要になり、また、その原器を交換するという作業が
誤差発生原因になる。
置合わせをした後に基板を高精度に移動させる機構が必
要になるため、装置が複雑で高価になる。また、光学的
方法で高精度に位置合わせしても、結局最後に用いる機
械的移動機構で全体の精度が決定されてしまう。
4を解決し、光の利用効率および汎用性を向上できると
共に、構成を簡単にでき、しかも測定精度も向上できる
よう適切に構成した非球面形状測定用干渉計を提供しよ
うとするものである。
よび7を解決し、ヌル原器のアライメントを容易に、し
かも高精度にでき、したがって高精度の形状測定ができ
るよう適切に構成した非球面形状測定用干渉計を提供し
ようとするものである。
解決し、簡単に製作できるヌル原器を用いて高精度の形
状測定ができるよう適切に構成した非球面形状測定用干
渉計を提供しようとするものである。
るため、この発明は、光源と、この光源からの光を参照
光と測定光とに分割すると共に、被検面で反射した測定
光と前記参照光とを合成して干渉縞を生じさせるための
分割合成素子と、この分割合成素子と前記被検面との間
に配置した干渉測定用ヌル原器とを有する非球面形状測
定用干渉計において、前記干渉測定用ヌル原器は、相対
的位置を一定に保持した、回折格子からなる被検面測定
用パターンを形成した第1の光学部材と、回折格子から
なる被検面アライメント用パターンを形成した第2の光
学部材とを有することを特徴とするものである。
は、嵌合、接着または螺合によって相対的位置を一定に
保持するのが、両者を確実に保持すると共に、異なる被
検面に対応するために被検面測定用パターンを形成した
部材を簡単に交換する点で好ましい。
は、光源と、この光源からの光を参照光と測定光とに分
割すると共に、被検面で反射した測定光と前記参照光と
を合成して干渉縞を生じさせるための分割合成素子と、
この分割合成素子により分割された測定光を球面波に変
換する参照レンズと、この参照レンズと前記被検面との
間に配置した干渉測定用ヌル原器とを有する非球面形状
測定用干渉計において、前記干渉測定用ヌル原器は、回
折格子からなる被検面測定用パターンおよび被検面アラ
イメント用パターンと、反射型の回折格子からなるヌル
原器アライメント用パターンとを有することを特徴とす
るものである。
は、光源と、この光源からの光を参照光と測定光とに分
割すると共に、被検面で反射した測定光と前記参照光と
を合成して干渉縞を生じさせるための分割合成素子と、
この分割合成素子と前記被検面との間に配置した干渉測
定用ヌル原器とを有する非球面形状測定用干渉計におい
て、前記干渉測定用ヌル原器は、回折格子からなる被検
面測定用パターンを有し、被検面アライメント時に、前
記被検面測定用パターンの一部に、被検面測定時とは異
なる波長の光を入射させ、それにより発生する波面を被
検面のアライメントに用いるよう構成したことを特徴と
するものである。
形状測定用干渉計においては、被検面を測定するため
の、被検面測定用パターンを形成した第1の光学部材
と、それとは別体の被検面アライメント用パターンを形
成した第2の光学部材とを有し、その2つの光学部材の
相対的な位置を一定に保持するようにしたので、異なる
形状の被検面に対しても、被検面測定用パターンを形成
した第1の光学部材を交換するだけで対処することが可
能になる。
状測定用干渉計においては、ヌル原器は、球面波中に置
かれ、被検面測定用パターンおよび被検面アライメント
用パターンと、ヌル原器アライメント用パターンとを有
するので、このヌル原器からは、被検面のアライメント
用波面およびヌル原器のアライメント用波面が発生す
る。したがって、被検面のアライメント用波面を用いて
被検面のアライメントを行うことができると共に、ヌル
原器のアライメント用波面を用いてヌル原器のアライメ
ントを行うことができるので、正確な測定が可能にな
る。
形状測定用干渉計においては、被検面測定用パターン
は、被検面測定時に用いる波長の光に対して作成される
ので、異なる波長の光が入射すると、被検面測定用波面
とは異なる波面が形成される。したがって、被検面測定
用パターンの所定のピッチ分布を有する一部分に、被検
面測定用波長とは異なる波長のアライメント用の光を入
射させれば、ほぼ無収差の球面波からなるアライメント
用波面が発生するので、アライメント用波面を発生させ
るための特別なパターンをヌル原器に形成する必要がな
い。
面を参照して説明する。図1は、この発明の第1実施形
態における光学系全体の構成を示す図である。この実施
形態は、フィゾー型干渉計に適用したもので、光源1、
ビームエキスパンダー2、参照平面3、ヌル原器10、
ハーフミラー7、瞳結像レンズ8およびスクリーン9を
有し、例えば非球面レンズ等の被検対象物(被検レン
ズ)6の被検面61の形状を測定する。
eレーザーを用い、ビームエキスパンダー2は、レンズ
群21,22をもって構成する。また、参照平面3は、
ビームエキスパンダー2とヌル原器10との間に配置
し、ハーフミラー7は、ビームエキスパンダー2を構成
するレンズ群21,22間に配置する。
検面アライメント用DOE5を有する。測定用DOE4
は、図2aに示すように、光学材料からなる平行平面板
を基板とし、その片面に同心円状のリングパターンを有
する透過型の回折格子からなる測定用パターン41を形
成して構成する。ここで、測定用パターン41は、その
断面形状を図2bに示すように、所定の回折次数、例え
ば1次の回折光に対してブレーズ化するのが好ましい。
図3aに示すように、光学材料からなる平行平面板を基
板とし、その中心部を円形にくり抜いて中空に形成する
と共に、片面に同心円状のリングパターンを有する透過
型の回折格子からなる被検面アライメント用パターン5
1が形成して構成する。ここで、被検面アライメント用
パターン51は、その断面形状を図3bに示すように、
所定の回折次数、例えば2次の回折光に対してブレーズ
化するのが好ましい。この実施形態では、図4に示すよ
うに、被検面アライメント用DOE5の中空部に、測定
用DOE4を嵌合して、両者の相対的位置関係を一定に
保持する。
レーザ光は、ビームエキスパンダー2により光束径が広
げられ、ほぼ平行な光束に変換されて、参照平面3に入
射する。参照平面3では、入射光に対して数%の反射光
が発生し、その反射光は参照光となり、透過光は測定用
DOE4および被検面アライメント用DOE5に入射す
る。
光束は、被検面アライメント用パターン51により回折
作用を受け、被検面61の面頂に集光する輪帯状の球面
波に変換される。ここで、被検面アライメント用パター
ン51の断面形状を、上述したようにブレーズ化してお
けば、回折効率がほぼ100%となるので、干渉縞を観
察する際にコントラストを向上させることができる。被
検面61が所定の位置に置かれていれば、球面波に変換
された光束は、被検面61の面頂に収束して反射され、
その反射された光束は、再び輪帯状の球面波となって参
照平面3、レンズ群22、ハーフミラー7および瞳結像
レンズ8を経てスクリーン9に至り、参照平面3で反射
された参照光と干渉して輪帯状の干渉縞を形成する。
測定用パターン41により回折作用を受けて所定の波面
に変換される。ここで、測定用パターン41の断面形状
が、上述したようにブレーズ化されていれば、回折効率
がほぼ100%となるので、ノイズとなる不要光による
干渉縞の発生を有効に防止できる。測定用パターン41
により変換された光束は、被検面61にほぼ垂直に入射
して反射され、この被検面61で反射された光束は、被
検面61に大きな形状誤差がない場合には、往路とほぼ
同じ光路を通って、参照平面3、レンズ群22、ハーフ
ミラー7および瞳結像レンズ8を経てスクリーン9に至
り、参照平面3で反射された参照光と干渉して干渉縞を
形成する。
する。先ず、被検レンズ6をおおよそ所定の位置に置い
て、被検面アライメント用パターン51による干渉縞を
観察しながら、図示しない被検レンズ位置調整機構によ
り、被検レンズ6の光軸方向の位置を調整する。この調
整において、被検面61の光軸方向の位置が正しくない
と、スクリーン9には、図5aに示すように、被検面ア
ライメント用パターン51による干渉縞11と被検面測
定用パターン41による干渉縞12との2つの干渉縞が
観測され、正しく位置調整されると、図5bに示すよう
に、干渉縞11がヌルになる。
により、被検面61の傾きや、偏心を調整して、被検面
測定用パターン41による干渉縞をできるだけヌルに近
づける。この際、被検面61の傾きや、偏心を調整する
と、面頂の位置が光軸方向にずれる場合があるので、と
きどき被検面アライメント用パターン51による干渉縞
を確認するのが望ましい。この調整において、被検面6
1に製作誤差がない場合には、アライメントが終了する
と、図5cに示すように、干渉縞11,12がともにヌ
ルになる。
被検面61の形状測定に移る前に、図1に示すように、
輪帯状の絞り14を光路中に配置して、測定用パターン
41以外に入射する光束を遮断するのが望ましい。この
状態で、図示しない機構により参照平面3を光軸方向に
微動させることにより、位相シフト測定を行うこともで
きる。
る測定用DOE4と、被検面アライメント用DOE5と
を別々に作成しているので、測定用DOE4と被検面6
1の面頂との光軸方向の距離を一定にしておけば、異な
る被検面形状に対しても、測定用DOE4と被検面アラ
イメント用DOE5との両方を作り直す必要はなく、測
定用DOE4の部分だけを作り替えることによって、容
易に対処することができる。
面としたが、測定用DOE4に形成する測定用パターン
41を変更することにより、凸面の非球面に対しても、
容易に対処することができる。
e−Neレーザを挙げたが、これに限られるわけでな
く、他のレーザ、例えばHe−Cdレーザ、Ar+ レー
ザを用いることもできる。
イメント用DOE5の中空部に、測定用DOE4を嵌合
して、両者の相対的位置関係を一定に保持するようにし
たが、例えば測定用DOE4を、特定の溶剤にとける接
着剤により被検面アライメント用DOE5の中空部に接
着したり、図6に示すように、被検面アライメント用D
OE5の側面にネジ穴を形成し、そのネジ穴を利用して
ネジ110により両者を固定するように構成することも
できる。
E4および被検面アライメント用DOE5を、それぞれ
よく研磨した平行平面基板で製作して、オプティカルコ
ンタクトにより一体化させることもできる。この場合に
は、両者のリングパターンの中心を一致させる必要があ
るが、被検面アライメント用DOE5を中空のドーナツ
形状に加工する必要はないので、その製作が容易にな
る。
イメント用パターン51を、異なる球面波を発生させる
2つのパターン51Aおよび51Bを同心円状に形成し
て構成し、これにより図8bに示すように、異なる2つ
の位置に収束させるようにしたり、あるいは、図8cに
示すように、上記の2つのパターン51Aおよび51B
を、同一軸帯上で互い違いに等分に配置して、図8dに
示すように、異なる2つの位置に収束させるようにする
こともできる。このようにすれば、例えば両面が非球面
からなるレンズの異なる面を測定する場合、1つの被検
面アライメント用DOE5を用いてアライメントするこ
とができるので、新たにDOEを作る手間が省けるとい
う利点がある。
光学系全体の構成を示す図である。この実施形態は、参
照面として球面を用いる。このため、図1に示す構成に
おいて、参照平面3に代えて参照レンズ3′を用いる。
この参照レンズ3′は、一般に参照球面31′を含む複
数のレンズ素子を有する。この参照レンズ3′の参照球
面31′以外の面には、無反射膜をコーティングする。
うなヌル原器10′を用いる。このヌル原器10′は、
光学材料からなる平行平面板を基板とし、その片面に同
心円状のリングパターンを有する回折格子からなる被検
面測定用パターン41′と、被検面アライメント用パタ
ーン51′と、DOEアライメント用パターン52′と
を形成する。ここで、測定用パターン41′および被検
面アライメント用パターン51′は、透過型の回折格子
とし、その断面形状は所定の回折次数、例えば1次光に
対してブレーズ化する。また、DOEアライメント用パ
ターン52′は、その表面にAl(アルミニウム)など
の金属薄膜をコートして反射型の回折格子として作用さ
せる。なお、DOEアライメント用パターン52′は、
その断面形状を所定の反射回折次数、例えば2次光に対
してブレーズ化する。
レーザ光は、ビームエキスパンダー2により光束径が広
げられ、ほぼ平行な光束に変換されて、参照レンズ3′
に入射する。参照レンズ3′は、入射した平行光束を収
束する球面波に変換する。ここで、参照レンズ3′の参
照球面31′には、無反射コーティングが施されていな
いので、参照レンズ3′に入射した光束は、参照球面3
1′で数%が反射され、その反射光が参照光となり、参
照レンズ3′により球面波に変換された光束がヌル原器
10′に入射することになる。
測定用パターン41′に入射した光束は、回折格子によ
り回折作用を受けて、所定の波面に変換される。ここ
で、測定用パターン41′は、その断面形状がブレーズ
化されているので、回折効率がほぼ100%となり、ノ
イズとなる不要光による干渉縞の発生が防止される。こ
の測定用パターン41′により変換された光束は、被検
レンズ6′の被検面61′にほぼ垂直に入射し、この被
検面61′で反射された光束は、被検面61′に大きな
形状誤差がない場合には、往路とほぼ同じ光路を通り、
参照レンズ3′、レンズ群22、ハーフミラー7および
瞳結像レンズ8を経てスクリーン9に至り、参照球面3
1′で反射された参照光と干渉して干渉縞を形成する。
1′に入射した光束は、図11に詳細に示すように、こ
こで回折作用を受けて、被検面61′の面頂に集光する
球面波に変換される。この際、被検面アライメント用パ
ターン51′は、その断面形状がブレーズ化されている
ので、回折効率がほぼ100%となり、したがって干渉
縞のコントラストを向上させることができる。ここで、
被検面61′が所定の位置に置かれていれば、球面波に
変換された光束は、被検面61′の面頂で反射され、こ
の反射された光束は、再び同じ光路をたどって、参照レ
ンズ3′、レンズ群22、ハーフミラー7および瞳結像
レンズ8を経てスクリーン9に至り、参照球面31′で
反射された参照光と干渉して輪帯状の干渉縞を形成す
る。
2′に入射した光束は、ここで反射回折作用を受け、入
射光の光路を逆にたどって発散球面波に変換される。こ
の際、DOEアライメント用パターン52′は、その断
面形状がブレーズ化されているので、高い回折効率が得
られ、したがって干渉縞のコントラストを向上させるこ
とができる。ここで、ヌル原器10′が所定の位置に置
かれていれば、反射回折を受けて球面波に変換された光
束は、参照レンズ3′、レンズ群22、ハーフミラー7
および瞳結像レンズ8を経てスクリーン9に至り、参照
球面31′で反射された参照光と干渉して輪帯状の干渉
縞を形成する。
する。先ず、ヌル原器10′を、参照レンズ3′から発
生する球面波中に配置する。次に、DOEアライメント
用パターン52′の干渉縞がヌルフリンジになるよう
に、図示しない移動機構によりヌル原器10′の位置を
調整する。この際、被検レンズ6′を光路中から外して
おけば、スクリーン9には、DOEアライメント用パタ
ーン52′からの反射回折光による干渉縞のみが現れる
ので、調整し易くなる。この操作により、測定用パター
ン41′および被検面アライメント用パターン51′も
所定位置にアライメントされたことになる。
被検レンズ6′のアライメントおよび被検面61′の形
状測定を、上述した第1実施形態で説明したと同様にし
て行う。なお、この際、好適には、DOEアライメント
用パターン52′に入射する光束を遮断しておくと、ス
クリーン9の被検面アライメントパターン51′や測定
用パターン41′による干渉縞が見易くなる。
に、反射型の回折格子からなるDOEアライメント用パ
ターン52′および透過型の回折格子からなる被検面ア
ライメント用パターン51′を形成したので、球面波中
に測定用DOEを配置した場合でも、測定用DOEおよ
び被検面のアライメントを正確に行うことができる。
に、被検面の測定用パターン41′、被検面アライメン
トパターン51′およびDOEアライメントパターン5
2′の3つのパターンを一体に形成したが、第1実施形
態のように、測定用パターンを形成する部材と、その他
のパターンを形成する部材とを別々に製作して、それら
を結合してもよい。また、図9では、被検面61′を凸
面としたが、測定用パターン41′を変更することによ
り、凹面に対しても容易に適用することができる。
3実施形態を説明するための図で、図12aは測定時の
光学系の構成を、図12bはアライメント時の光学系の
構成をそれぞれ示す。この光学系の基本的構成は、第1
実施形態のフィゾー干渉計と同様であるが、この実施形
態では、光源1′として、例えば、543nm,604
nm,633nmなどの発振波長を持つマルチカラーH
e−Neレーザーを用いる。また、光源1′とビームエ
キスパンダー2との間の光路中には、測定時にはカラー
フィルター13aを、アライメント時にはカラーフィル
ター13bを配置する。ここで、カラーフィルター13
aは、光源1′の発振波長のうちの1つである波長λ1
の近傍だけを透過するバンドパスフィルターをもって構
成し、カラーフィルター13bは、光源1′の発振波長
のうちの1つで、波長λ1 とは異なる波長λ2 の近傍だ
けを透過するバンドパスフィルターをもって構成する。
る平行平面板を基板とし、その片面には、図13に示す
ように、同心円状のリングパターンを有する透過型の回
折格子からなる測定用パターン41″を形成する。ここ
で、測定用パターン41″は、その断面形状を波長λ1
の所定の回折次数、例えば1次光に対してブレーズ化す
る。
平面3とヌル原器10″との間の光路中に絞り14′を
配置する。この絞り14′には、所定の半径rの輪帯状
スリット15を形成する。この絞り14′は、金属板な
どで作る場合には、図14に示すように、中央の円盤状
部分を保持するための保持部が必要となるが、ガラス基
板全面にCrなどの金属薄膜を形成し、エッチングによ
り輪帯状スリット15を形成する場合には、保持部は必
要なく、つながったスリット開口部とすることができ
る。
め方について、図15を参照して説明する。ヌル原器1
0″の測定用パターン41″の半径rに対するピッチd
の変化を表す関数をd(r)とおき、ヌル原器10″と
被検面61″の面頂との距離をLとする。測定用パター
ン41″は、波長λ1 の1次光に対してブレーズ化され
ているので、波長λ2 の光が入射した場合には、1次光
以外の次数の光も射出される。ここで、半径rの場所に
入射した波長λ2 の光が測定用パターン41″に入射し
た時、そのm次回折光が被検面61″の面頂に集光され
る条件は、 d(r)・r/(r2 +L2 )1/2 =m・λ2 となる。上記の条件が成り立つ半径rの周辺では、多少
の誤差はあるものの、入射した光は同様に被検面61″
の面頂に集光する。その条件が成り立つ範囲の半径rに
対応する幅の輪帯状スリット15を、絞り14′に形成
する。
ンダー2および瞳結像レンズ8は、波長λ1 およびλ2
に対して収差補正がなされたアクロマートとする。
て説明する。先ず、図12bに示すように、光源1′と
ビームエキスパンダー2との光路中にカラーフィルター
13bを挿入すると共に、参照平面3とヌル原器10″
との間の光路中に絞り14′を、その輪帯状のスリット
15の中心が干渉計の光軸と一致するように挿入する。
この状態で、第1実施形態で説明したと同様にして、被
検レンズ6″を所定の位置に置いて干渉縞を観察しなが
ら、図示しない被検レンズ位置調整機構により被検レン
ズ6″の光軸方向の位置を調整する。このとき、スクリ
ーン9には、図16aに示すように、絞り14′により
制限され、測定用パターン41″の一部分に入射した波
長λ2 の光束による干渉縞11′が観測される。ここ
で、図16bのように、干渉縞11′がヌルになると、
被検面61″の光軸方向の位置が正しく置かれたことに
なる。
ら、図12aに示すように、カラーフィルター13bの
代わりにカラーフィルター13aを挿入すると共に、絞
り14′を取り除く。次に、図示しない被検レンズ位置
調整機構により、被検面61″の傾きや、偏心を調整し
て測定用パターン41″による干渉縞12′をできるだ
けヌルに近づける。ここで、被検面61″に製作誤差が
なければ、アライメントの終了により、図16cに示す
ように、干渉縞12′はヌルフリンジになる。
の形状測定を行うにあたっては、アライメント用の波長
λ2 の光は、カラーフィルター13aで遮断されるの
で、その状態で、図示しない機構により参照平面3を光
軸方向に微動させて、位相シフト測定を行うことができ
る。
1″の他にアライメント用パターンを必要としないの
で、ヌル原器10″を製作するときの工程が簡略化さ
れ、したがって簡単に製作できるヌル原器10″を用い
て高精度の形状測定ができる。
He−Neレーザを挙げたが、これに限られるわけでな
く、他のレーザ、例えばHe−Cdレーザ(マルチライ
ン)、Ar+ レーザ(マルチライン)等を用いることも
できる。また、ヌル原器10″に、第2実施形態で説明
したようなヌル原器アライメント用パターンを形成する
こともできる。
干渉計の基本構成としてフィゾー型を用いて説明した
が、この発明はトワイマン・グリーン型(マイケルソン
型)干渉計に対しても有効に適用することができる。
子)は、平行平面板上に凹凸の回折格子パターンを形成
して構成される。例えば、上述したヌル原器を構成する
DOEは、円板状あるいはドーナツ状の平行平面板上に
凹凸の回折格子パターンを形成して構成される。しか
し、DOEにおける回折格子パターンの間隔は、通常数
μmから数100μmであり、また、その高さも波長程
度と、非常に微細であるため、DOEが可視光に対して
透明な材料からなる場合には、直接目視するとDOEの
表と裏の表面が重なって見え、回折格子パターンが形成
されている範囲はわかっても、それがDOEのどちらの
面にあるのかが非常にわかりにくい。
系を組み立てる場合などに、DOEの表裏を間違えやす
く、また表裏の判断に時間がかかるという問題がある。
このような問題は、特に、図4、図6および図7に示し
たように、別々に形成した測定用DOE4と被検面アラ
イメント用DOE5とを一体化したヌル原器10を用い
て、図1に示したような干渉計を構成する場合には、ヌ
ル原器そのものを組み立てる場合と、それを用いて干渉
計を組み立てる場合との双方において生じることにな
る。
について説明する。図17aおよびbは、その第1の例
を示すもので、図17aは、DOE71を回折格子パタ
ーン側から見た図であり、図17bは、図17aのA−
A線断面図である。このDOE71は、可視光に対して
十分に透明な材料からなっている。また、DOE71
は、同心円状の回折格子パターンを形成した円状の領域
72と、その領域の外側の回折格子パターンがない輪帯
状の領域73とを有する。この第1の例においては、回
折格子パターンがない領域73の最外周部分に、図17
bに示すように、陵を面取りした面取り部分74を形成
する。なお、この面取り部分74の面取りの量は、反対
側の陵75の面取り量に比べて十分に大きく、目視によ
り面取り部分74と反対側の陵75とを容易に区別でき
る程度とする。
反対側の陵75とを目視で容易に識別することができる
ので、DOE71のどちらの面に面取り部分74がある
のか容易にわかる。また、面取り部分74と回折格子パ
ターンを形成した領域72とは、DOE71の同じ面側
にあるので、面取り部分74がある面がどちらの面かが
わかれば、回折格子パターンを形成した面も容易にわか
る。すなわち、面取り部分74は、回折格子パターンを
形成した面を示す目印の役割を果たしており、これによ
り回折格子パターンを形成した面がどちらかを、目視に
より容易に認識することができる。したがって、このよ
うなDOE71を用いれば、光学系を組み立てる際など
に、DOE71の表裏を容易に識別できるので、その表
裏を間違えることなく正確に組み込むことができ、作業
にかかる時間を短縮することができる。
形成した面を識別するために、一方の面側に面取り部分
74を形成したDOE71について説明したが、このよ
うな面取り部分74を形成する場合に限らず、図18、
図19および図20に示すようにDOE71を構成する
こともできる。以下、図18を第2の例、図19を第3
の例および図20を第4の例として、それぞれに示すD
OE71の構成について説明する。
たDOEと同様に、同心円状の回折格子パターンを形成
した円状の領域72と、その外側にある回折格子パター
ンのない輪帯状の領域73とを有する。この第2の例で
は、DOE71の最外周部分に、他の領域より低い段差
76を形成する。ここで、段差76は、回折格子パター
ンの凹凸に比べて十分大きく、目視で段差76があるこ
とが容易にわかる程度とする。
容易に識別することができるので、DOE71のどちら
の面に段差76があるのか容易にわかる。また、段差7
6と回折格子パターンは同じ面内にあるので、段差76
がどちらの面にあるのかわかれば、回折格子パターンを
形成した面も容易にわかる。すなわち、段差76は、回
折格子パターンを形成した面を示す目印の役割を果たし
ており、これにより回折格子パターンのある面がどちら
か容易に判断できる。
いれば、図17の場合と同様に、光学系を組み立てる際
などに、DOE71の表裏を容易に識別できるので、そ
の表裏を間違えることなく正確に組み込むことができ、
作業にかかる時間を短縮することができる。さらに、こ
の第2の例では、面取りよりも狭い範囲で、段差76を
深く形成できるので、段差76を認識し易く、またDO
E71の有効径を大きく取ることができる利点がある。
明する。この第3の例は、陵を、ある半径で丸めた形状
の曲面77を最外周部分に形成したものである。この曲
面77は、同心円状の回折格子パターンを形成した円状
の領域72と、その外側の回折格子パターンがない輪帯
状の領域73と同じ面側に形成する。また、曲面77の
反対側の陵75は、図17に示したDOEの陵と同様と
する。なお、曲面77の半径は、曲面77と反対側の陵
75とを目視で容易に識別できる程度に大きくする。
とを目視で容易に識別することができるので、DOE7
1のどちらの面に曲面77があるのか容易にわかる。ま
た、曲面77と回折格子パターンを形成した領域72と
は同じ面内にあるので、曲面77がDOE71のどちら
の面にあるのかがわかれば、回折格子パターンがどちら
にあるのかも容易にわかる。すなわち、曲面77は、回
折格子パターンを形成した面を示す目印の役割を果たし
ており、これにより回折格子パターンのある面がどちら
か容易に判断できる。
いれば、図17の場合と同様に、光学系を組み立てる際
などに、DOE71の表裏を容易に識別できるので、そ
の表裏を間違えることなく正確に組み込むことができ、
作業にかかる時間を短縮することができる。さらに、こ
の第3の例では、回折格子パターンが形成された面の角
が丸まっているので、欠けにくく、また他のものにひっ
かけにくいという利点もある。
パターンが形成された面の最外周部分全体に、面取り部
分74、段差76、曲面77などの目印を形成するよう
にしたが、これらの目印は、例えば図20に第4の例を
示すように、外周部の一部にあるだけでもよい。図20
に示すDOE71は、図20aに平面図を、図20bに
図20aのA−A線断面図を示すように、同心円状の回
折格子パターンを形成した円状の領域72と、その外側
の回折格子パターンがない輪帯状の領域73とを有す
る。この第4の例では、回折格子パターンがない領域7
3内で、有効径外に、複数個の凹部78を形成する。こ
れら各凹部78の深さは、回折格子パターンの凹凸に比
べて十分大きく、目視で容易に認識することができる程
度とする。また、凹部78の数は、図20では4個であ
るが、それ以上でもそれ以下でも、また1つでも良い。
容易に認識することができるので、DOE71のどちら
の面に凹部78があるのか容易にわかる。また、凹部7
8と回折格子パターンを形成した領域72とは同じ面内
にあるので、凹部78がDOE71のどちらの面にある
のかがわかれば、回折格子パターンがどちらにあるのか
も容易にわかる。すなわち、凹部78は、回折格子パタ
ーンが形成された面を示す目印の役割を果たしており、
これにより回折格子パターンが形成されている面がどち
らか容易に判断することができる。
いれば、図17の場合と同様に、光学系を組み立てる際
などに、DOE71の表裏を容易に識別できるので、そ
の表裏を間違えることなく正確に組み込むことができ、
作業にかかる時間を短縮することができる。
ンを形成した面と同じ面内に目印を有するDOEについ
て説明したが、これらの目印は、回折格子パターンを形
成した面と反対の面にあってもよい。この場合、目印が
回折格子パターンを形成した面と反対側にあるので、目
印がどちらの面にあるかがわかれば、回折格子パターン
はその反対の面内にあることになる。したがって、この
場合も上述した場合と同様に、光学系を組み立てる際な
どに、DOE71の表裏を容易に識別できるので、その
表裏を間違えることなく正確に組み込むことができ、作
業にかかる時間を短縮することができる。
回折格子パターンを有するものであったが、直線状の回
折格子パターンを有する場合でも、上述した構成を有効
に適用することができ、これにより同様の効果を得るこ
とができる。
ンを形成した面を識別するための目印を有するDOEの
第5の例について説明する。図21aは、DOE79を
回折格子パターン側から見た図であり、図21bはその
側面を示す図である。このDOE79は、直線状の回折
格子パターンを有し、可視光に対して充分に透明な材料
からなっている。この例では、DOE79の側面に凹部
80を形成する。この凹部80は、その中心と回折格子
パターンを形成した面81との間隔が、凹部80の中心
と、面81とは反対側の面82との間隔よりも狭く、そ
の差は目視で容易に判断できる程度とする。また、凹部
80の深さは、目視で容易に認識することができる程度
とする。
容易に認識することができ、その凹部80の位置を見る
ことによって、どちらの面が回折格子パターンのある面
かが容易にわかる。すなわち、凹部80は、どちらの面
に回折格子パターンがあるかを示す目印の役割を果たす
ことになる。したがって、このようなDOE79を用い
れば、光学系を組み立てる際などに、DOE79の表裏
を容易に識別できるので、その表裏を間違えることなく
正確に組み込むことができ、作業にかかる時間を短縮す
ることができる。また、凹部80は側面の表面よりへこ
んでいるので、枠などを付ける際に邪魔にならず、治具
などと組み合わせ易い利点がある。
形としたが、目視で容易に認識することができる程度の
大きさと深さがあれば、任意の形とすることができる。
また、目印は、側面より飛び出した凸部とすることもで
きる。この場合には、凸部が側面より外側にあるので、
凸部でDOE79を通る光が遮られることがない。した
がって、回折格子パターンをDOE79の基板全面に形
成することができるので、DOEの大きさに対して有効
径の広いDOEを得ることができる。言い換えれば、同
じ有効径ならば、より小さなDOEを得ることができ
る。
を示すものである。このDOE79は、図21に示した
のと同様に直線状の回折格子パターンを有する。この第
6の例では、DOE79の側面に、三角形の平板を付け
たような形状の凸部83を設ける。この凸部83は、目
視で容易にその形状がわかる程度の大きさと高さを有
し、かつ回折格子パターンを形成した面の方に底辺84
が、それと逆の面の方に頂角85がそれぞれ向くように
設ける。
ることによって、容易に凸部83の三角形の向きがわか
るので、それにより、どちらが回折格子パターンのある
面かがわかる。したがって、このようなDOE79を用
いれば、光学系を組み立てる際などに、DOE79の表
裏を容易に識別できるので、その表裏を間違えることな
く正確に組み込むことができ、作業にかかる時間を短縮
することができる。また、凸部83が側面より外側にあ
るので、凸部83でDOEを通る光を遮ることがなく、
回折格子パターンをDOE79の基板全面に形成するこ
とができ、DOEの大きさに比べて有効径の広いDOE
を得ることができる。すなわち、第5の例と同様に、同
じ有効径ならばより小さなDOEを得ることができる。
形としたが、回折格子パターンを形成した面に平行な面
に対して上下非対称の形状で、目視により容易に認識す
ることができる程度の大きさと高さを有すれば、任意の
形状とすることができる。また、このような形状の目印
は、側面よりへこんだ凹部であってもよい。この場合に
は、目印が側面の表面よりへこんでいるので、枠などを
付ける際に、邪魔にならず、治具などと組み合わせ易く
なる。
は、目印を一つとしたが、目印の数は一つに限らず、必
要に応じて複数の目印を設けることもよい。また、回折
格子パターンも、直線状に限らず、同心円状のものとす
ることもでき、その場合も同様な目印を付けることで、
同様の効果を得ることができる。
OEの第7の例について説明する。図23aは、DOE
を回折格子パターン側から見た図であり、図23bは、
図23aのA−A線断面図である。このDOE86は、
同心円状の回折格子パターンを形成した円状の領域72
と、その外側の回折格子パターンのない輪帯状の領域7
3とを有する。この例では、回折格子パターンのない領
域73内に、表面がすりガラス状になっている領域87
を形成する。なお、領域87の反対側の面は鏡面とす
る。
状の領域87とその反対側の面の表面とを目視で容易に
区別できるので、DOE86のどちらの面に領域87が
あるのか目視で容易にわかる。ここで、領域87と回折
格子パターンを形成した領域72とは同じ面内にあるの
で、領域87がある面がわかれば、どちらが回折格子パ
ターンのある面かが容易にわかる。すなわち、表面がす
りガラス状の領域17は、回折格子パターンがどちらの
面にあるかを示す目印の役割を果たすことになる。
れば、光学系を組み立てる際などに、DOE86の表裏
を容易に識別できるので、その表裏を間違えることなく
正確に組み込むことができ、作業にかかる時間を短縮す
ることができる。また、DOE86の表裏を判断するた
めの目印が、すりガラス状の細かい凹凸であり、大きな
凹凸がないので、普通のDOEと同様に扱うことができ
る。
周辺部1周に亘って存在しなくてもよく、回折格子パタ
ーンがない領域73内に、目視で認識できる程度の面積
で形成すればよい。また、この領域87は、回折格子パ
ターンを形成した領域72と反対側の面で、有効径外の
領域に形成することもできる。この場合も、領域87が
どちらの面にあるかがわかれば、回折格子パターンがあ
る面はその反対側の面であることがわかる。
パターンを有するDOE86を示したが、直線状の回折
格子パターンを有するものであっても、この例を有効に
適用することができる。また、回折格子パターンのある
面を判断するための領域87は、すりガラス状の表面に
限らず、裏面の表面と異なり、その違いが目視で容易に
わかるようなもの、例えば、目視で認識可能な程度の大
きさの格子とすることもできる。
を示す断面図である。このDOE88は、可視光に対し
て十分に透明な材料からなり、一方の面側には、同心円
状の回折格子パターンを形成した円状の領域72と、そ
の外側の一部、もしくは全体に、図示しない鏡筒と嵌合
するように、光軸方向に突出して形成された輪帯状の凸
部89を有する。また、回折格子パターンと反対側の面
側にも、その有効径外の一部、もしくは全体に、図示し
ない鏡筒と嵌合するように形成された同様の輪帯状の凸
部90を有する。この例では、凸部89と凸部90と
を、目視で容易に区別できる程度に、それらの高さ、あ
るいは幅を異ならせる。
を形成した面側にある凸部89と、その反対の面側にあ
る凸部90とは、高さあるいは幅が目視で容易に区別で
きるほど異なるので、凸部89と凸部90とを比べれ
ば、どちらが回折格子パターンを形成した面側にある凸
部であるかが容易にわかる。すなわち、凸部19と凸部
20は、それらを比較することにより、回折格子パター
ンがある面がどちらなのかを容易に判断できるので、こ
れらは回折格子パターンがある面を判断するための目印
の役割を果たすことになる。
れば、光学系を組み立てる際などに、DOE88の表裏
を容易に識別できるので、その表裏を間違えることなく
正確に組み込むことができ、作業にかかる時間を短縮す
ることができる。さらに、凸部89および凸部90は、
鏡筒と嵌合するもので、わざわざ後から枠をはめるなど
の特別な工程を要することなく、そのまま鏡筒に固定す
ることができる。また、凸部89および凸部90は、回
折格子パターンと一体に形成され、回折格子パターンと
既にアライメントがあっているので、鏡筒に固定する際
に、鏡筒と回折格子パターンのアライメントを合わせる
必要がなく、アライメントのための時間や手間を大幅に
節約することができる。
もある必要はなく、枠の設計に基づいて一方だけとする
こともできる。この場合には、両方に凸部がある場合よ
りも、より違いが大きくなるので、回折格子パターンの
ある面をより判断し易くなる利点がある。また、図24
では、同心円状の回折格子パターンを有するDOE88
を示したが、直線状の回折格子パターンの場合にも、こ
の例を有効に適用することができる。
を示す断面図である。このDOE91は、同心円状の回
折格子パターンを形成した円状の領域72およびその外
側の回折格子パターンのない輪帯状の領域73とを支持
する部材92と、この支持部材92とは異なる材料から
なり、回折格子パターンのない領域73上に形成した識
別部材93とを有する。支持部材92は、例えば、可視
光に対して十分透明な材料で形成する。また、識別部材
93は、支持部材92との違いが目視で認識できる材
料、例えば、透明ではなく色がついた材料や、屈折率が
支持部材92の屈折率と大きく異なる材料等で形成し、
かつその大きさは、目視で認識することができる程度に
大きくする。
別部材93とを目視で容易に区別できるので、識別部材
93がDOE91のどちらの面にあるかが容易にわか
る。ここで、識別部材93は、回折格子パターンを形成
した面と同じ側にあるので、識別部材93がDOE91
のどちらの面にあるかがわかれば、回折格子パターンが
どちらにあるのかも容易にわかる。すなわち、識別部材
93はDOE91の回折格子パターンがある面を示す目
印の役割を果たすことになる。したがって、かかるDO
E91を用いれば、光学系を組み立てる際などに、DO
E91の表裏を容易に識別できるので、その表裏を間違
えることなく正確に組み込むことができ、作業にかかる
時間を短縮することができる。
うに支持部材92の表面より突出して設ける他、例え
ば、図26に第10の例を示すように、支持部材92の
領域73に溝を形成し、この溝に埋設するようにしても
よい。また、この識別部材93は、回折格子パターンが
ある面側の他、例えば、回折格子パターンがある面と反
対の面に設けることもできるし、あるいは、図27に第
11の例を示すように、支持部材92の側面に設けるこ
ともできる。ただし、図27に示すように、識別部材9
3を支持部材92の側面に設ける場合には、回折格子パ
ターンがある面に近い位置か、もしくはその反対の面に
近い位置にかたよって設ける。また、上述した識別部材
93は、支持部材92の一部にのみ設けることもでき
る。
平面板上に回折格子パターンを形成したDOEを示した
が、両面とも球面の場合や、一方が平面で他方が球面の
場合でも、同様に適用することができる。すなわち、両
面とも球面の場合には、両者の曲率半径が近いと、どち
らの面に回折格子パターンが形成されているかがわかり
にくいが、上記第1〜11の例に示したような目印を形
成すれば、回折格子パターン面を容易に判別することが
できる。また、一方が平面で他方が球面の場合には、球
面の曲率半径が大きいと平面に近くなり、目視での判別
が困難になるが、両面とも球面である場合と同様に、上
記第1〜11の例に示したような目印を形成すれば、回
折格子パターン面を容易に判別することができる。
ば、回折格子パターンを形成した面がどちらであるか
を、目視で容易に認識することができる。したがって、
このDOEを用いて光学系を組み立てる際などには、回
折格子パターンを形成した面と他の面との識別にかかる
時間が短縮でき、また、間違いもなくなる。
の形成と同時に形成できるので、後から別に形成する場
合に比べて、時間や費用の節約になり、したがってDO
Eを迅速かつ安価に量産することができる。また、後か
ら目印を別に形成する場合には、目印を形成する際に回
折格子パターンがどちらの面にあるのかが判断しにくい
が、上記のように初めから一体に形成できるので、その
ような心配もない。さらに、回折格子パターンを成形す
る材料と同一材料で目印を形成する場合には、材料の境
目がないので、剥がれる危険性もなく、耐久性の高いD
OEを得ることができる。
する回折光学素子であって、前記回折格子パターンを形
成した面を他の面と区別するための識別手段を有するこ
とを特徴とする回折光学素子。 2.付記1記載の回折光学素子において、前記回折格子
パターンと、該回折格子パターンを形成した面を支持す
る部材と、前記識別手段とを一体に成形したことを特徴
とする回折光学素子。
によれば、被検面測定用回折パターンと被検面アライメ
ント用回折パターンとを別々の部材に形成し、その2つ
の部材の相対的な位置を一定に保持したヌル原器を用い
るので、液晶素子を用いる場合に比べて構成を簡単にで
きると共に、測定精度を向上できる。また、1つの波長
の光を用いて、被検面アライメントと被検面測定とを行
うことができ、しかも、被検面測定用回折パターンと被
検面アライメント用回折パターンとを別々の部材に形成
されているので、光の利用効率を高めることができると
共に、異なる被検面に対応するときにも、被検面測定用
パターンだけを作りなおせばよいので、汎用性も向上で
きる。
よれば、ヌル原器に、被検面測定用回折パターンと、被
検面アライメント用回折パターンと、ヌル原器アライメ
ント用回折パターンとを一体に形成しているので、ヌル
原器のアライメントを容易に、しかも高精度で行うこと
ができる。また、ヌル原器のアライメントと被検面のア
ライメントとをヌル原器を交換することなく、一つの素
子で行え、また、アライメントが終了したら、ヌル原器
を動かすことなく測定に移行することができるので、ア
ライメントの精度を維持することができ、したがって測
定精度を向上することができる。
よれば、測定用パターンの一部にアライメント用の波長
の光を透過回折させて、被検面アライメント用の波面を
発生させるようにしたので、ヌル原器にアライメント用
パターンを形成する必要がない。したがって、簡単に製
作できるヌル原器を用いて高精度の形状測定を行うこと
ができる。
構成を示す図である。
る。
示す図である。
めの図である。
の他の保持態様を示す図である。
するための図である。
構成を示す図である。
る。
である。
る。
の図である。
る。
識別する識別手段を有するDOEの第1の例を示す図で
ある。
Claims (3)
- 【請求項1】 光源と、この光源からの光を参照光と測
定光とに分割すると共に、被検面で反射した測定光と前
記参照光とを合成して干渉縞を生じさせるための分割合
成素子と、この分割合成素子と前記被検面との間に配置
した干渉測定用ヌル原器とを有する非球面形状測定用干
渉計において、 前記干渉測定用ヌル原器は、相対的位置を一定に保持し
た、 回折格子からなる被検面測定用パターンを形成した第1
の光学部材と、 回折格子からなる被検面アライメント用パターンを形成
した第2の光学部材とを有することを特徴とする非球面
形状測定用干渉計。 - 【請求項2】 光源と、この光源からの光を参照光と測
定光とに分割すると共に、被検面で反射した測定光と前
記参照光とを合成して干渉縞を生じさせるための分割合
成素子と、この分割合成素子により分割された測定光を
球面波に変換する参照レンズと、この参照レンズと前記
被検面との間に配置した干渉測定用ヌル原器とを有する
非球面形状測定用干渉計において、 前記干渉測定用ヌル原器は、 回折格子からなる被検面測定用パターンおよび被検面ア
ライメント用パターンと、 反射型の回折格子からなるヌル原器アライメント用パタ
ーンとを有することを特徴とする非球面形状測定用干渉
計。 - 【請求項3】 光源と、この光源からの光を参照光と測
定光とに分割すると共に、被検面で反射した測定光と前
記参照光とを合成して干渉縞を生じさせるための分割合
成素子と、この分割合成素子と前記被検面との間に配置
した干渉測定用ヌル原器とを有する非球面形状測定用干
渉計において、 前記干渉測定用ヌル原器は、回折格子からなる被検面測
定用パターンを有し、 被検面アライメント時に、前記被検面測定用パターンの
一部に、被検面測定時とは異なる波長の光を入射させ、
それにより発生する波面を被検面のアライメントに用い
るよう構成したことを特徴とする非球面形状測定用干渉
計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31513995A JP3655680B2 (ja) | 1995-12-04 | 1995-12-04 | 非球面形状測定用干渉計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31513995A JP3655680B2 (ja) | 1995-12-04 | 1995-12-04 | 非球面形状測定用干渉計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH09159420A true JPH09159420A (ja) | 1997-06-20 |
JP3655680B2 JP3655680B2 (ja) | 2005-06-02 |
Family
ID=18061883
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31513995A Expired - Fee Related JP3655680B2 (ja) | 1995-12-04 | 1995-12-04 | 非球面形状測定用干渉計 |
Country Status (1)
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---|---|
JP (1) | JP3655680B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002257525A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-09-11 | Nikon Corp | 波面変換光学系、面形状測定装置、及び面形状測定方法 |
JP2006078275A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Mitsutoyo Corp | 光学式変位測定装置 |
JP2011242221A (ja) * | 2010-05-17 | 2011-12-01 | Fujifilm Corp | 回転対称非球面形状測定装置 |
CN103063154A (zh) * | 2012-11-08 | 2013-04-24 | 上海现代先进超精密制造中心有限公司 | 一种锥镜检测装置及其检测方法 |
JP2014055920A (ja) * | 2012-09-14 | 2014-03-27 | Omron Corp | 共焦点計測装置 |
-
1995
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002257525A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-09-11 | Nikon Corp | 波面変換光学系、面形状測定装置、及び面形状測定方法 |
JP4635371B2 (ja) * | 2001-04-27 | 2011-02-23 | 株式会社ニコン | 波面変換光学系、面形状測定装置、及び面形状測定方法 |
JP2006078275A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Mitsutoyo Corp | 光学式変位測定装置 |
JP4615938B2 (ja) * | 2004-09-08 | 2011-01-19 | 株式会社ミツトヨ | 光学式変位測定装置 |
JP2011242221A (ja) * | 2010-05-17 | 2011-12-01 | Fujifilm Corp | 回転対称非球面形状測定装置 |
JP2014055920A (ja) * | 2012-09-14 | 2014-03-27 | Omron Corp | 共焦点計測装置 |
CN103063154A (zh) * | 2012-11-08 | 2013-04-24 | 上海现代先进超精密制造中心有限公司 | 一种锥镜检测装置及其检测方法 |
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