JPH0854507A - 導電性の、コントラスト選択可能なコントラスト改良フィルター - Google Patents

導電性の、コントラスト選択可能なコントラスト改良フィルター

Info

Publication number
JPH0854507A
JPH0854507A JP7168996A JP16899695A JPH0854507A JP H0854507 A JPH0854507 A JP H0854507A JP 7168996 A JP7168996 A JP 7168996A JP 16899695 A JP16899695 A JP 16899695A JP H0854507 A JPH0854507 A JP H0854507A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
dielectric layer
coating layer
filter
thin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7168996A
Other languages
English (en)
Inventor
Jesse D Wolfe
ディー ウォルフ ジェシー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Messer LLC
Original Assignee
BOC Group Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOC Group Inc filed Critical BOC Group Inc
Publication of JPH0854507A publication Critical patent/JPH0854507A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
    • H01J29/89—Optical or photographic arrangements structurally combined or co-operating with the vessel
    • H01J29/896—Anti-reflection means, e.g. eliminating glare due to ambient light
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115—Multilayers
    • G02B1/116—Multilayers including electrically conducting layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 耐久性及び耐引掻性が改良された導電性コン
トラスト改良フィルターを提供する。 【構成】 薄膜コントラスト改良フィルターであって、
透明基板、透明誘電体層、前被覆層、可視光に対して透
過性である金属層、後被覆層、窒化珪素を含む透明保護
誘電体層、該保護誘電体層より屈折率の低い透明誘電体
層を含むことを特徴とするフィルター。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、多層の薄膜コーティン
グからなる導電性コントラスト改良(contrast-improvin
g, CI)フィルターに関する。
【０００２】
【従来技術及びその問題点】コントラスト改良フィルタ
ーを使用して、映像のコントラストを強め、かつビデオ
ディスプレー端子又はテレビ受像機のスクリーンからの
グレアを減少させることが多い。前記スクリーンは、ブ
ラウン管(cathode ray tube, CRT) 、フラットパネルの
ディスプレースクリーン又は他のタイプのビデオディス
プレー装置のものであってもよい。前記CIフィルター
は、観察者又はオペレーターとスクリーンとの間に置く
ことができ、又はスクリーン自体の上に直接被覆するこ
とができる。
【０００３】コントラストの改良は、観察者とスクリー
ンとの間に光学的吸収を取り入れることにより達成され
る。この吸収により、スクリーン上に作りだされたビデ
オ映像と外来性の反射光との間のコントラストが改良さ
れる。観察者とスクリーンとの間にあるコントラスト改
良フィルターの場合、ビデオ映像からの光は、コントラ
スト改良フィルターを透過し、そのコントラスト改良フ
ィルターの吸収能力により減衰する。しかしながら、通
常はスクリーンから反射し、ビデオ映像のコントラスト
を減少させる窓又は部屋からの外来性の光は、前記CIフ
ィルターを二度通過しなければならず、その光源からス
クリーンに伝わるまでに一度、その後、スクリーンから
観察者への反射の後に再び通過しなければならない。コ
ントラスト改良フィルターの吸収により、外来性の光
は、二度減衰し、その強度はフィルターの透過率の二乗
まで減少するが、ビデオ映像からの光は、一度減衰する
のみである。例えば、コントラスト改良フィルターの単
一表面の反射率が殆ど又は全くないと仮定すると、その
コントラスト改良フィルターが約40％の透過率を有して
いる場合、ビデオ映像は、その本来の強度の40％まで減
少するが、外来性の光はCIフィルターを二度通過するた
めに、その本来の強度の16％まで減少する。コントラス
ト改良フィルターのグレア減少特性は、スクリーンの表
面上の単一表面の反射率を、典型的には、４％から１％
の何分の１か未満まで減少させることにより達成され
る。そのようなコーティングは、典型的には、反射防止
(AR)コーティングと呼ばれる。
【０００４】コントラスト改良フィルターの第３の望ま
しい特性は、それが導電性であることである。適度のレ
ベルの膜抵抗率（10,000Ω／□より高い）では、スクリ
ーンの静電荷が除かれ、従って、そのスクリーンはダス
トを引き付けない。より低い抵抗率レベル（60Ω／□未
満）では、その膜は、電磁干渉／高周波干渉（EMI/RFI)
の作用からのある程度の保護を提供する。グレア減少導
電性コーティングは、インジウム錫酸化物(ITO) 又は類
似の透明導体の層をコーティングに取り入れることによ
り製造することができる。通常、これらのコーティング
を、高温で堆積させて、導電性層の最適特性を達成しな
ければならない。あるいはまた、薄い金属層を使用し
て、そのフィルターに必要な吸収性及び導電性の両方を
提供することができる。ビヨルナード(Bjornard)の米国
特許第5,091,244 号の技術背景には、銀、金又は銅等の
軟質金属の薄膜層を含む干渉フィルターが記載されてい
る。前記金属層は、十分な率の可視光を透過するよう
に、薄いものでなければならない。ビヨルナードは、そ
のような層は、耐久力がなく、耐引掻性が乏しいとして
いる。更には、銀又は銅の薄膜は、腐蝕しやすく、保護
されていない表面上において使用した場合には、数カ月
内に劣化し得る。また、ビヨルナードは、導電性及び吸
収性を提供するための窒化チタンの使用を論じている。
しかしながら、そのような膜における吸収は、かなり高
く（50％以上）、その抵抗率は、有意なEMI/RFI 遮蔽を
提供するのに十分低いものではない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題及び課題を解決するため
の手段】本発明には、前被覆層と後被覆層との間にはさ
まれ、保護窒化珪素層により引掻きから保護された薄い
金属層を使用する。残りの設計と関連して、二酸化珪素
層等の低屈折率材料により、コントラスト改良フィルタ
ーのグレア防止特性に必要とされる反射防止特性が提供
される。前被覆層、後被覆層及び保護窒化珪素層によ
り、金属層が保護され、CIフィルターにおいて、実行可
能な導電性及び吸収性の層として銀を使用することが可
能となる。銀は、３要因の１つに関して、窒化チタンよ
り導電性が高く、改良されたEMI/RFI 遮蔽が可能とな
る。同時に、薄い銀層は、窒化チタンよりかなり吸収性
の低いものであり、設計者は、かなり幅の広い範囲でコ
ントラスト改良のレベルを選択することが可能である。
窒化チタンを含むCIフィルターの最大透過率は約60％で
あるが、銀をベースとしたCIフィルターは、約80％透過
可能である。この特性により、CIフィルター設計者は、
システムの設計において更に自由な選択が許される。例
えば、薄膜層を、より吸収性の基板と共に使用すること
ができる。前述のように、幾つかのタイプのCIフィルタ
ー材料を越える、銀の更なる利点は、基板を加熱するこ
となく銀を堆積させることができることである。これ
は、基板材料がプラスチックである場合に重要なことで
ある。
【０００６】本発明の原理に従って、上記及び他の目的
物を、透明基板；実質的に透明な誘電体層；前被覆層；
可視光に対して実質的に透過性である金属層；後被覆
層；窒化珪素を含み、実質的に透明な保護誘電体層；及
び実質的に透明な低インデックス誘電体層であって、該
保護誘電体層よりも低い屈折率を有する層を含む薄膜コ
ントラスト改良フィルターを使用することにより実現化
する。更に、上記及び他の目的物は、透明基板上に、耐
久性薄膜コントラスト改良フィルターを製造する方法を
用いることにより実現化する。その方法は、下記の連続
した工程：実質的に透明な第１誘電体層を、基板上に反
応的にスパッタリングする工程；前被覆層を堆積させる
工程；金属層を、可視光に対して実質的に透過性である
厚さに堆積させる工程；後被覆層を堆積させる工程；窒
化チタンを含み、実質的に透明な第２保護誘電体層を第
２金属前被覆層上に反応的にスパッタリングする工程；
及び実質的に透明な低インデックス材料を、実質的に透
明な第２保護誘電体層上に反応的にスパッタリングする
工程を含み、実質的に透明な第２保護誘電体層により、
該低インデックス材料をスパッタリングする時に、金属
層が保護される。
【０００７】図１は、本発明のコントラスト改良フィル
ター10の図である。薄膜コントラスト改良フィルター10
は、透明ガラス基板12、透明誘電体層14及び三層16を含
む。三層16は、前被覆層18、実質的に透明な金属層20及
び後被覆層22からなる。付加的な透明保護誘電体層24
は、三層16の上に位置する。透明保護誘電体層24は、窒
化珪素を含み、三層16を保護する。誘電体層26は、コン
トラスト改良フィルター10についての、反射防止コーテ
ィングを完全にする低屈折率（低インデックス）材料で
ある。誘電体層26は、好ましくは二酸化珪素を含む。あ
るいはまた、誘電体層26は、酸化アルミニウム又は酸化
珪素／酸化アルミニウム混合物からなっていてもよい。
透明基板12は、石英、溶融シリカ、シリケートガラス、
並びにポリカーボネート及びアクリレート等のプラスチ
ックからなっていてもよい。あるいはまた、染色ガラス
又は染色プラスチック等の吸収性の基板を使用してもよ
い。その材料は、薄膜層を支える程、強いものであるべ
きである。
【０００８】基板12上に、第１誘電体層14を堆積させ
る。この誘電体層は、好ましくは窒化珪素である。まる
いはまた、参考文献として本明細書に組込まれる“耐久
性低輻射率太陽光調節薄膜コーティング”というタイト
ルの、ウォルフ(Wolfe) らの米国特許出願第07/846,224
号に記載されているように、窒化ジルコニウム及び窒化
珪素を含む複合膜を使用してもよい。他の適切な誘電体
層は、酸化チタン、酸化錫、酸化亜鉛、任意に酸化錫で
ドープされる酸化インジウム、酸化ビスマス及び酸化ジ
ルコニウム等の金属酸化物を含む。窒化珪素を使用する
ことの利点は、表面の二酸化珪素層を除き、全ての層
を、窒素又は窒素／アルゴン混合物中において堆積させ
ることができることである。好ましい実施態様におい
て、第１誘電体層14の厚さは、200 〜500 Åの範囲であ
る。より好ましくは、この範囲は、300〜350 Åであ
る。
【０００９】三層16は、前被覆層18及び後被覆層22を含
む。前被覆層及び後被覆層は、金属層20の形成及び保護
を助ける。前被覆層及び後被覆層は、好ましくは、可能
な限り薄く、吸収損失を最小にするものである。前被覆
層及び後被覆層は、ニッケルとクロムとの合金であるニ
クロムを含んでいてもよい。この層は、約20％以上のク
ロムを含んでいてもよく、好ましい合金含有量は、ニッ
ケル80％及びクロム20％である。前被覆層及び後被覆層
の部分として使用することができる他の金属及び合金と
して、ニッケル、クロム、ロジウム、白金、タングステ
ン、モリブデン及びタンタルがある。好ましい実施態様
において、前被覆層は、ニッケル金属と窒化クロムとの
混合物(NiCrNX として言及する) からなる。 NiCrNX 層
は、好ましくは、80％がニッケルであり、20％が窒化ク
ロムである。前被覆層は、金属層20のための核形成層と
して機能するようである。前被覆層は、フィルターの光
学特性に悪影響しないように十分に薄いものであるが、
金属層20が均質な金属スラブとして振る舞う原因となる
と考えられている。前被覆層及び後被覆層は、金属層20
の保護を助け、接着層として機能し、かつ薄膜コーティ
ング全体における応力の緩衝又は減少を助ける。前被覆
層及び後被覆層は、５〜20Å、好ましくは８〜16Å、最
も好ましくは実質的に12Åの厚さを有している。
【００１０】金属層20は、該層について選択した薄さの
ために、実質的に、可視光に対して透明である。金属層
20は、40〜150 Å、好ましくは100 Å未満の厚さを有し
ている。銀は、金属層20に好ましい金属であるが、他に
使用可能な金属としては、金、銅及び白金がある。銀
を、金属層20に使用した場合には、ビヨルナードらの文
献において使用された窒化チタンより導電率が３倍高
く、従ってその静電気の散逸及び電磁気的な保護の値が
より高くなる。金属層20について選択した薄さのため
に、金属層20は、可視光を反射するというよりは、むし
ろ実質的に可視光を透過させる。このことにより、本発
明は、参考文献として本明細書に組込まれる“耐久性第
１及び第２表面鏡”というタイトルの、ウォルフらの米
国特許出願第08/054,540号に記載された鏡と区別され
る。
【００１１】後被覆層22は、金属層20の上部に位置す
る。第２誘電体層24は、窒化珪素を含む。窒化珪素によ
り、三層16が保護され、窒化珪素層を有するフィルター
は、テーバー摩耗試験において、窒化珪素層を有してい
ない類似のフィルターより高い値を有する。更には、窒
化珪素により、二酸化珪素層26が形成される際に、三層
16が保護される。窒化珪素層24がなければ、三層16は、
二酸化珪素層26の形成の際に腐蝕又は損傷し得る。層26
は、低屈折率を有する透明材料であり、フィルター10の
反射率を最小にする。外側の低インデックス層26は、殆
どの可視スペクトルにおよぶ、幅広い低反射率を達成す
るのに重要なものである。
【００１２】図７は、本発明のコントラスト改良フィル
ターの反射率を、窒化珪素層、三層及び第２窒化珪素層
からなり、外側の二酸化珪素層のない低輻射率窓コーテ
ィングの反射率と比較したものである。図７の低輻射率
窓コーティングは、ガラス基板、厚さ300 Åの酸化チタ
ン(TiO2)層、厚さ８Åの NiCrNX 層、厚さ110 Åの銀
層、厚さ８Åの第２ NiCrNX 層及び厚さ420 Åの SiNX
層からなるSuper-E IV設計である。低輻射率コーティン
グの反射率は、殆どの可視スペクトルにわたり１％より
高いが、本発明のコントラスト改良フィルターの反射率
は、殆どの可視スペクトルにわたり１％よりかなり低
い。この改良は、外側の低インデックス層の存在による
ものである。外側の低インデックス層は、低輻射率コー
ティングにおける使用には不適切なものであることが分
かる。図８は、該２種のコーティングの透過率を比較し
たものである。低輻射率コーティングの機能は、可視ス
ペクトルにわたる透過率を最大化することにより達成す
る。コントラスト改良フィルターについての透過率曲線
は、低輻射率コーティングの透過率より低いことが分か
る。この違いは、主に、コントラスト改良フィルターに
おける付加的な低インデックス層の存在によるものであ
る。従って、本発明は、低インデックス層の存在により
低輻射率コーティングとは区別される。更には、低輻射
率コーティング層の好ましい厚さは、コントラスト改良
フィルターのものとは異なる。
【００１３】好ましい実施態様において、本発明は、以
下の設計の６層膜を含む：ガラス基板12；窒化珪素を含
む第１誘電体層14； NiCrNX 前被覆層18；銀金属層20；
NiCrNX 後被覆層22；窒化珪素を含む第２誘電体層24；
二酸化珪素層26。好ましい実施態様におけるこれらの層
の厚さを表１に記載した。
【００１４】
【表１】 表１ 空気 SiO2 SiNX NiCrNX Ag NiCrNX SiNX ガラス 575 185 12 75 12 300 単位Å
【００１５】図１に示した薄膜の厚さは、尺度通りでは
ない。表１の膜は、可視光の透過率が75％より高く、可
視光の反射率が0.5 ％未満であり、50Ω／□未満の導電
率のものである。また、この設計は、全てのMil-spec C
-14806A 環境試験に合格する。その膜は、0.3 未満の輻
射率を有し、低輻射率コーティングとして、絶縁ガラス
ユニットの内面において使用することができる。ビヨル
ナードらの窒化チタンフィルターとは異なり、この好ま
しい実施態様のフィルターは、電磁干渉(EMI)及び高周
波干渉(RFI) に関して、最小遮蔽範囲(6〜60Ω／□) の
ものであると思われる十分に低い抵抗を有する。
【００１６】更に低い透過度が必要である場合には、 N
iCrNX 層を厚くするか、又は基板の隣の第１層を、酸化
ニッケル又は窒化珪素とニッケルとの混合物で置き換え
ることができる。あるいはまた、以下に述べる10層設計
を使用することができる。コントラスト改良フィルター
の透過率を低くする他の方法は、銀層を、ニッケル等の
より透明度の低い金属の層で置き換える方法である。該
６層設計は、本特許出願において透過率レベルが、約80
％のレベルであり得るという利点を有する。このことに
より、システム設計者に、従来より広範な範囲の透過率
の値を選択する機会が与えられる。これが、本特許出願
の名称における重要な用語“選択可能なコントラスト”
である。吸収性の導電性層をベースとした従来のコント
ラスト改良フィルターは、より低い透過率レベル（60％
未満) に制限されており、従って、それらの達成するこ
とができるコントラスト改良値の範囲もより制限されて
いる。好ましい実施態様のコントラスト改良フィルター
を形成する方法は、以下のようなものである。その全て
の層は、DCマグネトロンスパッタリングにより堆積させ
る。以下に記載した電力は、インラインスパッタリング
システムについてのものである。薄被覆層の厚さは、タ
ーゲットに対する電源のDC電力を調節することにより決
定することができる。また、スパッタリングチャンバー
を通過する基板のライン速度は、形成される薄被覆層の
厚さに影響する。
【００１７】第１誘電体層14は、窒化珪素を含み、窒素
ガス含有環境下において珪素をスパッタリングすること
により形成される。好ましい実施態様において、円筒珪
素ターゲット(cylindrical silicon target)を少量の金
属でドープして、Airco Coating Technology（コンコー
ド、カリフォルニア）から入手可能な円筒形のC-MAG(商
標）装置によりスパッタリングすることができる。この
C-MAG(商標) 装置は、参考文献として本明細書に組込ま
れる“珪素をベースとした化合物により基板を被覆する
方法”というタイトルの、ウォルフらの、米国特許第5,
047,131 号に記載されている。第１窒化珪素層は、３ミ
リトールの100 ％の窒素下において、20キロワットの電
力を供給することにより形成することができる。前被覆
層18及び後被覆層22は、窒素ガス含有雰囲気下において
ニッケル／クロム合金ターゲットからスパッタリングす
ることにより形成し、ニッケル及びクロムニトライドと
の混合物を形成する。前被覆層及び後被覆層は、３ミリ
トールの100 ％の窒素又は50％のアルゴン、50％の窒素
下において８キロワットの電力を供給することにより形
成することができる。あるいはまた、２種の分離ターゲ
ット、ニッケルターゲットとクロムターゲットを、窒素
環境下において、共にスパッタリングして、NiCrNX 前
被覆層及び後被覆層を形成することができる。スパッタ
リングするニッケル及びクロムの量の比は、ターゲット
に供給するDC電力の比により決定することができる。銀
層20は、３ミリトールのアルゴン又は50％のアルゴン及
び50％の窒素下において、３キロワットの電力を用い
て、銀ターゲットから堆積させることができる。第２窒
化珪素層は、第１と同様の方法においてスパッタリング
する。二酸化珪素層26は、C-MAG(商標) の回転可能なカ
ソードの使用により、100％の酸素ガス環境下におい
て、３ミリトールの圧力で、カソードあたり20キロワッ
ト用いて形成することができる。
【００１８】上記に示したように、好ましい実施態様に
おいて、窒素スパッタリング環境から酸素スパッタリン
グ環境への変更のみが必要とされる。インラインスパッ
タリングシステムにおいて、窒素環境から酸素環境への
変更は、フィルターのプロセスコントロールに被害を与
え得る。効率の高いポンプ又はガラスの隣に位置する遮
蔽等の費用のかかる予防手段を使用しなければ、酸素
が、窒素スパッタリングチャンバー中に入り込み、また
その逆も起こり得る。このことにより、薄膜層中に不純
物が生じ得る。本件の設計には、費用のかかるこれらの
予防手段が１度だけ、即ち窒化珪素の形成から二酸化珪
素の形成への変更が必要とされる。ビヨルナードらによ
り論議された窒化チタン層を用いたコントラスト改良フ
ィルターは、窒素環境スパッタリング工程と酸素環境ス
パッタリング工程との間に３回の変更を有し、従って、
そのプロセス及び／又は装置が複雑である。
【００１９】図２は、表１において論じた組成を有す
る、好ましい実施態様のコントラスト改良フィルターの
反射率パーセンテージを示す、コンピューターで作成し
たグラフである。その反射率の値が、440 〜660 nmの範
囲について、0.2 ％未満であることに注意されたい。典
型的には、コントラスト改良フィルターは、波長範囲に
ついてあるパーセンテージより低い反射率、及びその範
囲において、別の値より低い平均値を有する必要があ
る。本発明のコントラスト改良フィルターは、430〜660
nmの範囲内の全ての波長について0.6 ％以下の反射率
を有し、かつこの波長範囲について0.3 ％未満の反射率
平均値を有している。二酸化珪素層が、要求される低反
射率を得るのに重要なものであることに注意されたい。
【００２０】図３は、可視の波長範囲についての、本発
明の多層フィルターの全体的な透過率を示すチャートで
ある。該全体的な透過率は、可視の波長範囲にわたっ
て、80％付近であることに注意されたい。本発明のフィ
ルターの透過率は、ビヨルナードらの特許のコントラス
ト改良フィルターの透過率よりかなり高いものであり得
る。本発明の潜在的に高い透過率値は、ビヨルナードら
の特許のコントラスト改良フィルターにより可能となる
コントラスト改良の程度の選択可能な適用範囲よりも、
より幅の広い選択可能な適用範囲を、システム設計者に
与える。本件のCIフィルターは、種々の吸収レベルを有
するガラス基板と共に有利に使用することができる。例
えば、そのフィルターの所望の透過率レベルを40％にす
る場合、これは、40％の透過率を有するCIフィルターを
吸収のないガラス上に置くこと、50％の透過率を有する
CIフィルターを80％の透過率を有するガラス上に置くこ
と(0.5×0.8=0.4)、又は80％の透過率を有するCIフィル
ターを50％の透過率を有するガラス上に置くことにより
達成することができる。このように、全体的なコントラ
スト改良は、コーティングの透過率とガラスの透過率と
の積によるものである。従来技術を用いる場合、CIフィ
ルターは、80％以上の透過率を有するガラス上において
使用することに限られるが、本発明では、50％〜100 ％
のガラスの透過率の値を選択することが可能である。コ
ーティングにおいて80％の透過率を有し、ガラスにおい
て50％の透過率を有しているCIフィルターの利点は、殆
どの吸収がガラスにおけるものであることから、コーテ
ィングの引掻傷が見えにくくなることである。対照的
に、CIフィルターが、コーティングにおいて40％の透過
率を有し、かつガラスにおいて100 ％の透過率を有して
おり、そのコーティングに傷がついている場合、引掻傷
があるところでは吸収がなく、ビデオの映像は、その引
掻傷のある部分で非常に明るく見える。
【００２１】好ましい実施態様において、薄膜コーティ
ングの厚さ及び基板における光透過率は、コントラスト
改良フィルターを通しての光透過率が約20〜40％、好ま
しくは約30％であり、430 〜660 nmの範囲にわたり実質
的に一定となるものである。好ましい実施態様の厚さの
変更は、フィルターの性能に影響し得る。最も注目すべ
きことには、薄膜層の厚さの変更が、色彩要求を満た
す、フィルターの能力に影響し得る。
【００２２】図４は、CIE 1964色度図であって、そのチ
ャートにおいて、CIフィルターからの反射光が保持され
るのに要される領域に関して、典型的な特定域 (typica
l specification)を示すものである。図４は、イルミナ
ントＦ光源によるフィルターにおける入射角０°、及び
標準観察者の10°を想定したものである。色チャートに
おける該特定域は、無彩色及びわずかに青い色に対応し
ている。表１のCIフィルターからの反射光は、特定域内
の×印上に位置する。フィルターのそれぞれの層の厚さ
が、＋／−１％までランダムに変動し得る場合、反射光
の色は、わずかに変化するが、図４において１％と記し
た点線の囲みの内側に位置するものである。より大きな
囲みは、層の厚さにおける２％のランダムな変動に対応
する色の変化を含む。この図から、１％の変動のもの
は、特定域の範囲内に存在することが確かであるが、２
％の変動のものはそうではない。
【００２３】図５は、別の実施態様のコントラスト改良
フィルター30の図である。コントラスト改良フィルター
30は、付加的な薄層を含む。図５は、第１透明誘電体層
54及び三層46を含み、該三層46は、前被覆層52、透明金
属層50及び後被覆層48を含む。また、図５には、好まし
くは窒化珪素である透明な保護誘電体層34及び最終仕上
げの低インデックス層32を含んでいる。これらの層に加
えて、図５は、付加的な透明誘電体層44及び第２の三層
36を含み、該層36は、付加的な前被覆層42、付加的な透
明金属層40及び付加的な後被覆層38を含む。コントラス
ト改良フィルター30の層は、好ましくは、図１に示した
コントラスト改良フィルター10と同様のものであるが、
付加的な三層及び誘電体層が使用される。この10層設計
の好ましい実施態様において、その厚さは以下のもので
ある。
【００２４】
【表２】 表２ 空気 SiO2 SiNX NiCrNX Ag NiCrNX NiCrNX Ag NiCrNX SiNX ガラス 530 190 12 81 12 12 66 12 340 単位Å
【００２５】表２の10層設計は、約65％の透過率及び約
5.0 Ω／□のシート抵抗を有する。図６は、別の実施態
様（表２）のコントラスト改良フィルターについての単
一表面の反射率を、コンピューターで作成したグラフで
ある。該単一表面の反射率は、425 〜680 nmについて0.
2 ％未満であることに注意されたい。別の６層設計を、
表３に示す。
【００２６】
【表３】 表３ 空気 SiO2 SiNX NiCrNX Ag NiCrNX SiNX ガラス 565 200 12 75 12 305 単位Å
【００２７】表３の設計において、二酸化珪素層の隣の
窒化珪素層は、厚さ200 Åである。この窒化珪素層は、
フィルターの機械的耐久性を可能な限り増加するような
厚さであることが好ましい。加えて、この窒化珪素層に
は、二酸化珪素層形成の間、三層を保護するために少な
くとも30Åの厚さが要求される。図９は、コンピュータ
ーで作成したモデル及びこの別の６層設計の実際の試験
サンプルの単一表面の反射率のグラフである。表３の６
層設計の試験サンプルを、そのコーティングがダイヤモ
ンド刻み(diamond scribe)により引掻傷がつけられた領
域にも、塩霧(salt fog)中に72時間通した。また、その
膜を、水中20％NaClの沸騰に１時間通し、500 イレーザ
ー摩擦を行ったところ、テーバー摩耗試験において、8.
5 より高い値が示された。この設計は、全Mil-spec C-1
4806A 環境試験に合格する。種々の詳細な実施及び方法
は、単に、本発明を説明するためのものである。詳細な
種々の変更が、本発明の範囲内において可能であり、ク
レームによってのみ限定されるものであると理解される
であろう。例えば該薄膜層は、CRT チューブ上に直接形
成され、コントラスト改良を提供し得る。
【図面の簡単な説明】
【図１】薄膜コントラスト改良フィルターの図である。
【図２】好ましい実施態様のコントラスト改良フィルタ
ーについての単一表面反射率をコンピューターで作成し
たグラフである。
【図３】好ましい実施態様の薄膜層を一度通過させた透
過性をコンピューターで作成したグラフである。
【図４】CIE 1964色度チャートを示す図であって、その
チャートにおいて、コントラスト改良フィルターから反
射した光の色が保持されるのに要される領域に関して、
典型的な特定域 (typical specification)を示し、及び
コントラスト改良フィルターの全層に所定の厚さの変動
があった時に、該フィルターからの反射が見られるCIE
チャート内の上記領域を示す囲みを示す。
【図５】別の実施態様の10層薄膜コントラスト改良フィ
ルターの図である。
【図６】図５に示される別の実施態様のコントラスト改
良フィルターについての単一表面反射率をコンピュータ
ーで作成したグラフである。
【図７】二酸化珪素層のない低輻射率設計と比較した、
本発明の６層設計の単一表面反射率のグラフである。
【図８】二酸化珪素層のない低輻射率フィルターと比較
した、本発明の６層設計の全体的な透過率のグラフであ
る。
【図９】コンピューターで作り出したモデル及び別の６
層設計の実際の試験サンプルの単一表面反射率のグラフ
である。
【符号の説明】
10 コントラスト改良フィルター 12 透明ガラス基板 14 透明誘電体層 16 三層 18 前被覆層 20 実質的に透明な金属層 22 後被覆層 24 付加的な透明保護層 26 低インデックス誘電体層 30 コントラスト改良フィルター 32 低インデックス誘電体層 34 透明保護誘電体層 36 付加的な第２三層 38 付加的な後被覆層 40 付加的な透明金属層 42 付加的な前被覆層 44 付加的な透明誘電体層 46 三層 48 後被覆層 50 実質的に透明な金属層 52 前被覆層 54 透明誘電体層 56 透明基板

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 薄膜コントラスト改良フィルター（10、
    30）であって、透明基板（12、56）；実質的に透明な誘
    電体層（14、54）；前被覆層（18、52）；可視光に対し
    て実質的に透過性である金属層（20、50）；後被覆層
    （22、48）；窒化珪素を含み、実質的に透明な保護誘電
    体層（24、34）；及び保護誘電体層（24、34）より低い
    屈折率を有し、実質的に透明な低インデックス誘電体層
    （26、32）を含むことを特徴とするフィルター。
  2. 【請求項２】 更に、後被覆層（48）と保護誘電体層
    （34）との間に位置する、付加的な実質的に透明な導電
    体層（44）、付加的な前被覆層（42）、付加的な金属層
    （40）及び付加的な後被覆層（38）を含む請求項１に記
    載の薄膜コントラスト改良フィルター（10、30）。
  3. 【請求項３】 金属層（20、50）が、銀から形成された
    請求項１又は２に記載の薄膜コントラスト改良フィルタ
    ー（10、30）。
  4. 【請求項４】 金属層（20、50）の厚さが、100 Å未満
    である請求項３に記載の薄膜コントラスト改良フィルタ
    ー（10、30）。
  5. 【請求項５】 実質的に透明な低インデックス誘電体層
    （26、32）が、二酸化珪素を含む請求項１〜４のいずれ
    か１項に記載の薄膜コントラスト改良フィルター（10、
    30）。
  6. 【請求項６】 前被覆層（18、52）及び後被覆層（22、
    48）の少なくとも１種が、ニッケル、クロム、タングス
    テン及び白金からなる群から選択される金属並びにこれ
    らの金属の合金から形成され、金属層（20、50）が、
    銀、金、銅及び白金からなる群から選択された金属から
    形成された請求項１〜５のいずれか１項に記載の薄前被
    覆コントラスト改良フィルター（10、30）。
  7. 【請求項７】 前被覆層（18、52）及び後被覆層（22、
    48）の少なくとも１種が、ニッケル金属と窒化クロムと
    の混合物から形成された請求項６に記載の薄膜コントラ
    スト改良フィルター（10、30）。
  8. 【請求項８】 前被覆層（18、52）及び後被覆層（22、
    48）の少なくとも１種が、ニクロムから形成された請求
    項６に記載の薄膜コントラスト改良フィルター（10、3
    0）。
  9. 【請求項９】 実質的に透明な誘電体層（24、34）、前
    被覆層（18、52）、金属層（20、50）、後被覆層（22、
    48）、保護誘電体層及び低インデックス誘電体層（26、
    32）が、これらの薄膜層が70％より高い可視光透過率を
    有するような厚さを有する請求項１〜８のいずれか１項
    に記載の薄膜コントラスト改良フィルター（10、30）。
  10. 【請求項10】 基板（12、56）が、80％より低い可視光
    透過率を有している基板を含む請求項１〜９のいずれか
    １項に記載の薄膜コントラスト改良フィルター（10、3
    0）。
JP7168996A 1994-07-07 1995-07-04 導電性の、コントラスト選択可能なコントラスト改良フィルター Pending JPH0854507A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/271822 1994-07-07
US08/271,822 US5521765A (en) 1994-07-07 1994-07-07 Electrically-conductive, contrast-selectable, contrast-improving filter

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0854507A true JPH0854507A (ja) 1996-02-27

Family

ID=23037240

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7168996A Pending JPH0854507A (ja) 1994-07-07 1995-07-04 導電性の、コントラスト選択可能なコントラスト改良フィルター

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5521765A (ja)
EP (1) EP0691553A3 (ja)
JP (1) JPH0854507A (ja)
CA (1) CA2150081A1 (ja)
MY (1) MY130594A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008545465A (ja) * 2005-05-26 2008-12-18 サン−ゴバン グラス フランス 冷凍密閉容器の特に開口リーフ用断熱グレイジングユニット
KR20110028601A (ko) * 2008-06-05 2011-03-21 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 극박 투명 ｅｍｉ 차폐 필터
JP2014532204A (ja) * 2011-09-07 2014-12-04 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ タッチパネルで使用される透明体を製造するための方法およびシステム
WO2019187417A1 (ja) * 2018-03-29 2019-10-03 富士フイルム株式会社 反射防止膜、光学部材および反射防止膜の製造方法
JP2019531497A (ja) * 2016-08-02 2019-10-31 サン−ゴバン グラス フランス ジルコニウムに富む窒化ケイ素ジルコニウムを含む層を少なくとも１つ含む熱的特性を有する積層体を備えた基材、その使用及び製造
US10641927B2 (en) 2017-03-27 2020-05-05 Fujifilm Corporation Optical thin film, optical element, optical system, and method for producing optical thin film
US11029449B2 (en) 2016-08-31 2021-06-08 Fujifilm Corporation Antireflection film, optical element, optical system, method of producing antireflection film
DE112018006975B4 (de) 2018-01-30 2022-06-23 Fujifilm Corporation Optischer Dünnfilm, optisches Element und optisches System

Families Citing this family (65)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6673438B1 (en) 1994-05-03 2004-01-06 Cardinal Cg Company Transparent article having protective silicon nitride film
US5858519A (en) * 1995-01-27 1999-01-12 Optical Coating Laboratory, Inc. Absorbing anti-reflection coatings for computer displays
US6212004B1 (en) * 1996-05-10 2001-04-03 Applied Coatings, Inc. Reflector with directional control of visible and infra-red radiation
JPH1173119A (ja) * 1997-03-24 1999-03-16 Konica Corp 電磁波シールド効果を有する反射防止コート及び反射防止コートを有する光学部材
US5852513A (en) * 1997-05-14 1998-12-22 Optical Coating Laboratory, Inc. Television filter
US20050096288A1 (en) * 1997-06-13 2005-05-05 Aragene, Inc. Lipoproteins as nucleic acid vectors
US6266193B1 (en) 1997-07-24 2001-07-24 Cpfilms Inc. Anti-reflective composite
AUPO995097A0 (en) * 1997-10-21 1997-11-13 Sola International Holdings Ltd Surface coating composition
US6583935B1 (en) 1998-05-28 2003-06-24 Cpfilms Inc. Low reflection, high transmission, touch-panel membrane
JP2000092578A (ja) * 1998-09-09 2000-03-31 Fujitsu Ltd スピーカ装置
CA2353506A1 (en) 1998-11-02 2000-05-11 3M Innovative Properties Company Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays
JP2000167969A (ja) * 1998-12-07 2000-06-20 Nitto Denko Corp 透明積層体およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルター
US6144479A (en) * 1998-12-16 2000-11-07 3M Innovative Properties Company Low reflectivity contrast enhancement filter
JP2000294980A (ja) * 1999-04-06 2000-10-20 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透光性電磁波フィルタおよびその製造方法
US6740211B2 (en) * 2001-12-18 2004-05-25 Guardian Industries Corp. Method of manufacturing windshield using ion beam milling of glass substrate(s)
US6808606B2 (en) 1999-05-03 2004-10-26 Guardian Industries Corp. Method of manufacturing window using ion beam milling of glass substrate(s)
US6078425A (en) * 1999-06-09 2000-06-20 The Regents Of The University Of California Durable silver coating for mirrors
US6475626B1 (en) * 1999-12-06 2002-11-05 Guardian Industries Corp. Low-E matchable coated articles and methods of making same
US6495263B2 (en) 1999-12-06 2002-12-17 Guardian Industries Corp. Low-E matchable coated articles and methods of making same
US6623846B2 (en) 2000-03-06 2003-09-23 Guardian Industries Corp. Low-emissivity glass coatings having a layer of nitrided nichrome and methods of making same
US6416872B1 (en) 2000-08-30 2002-07-09 Cp Films, Inc. Heat reflecting film with low visible reflectance
US8500274B2 (en) 2000-11-03 2013-08-06 High Performance Optics, Inc. Dual-filter ophthalmic lens to reduce risk of macular degeneration
US8403478B2 (en) * 2001-11-02 2013-03-26 High Performance Optics, Inc. Ophthalmic lens to preserve macular integrity
US6524714B1 (en) * 2001-05-03 2003-02-25 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated articles with metal nitride layer and methods of making same
US6667121B2 (en) * 2001-05-17 2003-12-23 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated article with anti-migration barrier between dielectric and solar control layer portion, and methods of making same
US6627317B2 (en) 2001-05-17 2003-09-30 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated articles with anti-migration barrier layer between dielectric and solar control layers, and methods of making same
US20030049464A1 (en) * 2001-09-04 2003-03-13 Afg Industries, Inc. Double silver low-emissivity and solar control coatings
US6605358B1 (en) † 2001-09-13 2003-08-12 Guardian Industries Corp. Low-E matchable coated articles, and methods
US6942923B2 (en) 2001-12-21 2005-09-13 Guardian Industries Corp. Low-e coating with high visible transmission
US6602608B2 (en) * 2001-11-09 2003-08-05 Guardian Industries, Corp. Coated article with improved barrier layer structure and method of making the same
US6589658B1 (en) 2001-11-29 2003-07-08 Guardian Industries Corp. Coated article with anti-reflective layer(s) system
US6586102B1 (en) 2001-11-30 2003-07-01 Guardian Industries Corp. Coated article with anti-reflective layer(s) system
US6830817B2 (en) 2001-12-21 2004-12-14 Guardian Industries Corp. Low-e coating with high visible transmission
US6749941B2 (en) 2002-03-14 2004-06-15 Guardian Industries Corp. Insulating glass (IG) window unit including heat treatable coating with silicon-rich silicon nitride layer
US7005190B2 (en) * 2002-12-20 2006-02-28 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated article with reduced color shift at high viewing angles
US7054065B2 (en) * 2003-03-27 2006-05-30 The Regents Of The University Of California Durable silver thin film coating for diffraction gratings
US20060046089A1 (en) * 2004-09-01 2006-03-02 O'shaughnessy Dennis J Metal based coating composition and related coated substrates
US7597963B2 (en) * 2005-07-08 2009-10-06 Guardian Industries Corp. Insulating glass (IG) window unit including heat treatable coating with specific color characteristics and low sheet resistance
US9377569B2 (en) 2006-03-20 2016-06-28 High Performance Optics, Inc. Photochromic ophthalmic systems that selectively filter specific blue light wavelengths
US20120075577A1 (en) 2006-03-20 2012-03-29 Ishak Andrew W High performance selective light wavelength filtering providing improved contrast sensitivity
US20070216861A1 (en) * 2006-03-20 2007-09-20 Andrew Ishak Ophthalmic system combining ophthalmic components with blue light wavelength blocking and color-balancing functionalities
US8113651B2 (en) 2006-03-20 2012-02-14 High Performance Optics, Inc. High performance corneal inlay
US8882267B2 (en) 2006-03-20 2014-11-11 High Performance Optics, Inc. High energy visible light filter systems with yellowness index values
US8360574B2 (en) * 2006-03-20 2013-01-29 High Performance Optics, Inc. High performance selective light wavelength filtering providing improved contrast sensitivity
US7520608B2 (en) * 2006-03-20 2009-04-21 High Performance Optics, Inc. Color balanced ophthalmic system with selective light inhibition
CN101573228B (zh) * 2006-12-28 2015-08-05 3M创新有限公司 用于薄膜金属层形成的成核层
WO2008106449A1 (en) * 2007-02-26 2008-09-04 High Performance Optics, Inc. High performance corneal inlay
KR20100096115A (ko) 2007-10-30 2010-09-01 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 광학 디스플레이 필터용 전자파 간섭 차폐를 갖는 다중-스택 광학 밴드패스 필름
US8263227B2 (en) † 2008-06-25 2012-09-11 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with low-E coating including zirconium oxide and/or zirconium silicon oxynitride and methods of making same
KR102054782B1 (ko) * 2009-08-03 2019-12-11 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 광학적으로 투명한 전도성 금속 또는 금속 합금 박막의 형성 방법 및 그에 의해 제조된 필름
KR20120041238A (ko) * 2009-08-03 2012-04-30 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 반사방지성 투명 ｅｍｉ 차폐 광학 필터
US9932267B2 (en) 2010-03-29 2018-04-03 Vitro, S.A.B. De C.V. Solar control coatings with discontinuous metal layer
US10654748B2 (en) 2010-03-29 2020-05-19 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings providing increased absorption or tint
US10654747B2 (en) 2010-03-29 2020-05-19 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings with subcritical copper
JP5984310B2 (ja) * 2010-10-19 2016-09-06 エルジー・ケム・リミテッド 導電性パターンを含む構造体、タッチパネル及びディスプレイ
US9798163B2 (en) 2013-05-05 2017-10-24 High Performance Optics, Inc. Selective wavelength filtering with reduced overall light transmission
US9683102B2 (en) 2014-05-05 2017-06-20 Frontier Scientific, Inc. Photo-stable and thermally-stable dye compounds for selective blue light filtered optic
DE102014108679A1 (de) 2014-06-20 2015-12-24 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Optisches Element mit einer reflektierenden Beschichtung
PE20171683A1 (es) 2015-03-09 2017-11-27 Vision Ease Lp Revestimiento antiestatico, antirreflejante
MX2021009260A (es) 2015-03-18 2022-06-30 Vision Ease Lp Recubrimiento resistente al cuarteado y metodo del mismo.
BR112018007315A2 (pt) 2015-10-13 2018-10-23 Vision Ease Lp filtro óptico com transmitância seletiva e refletância
US11078718B2 (en) 2018-02-05 2021-08-03 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings with quadruple metallic layers
US10562812B2 (en) 2018-06-12 2020-02-18 Guardian Glass, LLC Coated article having metamaterial-inclusive layer, coating having metamaterial-inclusive layer, and/or method of making the same
US10830933B2 (en) 2018-06-12 2020-11-10 Guardian Glass, LLC Matrix-embedded metamaterial coating, coated article having matrix-embedded metamaterial coating, and/or method of making the same
CN112485850A (zh) * 2020-12-21 2021-03-12 北京大学 具有双损耗腔结构的宽带吸收器及其制备方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3682528A (en) * 1970-09-10 1972-08-08 Optical Coating Laboratory Inc Infra-red interference filter
US4179181A (en) * 1978-04-03 1979-12-18 American Optical Corporation Infrared reflecting articles
US4846551A (en) * 1986-04-21 1989-07-11 Optical Coating Laboratory, Inc. Optical filter assembly for enhancement of image contrast and glare reduction of cathode ray display tube
US4859532A (en) * 1986-11-27 1989-08-22 Asahi Glass Company Ltd. Transparent laminated product
US4965121A (en) * 1988-09-01 1990-10-23 The Boc Group, Inc. Solar control layered coating for glass windows
US4960310A (en) * 1989-08-04 1990-10-02 Optical Corporation Of America Broad band nonreflective neutral density filter
US5047131A (en) * 1989-11-08 1991-09-10 The Boc Group, Inc. Method for coating substrates with silicon based compounds
DE3942990A1 (de) * 1989-12-19 1991-06-20 Leybold Ag Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags
US5377045A (en) * 1990-05-10 1994-12-27 The Boc Group, Inc. Durable low-emissivity solar control thin film coating
US5407733A (en) * 1990-08-10 1995-04-18 Viratec Thin Films, Inc. Electrically-conductive, light-attenuating antireflection coating
US5091244A (en) * 1990-08-10 1992-02-25 Viratec Thin Films, Inc. Electrically-conductive, light-attenuating antireflection coating
TW221703B (ja) 1992-03-04 1994-03-11 Boc Group Inc
US5344718A (en) * 1992-04-30 1994-09-06 Guardian Industries Corp. High performance, durable, low-E glass
WO1994019709A1 (en) * 1993-02-19 1994-09-01 Photran Corporation A light attenuating anti-reflection coating including electrically conductive layers
CA2120877A1 (en) 1993-04-28 1994-10-29 Jesse D. Wolfe Durable first and second surface mirrors

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008545465A (ja) * 2005-05-26 2008-12-18 サン−ゴバン グラス フランス 冷凍密閉容器の特に開口リーフ用断熱グレイジングユニット
KR20110028601A (ko) * 2008-06-05 2011-03-21 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 극박 투명 ｅｍｉ 차폐 필터
JP2014532204A (ja) * 2011-09-07 2014-12-04 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ タッチパネルで使用される透明体を製造するための方法およびシステム
JP2019531497A (ja) * 2016-08-02 2019-10-31 サン−ゴバン グラス フランス ジルコニウムに富む窒化ケイ素ジルコニウムを含む層を少なくとも１つ含む熱的特性を有する積層体を備えた基材、その使用及び製造
US11029449B2 (en) 2016-08-31 2021-06-08 Fujifilm Corporation Antireflection film, optical element, optical system, method of producing antireflection film
US10641927B2 (en) 2017-03-27 2020-05-05 Fujifilm Corporation Optical thin film, optical element, optical system, and method for producing optical thin film
DE112018006975B4 (de) 2018-01-30 2022-06-23 Fujifilm Corporation Optischer Dünnfilm, optisches Element und optisches System
US11747520B2 (en) 2018-01-30 2023-09-05 Fujifilm Corporation Optical thin film having metal layer containing silver and high standard electrode potential metal
WO2019187417A1 (ja) * 2018-03-29 2019-10-03 富士フイルム株式会社 反射防止膜、光学部材および反射防止膜の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0691553A2 (en) 1996-01-10
US5521765A (en) 1996-05-28
MY130594A (en) 2007-07-31
EP0691553A3 (en) 1997-03-12
CA2150081A1 (en) 1996-01-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5521765A (en) Electrically-conductive, contrast-selectable, contrast-improving filter
US5728456A (en) Methods and apparatus for providing an absorbing, broad band, low brightness, antireflection coating
CA2116855C (en) An electrically-conductive, light-attenuating antireflection coating
US4422721A (en) Optical article having a conductive anti-reflection coating
JP3446833B2 (ja) 導電性光減衰反射防止被覆およびそれを施した物品
EP1441239B1 (en) Transparent laminate, method for producing the same, and plasma display panel
EP0867733B1 (en) Antireflection coating with electromagnetic wave shielding effect and optical member having the antireflection coating
JP2000356706A (ja) 光吸収性反射防止体とその製造方法
JPS5931147A (ja) 可視光透過性熱線しやへい膜およびその製造方法
WO2006033861A2 (en) Plasma display filter with a dielectric/metallic layer stack of at least eleven layers
JP2002509514A (ja) 無彩色灰色の光エネルギー吸収性被膜
EP3396454B1 (en) Reflective transparent screen
US5858519A (en) Absorbing anti-reflection coatings for computer displays
EP0509050B1 (en) Magnesium film reflectors
JPH09156964A (ja) 光吸収性反射防止体
JPH11171596A (ja) 反射防止膜
JP3392000B2 (ja) 断熱ガラス
WO2020184694A1 (ja) 赤外線反射顔料
WO2007028060A2 (en) Durable near-infrared blocking and emi shielding film for display filter
JPH02901A (ja) 耐久性の優れた光学体
JPH02164744A (ja) 耐久性の優れた熱線反射性を有する光学体
KR970000902B1 (ko) 저반사 코팅유리 및 그 제조방법
JPH1062602A (ja) 導電性反射防止膜
JPH10186103A (ja) 反射防止膜
JPH0365531A (ja) 単板断熱ガラス

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060925

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070305