JPH09119905A - Ｘ線小角散乱装置 - Google Patents
Ｘ線小角散乱装置Info
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- JPH09119905A JPH09119905A JP30068495A JP30068495A JPH09119905A JP H09119905 A JPH09119905 A JP H09119905A JP 30068495 A JP30068495 A JP 30068495A JP 30068495 A JP30068495 A JP 30068495A JP H09119905 A JPH09119905 A JP H09119905A
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- rays
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｘ線小角散乱装置において、試料で発生する
散乱Ｘ線をＸ線検出器によって測定する際の測定可能領
域を広げる。 【解決手段】 Ｘ線源Ｆから放射されたＸ線を平行Ｘ線
ビームに成形する第１スリット１及び第２スリット２
と、第２スリット２で発生する寄生散乱Ｘ線の進行を阻
止しながら平行Ｘ線ビームを試料へ導く第３スリット３
と、試料Ｓから発生する被測定散乱Ｘ線を検出するＸ線
検出器４とを有するＸ線小角散乱装置である。本発明で
は、第３スリット３と試料Ｓとを同じ支持部材７によっ
て一体に支持する。距離Ｌ４’が小さくなり、それに対
応して距離Ｌ３’が大きくなるので、測定不可能領域
Ｅ’が狭くなり、それに対応して測定可能領域Ｇが低角
度側へ広がる。
散乱Ｘ線をＸ線検出器によって測定する際の測定可能領
域を広げる。 【解決手段】 Ｘ線源Ｆから放射されたＸ線を平行Ｘ線
ビームに成形する第１スリット１及び第２スリット２
と、第２スリット２で発生する寄生散乱Ｘ線の進行を阻
止しながら平行Ｘ線ビームを試料へ導く第３スリット３
と、試料Ｓから発生する被測定散乱Ｘ線を検出するＸ線
検出器４とを有するＸ線小角散乱装置である。本発明で
は、第３スリット３と試料Ｓとを同じ支持部材７によっ
て一体に支持する。距離Ｌ４’が小さくなり、それに対
応して距離Ｌ３’が大きくなるので、測定不可能領域
Ｅ’が狭くなり、それに対応して測定可能領域Ｇが低角
度側へ広がる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、入射Ｘ線の光軸を
中心とする小角度領域における散乱Ｘ線の強度の変化を
測定するＸ線小角散乱装置に関する。
中心とする小角度領域における散乱Ｘ線の強度の変化を
測定するＸ線小角散乱装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】物質によっては、それにＸ線を照射した
ときに入射Ｘ線の光軸を中心とする小角度領域、例えば
０゜〜５゜程度の角度領域において散乱Ｘ線が発生する
ことがある。例えば、物質中に１０〜１０００Å程度の
微細な粒子やこれに相当する大きさの密度の不均一な領
域が存在すると、入射線方向に散漫な散乱、いわゆる中
心散乱が生じる。この中心散乱は粒子の内部構造には無
関係で粒子が小さいほど広がる。この散乱は、結晶質あ
るいは非晶質に関わらず存在し、散乱角すなわち入射Ｘ
線の光軸からの角度が０゜〜５゜程度の小角度領域で観
測される。また、小角度領域には上記の中心散乱の他
に、蛋白質の結晶のように格子面間隔が非常に大きい場
合のブラッグ反射や、繊維試料で結晶質と非晶質とが周
期的に並んだ、いわゆる長周期構造の場合のＸ線回折な
どが観測される。以上のような中心散乱、ブラッグ反射
及びＸ線回折を含めて、小角度領域において観測される
Ｘ線は一般に小角散乱と呼ばれている。
ときに入射Ｘ線の光軸を中心とする小角度領域、例えば
０゜〜５゜程度の角度領域において散乱Ｘ線が発生する
ことがある。例えば、物質中に１０〜１０００Å程度の
微細な粒子やこれに相当する大きさの密度の不均一な領
域が存在すると、入射線方向に散漫な散乱、いわゆる中
心散乱が生じる。この中心散乱は粒子の内部構造には無
関係で粒子が小さいほど広がる。この散乱は、結晶質あ
るいは非晶質に関わらず存在し、散乱角すなわち入射Ｘ
線の光軸からの角度が０゜〜５゜程度の小角度領域で観
測される。また、小角度領域には上記の中心散乱の他
に、蛋白質の結晶のように格子面間隔が非常に大きい場
合のブラッグ反射や、繊維試料で結晶質と非晶質とが周
期的に並んだ、いわゆる長周期構造の場合のＸ線回折な
どが観測される。以上のような中心散乱、ブラッグ反射
及びＸ線回折を含めて、小角度領域において観測される
Ｘ線は一般に小角散乱と呼ばれている。
【０００３】本発明に係るＸ線小角散乱装置は、そのよ
うな小角散乱を測定するための装置である。このＸ線小
角散乱装置は、試料から発生する弱い散乱Ｘ線を測定す
ることから、分解能やＳ／Ｎ比を低下させる寄生散乱を
できるだけ除くことが必要である。ここで分解能には、
散乱Ｘ線の測定がどれほど小角まで可能かを示す小角分
解能と、隣接した回折線を分離して測定するのに必要と
なる角度分解能とが考えられるが、小角散乱測定ではい
ずれの分解能も高く維持される必要がある。また、寄生
散乱というのは、Ｘ線測定系から試料を取り除いたとき
に観測されるＸ線のことであり、散乱Ｘ線に曝される光
学要素からの散漫散乱や白色Ｘ線で励起される蛍光Ｘ線
などがその主な発生原因と考えられる。
うな小角散乱を測定するための装置である。このＸ線小
角散乱装置は、試料から発生する弱い散乱Ｘ線を測定す
ることから、分解能やＳ／Ｎ比を低下させる寄生散乱を
できるだけ除くことが必要である。ここで分解能には、
散乱Ｘ線の測定がどれほど小角まで可能かを示す小角分
解能と、隣接した回折線を分離して測定するのに必要と
なる角度分解能とが考えられるが、小角散乱測定ではい
ずれの分解能も高く維持される必要がある。また、寄生
散乱というのは、Ｘ線測定系から試料を取り除いたとき
に観測されるＸ線のことであり、散乱Ｘ線に曝される光
学要素からの散漫散乱や白色Ｘ線で励起される蛍光Ｘ線
などがその主な発生原因と考えられる。
【０００４】上記のような測定を高精度に実現するため
に、従来より、種々の形式のＸ線小角散乱装置が知られ
ている。例えば、図４に示すように、第１スリット５
１、第２スリット５２及び第３スリット５３の３個のス
リットを用いた、いわゆる３スリット系Ｘ線小角散乱装
置が知られている。このＸ線小角散乱装置では、線源Ｆ
から放射されて発散するＸ線を第１スリット５１及び第
２スリット５２を用いて平行Ｘ線ビームに成形し、さら
に第２スリット５２で発生する寄生散乱Ｘ線の進行を第
３スリット５３によって阻止して、その寄生散乱Ｘ線を
除いたＸ線を試料Ｓへ照射する。こうして試料Ｓに平行
Ｘ線ビームが照射されると、試料Ｓの性質に応じて小角
度領域内に散乱Ｘ線が発生し、その散乱Ｘ線によって二
次元Ｘ線検出器５４が露光されてそのＸ線検出器５４に
散乱Ｘ線に対応したＸ線潜像が形成される。このＸ線潜
像を可視像化した後、その可視像を観察することによっ
て試料Ｓの内部構造などを判定する。
に、従来より、種々の形式のＸ線小角散乱装置が知られ
ている。例えば、図４に示すように、第１スリット５
１、第２スリット５２及び第３スリット５３の３個のス
リットを用いた、いわゆる３スリット系Ｘ線小角散乱装
置が知られている。このＸ線小角散乱装置では、線源Ｆ
から放射されて発散するＸ線を第１スリット５１及び第
２スリット５２を用いて平行Ｘ線ビームに成形し、さら
に第２スリット５２で発生する寄生散乱Ｘ線の進行を第
３スリット５３によって阻止して、その寄生散乱Ｘ線を
除いたＸ線を試料Ｓへ照射する。こうして試料Ｓに平行
Ｘ線ビームが照射されると、試料Ｓの性質に応じて小角
度領域内に散乱Ｘ線が発生し、その散乱Ｘ線によって二
次元Ｘ線検出器５４が露光されてそのＸ線検出器５４に
散乱Ｘ線に対応したＸ線潜像が形成される。このＸ線潜
像を可視像化した後、その可視像を観察することによっ
て試料Ｓの内部構造などを判定する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の３スリット系Ｘ
線小角散乱装置では、第１スリット５１、第２スリット
５２及び第３スリット５３のそれぞれが個別のホルダ５
５によって支持され、さらに試料Ｓも専用のサンプルホ
ルダ５６によって支持されていた。また、図５に示すよ
うに、第１スリット５１、第２スリット５２及び第３ス
リット５３を１つのホルダ５７によって一体に支持し、
そして試料Ｓを専用のサンプルホルダ５６によって支持
するようにしたＸ線小角散乱装置も知られている。
線小角散乱装置では、第１スリット５１、第２スリット
５２及び第３スリット５３のそれぞれが個別のホルダ５
５によって支持され、さらに試料Ｓも専用のサンプルホ
ルダ５６によって支持されていた。また、図５に示すよ
うに、第１スリット５１、第２スリット５２及び第３ス
リット５３を１つのホルダ５７によって一体に支持し、
そして試料Ｓを専用のサンプルホルダ５６によって支持
するようにしたＸ線小角散乱装置も知られている。
【０００６】ところで、図４において、Ｘ線検出器５４
の所に示してある符号Ｄは、線源Ｆから出たＸ線が試料
Ｓを通過して直接Ｘ線検出器５４に受け取られる領域、
いわゆるダイレクトビームの照射領域を示している。ま
た、符号Ｅは、第２スリット５２の所で発生する寄生散
乱Ｘ線が第３スリット５３によって阻止されないでＸ線
検出器５４に到達する領域を示している。これらの領域
Ｄ及び領域Ｅは、それらのダイレクトビーム及び第２ス
リット５２からの寄生散乱Ｘ線の影響で、試料Ｓから発
生する測定対象である散乱Ｘ線を読みとることができな
い領域、いわゆる測定不可能領域である。
の所に示してある符号Ｄは、線源Ｆから出たＸ線が試料
Ｓを通過して直接Ｘ線検出器５４に受け取られる領域、
いわゆるダイレクトビームの照射領域を示している。ま
た、符号Ｅは、第２スリット５２の所で発生する寄生散
乱Ｘ線が第３スリット５３によって阻止されないでＸ線
検出器５４に到達する領域を示している。これらの領域
Ｄ及び領域Ｅは、それらのダイレクトビーム及び第２ス
リット５２からの寄生散乱Ｘ線の影響で、試料Ｓから発
生する測定対象である散乱Ｘ線を読みとることができな
い領域、いわゆる測定不可能領域である。
【０００７】従来のＸ線小角散乱装置では、サンプルホ
ルダ５６とスリットホルダ５５（図４）との機械的な大
きさのために、あるいはサンプルホルダ５６とスリット
ホルダ５７（図５）との機械的な大きさのために、第３
スリット５３と試料Ｓとの間の距離Ｌ４を小さくするこ
とがでなかった。具体的には、最短でも２０ｍｍ程度に
しかできなかった。距離Ｌ４が短くできないということ
は、第３スリット５３を通過してＸ線検出器５４に到達
する寄生散乱Ｘ線の領域Ｅを狭くすることができないと
いうことであり、このことは、Ｘ線検出器５４における
測定不可能領域が広くなって、Ｘ線検出器５４の広い領
域を観察の対象とすることができないということであ
る。
ルダ５６とスリットホルダ５５（図４）との機械的な大
きさのために、あるいはサンプルホルダ５６とスリット
ホルダ５７（図５）との機械的な大きさのために、第３
スリット５３と試料Ｓとの間の距離Ｌ４を小さくするこ
とがでなかった。具体的には、最短でも２０ｍｍ程度に
しかできなかった。距離Ｌ４が短くできないということ
は、第３スリット５３を通過してＸ線検出器５４に到達
する寄生散乱Ｘ線の領域Ｅを狭くすることができないと
いうことであり、このことは、Ｘ線検出器５４における
測定不可能領域が広くなって、Ｘ線検出器５４の広い領
域を観察の対象とすることができないということであ
る。
【０００８】また、従来のＸ線小角散乱装置では、上記
の通り、サンプルホルダ５６とスリットホルダ５５又は
５７が別体であったので、装置全体の光学的な位置関係
を調節する際、試料Ｓと第３スリットの位置関係を個別
に調節しなければならず、その位置関係の調節作業が非
常に面倒であった。本発明は、従来装置における上記の
問題点を解消するためになされたものであって、Ｘ線検
出器における測定可能領域を広げること及び第３スリッ
トと試料の光学的な位置調節を行い易くすることを目的
とする。
の通り、サンプルホルダ５６とスリットホルダ５５又は
５７が別体であったので、装置全体の光学的な位置関係
を調節する際、試料Ｓと第３スリットの位置関係を個別
に調節しなければならず、その位置関係の調節作業が非
常に面倒であった。本発明は、従来装置における上記の
問題点を解消するためになされたものであって、Ｘ線検
出器における測定可能領域を広げること及び第３スリッ
トと試料の光学的な位置調節を行い易くすることを目的
とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係るＸ線小角散乱装置は、Ｘ線源から放射
されたＸ線を平行Ｘ線ビームに成形する第１スリット及
び第２スリットと、第２スリットで発生する散乱Ｘ線の
進行を阻止しながら平行Ｘ線ビームを試料へ導く第３ス
リットと、試料から発生する散乱Ｘ線を検出するＸ線検
出器とを有するＸ線小角散乱装置において、第３スリッ
トと試料とを同じ支持部材によって一体に支持すること
を特徴とする。
め、本発明に係るＸ線小角散乱装置は、Ｘ線源から放射
されたＸ線を平行Ｘ線ビームに成形する第１スリット及
び第２スリットと、第２スリットで発生する散乱Ｘ線の
進行を阻止しながら平行Ｘ線ビームを試料へ導く第３ス
リットと、試料から発生する散乱Ｘ線を検出するＸ線検
出器とを有するＸ線小角散乱装置において、第３スリッ
トと試料とを同じ支持部材によって一体に支持すること
を特徴とする。
【００１０】第３スリット及び試料を同じ支持部材によ
って支持するれば、第３スリットと試料との間の距離を
非常に小さくすることができる。このことは、第３スリ
ットの上流側に配置された第２スリットと試料との間の
距離を一定に維持するときに、第２スリットと第３スリ
ットとの間の距離を大きくできるということである。こ
のように第２スリットと第３スリットとの間の距離を大
きくできるということは、第２スリットから発生する寄
生散乱Ｘ線が第３スリットを通過してＸ線検出器に到達
する領域を狭められるということであり、その結果、試
料から発生する測定対象である散乱Ｘ線をＸ線検出器に
よって捕えることができる領域を低角度側へ広くできる
ということである。また、第３スリットと試料とを同じ
支持部材によって一体に支持すれば、それらを光学的に
位置調節する際、その１つの支持部材を位置調節するだ
けで第３スリットと試料の両方の位置調節が同時に実行
でき、操作性が向上する。
って支持するれば、第３スリットと試料との間の距離を
非常に小さくすることができる。このことは、第３スリ
ットの上流側に配置された第２スリットと試料との間の
距離を一定に維持するときに、第２スリットと第３スリ
ットとの間の距離を大きくできるということである。こ
のように第２スリットと第３スリットとの間の距離を大
きくできるということは、第２スリットから発生する寄
生散乱Ｘ線が第３スリットを通過してＸ線検出器に到達
する領域を狭められるということであり、その結果、試
料から発生する測定対象である散乱Ｘ線をＸ線検出器に
よって捕えることができる領域を低角度側へ広くできる
ということである。また、第３スリットと試料とを同じ
支持部材によって一体に支持すれば、それらを光学的に
位置調節する際、その１つの支持部材を位置調節するだ
けで第３スリットと試料の両方の位置調節が同時に実行
でき、操作性が向上する。
【００１１】第３スリット及び試料を同じ支持部材によ
って一体に支持するための具体的な構成としては、例え
ば、第３スリットを形成したスリット板に試料止め具を
設け、その試料止め具によって試料を支持するという構
成が考えられる。この試料止め具としては、例えば、バ
ネ力によって試料をスリット板に押し付ける板バネその
他のバネ部材や、接着剤や、粘着テープなどが考えられ
る。第３スリットのスリット形状は、丸穴及び長穴のい
ずれとすることもできる。
って一体に支持するための具体的な構成としては、例え
ば、第３スリットを形成したスリット板に試料止め具を
設け、その試料止め具によって試料を支持するという構
成が考えられる。この試料止め具としては、例えば、バ
ネ力によって試料をスリット板に押し付ける板バネその
他のバネ部材や、接着剤や、粘着テープなどが考えられ
る。第３スリットのスリット形状は、丸穴及び長穴のい
ずれとすることもできる。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１は、本発明に係るＸ線小角散
乱装置の一実施形態を示している。このＸ線小角散乱装
置は、Ｘ線を発生する線源Ｆと、第１スリット１及び第
２スリット２によって構成されるスリットユニット９
と、スリットユニット９の下流側（図の右側）に配置さ
れた第３スリット３と、そして第３スリット３の下流側
に配置されたＸ線検出器４とを有している。本実施形態
では、Ｘ線検出器４として、Ｘ線を平面内で捕えること
のできるＸ線検出器、すなわち二次元Ｘ線検出器を用い
るものとする。この二次元Ｘ線検出器としては、例え
ば、蓄積性蛍光体やＸ線フィルムなどが考えられる。
乱装置の一実施形態を示している。このＸ線小角散乱装
置は、Ｘ線を発生する線源Ｆと、第１スリット１及び第
２スリット２によって構成されるスリットユニット９
と、スリットユニット９の下流側（図の右側）に配置さ
れた第３スリット３と、そして第３スリット３の下流側
に配置されたＸ線検出器４とを有している。本実施形態
では、Ｘ線検出器４として、Ｘ線を平面内で捕えること
のできるＸ線検出器、すなわち二次元Ｘ線検出器を用い
るものとする。この二次元Ｘ線検出器としては、例え
ば、蓄積性蛍光体やＸ線フィルムなどが考えられる。
【００１３】Ｘ線フィルムというのは、Ｘ線に感光して
その部分に潜像を形成し、現像処理によってそれを顕像
とすることができる平面状フィルムのことである。この
顕像を目視によって観察することにより、Ｘ線フィルム
の感光に寄与したＸ線の入射位置及び強度を測定でき
る。
その部分に潜像を形成し、現像処理によってそれを顕像
とすることができる平面状フィルムのことである。この
顕像を目視によって観察することにより、Ｘ線フィルム
の感光に寄与したＸ線の入射位置及び強度を測定でき
る。
【００１４】一方、蓄積性蛍光体というのは、輝尽性蛍
光体とも呼ばれる物質であってＸ線などに対する平面状
の感光体のことである。この蓄積性蛍光体は、Ｘ線など
をエネルギの形で蓄積することができ、さらに、レーザ
光などといった輝尽励起光の照射によりそのエネルギを
外部に光として取り出すことのできる性質を有する物質
である。つまり、蓄積性蛍光体にＸ線などの放射線を照
射すると、その照射された部分に対応する蓄積性蛍光体
内にエネルギが潜像として蓄積され、さらにその蓄積性
蛍光体にレーザ光などの輝尽励起光を照射すると上記潜
像エネルギが光となって外部へ放出される。この放出さ
れた光を光電管などによって検出することにより、潜像
の形成に寄与したＸ線、本発明の場合は試料からの散乱
Ｘ線の散乱角度及び強度を測定できる。
光体とも呼ばれる物質であってＸ線などに対する平面状
の感光体のことである。この蓄積性蛍光体は、Ｘ線など
をエネルギの形で蓄積することができ、さらに、レーザ
光などといった輝尽励起光の照射によりそのエネルギを
外部に光として取り出すことのできる性質を有する物質
である。つまり、蓄積性蛍光体にＸ線などの放射線を照
射すると、その照射された部分に対応する蓄積性蛍光体
内にエネルギが潜像として蓄積され、さらにその蓄積性
蛍光体にレーザ光などの輝尽励起光を照射すると上記潜
像エネルギが光となって外部へ放出される。この放出さ
れた光を光電管などによって検出することにより、潜像
の形成に寄与したＸ線、本発明の場合は試料からの散乱
Ｘ線の散乱角度及び強度を測定できる。
【００１５】本実施形態では、図１において、第１スリ
ット１が専用のスリット支持部材５ａによって支持さ
れ、第２スリット２が専用のスリット支持部材５ｂによ
って支持され、そして、第３スリット３及び試料Ｓが共
通の支持部材７によって一体に支持されている。支持部
材７は、例えば図２に示すように、丸穴形状の第３スリ
ット３が形成されたスリット板１１に試料止め具１２を
設けることによって構成される。試料止め具１２は、本
実施形態の場合、板バネの外側端をスリット板１１の表
面に固着し、それらの内側端を自由移動端とすることに
よって構成する。試料Ｓは、板バネ状の試料止め具１２
の自由移動端に挟み付けられることによってスリット板
１１の第３スリット３の下流側位置に置かれる。
ット１が専用のスリット支持部材５ａによって支持さ
れ、第２スリット２が専用のスリット支持部材５ｂによ
って支持され、そして、第３スリット３及び試料Ｓが共
通の支持部材７によって一体に支持されている。支持部
材７は、例えば図２に示すように、丸穴形状の第３スリ
ット３が形成されたスリット板１１に試料止め具１２を
設けることによって構成される。試料止め具１２は、本
実施形態の場合、板バネの外側端をスリット板１１の表
面に固着し、それらの内側端を自由移動端とすることに
よって構成する。試料Ｓは、板バネ状の試料止め具１２
の自由移動端に挟み付けられることによってスリット板
１１の第３スリット３の下流側位置に置かれる。
【００１６】試料Ｓを支持したスリット板１１は、Ｘ線
小角散乱装置の所定位置に固定設置された試料支持ステ
ージ８によって支持される。この試料支持ステージ８
は、スリット板１１をガタツキ無く支持する一対の支持
ブロック１３，１３と、それらの支持ブロックを上下方
向へ平行移動可能に支持するＺステージ１４と、そのＺ
ステージ１４を前後左右の平面内で平行移動可能に支持
するＸＹステージ１５とを有している。
小角散乱装置の所定位置に固定設置された試料支持ステ
ージ８によって支持される。この試料支持ステージ８
は、スリット板１１をガタツキ無く支持する一対の支持
ブロック１３，１３と、それらの支持ブロックを上下方
向へ平行移動可能に支持するＺステージ１４と、そのＺ
ステージ１４を前後左右の平面内で平行移動可能に支持
するＸＹステージ１５とを有している。
【００１７】本実施形態のＸ線小角散乱装置は以上のよ
うに構成されているので、図１において、線源Ｆから放
射されて発散するＸ線は、第１スリット１及び第２スリ
ット２から成るスリットユニット９によって平行Ｘ線ビ
ームに成形され、その平行Ｘ線ビームが試料Ｓに入射す
る。すると、試料２の性質に応じてその試料Ｓから散乱
Ｘ線が発生し、その散乱Ｘ線がＸ線検出器４に到達して
それを感光し、その感光部分に潜像を形成する。この潜
像を読みとれば、散乱Ｘ線の散乱角度（すなわち、Ｘ線
光軸Ｌからの角度２θ）及びＸ線強度を測定できる。
うに構成されているので、図１において、線源Ｆから放
射されて発散するＸ線は、第１スリット１及び第２スリ
ット２から成るスリットユニット９によって平行Ｘ線ビ
ームに成形され、その平行Ｘ線ビームが試料Ｓに入射す
る。すると、試料２の性質に応じてその試料Ｓから散乱
Ｘ線が発生し、その散乱Ｘ線がＸ線検出器４に到達して
それを感光し、その感光部分に潜像を形成する。この潜
像を読みとれば、散乱Ｘ線の散乱角度（すなわち、Ｘ線
光軸Ｌからの角度２θ）及びＸ線強度を測定できる。
【００１８】この測定の際、第２スリット２はＸ線が当
たったときに寄生散乱Ｘ線を発生する。この寄生散乱Ｘ
線は測定対象である試料Ｓからの散乱Ｘ線に対するノイ
ズ成分となるものであるから、その寄生散乱Ｘ線がＸ線
検出器４に到達することはできる限り避けなければなら
ない。第３スリット３は、その寄生散乱Ｘ線がＸ線検出
器４へ向かうことを阻止する。具体的には、第２スリッ
ト２と第３スリット３を結ぶ破線Ｌ１によって規定され
る領域Ｅ’よりも外側の領域Ｇに寄生散乱Ｘ線が漏れ出
ることを防止する。つまり、領域Ｅ’内はダイレクトビ
ームや寄生散乱Ｘ線によって感光する領域であって、測
定が不可能な領域であり、一方、領域Ｇ内はダイレクト
ビームや寄生散乱Ｘ線の受けることが無く正常に測定が
できる領域ということになる。
たったときに寄生散乱Ｘ線を発生する。この寄生散乱Ｘ
線は測定対象である試料Ｓからの散乱Ｘ線に対するノイ
ズ成分となるものであるから、その寄生散乱Ｘ線がＸ線
検出器４に到達することはできる限り避けなければなら
ない。第３スリット３は、その寄生散乱Ｘ線がＸ線検出
器４へ向かうことを阻止する。具体的には、第２スリッ
ト２と第３スリット３を結ぶ破線Ｌ１によって規定され
る領域Ｅ’よりも外側の領域Ｇに寄生散乱Ｘ線が漏れ出
ることを防止する。つまり、領域Ｅ’内はダイレクトビ
ームや寄生散乱Ｘ線によって感光する領域であって、測
定が不可能な領域であり、一方、領域Ｇ内はダイレクト
ビームや寄生散乱Ｘ線の受けることが無く正常に測定が
できる領域ということになる。
【００１９】なお、図２のＸＹステージ１５及びＺステ
ージ１４は、試料Ｓ及び第３スリット３をＸ線光軸Ｌに
対して適正な位置に配置させるための光軸調節の際に、
オペレータの手動により又は自動制御により、適宜な距
離だけ平行移動する。
ージ１４は、試料Ｓ及び第３スリット３をＸ線光軸Ｌに
対して適正な位置に配置させるための光軸調節の際に、
オペレータの手動により又は自動制御により、適宜な距
離だけ平行移動する。
【００２０】ところで、図４及び図５に示した従来の装
置では、第３スリット５３を支持するホルダ５５又は５
７と試料ホルダ５６とが別々であったので、それらのホ
ルダの機械的な大きさに起因して、第３スリット５３と
試料Ｓとの間の距離Ｌ４を小さくできなかった。そのた
め、従来装置の場合は、第２スリット５２と試料Ｓとの
間の距離を一定に維持するとき、第２スリット２と第３
スリットとの間の距離Ｌ３が必然的に小さくならざるを
得ず、その結果、第２スリット２で発生する寄生散乱Ｘ
線がＸ線検出器５４に到達する領域Ｅがかなり広かっ
た。
置では、第３スリット５３を支持するホルダ５５又は５
７と試料ホルダ５６とが別々であったので、それらのホ
ルダの機械的な大きさに起因して、第３スリット５３と
試料Ｓとの間の距離Ｌ４を小さくできなかった。そのた
め、従来装置の場合は、第２スリット５２と試料Ｓとの
間の距離を一定に維持するとき、第２スリット２と第３
スリットとの間の距離Ｌ３が必然的に小さくならざるを
得ず、その結果、第２スリット２で発生する寄生散乱Ｘ
線がＸ線検出器５４に到達する領域Ｅがかなり広かっ
た。
【００２１】これに対して本実施形態に係るＸ線小角散
乱装置では、図１に示すように、第３スリット３と試料
Ｓとが一体に支持されるので、第３スリット３と試料Ｓ
との間の距離Ｌ４’を非常に小さくでき、その結果とし
て、第２スリット２と第３スリット３との間の距離Ｌ
３’を大きくとることができる。その結果、第２スリッ
ト２からの寄生散乱Ｘ線がＸ線検出器４に到達できる領
域を符号Ｅ’で示すように、従来の領域Ｅに比べて非常
に小さくできる。そのため、観察に供することができる
領域、すなわち測定可能領域Ｇを大きくとることが可能
となる。
乱装置では、図１に示すように、第３スリット３と試料
Ｓとが一体に支持されるので、第３スリット３と試料Ｓ
との間の距離Ｌ４’を非常に小さくでき、その結果とし
て、第２スリット２と第３スリット３との間の距離Ｌ
３’を大きくとることができる。その結果、第２スリッ
ト２からの寄生散乱Ｘ線がＸ線検出器４に到達できる領
域を符号Ｅ’で示すように、従来の領域Ｅに比べて非常
に小さくできる。そのため、観察に供することができる
領域、すなわち測定可能領域Ｇを大きくとることが可能
となる。
【００２２】さらに、第３スリット３と試料Ｓとを一体
に支持することにより、それらの光学的な位置を線源Ｆ
に対して適切な位置に調節するとき、その調節操作が非
常に簡単になる。
に支持することにより、それらの光学的な位置を線源Ｆ
に対して適切な位置に調節するとき、その調節操作が非
常に簡単になる。
【００２３】なお、図２に示す実施形態では第３スリッ
ト３として丸穴形状のスリットを用いたが、図３に示す
ように、第３スリット３を長穴形状のスリットによって
構成することもできる。さらに、正方形状のスリットと
することも可能である。
ト３として丸穴形状のスリットを用いたが、図３に示す
ように、第３スリット３を長穴形状のスリットによって
構成することもできる。さらに、正方形状のスリットと
することも可能である。
【００２４】以上、好ましい実施形態を用いて本発明を
説明したが、本発明はその実施形態に限定されるもので
はなく、請求の範囲に記載した技術的範囲内で種々に改
変できる。例えば、図２に示した試料止め具１２は、板
バネを用いた構造に限られず、接着剤、粘着テープなど
を用いた構造とすることもできる。また、スリット板１
１を支持する構造も、図２に示したような支持ブロック
１３を用いる構造以外の任意の構造を採用できる。ま
た、図１の実施形態では、第１スリット１と第２スリッ
ト２とをそれぞれ個別の支持部材５ａ及び５ｂによって
支持したが、これらを共通の支持部材によって支持する
こともできる。また、図１の実施形態では、Ｘ線検出器
として二次元Ｘ線検出器を用いたが、これに代えて、シ
ンチレーションカウンタなどといった一次元Ｘ線検出
器、すなわちＸ線を一点で検出する形式のＸ線検出器を
用いることもできる。但し、この一次元Ｘ線検出器を用
いる場合には、その一次元Ｘ線検出器を試料を中心とし
て回転走査移動させながら試料からの散乱Ｘ線を検出す
る必要がある。
説明したが、本発明はその実施形態に限定されるもので
はなく、請求の範囲に記載した技術的範囲内で種々に改
変できる。例えば、図２に示した試料止め具１２は、板
バネを用いた構造に限られず、接着剤、粘着テープなど
を用いた構造とすることもできる。また、スリット板１
１を支持する構造も、図２に示したような支持ブロック
１３を用いる構造以外の任意の構造を採用できる。ま
た、図１の実施形態では、第１スリット１と第２スリッ
ト２とをそれぞれ個別の支持部材５ａ及び５ｂによって
支持したが、これらを共通の支持部材によって支持する
こともできる。また、図１の実施形態では、Ｘ線検出器
として二次元Ｘ線検出器を用いたが、これに代えて、シ
ンチレーションカウンタなどといった一次元Ｘ線検出
器、すなわちＸ線を一点で検出する形式のＸ線検出器を
用いることもできる。但し、この一次元Ｘ線検出器を用
いる場合には、その一次元Ｘ線検出器を試料を中心とし
て回転走査移動させながら試料からの散乱Ｘ線を検出す
る必要がある。
【００２５】
【発明の効果】請求項１記載のＸ線小角散乱装置によれ
ば、第３スリットと試料とを同じ支持部材によって一体
に支持するようにしたので、第２スリットと第３スリッ
トとの間の距離を大きくすることができ、その結果、Ｘ
線検出器によって測定できる試料からの散乱Ｘ線の測定
可能領域を低角度側へ広げることができた。また、第３
スリットと試料とを一体に支持することにより、第３ス
リット及び試料の両方の光学的な位置調節を簡単に行う
ことができるようになった。
ば、第３スリットと試料とを同じ支持部材によって一体
に支持するようにしたので、第２スリットと第３スリッ
トとの間の距離を大きくすることができ、その結果、Ｘ
線検出器によって測定できる試料からの散乱Ｘ線の測定
可能領域を低角度側へ広げることができた。また、第３
スリットと試料とを一体に支持することにより、第３ス
リット及び試料の両方の光学的な位置調節を簡単に行う
ことができるようになった。
【００２６】請求項２記載のＸ線小角散乱装置によれ
ば、第３スリットと試料との一体構造をきわめて簡単に
構成できる。また、第３スリットと試料との間の距離を
可能な限り小さくできる。
ば、第３スリットと試料との一体構造をきわめて簡単に
構成できる。また、第３スリットと試料との間の距離を
可能な限り小さくできる。
【００２７】請求項３記載のＸ線小角散乱装置によれ
ば、第３スリットに対する試料の装着及び取り外しをき
わめて簡単に行うことができる。
ば、第３スリットに対する試料の装着及び取り外しをき
わめて簡単に行うことができる。
【００２８】
【図１】本発明に係るＸ線小角散乱装置の一実施形態を
模式的に示す図である。
模式的に示す図である。
【図２】図１の要部を具体的に示す斜視図である。
【図３】図２に対応する部分の改変例を示す斜視図であ
る。
る。
【図４】従来のＸ線小角散乱装置の一例を模式的に示す
図である。
図である。
【図５】従来のＸ線小角散乱装置の他の一例を模式的に
示す図である。
示す図である。
１ 第１スリット ２ 第２スリット ３ 第３スリット ４ Ｘ線検出器 ５ａ，５ｂ スリット支持部材 ７ 支持部材 ８ 試料支持ステージ ９ スリットユニット １１ スリット板 １２ 試料止め具 １３ 支持ブロック １４ Ｚステージ １５ ＸＹステージ
Claims (5)
- 【請求項１】 Ｘ線源から放射されたＸ線を平行Ｘ線ビ
ームに成形する第１スリット及び第２スリットと、第２
スリットで発生する寄生散乱Ｘ線の進行を阻止しながら
平行Ｘ線ビームを試料へ導く第３スリットと、試料から
発生する被測定散乱Ｘ線を検出するＸ線検出器とを有す
るＸ線小角散乱装置において、 第３スリットと試料とを同じ支持部材によって一体に支
持することを特徴とするＸ線小角散乱装置。 - 【請求項２】 請求項１記載のＸ線小角散乱装置におい
て、第３スリットを形成したスリット板に試料止め具を
設け、その試料止め具によって試料を支持することを特
徴とするＸ線小角散乱装置。 - 【請求項３】 請求項２記載のＸ線小角散乱装置におい
て、試料止め具は、バネ力によって試料をスリット板に
押し付けることを特徴とするＸ線小角散乱装置。 - 【請求項４】 請求項１から請求項３のうちの少なくと
もいずれか１つに記載のＸ線小角散乱装置において、第
３スリットは丸穴形状であることを特徴とするＸ線小角
散乱装置。 - 【請求項５】 請求項１から請求項３のうちの少なくと
もいずれか１つに記載のＸ線小角散乱装置において、第
３スリットは長穴形状であることを特徴とするＸ線小角
散乱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30068495A JP3529068B2 (ja) | 1995-10-25 | 1995-10-25 | Ｘ線小角散乱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30068495A JP3529068B2 (ja) | 1995-10-25 | 1995-10-25 | Ｘ線小角散乱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09119905A true JPH09119905A (ja) | 1997-05-06 |
| JP3529068B2 JP3529068B2 (ja) | 2004-05-24 |
Family
ID=17887836
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30068495A Expired - Fee Related JP3529068B2 (ja) | 1995-10-25 | 1995-10-25 | Ｘ線小角散乱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3529068B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005221363A (ja) * | 2004-02-05 | 2005-08-18 | Rigaku Corp | Ｘ線分析用試料支持装置及びｘ線分析装置 |
| CN110376231A (zh) * | 2018-04-13 | 2019-10-25 | 马尔文帕纳科公司 | 具有对光束发散度的混合控制的x射线分析装置及方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018049002A (ja) * | 2016-09-16 | 2018-03-29 | 住友金属鉱山株式会社 | 試料ホルダーおよびｘ線分析方法 |
-
1995
- 1995-10-25 JP JP30068495A patent/JP3529068B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005221363A (ja) * | 2004-02-05 | 2005-08-18 | Rigaku Corp | Ｘ線分析用試料支持装置及びｘ線分析装置 |
| CN110376231A (zh) * | 2018-04-13 | 2019-10-25 | 马尔文帕纳科公司 | 具有对光束发散度的混合控制的x射线分析装置及方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3529068B2 (ja) | 2004-05-24 |
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