JPH09108570A - 排ガス浄化用酸化触媒及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】サルフェートの生成を効果的に防止し、パティ
キュレートの排出量を低減する。 【解決手段】多孔質体の二次粒子の表層に担持された貴
金属の量を、排ガス流の上流側に位置する入りガス側の
方が下流側に位置する出ガス側より多くした。ＨＣはＳ
Ｏ₂ より酸化されやすいため入りガス側でＨＣが優先的
に酸化され、出ガス側では表層のＰｔが少ないためＳＯ
₂ の酸化が抑制される。したがって触媒全体としてＳＯ
₂ の酸化が防止される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、排ガス浄化用酸化
触媒に関し、詳しくは、例えばディーゼルエンジン（以
下ＤＥという）からの排ガス中に含まれる有害成分であ
る一酸化炭素（ＣＯ）、炭化水素（ＨＣ）及び可溶性有
機成分（ＳＯＦ）を浄化するとともに、硫酸塩（サルフ
ェート）の排出量を低減する排ガス浄化用酸化触媒に関
する。

【０００２】

【従来の技術】ガソリンエンジンについては、排ガスの
厳しい規制とそれに対処できる技術の進歩とにより、排
ガス中の有害成分は確実に減少されてきている。しか
し、ＤＥについては、有害成分が炭素微粒子、サルフェ
ート等の硫黄系微粒子、高分子量炭化水素微粒子等のパ
ティキュレート（以下ＰＭという）として排出されると
いう特異な事情から、規制も技術の進歩もガソリンエン
ジンに比べて遅れており、確実に排ガスを浄化できる排
ガス浄化装置の開発が望まれている。

【０００３】現在までに開発されているＤＥ用排ガス浄
化装置としては、大きく分けてトラップ型の排ガス浄化
触媒を用いたトラップ型排ガス浄化装置と、オープン型
の排ガス浄化触媒を用いたオープン型排ガス浄化装置と
が知られている。トラップ型の排ガス浄化触媒として
は、セラミック製の目封じタイプのハニカム体（ディー
ゼルパティキュレートフィルタ（ＤＰＦ））等が知られ
ている。この排ガス浄化触媒を用いた排ガス浄化装置で
は、ＤＰＦ等で排ガスを濾過してＰＭを捕集し、圧損が
上昇すればバーナ等で蓄積したＰＭを燃焼させることに
よりＤＰＦ等を再生するようになっている。また、ＰＭ
の捕集とともにＣＯ、ＨＣ及びＳＯＦを酸化・分解させ
るべく、ＤＰＦ等の担体基材にアルミナ等により触媒担
持層を形成し、この触媒担持層に白金（Ｐｔ）等を担持
させた排ガス浄化触媒も検討されている。

【０００４】一方、オープン型の排ガス浄化触媒として
は、セラミック製のストレートフロータイプのハニカム
体等からなる担体基材と、この担体基材にアルミナ等に
より形成された触媒担持層と、この触媒担持層にガソリ
ンエンジンと同様に担持されたＰｔ等とからなるものが
知られている。このオープン型排ガス浄化装置によれ
ば、Ｐｔ等の触媒作用によりＣＯ等の酸化・分解が可能
である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記白金等を
もつトラップ型又はオープン型排ガス浄化装置では、Ｐ
ｔ上でＳＯ₂ と酸素とが反応してサルフェートが生成す
るとともに、触媒担持層が排ガス中のＳＯ₂ を吸着し、
触媒が高温になるとＳＯ₂ がＰｔ等の触媒作用により酸
化されてＳＯ₃ として排出されてしまう。特に、ＤＥに
おいては、排ガス中に酸素ガスも充分存在し、この酸素
ガスによってＳＯ₂ が酸化されてＳＯ₃ として排出され
やすい。ＳＯ₃ は排ガス中に多量に存在する水蒸気と容
易に反応して硫酸ミストを形成し、サルフェートとして
排出されてしまう。

【０００６】またＨＣとＳＯ₂ の非酸化性を比較する
と、高温時においてもＳＯ₂ よりＨＣの方が酸化されや
すい。したがって触媒の入りガス側（前側）では、排ガ
ス中にＨＣが多く含まれるためＨＣが優先的に酸化され
てＳＯ₂ はほとんど酸化されない。ところが触媒の出ガ
ス側（後側）では、排ガス中のＨＣは入りガス側で酸化
浄化されたために少なくなり逆にＳＯ₂ が多く存在して
いる。そのため触媒の出ガス側ではＳＯ₂ が酸化されサ
ルフェートが生成する。

【０００７】このため、これらの排ガス浄化装置では、
高温時にサルフェートの生成によりＰＭ量が増大すると
いう問題がある。本発明はこのような事情に鑑みてなさ
れたものであり、触媒の入りガス側と出ガス側での酸化
反応を最適に制御することで、サルフェートの生成を効
果的に防止し、ＰＭ排出量を低減することを目的とす
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の排ガス浄化用酸化触媒の特徴は、多孔質担体と、多
孔質担体に担持された貴金属とからなる酸化触媒であっ
て、多孔質担体を構成する多孔質体の二次粒子の表層に
担持された貴金属の量は、排ガス流の上流側に位置する
入りガス側の方が下流側に位置する出ガス側より多いこ
とを特徴とする。

【０００９】また上記酸化触媒を製造するのに用いられ
る第２発明の排ガス浄化用酸化触媒の製造方法の特徴
は、担体基材の排ガス流の上流側に位置する入りガス側
に比表面積が大きい多孔質体粉末をコートし担体基材の
排ガス流の下流側に位置する出ガス側に比表面積が小さ
い多孔質体粉末をコートして多孔質コート層を形成し、
多孔質コート層に貴金属を担持して、多孔質コート層を
構成する多孔質体の二次粒子の表層に担持された貴金属
の量を入りガス側の方が出ガス側より多くしたことにあ
る。

【００１０】さらに上記酸化触媒を製造するのに用いら
れる第３発明の排ガス浄化用酸化触媒の製造方法の特徴
は、多孔質担体の排ガス流の上流側に位置する入りガス
側に吸着性の高い貴金属塩の溶液を接触させ、多孔質担
体の排ガス流の下流側に位置する出ガス側に吸着性の低
い貴金属塩の溶液を接触させて、多孔質担体を構成する
多孔質体の二次粒子の表層に担持された貴金属の量を入
りガス側の方が出ガス側より多くしたことにある。

【００１１】

【発明の実施の形態】多孔質担体では、多孔質体粉末は
一次粒子が凝集した二次粒子として存在している。そし
て本発明の酸化触媒では、排ガス流の上流側に位置する
入りガス側と下流側に位置する出ガス側とで、二次粒子
の表層に担持された貴金属の量に差をもたせ、入りガス
側の方が表層の貴金属量が多い構成としている。

【００１２】本発明の酸化触媒では、このように構成し
たことにより、以下のように触媒の入りガス側と出ガス
側での酸化反応を最適に制御することができる。 （１）入りガス側 入りガス側では排ガス中にＨＣが多量に含まれている。
ＳＯ₂ はＨＣより酸化されにくいため、ＨＣの多い雰囲
気ではＨＣはＳＯ₂ に優先して酸化されようとする。そ
こで本発明では、入りガス側の表層に担持された貴金属
量を多くしている。したがって入りガス側では酸化反応
が促進されるため、ＨＣはほとんどが入りガス側で酸化
され、ＳＯ₂ はほとんど酸化されず出ガス側へ流れる。

【００１３】（２）出ガス側 出ガス側では、ＨＣはほとんどが入りガス側で酸化され
てしまっているから、排ガス中のＨＣ量は僅かでありＳ
Ｏ₂ が多く含まれている。そこで本発明では、出ガス側
の多孔質担体の二次粒子の表層に担持された貴金属量を
入りガス側より少なくしている。したがって出ガス側で
は表層の酸化活性が低く反応が遅延されるため、ＳＯ₂
はほとんど酸化を受けずに下流側へ流れて排出されサル
フェートの排出が抑制される。一方、ＨＣはＳＯ₂ に比
べて酸化されやすいため、多孔質担体の内部に担持され
ている貴金属によっても容易に酸化され、入りガス側で
酸化されなかったＨＣは出ガス側で酸化浄化される。

【００１４】第１発明の酸化触媒にいう入りガス側と出
ガス側との体積比は、貴金属の担持量によっても異なる
が、入りガス側の体積が全体の５０％以下となるように
構成するとよい。入りガス側の体積が５０％を超えると
サルフェートの生成量が急増する場合がある。なお、入
りガス側と出ガス側とが連続した一体構造の触媒として
もよいし、入りガス側と出ガス側とが分離した二つの触
媒から構成することもできる。また貴金属の担持量分布
は、入ガス側と出ガス側との２段階分布としてもよい
し、入りガス側から出ガス側に向かって二次粒子表層の
担持量が漸減する構成とすることもできる。

【００１５】このように入りガス側と出ガス側で二次粒
子の表層の貴金属担持量を異ならせるのに有効な方法と
して、第２発明と第３発明に記載の方法が存在する。第
２発明の製造方法では、入りガス側に比表面積が大きい
多孔質体粉末をコートし、出ガス側に比表面積が小さい
多孔質体粉末をコートしている。したがってこのような
多孔質コート層に貴金属を担持すると、貴金属は比表面
積が大きい二次粒子の表層には多く担持され、比表面積
が小さい二次粒子の表層には少なく担持される。これに
より第１発明の酸化触媒を容易に製造することができ
る。

【００１６】また第３発明の製造方法では、多孔質担体
の入りガス側に吸着性の高い貴金属塩の溶液を接触さ
せ、多孔質担体の排ガス流の下流側に位置する出ガス側
に吸着性の低い貴金属塩の溶液を接触させることで貴金
属を担持している。この貴金属塩としては、貴金属の錯
塩も含まれる。なお、第２の発明と第３の発明は、それ
ぞれを独立して行ってもサルフェートの生成が防止され
た酸化触媒を製造できるが、両方を組み合わせて行うこ
とにより、サルフェートの生成が一層防止された酸化触
媒を製造することができる。

【００１７】吸着性の高い貴金属塩の溶液を用いた入り
ガス側では、多孔質担体の二次粒子表層に貴金属イオン
又は貴金属錯イオンが多く吸着担持されるが、出ガス側
では貴金属イオン又は貴金属錯イオンの吸着性が低いた
め二次粒子表層に担持される貴金属は僅かとなる。なお
含浸担持法によれば、出ガス側において二次粒子の内部
に必要量の貴金属を担持させることができる。これによ
り第１発明の酸化触媒を容易に製造することができる。

【００１８】第１発明にいう多孔質担体は、アルミナ、
シリカ、チタニア、ゼオライト、シリカ−アルミナ及び
チタニア−アルミナ等の耐火性無機酸化物により形成す
ることができる。耐火性無機酸化物は、平均粒径が２０
μｍ以下、比表面積が１０ｍ ² ／ｇ以上のものであるこ
とが好ましい。耐火性無機酸化物が２０μｍを超える平
均粒径であり、かつ１０ｍ² ／ｇ未満の比表面積である
と十分なＳＯＦの分解性能が得られない虞れがある。

【００１９】貴金属としては、代表的なＰｔ、パラジウ
ム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）の他、ルテニウム（Ｒ
ｕ）、オスニウム（Ｏｓ）及びイリジウム（Ｉｒ）の少
なくとも一種を採用することができる。例えば、Ｐｔの
担持量は、酸化触媒の単位容積当り、０．０１〜１０．
０ｇ／Ｌであることが好ましい。Ｐｔの担持量が０．０
１ｇ／Ｌ未満では、十分な酸化浄化性能が得られない虞
れがある。逆に、１０．０ｇ／Ｌを超えてＰｔを担持し
ても、酸化浄化性能の向上が僅かであり、排ガス浄化触
媒が高価となる。特に、Ｐｔの担持量が０．１〜３．０
ｇ／Ｌである場合は、酸化浄化性能とコストとの両面で
バランスがとれるので好ましい。

【００２０】Ｐｄの担持量は、排ガス浄化触媒の単位容
積当り、０．０１〜２０．０ｇ／Ｌであることが好まし
い。Ｐｄの担持量が０．０１ｇ／Ｌ未満では、十分な酸
化浄化性能が得られない虞れがある。逆に、２０．０ｇ
／Ｌを超えてＰｄを担持しても、酸化浄化性能の向上が
僅かであり、排ガス浄化触媒が高価となる。特に、Ｐｄ
の担持量が０．５〜３．０ｇ／Ｌである場合は酸化浄化
性能とコストとの両面でバランスがとれるので好まし
い。

【００２１】Ｒｈの担持量は、排ガス浄化触媒の単位容
積当り、０．０１〜１．０ｇ／Ｌであることが好まし
い。Ｒｈの担持量が０．０１ｇ／Ｌ未満では、十分な酸
化浄化性能が得られない虞れがある。逆に、１．０ｇ／
Ｌを超えてＲｈを担持しても、酸化浄化性能の向上が僅
かであり、排ガス浄化触媒が高価となる。特に、Ｒｈの
担持量が０．０５〜０．５ｇ／Ｌである場合は酸化浄化
性能とコストとの両面でバランスがとれるので好まし
い。

【００２２】第２発明の製造方法にいう入りガス側に用
いられ比表面積が大きい多孔質体粉末としては、比表面
積が７０〜４００ｍ² ／ｇのものが望ましい。入りガス
側の多孔質担体の比表面積が７０ｍ² ／ｇより小さいと
ＨＣの浄化活性が低下するため好ましくない。また比表
面積が４００ｍ² ／ｇを超えると、耐熱性がなく、使用
中の比表面積の低下が大となるため好ましくない。

【００２３】また出ガス側の多孔質担体に用いられる比
表面積が小さい多孔質体粉末としては、その比表面積が
５〜６０ｍ² ／ｇのものが望ましい。比表面積が６０ｍ
² ／ｇを超えるとサルフェートが生成されやすくなる。
また５ｍ² ／ｇより小さいと貴金属の担持が困難とな
る。第３発明の製造方法にいう貴金属塩としては、例え
ばジニトロジアンミン白金、塩化白金酸、ジニトロジク
ロロ白金、テトラアンミンヒドロキド白金、塩化ロジウ
ム、硝酸ロジウム、硝酸パラジウム、テトラクロロパラ
ジウム、テトラアンミンパラジウム、ジニトロジアンミ
ンパラジウム、ヘキサアンミンロジウムなどが例示され
る。吸着性の高い低いは相対的なものであり、選ばれる
貴金属塩の種類によって変化する。例えばジニトロジア
ンミン白金の吸着性はジクロロジアンミン白金より高
く、ジクロロジアンミン白金の吸着性は塩化白金酸より
高い。

【００２４】

【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明をさら
に具体的に説明する。 （実施例１）容積１．３リットルのコーディエライト製
ハニカム担体の入りガス側半分を比表面積１８０ｍ² ／
ｇのアルミナ粉末を主成分とするスラリーに浸漬し、引
き上げて余分なスラリーを吹き払った後、乾燥させ５０
０℃で１時間加熱する熱処理を行って、全体の半分の入
りガス側に前方コート層を形成した。そして前方コート
層をもつハニカム担体をジニトロジアンミン白金硝酸水
溶液中に浸漬し、引き上げて余分な水溶液を吹き払って
乾燥させ、前方コート層にＰｔを担持した。Ｐｔの担持
量はハニカム担体１リットル当たり１．５ｇである。

【００２５】次に出ガス側である残りの後半分に、上記
と同様にして比表面積５．５ｍ² ／ｇのアルミナ粉末を
主成分とする後方コート層を形成した。そして担体半分
が吸水するだけの所定濃度のテトラアンミンヒドロキド
白金水溶液を後方コート層に吸水させ、乾燥して後方コ
ート層にハニカム担体１リットル当たり１．５ｇとなる
ようにＰｔを担持した。そして全体を２５０℃で１時間
処理し、実施例１の酸化触媒を調製した。

【００２６】なお、この実施例では前方コート層にＰｔ
を担持させた後に後方コート層を形成しているが、前方
コート層と後方コート層をそれぞれ同じハニカム担体に
形成し、その後に両コート層にＰｔを担持しても同じ触
媒を製造することができる。また半分の長さのハニカム
体を二つ用意し、それぞれに前方コート層と後方コート
層を形成しＰｔを担持して、その後両触媒を結合するこ
ともできる。

【００２７】得られた酸化触媒の模式図を図１に示す。
この酸化触媒は前方半分の入りガス側と後方半分の出ガ
ス側とで構成が異なり、アルミナの二次粒子の大きさは
入りガス側が小さく出ガス側が大きい。さらに入りガス
側では吸着法にてＰｔを担持しているため、Ｐｔは大部
分が二次粒子の表層に担持されているのに対し、出ガス
側では吸水法でＰｔを担持しているためＰｔは二次粒子
の表層から内部までほぼ均一に担持されている。したが
って前方コート層と後方コート層でＰｔの総担持量は同
一であるが、二次粒子表層の担持量は前方コート層の方
が多くなっている。

【００２８】得られた酸化触媒を２．６リットルＤＥの
排気系に、入りガス側（前方コート層）が排ガス流の上
流側となるように組付け、エンジンベンチでの評価を行
った。評価条件は、エンジン回転数２０００ｒｐｍ、入
りガス温度５００℃にて１時間運転した後、５０℃ずつ
入りガス温度を降温させ、触媒前後のＨＣ量とＰＭ量を
測定した。そしてＨＣの５０％低減温度とＰＭのゼロ％
低減温度を求め、結果を図２に〜図４に示す。なお、Ｐ
Ｍゼロ％低減温度とは、高温になるほど増加するサルフ
ェートの生成量がサルフェートを除いたＳＯＦなどのＰ
Ｍ成分の低減量と同じ値になる温度をいう。

【００２９】（実施例２）アルミナ粉末の比表面積を２
０ｍ² ／ｇ，５０ｍ² ／ｇ，６０ｍ² ／ｇ及び１００ｍ
² ／ｇの４水準とり、それぞれから後方コート層を形成
したこと以外は実施例１と同様にして、４種類の酸化触
媒を調製した。前方コート層のアルミナの比表面積は実
施例１と同じ１８０ｍ² ／ｇである。そして実施例１と
同様にしてＨＣ５０％低減温度とＰＭゼロ％低減温度を
求め、結果を図２に示す。

【００３０】（評価）図２より、後方コート層のアルミ
ナの比表面積がＨＣ５０％浄化温度に及ぼす影響は小さ
いが、ＰＭゼロ％低減温度は後方コート層のアルミナの
比表面積が大きくなるにつれて大きく低下している。Ｐ
Ｍゼロ％低減温度はサルフェートの急増によりＳＯＦ等
の低減が相殺され見掛け上ＰＭの低減率がゼロ％になる
温度であるので、ＰＭゼロ％低減温度が低下することは
サルフェートが生成しやすくなることを意味する。そし
てＰＭゼロ％低減温度は約４００℃以上が望ましいの
で、図２より後方コート層（出ガス側）のアルミナの比
表面積は６０ｍ² ／ｇ未満とすることが望ましいことが
わかる。

【００３１】（実施例３）アルミナ粉末の比表面積を２
０ｍ² ／ｇ，５０ｍ² ／ｇ，７０ｍ² ／ｇ及び２５０ｍ
² ／ｇの４水準とり、それぞれから前方コート層を形成
したこと以外は実施例１と同様にして、４種類の酸化触
媒を調製した。後方コート層のアルミナの比表面積は実
施例１と同じ５．５ｍ² ／ｇである。そして実施例１と
同様にしてＨＣ５０％低減温度とＰＭゼロ％低減温度を
求め、結果を図３に示す。

【００３２】（評価）図３より、前方コート層のアルミ
ナの比表面積がＰＭゼロ％低減温度に及ぼす影響は小さ
いが、ＨＣ５０％低減温度は前方コート層のアルミナの
比表面積が小さくなるにつれて上昇している。ＨＣ５０
％低減温度は２５０℃未満が望ましいので、図３より前
方コート層のアルミナの比表面積は７０ｍ² ／ｇ以上と
することが望ましいことがわかる。

【００３３】（実施例４・比較例１〜２）前方コート層
と後方コート層との割合を変化させ、前方コート層の体
積比率をハニカム担体全体の１０％、２０％及び６０％
の３水準としたこと以外は実施例１と同様にして、３種
類の酸化触媒を調製した。なお実施例１の前方コート層
の体積比率は５０％である。また、比較のために前方コ
ート層及び後方コート層のそれぞれ単独（体積比率１０
０％及び０％）からなるコート層をもつ比較例１と比較
例２の酸化触媒も調製した。そして実施例１と同様にし
てＨＣ５０％低減温度とＰＭゼロ％低減温度を求め、結
果を図４に示す。

【００３４】（評価）図４より、前方コート層の体積比
率が大きくなるにつれてＨＣ５０％浄化温度は徐々に低
下している。しかし前方コート層の体積比率が５０％を
超えるとＰＭゼロ％低減温度が急激に低下し、つまりサ
ルフェートの生成量が急増していることがわかる。した
がって前方コート層の体積比率は５０％以下とすること
が望ましいことがわかる。

【００３５】しかし前方コート層の体積比率が０％、す
なわち全体が比表面積の小さなアルミナから形成された
比較例２では、ＨＣ５０％浄化温度が約２７０℃と高い
ことから、僅かでも前方コート層を形成することが必要
である。 （実施例５）容積１．３リットルのコーディエライト製
ハニカム担体を、比表面積１２０ｍ ² ／ｇのアルミナ粉
末を主成分とするスラリーに浸漬し、引き上げて余分な
スラリーを吹き払った後、乾燥させ５００℃で１時間加
熱する熱処理を行った。次に入りガス側である前方半分
をジニトロジアンミン白金硝酸水溶液に浸漬し、引き上
げて余分な水溶液を吹き払って乾燥させ、前方コート層
にＰｔを担持した。Ｐｔの担持量はハニカム担体１リッ
トル当たり１．５ｇである。

【００３６】次に出ガス側である残りの後方半分に、担
体半分がちょうど吸水するだけの塩化白金酸水溶液を吸
水させ、乾燥して後方コート層にＰｔを担持した。Ｐｔ
の担持量は、吸水・乾燥を繰り返してハニカム担体１リ
ットル当たり１．５ｇとなるようにした。次に全体を２
５０℃で１時間処理し、実施例５の酸化触媒を調製し
た。そして実施例１と同様にしてＨＣ５０％低減温度と
ＰＭゼロ％低減温度を求め、結果を図５に示す。

【００３７】また、塩化白金酸水溶液をコート層に含浸
させ吸着による担持を行った場合の、溶液中のＰｔがコ
ート層に吸着する割合を測定し、担持効率として図５に
示す。 （実施例６）出ガス側である後方半分に、塩化白金酸水
溶液に代えてジクロロジアンミン白金水溶液を用いたこ
と以外は実施例５と同様にして、実施例６の酸化触媒を
調製した。この触媒について、実施例１と同様にしてＨ
Ｃ５０％低減温度とＰＭゼロ％低減温度を求め、結果を
比較例１とともに図５に示す。

【００３８】またジクロロジアンミン白金及びジニトロ
ジアンミン白金についてもＰｔのコート層への担持効率
を測定し、結果を図５に示す。 （評価）図５より、Ｐｔの担持効率は錯イオンの種類に
よって異なり、ジニトロジアンミン白金の場合は１００
％、塩化白金酸の場合には５０％であって、後方半分へ
の担持効率が高くなるにつれてＰＭゼロ％低減温度が低
下している。そしてＰＭゼロ％低減温度は４００℃以上
が望ましいので、後方半分のコート層へのＰｔの担持に
は担持効率が５０％以下の錯イオンを用いることが望ま
しいことがわかる。

【００３９】（実施例７・比較例３）ジニトロジアンミ
ン白金と塩化白金酸で担持する容積の比率を変化させ、
ジニトロジアンミン白金硝酸水溶液を用いて担持された
容積の割合を１０％、６０％及び８０％の３水準とした
こと以外は実施例５と同様にして、３種類の酸化触媒を
調製した。また、比較のために全体を塩化白金酸水溶液
を用いてＰｔを担持した比較例３の酸化触媒も調製し
た。そして実施例１と同様にしてＨＣ５０％低減温度と
ＰＭゼロ％低減温度を求め、結果を比較例１とともに図
６に示す。

【００４０】（評価）図６より、ジニトロジアンミン白
金で担持した入りガス側の容積が５０％を超えると、Ｐ
Ｍゼロ％低減温度が４００℃以下に低下する。したがっ
てジニトロジアンミン白金を用いて入りガス側にＰｔを
担持する場合には、その容積を全体の５０％以下とする
のが好ましい。

【００４１】

【発明の効果】すなわち本発明の排ガス浄化用酸化触媒
によれば、高いＨＣの酸化浄化性能をもつとともに、サ
ルフェートの生成と排出を効果的に抑制することができ
る。そして本発明の酸化触媒の製造方法によれば、サル
フェートの生成を防止できる酸化触媒を容易にかつ確実
に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の酸化触媒の模式的説明図で
ある。

【図２】後方コート層のアルミナの比表面積とＨＣ５０
％浄化温度及びＰＭゼロ％低減温度との関係を示すグラ
フである。

【図３】前方コート層のアルミナの比表面積とＨＣ５０
％浄化温度及びＰＭゼロ％低減温度との関係を示すグラ
フである。

【図４】高比表面積のアルミナの体積比率とＨＣ５０％
浄化温度及びＰＭゼロ％低減温度との関係を示すグラフ
である。

【図５】種々のＰｔ錯塩のＰｔ担持効率とＨＣ５０％浄
化温度及びＰＭゼロ％低減温度との関係を示すグラフで
ある。

【図６】ジニトロジアンミン白金を用いて担持された入
りガス側の担持容積の割合とＨＣ５０％浄化温度及びＰ
Ｍゼロ％低減温度との関係を示すグラフである。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 多孔質担体と、該多孔質担体に担持され
   た貴金属とからなる酸化触媒であって、 前記多孔質担体を構成する多孔質体の二次粒子の表層に
   担持された前記貴金属の量は、排ガス流の上流側に位置
   する入りガス側の方が下流側に位置する出ガス側より多
   いことを特徴とする排ガス浄化用酸化触媒。
2. 【請求項２】 担体基材の排ガス流の上流側に位置する
   入りガス側に比表面積が大きい多孔質体粉末をコートし
   該担体基材の排ガス流の下流側に位置する出ガス側に比
   表面積が小さい多孔質体粉末をコートして多孔質コート
   層を形成し、該多孔質コート層に貴金属を担持して、該
   多孔質コート層を構成する多孔質体の二次粒子の表層に
   担持された該貴金属の量を該入りガス側の方が該出ガス
   側より多くしたことを特徴とする排ガス浄化用酸化触媒
   の製造方法。
3. 【請求項３】 多孔質担体の排ガス流の上流側に位置す
   る入りガス側に吸着性の高い貴金属塩の溶液を接触さ
   せ、該多孔質担体の排ガス流の下流側に位置する出ガス
   側に吸着性の低い貴金属塩の溶液を接触させて、該多孔
   質担体を構成する多孔質体の二次粒子の表層に担持され
   た該貴金属の量を該入りガス側の方が該出ガス側より多
   くしたことを特徴とする排ガス浄化用酸化触媒の製造方
   法。