JPH0868956A - 2ビーム光走査装置を有する画像形成装置 - Google Patents

2ビーム光走査装置を有する画像形成装置

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JPH0868956A
JPH0868956A JP6203799A JP20379994A JPH0868956A JP H0868956 A JPH0868956 A JP H0868956A JP 6203799 A JP6203799 A JP 6203799A JP 20379994 A JP20379994 A JP 20379994A JP H0868956 A JPH0868956 A JP H0868956A
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健 小紫
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真次 森田
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淳一 大谷
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    • B41J2/473Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 2ビームの半導体レーザ発光体より発生する
2ビームの光軸を精度良く調整し、ビーム合成プリズム
と第1シリンドリカルレンズを一体となして露光用ユニ
ットに固定すると共に、2ビームの半導体レーザ発光体
の主走査と、副走査の微調整を安価な行えるようした事
を目的としている。 【構成】 2組の半導体レーザ発光体より発生する2ビ
ームと、該2ビームを合成するビーム合成プリズムと、
偏向器と、結像光学系により像担持体面上に2ラインを
同時に走査して書き込みを行う2ビーム光走査装置にお
いて、前記2組の半導体レーザ発光体を主走査方向に平
行移動する移動手段と、主走査面内で前記2組の半導体
レーザ発光体の角度を変化させる角度変更手段とにより
ビーム位置調整を行うことを特徴とする2ビーム光走査
装置を有する画像形成装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光を用いた画像
形成装置等の光書き込み装置に関し、特に半導体レーザ
を内蔵するユニット、及び露光ユニットの取り付けと、
複数のビームを走査する2ビーム光走査に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来の画像形成装置は、像担持体にレー
ザビームで書き込み、記録を行なうため、露光用ユニッ
トの光走査光学系において、レーザビームを発生する半
導体レーザ発光体と、コリメータレンズ等が一体の単体
ユニットで形成され、例えば2ビームを発生させる場合
は、前記半導体レーザ発光体と、コリメータレンズ等が
一体に形成された単体ユニットを露光用ユニットの光走
査光学系に2個設け、調整固定している。又図1に示す
ように、第2シリンドリカルレンズ8は、レンズのR面
が徐徐に変化するタイプである為、2ビームの光走査の
主走査方向の入射位置が変化すると、2ビームの光走査
の副走査結像位置も変化してしまう。従ってプリズムよ
りなる微調整ユニット14を設け、微調整ユニット14で半
導体レーザ発光体1Bのビームに対し、半導体レーザ発
光体1Aのビームの角度を変化させ、2ビームの位置合
わせを行っている。一方、半導体レーザ発光体を設けた
単体ユニットを副走査方向に移動調整する手段は、特開
昭62-86324号で知られている。
【0003】又、2個の半導体レーザ発光体を設け、2
ビームの光束の主走査方向と、副走査方向の微調整は、
調整専用のプリズムを用いて調整を行っていた。この様
な方法として、例えば、副走査方向のピッチ調整を1個
のプリズムで行う手段として、特開昭58-68016号、半導
体レーザ発光体のユニットを位置調整する方法として、
特開昭62-86324号が各々知られている。又半導体レーザ
発光体の光束を有効利用する為、副走査方向にビームを
圧縮し、低出力の半導体レーザ発光体を使用する事で原
価低減を実現している露光用ユニットの光走査光学系が
一般的であり、ビームの圧縮にプリズムを使用する事は
周知である。更に2ビームの副ピッチ調整を行う事は特
開昭63-50809号で開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前記のようにレーザビ
ームを発生する半導体レーザ発光体と、コリメータレン
ズ等が一体の単体ユニットのみの調整では、書き込み用
露光用ユニットの搭載時、光軸のズレが発生し、特に2
ビームの書き込み用露光用ユニットに於いて、前記相対
的な光軸のズレが結像レンズ系に対する入射位置差とな
り、ビームピッチが全像高で製品スペックより外れてし
まう不具合を生ずる。又2ビームの合成を行うビーム合
成プリズムの配置誤差が発生した時に、ビーム合成プリ
ズムの反射側のビームが光軸のズレを起こし易く、前記
単体ユニットのみの調整では、前記欠点を改善する事が
出来ない。更にポリゴンミラーを小型に形成し、面長を
有効利用しようとしても、前記光軸のズレはポリゴンミ
ラーの角でビームが蹴られてしまう等の問題が生じる。
【0005】又前記のように特にビーム合成プリズム
を、露光用ユニットの光走査光学系の一部に接着剤で調
整固定したのみでは、配置精度が厳しいため、接着ミス
や、接着部の形状面精度が悪い場合、露光用ユニット全
体が不良品となり、大きな無駄が発生する。又接着は組
み立ての作業性が悪く、接着後の検査を露光用ユニット
全体で行う必要があり、検査が大がかりとなる。
【0006】更に前記のように主走査と副走査のピッチ
調整は何れも調整専用プリズムが使用されており高価と
なる欠点がある。
【0007】本発明は以上のような欠点を改善するた
め、特に考えられてものである。即ち、2ビームの半導
体レーザ発光体より発生する2ビームの光軸を精度良く
調整し、ビーム合成プリズムと第1シリンドリカルレン
ズを一体となして露光用ユニットに固定すると共に、2
ビームの半導体レーザ発光体の主走査と、副走査の微調
整を安価な行えるようした事を目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的のた
め、請求項1に於いて、2組の半導体レーザ発光体より
発生する2ビームと、該2ビームを合成するビーム合成
プリズムと、偏向器と、結像光学系により像担持体面上
に2ラインを同時に走査して書き込みを行う2ビーム光
走査装置において、前記2組の半導体レーザ発光体を主
走査方向に平行移動する移動手段と、主走査面内で前記
2組の半導体レーザ発光体の角度を変化させる角度変更
手段とによりビーム位置調整を行うこと。請求項2に於
いて、主走査方向に平行移動する前記移動手段は、ビー
ム光走査装置の基体に対し、偏心カムの回動により移動
する移動手段であること。請求項3に於いて、前記半導
体レーザ発光体の角度を変更させる角度変更手段は、ビ
ーム光走査装置の基体に対し前記移動手段により移動し
た移動位置より、ウォーム歯車により回動される偏心カ
ムの回動により、角度変更を行うこと。請求項4に於い
て、前記ビーム位置調整は、前記半導体レーザ発光体を
前記基体に取り付け、一方にビーム位置検知手段を設置
した状態で行うこと。請求項5に於いて、前記半導体レ
ーザ発光体と、ビーム位置検知手段間には前記基体又は
画像形成装置の一部に開口部を形成し、該開口部を介し
てビーム位置検知手段にて検知すること。請求項6に於
いて、2組の半導体レーザ発光体より発生する2ビーム
と、該2ビームを合成するビーム合成プリズムと、偏向
器と、結像光学系により像担持体面上に2ラインを同時
に走査して書込みを行う2ビーム光走査装置において、
固定部材に前記ビーム合成プリズムと、シリンドリカル
レンズとを一体に固着し、前記固定部材を前記書込みを
行う2ビーム光走査装置の一部に設けたこと。請求項7
に於いて、2組の半導体レーザ発光体より発生する2ビ
ームと、該2ビームを整形するビーム整形光学系と、前
記2ビームを合成するビーム合成プリズムと、偏向器
と、結像光学系と、副走査方向に前記ビームの圧縮を行
う一対のプリズムとにより、像担持体面上に2ラインを
同時に走査して書込みを行う2ビーム光走査装置におい
て、前記ビームを副走査方向にビームピッチ調整を行う
前記一対のプリズムと、前記2組の半導体レーザ発光体
の内、少なくとも一方の半導体レーザ発光体ユニットで
主走査方向に平行移動することにより、主走査方向ビー
ム位置を調整するビーム位置調整手段と、前記主走査方
向面内でビームの角度調整を行うビーム角度調整手段と
を有すること。請求項8に於いて、前記一対のプリズム
によるビームの副走査方向に対するビームピッチ調整
は、ネジの回動調整により行うこと。請求項9に於い
て、前記主走査方向ビーム位置の調整と、ビームの角度
調整は偏心カムと一対の歯車駆動により行うことにより
達成する。
【0009】
【実施例】以下、本発明の2ビームの光走査光学系ユニ
ットを用いた添付図面に基いて説明する。
【0010】図1は、2ビーム光走査光学系ユニット1
の一実施例を示す全体構成図である。
【0011】図1に於いて、1A,1Bは半導体レーザ
発光体、2A,2Bはコリメータレンズ(ビーム整形用
光学系)、14,15は主走査と、副走査調整用のプリズム
である。3はビーム合成プリズム、5は第1シリンドリ
カルレンズ、6はポリゴンミラー、7はfθレンズ、8
は第2シリンドリカルレンズ、9はミラー、10は感光体
ドラムをそれぞれ示している。なお、11はタイミング検
出用のミラー、12は同期検知器、13は上記ポリゴンミラ
ー6の駆動モータである。半導体レーザ発光体1Aから
出射したビームL1は、コリメータレンズ2Aにより平
行光になり、次いでビーム合成プリズム3に入射する。
前記半導体レーザ発光体1Aに対して直交配置された半
導体レーザ発光体1Bから出射したビームL2も同様
に、コリメータレンズ2Bにより平行光となり、その
後、ビーム合成プリズム3に入射する。なお、この半導
体レーザ発光体1Bから出射したビームは、副走査方向
に対して、前記半導体レーザ発光体1Aから出射したビ
ームと所定のピッチだけずらせて配置してある。上記両
ビームは第1結像光学系の第1シリンドリカルレンズ5
を経てポリゴンミラー6に入射する。この反射光は、f
θレンズ7、第2シリンドリカルレンズ8から成る第2
結像光学系を透過し、反射ミラー9を介して感光体ドラ
ム10面上に、所定のスポット径で、副走査方向に所定ピ
ッチずれた状態で、2ライン同時に走査する。なお、主
走査方向は図示しない調整機構により、既に微調整して
ある。
【0012】1ライン毎の同期検知は、走査開始前の光
束をミラー11を介して同期検知器12に入射させる。
【0013】図2は前記2ビーム光走査光学系ユニット
1の平面図で、画像形成装置113に設けた基台111には半
導体レーザ発光体1A,1B、コリメータレンズ2A,
2Bを設けたケーシング201,201Aを図示のように配置
し、各々ビームL1,L2を90°の角度で発射している。
前記ケーシング201,201Aは、角度変更部材215,215A
に載置され、該角度変更部材215,215Aは、基台111上
で主走査方向に平行移動する平行移動部材124,124A上
に載置されて居る。更に前記ビーム合成プリズム3と、
第1シリンドリカルレンズ5を支持部材123で固定し、
前記ビームL1,L2 を前記ビーム合成プリズム3で合
成し、ポリゴンミラー6に入射するように前記支持部材
123を基台111上に固定する。そして光走査光学系ユニッ
ト1は図2に示すように画像形成装置113内に設けた支
持部材114,115に前記基台111の両端が載置され、且つ
該基台111の両端位置に設けた案内部材116,117により
ビーム走査方向と直交方向に前記光走査光学系ユニット
1は案内され、所定位置に載置されている。更に前記光
走査光学系ユニット1の案内される前方位置で、画像形
成装置113には前記光ビーム走査方向と同方向に基準位
置となる係止用ステー118を設け、基台111の両端位置2
箇所に係止爪部材119,120を設る。そして前記係止用ス
テー118に形成した溝部121,122に嵌合する。尚前記溝
部121,122は一方の溝部121を前記係止爪部材119と同巾
に形成し、他方の溝部122は係止爪部材120の巾より拡大
形成し、係止動作を円滑にすると共に、正確に位置決め
している。更に基台111の後端が所定位置に位置決めさ
れるように位置決め用ピン128,128Aが固定され、該位
置決め用ピン128,128Aに嵌合する位置決め部材129,1
29Aを基台111の後端に設ける。
【0014】図3,図4は、前記基台111に設けられた
平行移動部材124と角度変更部材125の構成を示す。先ず
図3のように主走査方向に平行移動する平行移動部材12
4に形成された第1案内溝124B,124Cを、前記基台111
に設けられたガイド部材132,133に係合し、固定ネジ13
4,135で前記平行移動部材124を前記基台111に固定する
ように設けられている。そして前記基台111を中心に回
動する芯軸131に設けた偏心カム130を嵌合する第2案内
溝124Aが形成されている。更に前記平行移動部材124上
にはに角度変更部材125が載置され、該角度変更部材125
の一端は軸138にて回動自在に枢着されている。そして
前記角度変更部材125の他端には、前記平行移動部材124
を中心に回動する芯軸137に設けた偏心カム136を嵌合す
る第3案内溝125Aが形成されており、前記角度変更部
材125を角度変更した位置で前記平行移動部材124に固定
する固定ネジ139が設けられている。更に前記角度変更
部材125上には半導体レーザ発光体1Aと、コリメータ
レンズ2Aを設けたケーシング201をビームL1に沿って
固定する。219,220は前記ケーシング201内に設けたプ
リズム200(図8参照)を調整する調整するネジ杆であ
る。
【0015】以上のように構成する事により、前記平行
移動部材124の平行移動を行う時は、先ず固定ネジ134,
135の固定を解除し、前記基台111を中心に芯軸131を回
動し、偏心カム130を回動する事で第2案内溝124Aを介
して前記平行移動部材124を前記第1案内溝124B,124
Cと、前記基台111に設けられたガイド部材132,133に
て矢示の左右方向に平行移動させる。該移動により前記
角度変更部材125上に設けたケーシング201はビームL1
に対し平行に移動調整が可能である。即ち半導体レーザ
発光体1AのビームL1が主走査方向に調整が可能であ
る。調整完了後、固定ネジ134、135で前記平行移動部材
124を前記基台111に固定する。次に前記角度変更部材12
5を角度変更する時は、先ず固定ネジ193の固定を解除
し、前記平行移動部材124を中心に芯軸137に設けた偏心
カム136を回動し、該偏心カム136の回動により、第3案
内溝125Aを介して前記角度変更部材125は軸138を中心
に矢示方向に回動調整される。該回動調整により角度変
更部材125上に設けたケーシング201はビームL1に対し
角度調整される。即ち半導体レーザ発光体1Aのビーム
1の角度が調整される。
【0016】図4は図3に示す芯軸131と、芯軸137の回
動手段として、芯軸131にはウォーム歯車G1とウォーム
2を設け、芯軸137にはウォーム歯車G3とウォームG4
を各々設け、ウォームG2又はウォームG4を回動し、ウ
ォーム歯車G1又はウォーム歯車G3の回動により偏心カ
ム130,136を介して微調整を可能にしている。
【0017】図5は前記ビームL1調整用のビーム位置
検知手段を示す。先ず図のようにポリゴンミラー6より
感光体ドラム10間の光学部材を取り外し、ポリゴンミラ
ー6より反射するビームL1を直接受光する位置にビー
ム位置検知部材Sを配置し、ビーム位置検知部材Sを設
けた支持体S1を外部の測定位置に設置する。この状態
で前記半導体レーザ発光体1AよりビームL1を発光
し、前記の調整方法を用いてビームピッチが所定のスペ
ック内となるように調整する。本調整は前記半導体レー
ザ発光体1BよりビームL2についても同時に行い。主
走査と副走査方向におけるビーム調整が可能である。11
2はカバーで、該カバー112の一部に測定用の孔112Aが
形成されている。113Aは孔が形成された画像形成装置1
13の外側板である。
【0018】図6は前記図2に示されたビーム合成プリ
ズム3と、第1シリンドリカルレンズ5を固定した支持
部材123を示す。支持部材123にはビーム合成プリズム3
と、第1シリンドリカルレンズ5が一体に固定されてい
る。固定方法としては、接着剤による接着か、又は支持
部材123と一体に形成した図示のような保持部に嵌合固
着してもよい。そして前記支持部材123を固定ネジ126,
127で基台111に固定する。
【0019】図7は、前記図3に示すビームの調整方法
と、図8に示す光ビーム圧縮用プリズム200により主走
査と副走査方向の微調整を行う手段を示す。先ず図7
は、前記図3と同様に、主走査方向に平行移動する平行
移動部材124に形成された第1案内溝124B,124Cを、
前記基台111に設けられたガイド部材132,133に係合
し、固定ネジ134,135で前記平行移動部材124を前記基
台111に固定するように設けられている。そして前記基
台111を中心に、歯車G7と減速歯車G6で回動する芯軸1
31に設けた偏心カム130を嵌合する第2案内溝124Aが形
成されている。前記平行移動部材124上には角度変更部
材125が載置され、該角度変更部材125の一端は軸138に
て回動自在に枢着されている。そして前記角度変更部材
125の他端には、前記平行移動部材124を中心に、歯車G
9と減速歯車G8で回動する芯軸137に設けた偏心カム136
を嵌合する第3案内溝125Aが形成されており、前記角
度変更部材125を角度変更した位置で前記平行移動部材1
24に固定する固定ネジ139が設けられている。更に前記
角度変更部材125上には半導体レーザ発光体1Aと、コ
リメータレンズ2Aを設けたケーシング201をビームL1
に沿って固定する。219,220は前記ケーシング201内に
設けた光ビーム圧縮用プリズム200(図8参照)を調整
する調整するネジ杆である。
【0020】以上のように構成する事により、前記平行
移動部材124の平行移動を行う時は、先ず固定ネジ134,
135の固定を解除し、前記基台111を中心に歯車G7と減
速歯車G6で芯軸131を回動し、偏心カム130を回動する
事で第2案内溝124Aを介して前記平行移動部材124を前
記第1案内溝124B,124Cと、前記基台111に設けられ
たガイド部材132,133にて矢示の左右方向に平行移動さ
せる。該移動により前記角度変更部材125上に設けたケ
ーシング201はビームL1に対し平行に移動調整が可能で
ある。即ち半導体レーザ発光体1AのビームL1が主走
査方向に調整が可能である。調整完了後、固定ネジ13
4,135で前記平行移動部材124を前記基台111に固定す
る。次に前記角度変更部材125を角度変更する時は、先
ず固定ネジ193の固定を解除し、前記平行移動部材124を
中心に歯車G9と減速歯車G8で芯軸137に設けた偏心カ
ム136を回動し、該偏心カム136の回動により、第3案内
溝125Aを介して前記角度変更部材125は軸138を中心に
矢示方向に回動調整される。該回動調整により角度変更
部材125上に設けたケーシング201はビームL1に対し角
度調整される。即ち半導体レーザ発光体1AのビームL
1の角度が調整される。
【0021】図8は、半導体レーザ発光体1A、コリメ
ータレンズ2A、ビーム圧縮用プリズム200を内蔵した
ケーシング201を示す。該ケーシング201の内部にはビー
ムL1に沿ってビーム通過孔203が形成され、前記コリメ
ータレンズ2Aを固定した内筒202を前記ケーシング201
内に装着するため、ビームL1に沿って長孔204が形成さ
れている。該長孔204内には、内筒202を螺合するための
雌ネジ205が形成されている。一方内筒202の外面には前
記雌ネジ205に螺合するための雄ネジ206が形成され、内
筒202は長孔204内に図示のように螺合固定されている。
又前記長孔204面には前記雌ネジ205部より前記ビームL
1を中心に広がる方向にテーパ面207(水平に対し約30
°)が形成され、前記内筒202の外面には前記テーパ面2
07と同一テーパ角度でテーパ面208が形成されている。
そして前記テーパ面208が形成された部分には、前記ビ
ームL1の通過孔203迄貫通して複数本のスリ割り209が
形成されている。該スリ割り209の形成角度θは約60°
で形成されている。210は前記スリ割り209間に設けられ
た複数箇所に形成した回動組込用孔で、前記ケーシング
201に形成した組込作動用長孔211と最終組込位置で一致
するように前記回動組込用孔210が形成されている。215
は接着剤214を流し込むためケーシング201に形成した孔
である。
【0022】前記ビーム圧縮用プリズム200は、ビーム
圧縮用プリズム取付部材216に所定の角度で取り付けら
れている。更に前記ビーム圧縮用プリズム取付部材216
は、筒状枠体217に固定されており、該筒状枠体217は前
記ケーシング201内で前記長孔204に沿って形成されたビ
ーム圧縮用プリズム装着部218に対し、前記光ビームL1
を横切る方向で回動自在に取り付けられている。そして
前記筒状枠体217の一部には前記ケーシング201に螺着
し、左右対象のネジ杆219,220を設け、該ネジ杆219の
先端は前記筒状枠体217に形成した段部221に直接接触さ
せ、一方のネジ杆220はバネ部材222を介して前記筒状枠
体217に形成した段部223に接触させると共に側板224を
介してネジ杆226で前記ケーシング201に固定している。
【0023】以上のように構成されたビーム圧縮用プリ
ズム200は、先ず固定用ネジ杆226を緩め、前記ネジ杆21
9を回動調節する。その際、前記筒状枠体217の一部に形
成した段部221は、前記バネ部材222で常時前記ネジ杆21
9の先端に接触状態であり、前記ネジ杆219の回動調節に
より筒状枠体217と、前記ビーム圧縮用プリズム取付部
材216を介して前記光ビーム圧縮用プリズム200はビーム
1を所定巾に縮小しながら送り方向が回動調整され
る。調整完了後、前記固定用ネジ杆226にて筒状枠体217
を前記ケーシング201に固定する。その際、前記固定用
ネジ杆226の時計方向の回動動作でも、前記ネジ杆219の
先端で常時前記筒状枠体217に形成した段部221にて阻止
され調整位置より移動しない。
【0024】前記ビーム圧縮用プリズム200と同様のビ
ーム圧縮用プリズムが前記ケーシング201A内にも設け
られており、半導体レーザ発光体1AのビームL1と、
半導体レーザ発光体1BのビームL2の光束の主走査方
向と副走査方向の微調整を正確に行う事が出来る。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の2ビー
ム光走査装置によれば、主走査方向および副走査方向の
各ビーム位置を正確に調整する調整手段を設け、さらに
微動回転にする微調整手段を設けたことにより、主走査
方向ビームと副走査方向ビームとを、別々に容易な調整
で高精度にビーム位置調整することができるという顕著
な効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る2ビーム光走査装置の全体構成を
示す斜視図。
【図2】本発明に係る2ビーム光走査装置の全体構成を
示す平面図。
【図3】本発明に係るビーム光発生装置の調整装置を示
す平面図。
【図4】本発明に係るビーム光発生装置の調整装置を示
す斜視図。
【図5】本発明に係るビーム光調整検知装置を示す構成
図。
【図6】本発明に係るビーム合成プリズムと、シリンド
リカルレンズを示す斜視図。
【図7】本発明に係るビーム発生装置の調整装置を示す
平面図。
【図8】本発明のビーム発光部と光学系を組み込んだケ
ーシングの縦断面図。
【符号の説明】
1 光走査光学系ユニット 1A,1B 半導体レーザ発光体 2A,2B コリメータレンズ 3 ビーム合成プリズム 5 第1シリンドリカルレンズ 6 ポリゴンミラー(偏向器) 7 fθレンズ 8 第2シリンドリカルレンズ 10 感光体ドラム 111 基台 113 画像形成装置 118 係止用ステー 123 支持部材 124 平行移動部材 125 角度変更部材 128,128A 位置決め用ピン 201 ケーシング 202 内筒 207、208 テーパ面 216 ビーム圧縮用プリズム取付部材 217 筒状枠体 219、220 ネジ杆
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G02B 7/18 G03G 15/04 111

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2組の半導体レーザ発光体より発生する
    2ビームと、該2ビームを合成するビーム合成プリズム
    と、偏向器と、結像光学系により像担持体面上に2ライ
    ンを同時に走査して書き込みを行う2ビーム光走査装置
    において、前記2組の半導体レーザ発光体を主走査方向
    に平行移動する移動手段と、主走査面内で前記2組の半
    導体レーザ発光体の角度を変化させる角度変更手段とに
    よりビーム位置調整を行うことを特徴とする2ビーム光
    走査装置を有する画像形成装置。
  2. 【請求項2】 主走査方向に平行移動する前記移動手段
    は、ビーム光走査装置の基体に対し、偏心カムの回動に
    より移動する移動手段であることを特徴とする請求項1
    記載の2ビーム光走査装置を有する画像形成装置。
  3. 【請求項3】 前記半導体レーザ発光体の角度を変更さ
    せる角度変更手段は、ビーム光走査装置の基体に対し前
    記移動手段により移動した移動位置より、ウォーム歯車
    により回動される偏心カムの回動により、角度変更を行
    うことを特徴とする請求項1記載の2ビーム光走査装置
    を有する画像形成装置。
  4. 【請求項4】 前記ビーム位置調整は、前記半導体レー
    ザ発光体を前記基体に取り付け、一方にビーム位置検知
    手段を設置した状態で行うことを特徴とする請求項1記
    載の2ビーム光走査装置を有する画像形成装置。
  5. 【請求項5】 前記半導体レーザ発光体と、ビーム位置
    検知手段間には前記基体又は画像形成装置の一部に開口
    部を形成し、該開口部を介してビーム位置検知手段にて
    検知することを特徴とする請求項1記載の2ビーム光走
    査装置を有する画像形成装置。
  6. 【請求項6】 2組の半導体レーザ発光体より発生する
    2ビームと、該2ビームを合成するビーム合成プリズム
    と、偏向器と、結像光学系により像担持体面上に2ライ
    ンを同時に走査して書込みを行う2ビーム光走査装置に
    おいて、固定部材に前記ビーム合成プリズムと、シリン
    ドリカルレンズとを一体に固着し、前記固定部材を前記
    書込みを行う2ビーム光走査装置の一部に設けたことを
    特徴とする2ビーム光走査装置を有する画像形成装置。
  7. 【請求項7】 2組の半導体レーザ発光体より発生する
    2ビームと、該2ビームを整形するビーム整形光学系
    と、前記2ビームを合成するビーム合成プリズムと、偏
    向器と、結像光学系と、副走査方向に前記ビームの圧縮
    を行う一対のプリズムとにより、像担持体面上に2ライ
    ンを同時に走査して書込みを行う2ビーム光走査装置に
    おいて、前記ビームを副走査方向にビームピッチ調整を
    行う前記一対のプリズムと、前記2組の半導体レーザ発
    光体の内、少なくとも一方の半導体レーザ発光体ユニッ
    トで主走査方向に平行移動することにより、主走査方向
    ビーム位置を調整するビーム位置調整手段と、前記主走
    査方向面内でビームの角度調整を行うビーム角度調整手
    段とを有することを特徴とする2ビーム光走査装置を有
    する画像形成装置。
  8. 【請求項8】 前記一対のプリズムによるビームの副走
    査方向に対するビームピッチ調整は、ネジの回動調整に
    より行うことを特徴とする請求項7記載の2ビーム光走
    査装置を有する画像形成装置。
  9. 【請求項9】 前記主走査方向ビーム位置の調整と、ビ
    ームの角度調整は偏心カムと一対の歯車駆動により行う
    ことを特徴とする請求項7記載の2ビーム光走査装置を
    有する画像形成装置。
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