JPH0853427A - 赤色側にシフトされたトリス−アリール−s−トリアジンおよびそれらにより安定化された組成物 - Google Patents
赤色側にシフトされたトリス−アリール−s−トリアジンおよびそれらにより安定化された組成物Info
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Abstract
リス−アリール−s−トリアジン紫外線遮蔽剤の提供す
る。 【解決手段】 下式に代表される、1−3個のレゾルシ
ノール環をもち、該環の最低1つが5−位においてアル
キル基、フェニルアルキル基、ハロゲン原子、チオ基ま
たはスルホニル基で置換される、トリス−アリール−s
−トリアジン。例えば、4,6−ビス−(2,4−ジメ
チルフェニル)−2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒ
ドロキシ−3−ノニルオキシプロポキシ)−5−(1−
メチル−1−フェニルエチル)フェニル]−s−トリア
ジン。上記化合物を特に化学線の有害作用を受けやすい
有機材料を保護するための安定剤として混合すれば優れ
た安定化作用が得られ、さらにこの方法により製造され
る組成物を提供する。 【化1】
Description
しやすいポリマー系を保護することにおける新規な赤色
側にシフトしたトリス−アリール−s−トリアジンおよ
びその使用方法に関する。
位に関してオルト位にあるヒドロキシ基を有する、トリ
ス−アリール−s−トリアジンは紫外線吸収剤としてよ
く知られている。また、トリアジンのこの種類が、化学
線への曝露の有害作用から有機ポリマーを保護すること
もよく知られている。
の2,4−ジヒドロキシフェニル基はレゾルシノール基
として称することができる。レゾルシノール基に使用さ
れる番号付けの体系は以下のように概説できる。
3,268,474号は、1以上のトリス−アリール−
s−トリアジンの種類の化合物の添合による紫外線から
プラスチックおよび樹脂の組成物の保護を記載する。前
者の特許は2,4,6−トリス(2,4−ジヒドロキシ
−フェニル)−s−トリアジンおよび2,4,6−トリ
ス(2−ヒドロキシ−4−アルコキシフェニル)−s−
トリアジンを特許請求の範囲に記載する。トリス−5−
アルキルレゾルシノール−s−トリアジンは合成される
が、試験も特許請求の範囲に記載もなされていない。
号は、ポリマー材料と、少なくとも1つのオルト−ヒド
ロキシフェニル基を持ち、さらに3つのアリール環のお
のおのにおいて、おのおのの環上で総計3個までアルキ
ル基、アルコキシ基、ハロゲン基等により置換されてい
てよい、トリス−アリール−s−トリアジンとの組成物
を特許請求の範囲に記載する。好ましい置換のパターン
は示されていない。トリス−(2−ヒドロキシ−4−ア
ルコキシフェニル)−s−トリアジンおよび2,4−ビ
ス−(2,4−ジメチルフェニル)−6−(2−ヒドロ
キシ−4−オクチルオキシフェニル)−s−トリアジン
を含む組成物に対する特定のクレームの記載がある。そ
の一方、トリス−アルキルレゾルシノール−s−トリア
ジンの例は示されるが、それは試験がなされずならびに
そのポリマーとの組成物は特許請求の範囲に記載されて
いない。
ルシノール環上置換のないビス−レゾルシノール−トリ
ス−アリール−s−トリアジンを特許請求の範囲に記載
している。米国特許3,244,708号はレゾルシノ
ール環上置換のないモノ−、ビスまたはトリスレゾルシ
ノール−トリス−アリール−s−トリアジンを特許請求
の範囲に記載している。上記特許の導入部におけるマー
カッシュ式構成ではヒドロキシ基、ハロゲン原子、アル
キル基、アルコキシ基、フェニル基もしくはフェニルア
ルキル基の1もしくは2個または組合せによりレゾルシ
ノール環上置換さらに置換されてよいモノ−レゾルシノ
ール−トリスアリール−s−トリアジンについて述べて
いる。好ましい置換のパターンは言及せずそしてそのよ
うな化合物は合成または試験されていない。
4,740,542号は光、水分、酸素の作用に対する
ポリマーフィルムコーティングまたは成形品における、
トリス−アリール−s−トリアジンおよび障害性アミン
(hindered amine) 光安定剤の相乗的量の使用を記載す
る。それらの特許において言及された上記トリス−アリ
ール−s−トリアジンは米国特許3,268,474号
に記載されたものである。好ましいs−トリアジンは
4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−2−
(2,4−ジヒドロキシフェニル)−s−トリアジンま
たは4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−2−
(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−s
−トリアジンである。上記特許のマーカッシュ式構成で
はトリアジン環への結合部位に対してオルト位であるヒ
ドロキシ基の少なくとも1つを持ち、および3つのアリ
ール環のおのおのにおいて3個までの置換基を有してい
てよいトリス−アリール−s−トリアジンを記載する。
これらの置換基はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン
等を含む。好ましい置換基のパターンは示されず、レゾ
ルシノール環における置換されている化合物は製造もま
たは試験もされていない。
高溶解性トリス−アリール−s−トリアジン、それらの
製造方法およびそれらの有機溶媒との組成物を特許請求
の範囲に記載する。この方法において有益であるとして
言及された特定のトリアジンは2,−(2,4−ジヒド
ロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフ
ェニル)−s−トリアジンである。この出願で特許請求
の範囲に記載されるトリス−アリール−s−トリアジン
は米国特許第3,268,474号に記載されたものに
基づく。好ましいトリアジンはモノ−レゾルシノール−
トリス−アリールベースのs−トリアジンである。好ま
しいマーカッシュ群はレゾルシノール環がさらに5−位
においてアルキル基により置換されていてもよいことを
示す。しかし、この位置における置換の効果は言及され
ずおよびこのような化合物は製造も試験のされていな
い。
は、トリス−アリール−s−トリアジンおよび障害性ア
ミンからなる相乗的安定剤組成物ならびにそのような組
成物を添合することによりポリマーを安定化する方法を
特許請求の範囲に記載する。さらに、この組成物におい
て特許請求の範囲に記載されているトリアジンは米国特
許第3,268,474号に記載されるものに基づいて
いる。好ましいトリアジンはビス−キシリル−レゾルシ
ノールベースのs−トリアジンである。この出願の主要
部は、レゾルシノール環の5位においてアルキル基によ
りさらに置換されていてよいモノレゾルシノール−トリ
ス−アリールベースのs−トリアジンのマーカッシュ式
構成に示す。しかしこのようなレゾルシノール環上他の
置換をもつトリアジンは製造または試験がされていな
い。
4,962,142号は、塗料を含むポリマーに対する
紫外線遮断剤として有益なトリス−アリール−s−トリ
アジンの種類を開示する。このトリアジンはフェニル基
上で置換された電子吸引性の基をもつビス−レゾルシノ
ール−フェニル−s−トリアジンに基づく。レゾルシノ
ール基上のさらなる置換は言及されない。
吸収剤として少なくとも1つの2−ヒドロキシフェニル
ベンゾトリアゾールおよび少なくとも1つの2−ヒドロ
キシフェニルトリアジンの混合物を含む塗料組成物を特
許請求の範囲に記載する。記載されるトリアジンはビス
−キシリル−レゾルシノール−s−トリアジンに基づく
好ましい構造をもつモノ−レゾルシノール−トリス−ア
リール−s−トリアジンに基づく。マーカッシュ式構成
はアリール基が、3個までのヒドロキシル基、ハロゲノ
メチル基、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン
原子またはそれらの組合せにより置換されていてよいこ
とを記載する。そのため置換されたレゾルシノール基を
もつトリス−アリール−s−トリアジン構造が開示され
るが、好ましい置換パターンは開示されず、そのような
化合物は製造または試験されていない。
アミンおよびo−ヒドロキシフェニル−s−トリアジン
の組合せまたは前記トリアジンのみを含む、光、熱およ
び酸素による損傷に対して安定化された有機材料、障害
性アミンおよび上記トリアジンとの組合せまたはトリア
ジンのみの添合により有機材料を安定化するための方
法、新規なo−ヒドロキシフェニル−s−トリアジン、
ならびに有機材料のための安定剤としての新規なs−ト
リアジンの使用方法を特許請求の範囲に記載する。特に
言及される有機材料は塗料結合剤および放射線硬化性塗
料材料である。好ましいトリアジンはレゾルシノール環
上にさらに置換のないモノ−レゾルシノール−トリス−
アリールベースのs−トリアジンである。マーカッシュ
式構成は1または2個のアルキル−もしくはハロ置換し
たレゾルシノール基をもつトリス−アリール−s−トリ
アジンを包含している。好ましい置換基のパターンは示
されず、置換されたレゾルシノール環をもつ化合物は製
造または試験されない。
剤、硬化剤、および光、熱、および酸素による損傷に対
する安定剤としてトリス−アリール−s−トリアジンを
含む塗料組成物を特許請求の範囲に記載する。特別に言
及されるのは自動車塗装に対するこの組成物の使用方法
である。この組成物での使用に対する好ましいトリアジ
ンはレゾルシノール環上置換のないモノ−レゾルシノー
ル−トリス−アリールベースのs−トリアジンである。
請求の範囲の部分でマーカッシュ式構成はさらにアルキ
ル基またはハロゲン原子で置換されていてよい1または
2個のレゾルシノール基をもつトリス−アリール−s−
トリアジンを含む。好ましい置換パターンは示されず、
および置換レゾルシノール環をもつ化合物は製造または
試験されていない。
トロコートプライマー、エレクトロコートに接着してい
るカラーコート、カラーコートに接着しているクリアコ
ートおよびカラーコートまたはクリアコートのいずれか
または両方の中にトリス−アリール−s−トリアジン紫
外線吸収剤からなるポリマーフィルム組成物を特許請求
の範囲に記載する。そこでは、ビス−およびトリス−レ
ゾルシノール−トリス−アリール−s−トリアジンに基
づくトリス−アリール−s−トリアジンの特別な従属種
がこのような塗料系を安定化することにおいて特に有効
であることが強調されている。組成物の請求の範囲のマ
ーカッシュ式構成は1ないし6個の炭素原子のアルキル
基によりレゾルシノール環上で置換されていてもよいビ
ス−およびトリス−レゾルシノール−トリス−アリール
−s−トリアジンを記載する。特別な置換パターンは議
論されていない。2,4,6−トリス−(2,4−ジヒ
ドロキシ−5−ヘキシルフェニル)−s−トリアジンの
製造例が示されるがこの化合物は試験されていない。
−レゾルシノール−トリス−アリールベースのs−トリ
アジンのモノマーまたは二量体のみまたは障害性アミン
またはヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールとの組合
せで安定化された塗料材料、およびそれらs−トリアジ
ンを添合することによる塗料材料を安定化する方法を特
許請求の範囲に記載する。レゾルシノール基上、さらな
る置換への言及はない。特別に言及される塗料材料は自
動車用ラッカーである。
トリス−アリール−s−トリアジンの種類を含むs−ト
リアジン、それらの製造方法および有機材料、特にカラ
ー写真材料の紫外線吸収剤としてのそれらの使用方法を
開示する。記載されたトリス−アリール−s−トリアジ
ンはアルキル基、アルコキシ基または、アルキル基もし
くはフェニルカルボニル基で置換されていてよい、1な
いし3個のレゾルシノール基をもつそれらを含む。好ま
しい置換基パターンは開示されていない。実施例は3位
においてメチル基により、6位においてヒドロキシ基、
メトキシ基、メトキシ基およびメチルにより、5位にお
いてアセチル基により置換されたレゾルシノール基をも
つビス−レゾルシノール−トリス−アリール−s−トリ
アジンを示す。
に対する安定剤としてトリス−アリール−s−トリアジ
ンを含む写真材料を特許請求の範囲に示す。この特許の
請求の範囲のマーカッシュ式構成はレゾルシノール環の
一つの6位においてアルキル置換基のあってもよいビス
−レゾルシノール−トリス−アリール−s−トリアジン
を含む。好ましいトリアジンはレゾルシノール環上他の
置換基のないビス−レゾルシノール−トリス−アリール
ベースのs−トリアジンである。本特許の主要部のマー
カッシュ式構成はハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキ
ル基、アルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、シク
ロアルコキシ基等により置換されていてよい1または2
個のレゾルシノール基をもっていてよいトリス−アリー
ル−s−トリアジンを記載する。好ましい置換基パター
ンは議論されず、置換されたレゾルシノール基を有する
化合物は製造もまたは試験もしていない。
少なくとも1つのアニオン系または非イオン系化合物と
のs−トリアジンの水性分散剤を特許請求の範囲に記載
する。請求の範囲の部分におけるマーカッシュ式構成は
アルキル基またはハロゲン原子により置換されているレ
ゾルシノール環の1つをもつことのできるトリス−アリ
ール−s−トリアジンを含む。置換のパターンは特定し
ていない。レゾルシノール環上で置換のないモノ−レゾ
ルシノール−トリス−アリールベースのs−トリアジン
を含み、s−トリアジンを例示する。米国特許第4,8
31,068号はs−トリアジン紫外線吸収剤を有する
ポリエステル繊維材料における染料を安定化するため方
法およびこのような方法により処理されたポリエステル
繊維を特許請求の範囲に記載する。このマーカッシュ構
造および好ましいトリアジンはヨーロッパ特許出願第4
68,921号はと同じである。さらに好ましいタイプ
のs−トリアジンのみが実施例に示されている。
により処理された天然または合成ポリアミドの蛍光を消
しまたは抑制するための方法を特許請求の範囲に記載す
る。この方法は上記物質にヒドロキシフェニルベンゾト
リアゾールまたはヒドロキシフェニルトリアジンを含む
溶液を塗布し、そして上記紫外線吸収剤をそれらの上に
固定する。開示されたs−トリアジンのマーカッシュ式
構成はレゾルシノール基で置換されていてよいトリス−
アリール−s−トリアジンを含む。レゾルシノール基は
ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、フェニ
ルアルキル基、スルホ基等により3−または5−位で置
換されていても良い。好ましいトリアジン構造はレゾル
シノール環の5−位にて置換されたスルホネート基をも
つビス−フェニル−レゾルシノール−s−トリアジンで
ある。他のいずれかの基で置換されたレゾルシノール基
をもつs−トリアジンは製造または試験されていない。
レゾルシノールの3位に優る5位における置換の有利な
点は議論されていない。
リアジンとの組み合わせる染料の水溶液の使用によりイ
ンクジェットプリントを安定化する方法を特許請求の範
囲に記載する。マーカッシュ式構成はスルホ基、ハロ基
またはアルキル基により5−位にて置換されたレゾルシ
ノール基の1以上を有してもよいトリス−アリール−s
−トリアジンを記載する。この方法に使用するための好
ましいトリアジンはレゾルシノール環上置換のないビス
−およびトリス−レゾルシノール−トリス−アリール−
s−トリアジンに基づく。置換されたレゾルシノール基
をもつs−トリアジンは例示されていない。レゾルシノ
ールの5−位での置換の有利な点は議論されていない。
フェニル(レゾルシノール)基を含むトリス−アリール
−s−トリアジンは有機材料の保護のためのよく知られ
た紫外線遮蔽剤である。慣用的に使用されるヒドロキシ
フェニル−トリスアリール−s−トリアジンの欠点はそ
れらが他の市販の紫外線吸収剤、即ちヒドロキシフェニ
ルベンゾトリアゾールよりも近紫外スペクトルをより少
なくカバーしていることである。そのため当該技術に歓
迎される付加は近紫外線スペクトルをより多くカバーす
るトリス−アリール−s−トリアジンを提案することで
あろう。本発明は360─400nmの範囲において著
しい吸収をもつ新規なトリス−アリールベースのs−ト
リアジンを開示する。
たはスルホニル部分により5位において置換される2,
4−ジヒドロキシフェニル(レゾルシノールアリール)
基の少なくとも1種および好ましくは1種を含む。
同じかまたは異なって、フェニル基、または式:
基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基もしくはアルコキシ基
で置換されたフェニル基を表し;R1 は1ないし24個
の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、2ない
し24個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルケニル
基、5ないし12個の炭素原子のシクロアルキル基、ハ
ロゲン原子、−SR3 、−SOR3 または−SO2R3
を表すか;または1ないし8個の、ハロゲン原子、−R
4 、−OR5 、−N(R5 )2 、=NR5 、=O、−C
ON(R5 )2 、−COR5 、−COOR5、−OCO
R5 、−CN、−NO2 、−SR5 、−SOR5 、−S
O2 R5 、−P(O)(OR5 )2 、モルホリニル基、
ピペリジニル基、2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジニル基、ピペラジニル基もしくはN−メチルピペラジ
ニル基またはそれらの組合せにより置換された上記アル
キル基またはシクロアルキル基;または1ないし6個
の、フェニレン基、−O−、−NR5 −、−CONR5
−、−COO−、−OCO−、−C(R5 )=C
(R5 )−もしくは−CO−基またはそれらの組合せに
より中断された上記アルキル基またはシクロアルキル
基;あるいは上記で言及した基の組合せにより置換およ
び中断の両方がなされた上記アルキル基またはシクロア
ルキル基を表し;R3 は1ないし20個の炭素原子のア
ルキル基、3ないし18個の炭素原子のアルケニル基、
5ないし12個の炭素原子のシクロアルキル基、7ない
し15個の炭素原子のフェニルアルキル基、6ないし1
0個の炭素原子のアリール基または1ないし4個の炭素
原子のアルキル基の1もしくは2個で置換された上記ア
リール基を表し;R4 は6ないし10個の炭素原子のア
リール基、または1ないし3個の、ハロゲン原子、1な
いし8個の炭素原子のアルキル基、1ないし8個の炭素
原子のアルコキシ基またはその組合せにより置換された
上記アリール基;5ないし12個の炭素原子のシクロア
ルキル基;または7ないし15個の炭素原子のフェニル
アルキル基;またはフェニル環上1ないし3個の、ハロ
ゲン原子、1ないし8個の炭素原子のアルキル基、1な
いし8個の炭素原子のアルコキシ基またはそれらの組合
せによって置換された上記フェニルアルキル基;あるい
は2ないし18個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のア
ルケニル基を表し;R5 はR4 と同じ定義であるか、あ
るいはR5 はまた、水素原子または1ないし24個の炭
素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表すか;あ
るいはR5は式
ないし12個の炭素原子のアルキル基;少なくとも1つ
のヒドロキシ基もしくは低級アルコキシ基によって置換
された上記アルキル基;ベンジル基または2ないし18
個の炭素原子のアルカノイル基を表す。)で表される基
を表し;R2 は水素原子;1ないし24個の炭素原子の
直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基または5ないし12個
の炭素原子のシクロアルキル基;または1ないし8個の
ハロゲン原子、エポキシ基、グリシジルオキシ基、フリ
ルオキシ基、−R4 、−OR5 、−N(R5)2 、−CO
N(R5 )2 、−COR5 、−COOR5 、−OCOR
5 、−OCOC(R5 )=C(R5 )2 、−C(R5)=
C(R5)−COOR5 、−CN、−NCOもしくは基
またはシクロアルキル基を表すか;あるいは1ないし6
個の、エポキシ基、−O−、−NR5 −、−CONR5
−、−COO−、−OCO−、−CO−、−C(R5 )
=C(R5 )COO−、−OCOC(R5 )=C
(R5 )−、−(R5 )C=C(R5 )−、フェニレン
基または基:−フェニレン−G−フェニレン−〔基中、
Gは−O−、−S−、−SO2 −、−CH2 −もしくは
−C(CH3 )2−を表す。〕、またはそれらの組合せに
より中断された上記アルキル基またはシクロアルキル基
を表すか;あるいは上記で言及した基の組合せにより置
換および中断の両方がなされている上記アルキル基また
はシクロアルキル基を表し;あるいはR2 は−SO2 R
3、または−COR6 を表し;R6 は1ないし18個の
炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、2ないし
18個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルケニル
基、フェニル基、1ないし12個の炭素原子のアルコキ
シ基、フェノキシ基、1ないし12個の炭素原子のアル
キルアミノ基、6ないし12個の炭素原子のアリールア
ミノ基または基:−R7 COOHまたは−NH−R8 −
NCOを表し;R7 は2ないし14個の炭素原子のアル
キレン基またはo−フェニレン基を表し;R8 は2ない
し10個の炭素原子のアルキレン基、フェニレン基、ト
リレン基、ジフェニレンメタン基または基
は上記R2 と同じ定義であり;kが2を表すとき、Zは
2ないし16個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアル
キレン基;または1ないし8個の−OHにより置換され
た上記アルキレン基;または1ないし8個の−CH=C
H−もしくは−O−により中断されている上記アルキレ
ン基;あるいは上記で言及した基の組合せにより置換お
よび中断の両方がなされている上記アルキレン基を表す
か;あるいはZはキシリレン基または−CONH−R8
−NHCO−、−CH2 CH(OH)CH2 O−R9 −
OCH2 CH(OH)CH2 −、−CO−R10−CO
−、または−(CH2)m −COO−R11−OOC−(C
H2)m −(基中、mは1ないし3を表す。)を表すか;
あるいはZは
50個の炭素原子のアルキレン基;または1ないし10
個の−O−、フェニレン基、あるいは基:−フェニレン
−G−フェニレン−〔基中、Gは−O−、−S−、−S
O2 −、−CH2 −もしくは−C(CH2 )2 −を表
す。〕で中断された上記アルキレン基を表し;R10は2
ないし10個の炭素原子のアルキレン基、または1ない
し4個の、−O−、−S−または−CH=CH−により
中断された上記アルキレン基;あるいはR10は6ないし
12個の炭素原子のアリーレン基を表し;R11は4ない
し20個の炭素原子のアルキレン基または1ないし8個
の−O−により中断された上記アルキレン基を表し;k
が3を表すとき、Zは基:−[(CH2 )m COO]3
−R12(基中、m=1ないし3を表しおよびR12は3な
いし12個の炭素原子のアルカントリイル基を表す。)
を表し;kが4を表すとき、Zは基:−[(CH2 )m
COO]4 −R13(基中、m=1ないし3を表しおよび
R13は4ないし12個の炭素原子のアルカンテトリル基
を表す。)を表し;但し、Zが水素原子を表しおよびR
1 がn−ヘキシル基を表すとき、AおよびA’がおのお
の5−n−ヘキシル−2,4−ジヒドロキシフェニル基
を表さず;ならびに式B)で表される化合物において
は;tは0ないし9を表し;X、X’,YおよびY’は
同じかまたは異なってフェニル基、または1ないし3個
の、低級アルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基もし
くはアルコキシ基により置換されたフェニル基を表し;
Lは1ないし12個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖の
アルキレン基、5ないし12個の炭素原子のシクロアル
キレン基、シクロヘキシレン基もしくはフェニレン基に
より置換されたまたは中断されたアルキレン基を表す
か;あるいはLはベンジリデン基を表すか;あるいはL
は−S−、−S−S−、−S−E−S−、−SO−、−
SO2 −、−SO−E−SO−、−SO2 −E−SO2
−、−CH2 −NH−E−NH−CH2 −または
基、5ないし12個の炭素原子のシクロアルキレン基、
または8ないし12個の炭素原子のシクロヘキシレンに
よって中断もしくはそれらを末端基とするアルキレン基
を表す。)を表し;R2 およびR2 ’は同じかまたは異
なってR2 として上記に示した定義を表し;但し、L結
合の少なくとも1つが、5位にてフェニル環に結合して
いる。}で表される化合物を主に含む。
Y’はフェニル基、または1ないし3個の、低級アルキ
ル基もしくはハロゲン原子により置換されたフェニル基
を表し;R1 は1ないし24個の炭素原子の直鎖もしく
は分枝鎖のアルキル基、3ないし12個の炭素原子の直
鎖もしくは分枝鎖のアルケニル基、−Cl、−SR3 、
−SOR3 または−SO2 R3 を表すか;またはフェニ
ル基、−OR5 、−N(R5 )2 、=NR5 、=Oによ
り置換されおよび/または−O−、−NR5 −、、−C
O−基またはそれらの組合せにより中断された上記アル
キル基;5ないし12個の炭素原子のシクロアルキル
基;または7ないし15個の炭素原子のフェニルアルキ
ル基を表し;R2 およびR2 ’は水素原子、1ないし2
4個の炭素原子のアルキル基または1もしくは2個の−
OR5 によって置換された2ないし24個の炭素原子の
アルキル基を表し;R5 はH、1ないし24個の炭素原
子のアルキル基またはフェニル基を表し;ならびにLは
メチレン基;ベンジリデン基;
のは、式中、AおよびA’がフェニル基、式
置換されたフェニル基を表し;R1 は1ないし18個の
炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、プロペニ
ル基、−Cl、4ないし12個の炭素原子のアルキルア
ミノアルキル基、4ないし12個の炭素原子のアルキル
イミノアルキル基、2ないし18個の炭素原子のアルカ
ノイル基、ベンゾイル基、−SR3 、−SOR3 または
−SO2 R3 を表すか;またはフェニル基および/また
は−OHにより置換された炭素原子数1ないし7のアル
キル基を表し;R2 およびR2 ’は水素原子、1ないし
24個の炭素原子のアルキル基、または1もしくは2個
の−OR5 によって置換された2ないし12個の炭素原
子のアルキル基を表し;R3 はフェニル基を表し;R5
はH、1ないし12個の炭素原子のアルキル基またはフ
ェニル基を表す化合物である。
I 、IV、VまたはVI
かまたは異なってフェニル基、または1ないし3個の、
低級アルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基もしくは
アルコキシ基により置換されたフェニル基を表し;R1
は1ないし24個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のア
ルキル基、2ないし24個の炭素原子の直鎖もしくは分
枝鎖のアルケニル基、5ないし12個の炭素原子のシク
ロアルキル基、ハロゲン原子、−SR3 、−SOR3 ま
たは−SO2R3 を表すか;または1ないし8個の、ハ
ロゲン原子、−R4 、−OR5 、−N(R5 )2 、=N
R5 、=O、−CON(R5 )2 、−COR5 、−CO
OR5、−OCOR5 、−CN、−NO2 、−SR5 、
−SOR5 、−SO2 R5 、−P(O)(OR5 )2 、
モルホリニル基、ピペリジニル基、2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジニル基、ピペラジニル基もしくはN
−メチルピペラジニル基またはそれらの組合せにより置
換された上記アルキル基またはシクロアルキル基;また
は1ないし6個の、フェニレン基、−O−、−NR
5 −、−CONR5 −、−COO−、−OCO−、−C
(R5 )=C(R5 )−もしくは−CO−基またはそれ
らの組合せにより中断された上記アルキル基またはシク
ロアルキル基;あるいは上記で言及した基の組合せによ
り置換および中断の両方がなされた上記アルキル基また
はシクロアルキル基を表し;R3 は1ないし20個の炭
素原子のアルキル基、3ないし18個の炭素原子のアル
ケニル基、5ないし12個の炭素原子のシクロアルキル
基、7ないし15個の炭素原子のフェニルアルキル基、
6ないし10個の炭素原子のアリール基または1ないし
4個の炭素原子のアルキル基の1もしくは2個で置換さ
れた上記アリール基を表し;R4 は6ないし10個の炭
素原子のアリール基、または1ないし3個の、ハロゲン
原子、1ないし8個の炭素原子のアルキル基、1ないし
8個の炭素原子のアルコキシ基またはその組合せにより
置換された上記アリール基;5ないし12個の炭素原子
のシクロアルキル基;または7ないし15個の炭素原子
のフェニルアルキル基;またはフェニル環上1ないし3
個の、ハロゲン原子、1ないし8個の炭素原子のアルキ
ル基、1ないし8個の炭素原子のアルコキシ基またはそ
れらの組合せによって置換された上記フェニルアルキル
基;あるいは2ないし18個の炭素原子の直鎖もしくは
分枝鎖のアルケニル基を表し;R5 はR4 と同じ定義で
あるか、あるいはR5 はまた、水素原子または1ないし
24個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を
表すか;あるいはR5は式
ないし12個の炭素原子のアルキル基;少なくとも1つ
のヒドロキシ基もしくは低級アルコキシ基によって置換
された上記アルキル基;ベンジル基または2ないし18
個の炭素原子のアルカノイル基を表す。)で表される基
を表し;R2 は水素原子;1ないし24個の炭素原子の
直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基または5ないし12個
の炭素原子のシクロアルキル基;または1ないし8個の
ハロゲン原子、エポキシ基、グリシジルオキシ基、フリ
ルオキシ基、−R4 、−OR5 、−N(R5)2 、−CO
N(R5 )2 、−COR5 、−COOR5 、−OCOR
5 、−OCOC(R5 )=C(R5 )2 、−C(R5)=
C(R5)−COOR5 、−CN、−NCOもしくは基
またはシクロアルキル基を表すか;あるいは1ないし6
個の、エポキシ基、−O−、−NR5 −、−CONR5
−、−COO−、−OCO−、−CO−、−C(R5 )
=C(R5 )COO−、−OCOC(R5 )=C
(R5 )−、−(R5 )C=C(R5 )−、フェニレン
基または基:−フェニレン−G−フェニレン−〔基中、
Gは−O−、−S−、−SO2 −、−CH2 −もしくは
−C(CH3 )2−を表す。〕、またはそれらの組合せに
より中断された上記アルキル基またはシクロアルキル基
を表すか;あるいは上記で言及した基の組合せにより置
換および中断の両方がなされている上記アルキル基また
はシクロアルキル基を表し;あるいはR2 は−SO2 R
3 、または−COR6 を表し;R6 は1ないし18個の
炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、2ないし
18個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルケニル
基、フェニル基、1ないし12個の炭素原子のアルコキ
シ基、フェノキシ基、1ないし12個の炭素原子のアル
キルアミノ基、6ないし12個の炭素原子のアリールア
ミノ基または基:−R7 COOHまたは−NH−R8 −
NCOを表し;R7 は2ないし14個の炭素原子のアル
キレン基またはo−フェニレン基を表し;R8 は2ない
し10個の炭素原子のアルキレン基、フェニレン基、ト
リレン基、ジフェニレンメタン基または基
ヘキシル基を表すとき、XおよびYがおのおの5−n−
ヘキシル−2,4−ジヒドロキシフェニル基を表さず;
式IIで表される化合物においては;Xはフェニル基、ま
たは1ないし3個の、低級アルキル基、ハロゲン原子、
ヒドロキシ基もしくはアルコキシ基により置換されたフ
ェニル基を表し;R1 およびR1 ’は同じかまたは異な
って、上記にR1 として定義された意味を表し;R2 お
よびR2 ’は同じかまたは異なって、上記にR2 として
定義された意味を表し;および但し、R1 およびR1 ’
がおのおのn−ヘキシル基を表し、R2およびR2 ’が
おのおの水素原子を表すとき、Xが5−n−ヘキシル−
2,4−ジヒドロキシフェニル基を表さず;式III で表
される化合物においては;R1 、R1 ’およびR1 ”は
同じかまたは異なって、上記にR1 に対する定義と同じ
意味を表し;R2 、R2 ’およびR2 ”は同じかまたは
異なって、上記にR2 に対する定義と同じ意味を表し;
および但し、R2 、R2 ’およびR2 ”がおのおの水素
原子を表すとき、R1 、R1 ’およびR1 ”がおのおの
n−ヘキシル基を表さず;式IVで表される化合物におい
ては;X、X’、YおよびY’は同じかまたは異なって
フェニル基、または1ないし3個の、低級アルキル基、
ハロゲン原子、ヒドロキシ基もしくはアルコキシ基によ
り置換されたフェニル基を表し;Lは1ないし12個の
炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基、5ない
し12個の炭素原子のシクロアルキレン基、シクロヘキ
シレン基もしくはフェニレン基により置換されたまたは
中断されたアルキレン基を表すか;あるいはLはベンジ
リデン基を表すか;あるいはLは−S−、−S−S−、
−S−E−S−、−SO−、−SO2 −、−SO−E−
SO−、−SO2 −E−SO2 −、−CH2 −NH−E
−NH−CH2 −または
基、5ないし12個の炭素原子のシクロアルキレン基、
または8ないし12個の炭素原子のシクロヘキシレン基
によって中断もしくはそれらを末端基とするアルキレン
基を表す。)を表し;R2 およびR2 ’は同じかまたは
異なってR2 として上記で定義した意味を表し;式Vで
表される化合物においては;X、YおよびR1 は上記で
定義した意味を表し;n=2ないし4であり;nが2を
表すとき;Qは2ないし16個の炭素原子の直鎖もしく
は分枝鎖のアルキレン基;または1ないし8個の−OH
により置換された上記アルキレン基;または1ないし8
個の−CH=CH−もしくは−O−により中断されてい
る上記アルキレン基;あるいは上記で言及した基の組合
せにより置換および中断の両方がなされている上記アル
キレン基を表すか;あるいはQはキシリレン基または−
CONH−R8 −NHCO−、−CH2 CH(OH)C
H2 O−R9 −OCH2 CH(OH)CH2 −、−CO
−R10−CO−、または−(CH2)m −COO−R11−
OOC−(CH2)m −(基中、mは1ないし3を表
す。)を表すか;あるいはQは
50個の炭素原子のアルキレン基;または1ないし10
個の−O−、フェニレン基、あるいは基:−フェニレン
−G−フェニレン−〔基中、Gは−O−、−S−、−S
O2 −、−CH2 −もしくは−C(CH2 )2 −を表
す。〕で中断された上記アルキレン基を表し;R10は2
ないし10個の炭素原子のアルキレン基、または1ない
し4個の、−O−、−S−もしくは−CH=CH−によ
り中断された上記アルキレン基;あるいはR10は6ない
し12個の炭素原子のアリーレン基を表し;R11は4な
いし20個の炭素原子のアルキレン基または1ないし8
個の−O−により中断された上記アルキレン基を表し;
nが3を表すとき、Qは基:−[(CH2 )m COO]
3 −R12(基中、m=1ないし3を表しおよびR12は3
ないし12個の炭素原子のアルカントリイル基を表
す。)を表し;nが4を表すとき、Qは基:−[(CH
2 )m COO]4 −R13(基中、m=1ないし3を表し
およびR13は4ないし12個の炭素原子のアルカンテト
リル基を表す。)を表す化合物に関する。
ないし4のアルキル基、特にはメチル基であり;低級ア
ルコキシ基は好ましくは炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、特にはメトキシ基である。
主にフェニル基、またはナフチル基であり;好ましくは
フェニル基である。
は−Iであり;好ましくは−Clまたは−Brであり;
特には−Clである。
し、特には式中、XおよびYは同じかまたは異なってフ
ェニル基、または1ないし3個の、低級アルキル基もし
くはハロゲン原子により置換されたフェニル基を表し;
R1 は1ないし24個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖
のアルキル基、5ないし12個の炭素原子のシクロアル
キル基または、7ないし15個の炭素原子のフェニルア
ルキル基を表し;R2 は2ないし24個の炭素原子の直
鎖もしくは分枝鎖のアルキル基またはまたは1もしくは
2個の−OR5 (式中、R5 は水素原子、1ないし24
個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、また
はフェニル基を表す。)によって置換された上記アルキ
ル基;特には1個のヒドロキシ基および1個の−OR5
(式中、R5 は1ないし24個の炭素原子の直鎖もしく
は分枝鎖のアルキル基、またはフェニル基を表す。)に
よって置換された上記アルキル基を表す、式Iで表され
る化合物であるか;あるいは、式中、X、X’、Yおよ
びY’はフェニル基、または1ないし3個の、低級アル
キル基もしくはハロゲン原子により置換されたフェニル
基を表し;R2 およびR2 ’は同じかまたは異なってR
2 として上記で定義した意味を表し;Lは式:
ェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、4−メチルフ
ェニル基または4−クロロフェニル基であり;R1 が1
ないし24個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキ
ル基、5ないし12個の炭素原子のシクロアルキル基ま
たは、7ないし15個の炭素原子のフェニルアルキル基
を表し;R2 は2ないし6個の炭素原子の直鎖もしくは
分枝鎖のアルキル基またはまたは1もしくは2個の−O
R5 (式中、R5 は水素原子または1ないし24個の炭
素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表す。)に
よって置換された上記アルキル基;特には1個のヒドロ
キシ基によりおよび1個の、1ないし24個の炭素原子
のアルコキシ基により置換された上記アルキル基を表
す、式Iの化合物に属するものである。
下に列挙される。 a.4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−2
−[4−(3−ドデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポ
キシ)−5−ヘキシル−2−ヒドロキシフェニル]−s
−トリアジン; b. 2−[5−ヘキシル−2−ヒドロキシ−4−(2−
ヒドロキシ−3−ノニルオキシプロポキシ)フェニル]
−4,6−ビス−フェニル−s−トリアジン; c.4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−2
−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ノニ
ルオキシプロポキシ)−5−(1−メチル−1−フェニ
ルエチル)フェニル]−s−トリアジン; d.2−[2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシ−5−
(1−メチル−1−フェニルエチル)フェニル]−4,
6−ビスフェニル−s−トリアジン;および e.4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−2
−[2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシ−5−(1−
メチル−1−フェニルエチル)フェニル]−s−トリア
ジン。
VI
か異なって、フェニル基、または1ないし3個の、低級
アルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基もしくはアル
コキシ基により置換されたフェニル基を表し;R1 は1
ないし24個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキ
ル基、2ないし24個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖
のアルケニル基、5ないし12個の炭素原子のシクロア
ルキル基、ハロゲン原子、−SR3 、−SOR3 または
−SO2R3 を表すか;または1ないし8個の、ハロゲ
ン原子、−R4 、−OR5 、−N(R5 )2 、=N
R5 、=O、−CON(R5 )2 、−COR5 、−CO
OR5、−OCOR5 、−CN、−NO2 、−SR5 、
−SOR5 、−SO2 R5 、−P(O)(OR5 )2 、
モルホリニル基、ピペリジニル基、2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジニル基、ピペラジニル基もしくはN
−メチルピペラジニル基またはそれらの組合せにより置
換された上記アルキル基またはシクロアルキル基;また
は1ないし6個の、フェニレン基、−O−、−NR
5 −、−CONR5 −、−COO−、−OCO−、−C
(R5 )=C(R5 )−もしくは−CO−基またはそれ
らの組合せにより中断された上記アルキル基またはシク
ロアルキル基;あるいは上記で言及した基の組合せによ
り置換および中断の両方がなされた上記アルキル基また
はシクロアルキル基を表し;R3 は1ないし20個の炭
素原子のアルキル基、3ないし18個の炭素原子のアル
ケニル基、5ないし12個の炭素原子のシクロアルキル
基、7ないし15個の炭素原子のフェニルアルキル基、
6ないし10個の炭素原子のアリール基または1ないし
4個の炭素原子のアルキル基の1もしくは2個で置換さ
れた上記アリール基を表し;R4 は6ないし10個の炭
素原子のアリール基、または1ないし3個の、ハロゲン
原子、1ないし8個の炭素原子のアルキル基、1ないし
8個の炭素原子のアルコキシ基またはその組合せにより
置換された上記アリール基;5ないし12個の炭素原子
のシクロアルキル基;または7ないし15個の炭素原子
のフェニルアルキル基;またはフェニル環上1ないし3
個の、ハロゲン原子、1ないし8個の炭素原子のアルキ
ル基、1ないし8個の炭素原子のアルコキシ基またはそ
れらの組合せによって置換された上記フェニルアルキル
基;あるいは2ないし18個の炭素原子の直鎖もしくは
分枝鎖のアルケニル基を表し;R5 はR4 と同じ定義で
あるか、あるいはR5 はまた、水素原子または1ないし
24個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を
表すか;あるいはR5は式
ないし12個の炭素原子のアルキル基;少なくとも1つ
のヒドロキシ基もしくは低級アルコキシ基によって置換
された上記アルキル基;ベンジル基または2ないし18
個の炭素原子のアルカノイル基を表す。)で表される基
を表し;n=2ないし4であり;nが2を表すとき;Q
は2ないし16個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のア
ルキレン基;または1ないし8個の−OHにより置換さ
れた上記アルキレン基;または1ないし8個の−CH=
CH−もしくは−O−により中断されている上記アルキ
レン基;あるいは上記で言及した基の組合せにより置換
および中断の両方がなされている上記アルキレン基を表
すか;あるいはQはキシリレン基または−CONH−R
8 −NHCO−、−CH2 CH(OH)CH2 O−R9
−OCH2 CH(OH)CH2 −、−CO−R10−CO
−、または−(CH2)m −COO−R11−OOC−(C
H2)m −(基中、mは1ないし3を表す。)を表すか;
あるいはQは
50個の炭素原子のアルキレン基;または1ないし10
個の−O−、フェニレン基、あるいは基:−フェニレン
−G−フェニレン−〔基中、Gは−O−、−S−、−S
O2 −、−CH2 −もしくは−C(CH2 )2 −を表
す。〕で中断された上記アルキレン基を表し;R10は2
ないし10個の炭素原子のアルキレン基、または1ない
し4個の、−O−、−S−もしくは−CH=CH−によ
り中断された上記アルキレン基;あるいはR10は6ない
し12個の炭素原子のアリーレン基を表し;R11は4な
いし20個の炭素原子のアルキレン基または1ないし8
個の−O−により中断された上記アルキレン基を表し;
nが3を表すとき、Qは基:−[(CH2 )m COO]
3 −R12(基中、m=1ないし3を表しおよびR12は3
ないし12個の炭素原子のアルカントリイル基を表
す。)を表し;nが4を表すとき、Qは基:−[(CH
2 )m COO]4 −R13(基中、m=1ないし3を表し
およびR13は4ないし12個の炭素原子のアルカンテト
リル基を表す。)を表し;ならびに式VIで表される化合
物においては;XおよびYは上記で定義した意味を表
し;tは0ないし9を表し;Lは1ないし12個の炭素
原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基、5ないし1
2個の炭素原子のシクロアルキレン基、シクロヘキシレ
ン基もしくはフェニレン基により置換されたまたは中断
されたアルキレン基を表すか;あるいはLはベンジリデ
ン基を表すか;あるいはLは−S−、−S−S−、−S
−E−S−、−SO−、−SO2 −、−SO−E−SO
−、−SO2 −E−SO2 −、−CH2 −NH−E−N
H−CH2 −または
基、5ないし12個の炭素原子のシクロアルキレン基、
または8ないし12個の炭素原子のシクロヘキシレンに
よって中断もしくはそれらを末端基とするアルキレン基
を表す。)を表し;Lは上記で定義した意味を表し;但
し、L結合の少なくとも1つが、5位にてフェニル環に
結合しており;R2 は水素原子;1ないし24個の炭素
原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基または5ないし
12個の炭素原子のシクロアルキル基;または1ないし
8個のハロゲン原子、エポキシ基、グリシジルオキシ
基、フリルオキシ基、−R4 、−OR5 、−N
(R5)2 、−CON(R5 )2 、−COR5 、−COO
R5 、−OCOR5 、−OCOC(R5 )=C(R5 )
2 、−C(R5)=C(R5)−COOR5 、−CN、−N
COもしくは基
またはシクロアルキル基を表すか;あるいは1ないし6
個の、エポキシ基、−O−、−NR5 −、−CONR5
−、−COO−、−OCO−、−CO−、−C(R5 )
=C(R5 )COO−、−OCOC(R5 )=C
(R5 )−、−(R5 )C=C(R5 )−、フェニレン
基または基:−フェニレン−G−フェニレン−〔基中、
Gは−O−、−S−、−SO2 −、−CH2 −もしくは
−C(CH3 )2−を表す。〕、またはそれらの組合せに
より中断された上記アルキル基またはシクロアルキル基
を表すか;あるいは上記で言及した基の組合せにより置
換および中断の両方がなされている上記アルキル基また
はシクロアルキル基を表し;あるいはR2 は−SO2 R
3 、または−COR6 を表し;R6 は1ないし18個の
炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、2ないし
18個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルケニル
基、フェニル基、1ないし12個の炭素原子のアルコキ
シ基、フェノキシ基、1ないし12個の炭素原子のアル
キルアミノ基、6ないし12個の炭素原子のアリールア
ミノ基または基:−R7 COOHまたは−NH−R8 −
NCOを表し;R7 は2ないし14個の炭素原子のアル
キレン基またはo−フェニレン基を表し;R8 は2ない
し10個の炭素原子のアルキレン基、フェニレン基、ト
リレン基、ジフェニレンメタン基または基
味を表す。〕で表される化合物である。
好ましくは二量体構造を示す0である。両方のレゾルシ
ノール部分上の5:において置換された、式IVにおいて
見られるような分離した二量体に加えて、選択された条
件下でレゾルシノールから誘導された環が5および3位
の両方を介して結合している「二量体混合物」ならびに
高級オリゴマーを合成することもできる。5:5よび
5:3置換の二量体がそれらの混合物の主な成分であ
る。5−置換レゾルシノール環の高い比率があるため、
これらの混合物は赤色側にシフトされる。異性体はクロ
マトグラフィーを使用してまたは他の有機化学的分離技
術により分離できるが、しかし混合物それ自体は赤色側
にシフトされそして有効な紫外線吸収安定剤として使用
できる。赤色側シフトであることに加えて、異性体混合
物は通常の有機溶媒にかなり良く溶解する。
(3,5−ビス(2,4−ジメチルフェニル−s−トリ
アジニル))フェニル]−1−メチルエチル}ベンゼ
ン; b. 5:4:1の割合で3:5,5:5および3:3位
で架橋されたメチレン−ビス−2−(2−ヒドロキシ−
4−オクチルオキシフェニル)−4,6−(2,4−ジ
メチルフェニル)−s−トリアジンの混合物;および c. 1:1の割合で3:5および5:5位で架橋された
ベンジリデン−ビス−2−(2−ヒドロキシ−4−オク
チルオキシフェニル)−4,6−(2,4−ジメチルフ
ェニル)−s−トリアジンの混合物である。
ル基の場合、このようなアルキル基は、例えばメチル
基、エチル基、イソプロピル基、n−ブチル基、第三ブ
チル基、第三アミル基、2−エチルヘキシル基、n−オ
クチル基、n−ウンデシル基、ラウリル基、n−ヘプタ
デシル基およびn−オクタデシル基であり;アルキレン
基の場合、このようなアルキレン基は、例えばエチレン
基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレ
ン基、オクタメチレン基および2,2−ジメチルプロパ
ン−1,3−ジイル基であり;シクロアルキレン基であ
る場合、このようなシクロアルキレン基は、例えばシク
ロペンチレン基またはシクロヘキシレン基であり;アル
キル基もしくはアルコキシ基により置換されたフェニル
基である場合、このような基は、トリル基、キシリル基
またはメトキシフェニル基であり;シクロアルキル基で
ある場合、このような基は例えば、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、シクロオクチル基またはシクロドデ
シル基であり;フェニルアルキル基である場合、このよ
うな基は例えば、ベンジル基、α−フェネチル基、2−
フェネチル基または4−第三ブチルベンジル基であり;
−O−もしくは−NR5 −で中断され、OHにより置換
してもよいアルキル基の場合では、例えばメトキシエチ
ル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基、ブトキシ
プロピル基、CH3 OCH2 CH2 OCH2 CH2 −、
CH3 CH2 OCH2 CH2 OCH2 CH2 −、C4 H
9 OCH2 CH2 OCH2 CH2 −、ドデシルオキシプ
ロピル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプ
ロピル基、4−ヒドロキシブチル基、6−ヒドロキシヘ
キシル基、−CH2 CH2 NH−C4 H9 、−CH2 C
H2 CH2 NHC8 H17、−CH2 CH2 CH2 −N
(CH3 )−CH2 CH(C2 H5 )C4 H9 、2−ヒ
ドロキシ−3−ノニルオキシプロポキシ基および2−ヒ
ドロキシ−3−ドデシルオキシプロポキシ基である。
ることのできる方法である。トリス−アリール−s−ト
リアジン核の構造は公知であり米国特許第3,268,
474号および3,244,708号に記載されてい
る。本件でクレームするものはトリス−アリール−s−
トリアジンのレゾルシノール基が「後−アルキル化され
る(post-alkylated)、即ち、飽和炭素原子による5位の
置換によって、機能化され得る方法である。
る中間体および試薬は市販の広範な商品でありまたは、
当該技術分野でに知られている方法により入手できる。
きる。適当な触媒、例えば、塩化アルミニウム、p−ト
ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のアルケン、ア
ルキルハライドまたはアルコールとのフリーデル−クラ
フツアルキル化;フリーデルクラフツアシル化の生成物
の還元;適当ならば、カリウム、ナトリウム、アルミニ
ウム、チタン等のカウンターイオンを伴う、活性化アル
ケンへの(マイケル反応)または非活性化アルケンへの
金属−フェノキシド付加である。
ルホン酸またはメタンスルホン酸の触媒量を使用するア
ルケンによるフリーデルクラフツアルキル化;または水
素化ジイソブチルアルミニウムまたはアルミニウムイソ
プロポキシドの触媒量を使用する非活性化アルケン中へ
のアルミニウムフェノキシド付加である。
ルミニウムイソプロポキシドを使用する非活性化アルケ
ンへのレゾルシノール−トリス−アリール−s−トリア
ジンのアルミニウムフェノキシド付加であり、反応は1
10ないし250℃で都合よく行われる。方法は以下に
概略化される。
ケンまたはフェニルアルケンの2ないし10倍過剰当量
で行われる。
たときに崩壊しやすい有機材料および(b)式A)また
はB)、特に式I、II、III 、IV、VおよびVIで表され
る化合物の安定化有効量を含む、化学線の有害な作用に
対して安定化された組成物である。
イソリッド熱硬化性アクリル/メラミン樹脂またはアク
リルウレタン樹脂であり;最も好ましくはハイソリッド
熱硬化性アクリル/メラミン樹脂である。
密着しているエレクトロコートプライマー(electro co
at primer)、(b)エレクロトコートに密着しており、
およびフィルム形成結合剤および有機顔料もしくは無機
顔料またはその混合物とを含むベースもしくはカラーコ
ート、(c)ベースコートに密着しており、フィルム形
成結合剤を含むクリアコート、ならびに(d)ベースコ
ートもしくはクリアコート、またはベースコートおよび
クリアコートの両方に含まれる、トリス−アリール−s
−トリアジン紫外線吸収剤の少なくとも1種の安定化有
効量からなるポリマーフィルム組成物である。
はフィルム形成結合剤の1ないし20重量%を含む。
に添合される。
ニル−2H−ベンゾトリアゾール;他のトリスアリール
−s−トリアジン;またはヒンダードアミン光安定剤ま
たはそれらの混合物の少なくとも1種の安定化有効量を
含む上記で定義した組成物にも関する。
H−ベンゾトリアゾールは、以下の2−(2−ヒドロキ
シ−3,5−ジ−第三アミルフェニル)−2H−ベンゾ
トリアゾール;2−[2−ヒドロキシ−3,5−ジ
(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベン
ゾトリアゾール;2−[2−ヒドロキシ−3−(α,α
−ジメチルベンジル)−5−オクチルフェニル]−2H
−ベンゾトリアゾール;2−{2−ヒドロキシ−3−第
三ブチル−5−[2−(ω−ヒドロキシ−オクタ(エチ
レンオキシ)カルボニル)エチル]フェニル}−2H−
ベンゾトリアゾール;および2−{2−ヒドロキシ−3
−第三ブチル−5−[2−(オクチルオキシ)カルボニ
ル)エチル]フェニル}−2H−ベンゾトリアゾールか
らなる群から選択される。
アジンは以下の2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニ
ル)−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェ
ニル)−s−トリアジン;2,4−ジフェニル−6−
(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−s
−トリアジン;および2,4−ビス(2,4−ジメチル
フェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(3−ド−/
トリ−デシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェ
ニル]−s−トリアジンである。
安定化できるアルキド樹脂ラッカーは、特に自動車の塗
装のために使用される慣用の焼付ラッカー(自動車仕上
げラッカー)であり、例えばアルキド/メラミン樹脂お
よびアルキド/アクリル/メラミン樹脂に基づくラッカ
ーである〔H.ワグナーおよびH.F.サークス(H.Wag
ner and H.F.Sarx) ,”Lackkunstharz
e”(1977),第99−123頁参照〕。他の架橋
剤はグリコウリル樹脂、ブロックトイソシアネートまた
はエポキシ樹脂を含む。
属仕上塗装およびソリッドシェード仕上(solid shade
finishes) 、特に修正仕上(retouching finishes)の場
合の両方に適当であり、ならびに種々のコイル被覆用途
のために適当である。本発明により安定化されたラッカ
ーは好ましくは慣用の2つの方法、一方は一度塗り法(s
ingle-coat method)によりまたは二度塗り法(two-coat
method)により塗布できる。後者の方法は、顔料を含む
ベースコートが最初に塗布され次にそれの上にクリアラ
ッカーの被覆コートが塗布される。
イソシアネートもしくはイソシアヌレートで変性され
た、エポキシ、エポキシ−ポリエステル、ビニル、アル
キド、アクリルおよびポリエステル樹脂のような酸以外
で触媒された熱硬化性樹脂中での使用に対して適当であ
ることも注目すべきである。エポキシ樹脂およびエポキ
シ−ポリエステル樹脂は酸、酸無水物、アミン等の慣用
の架橋剤により架橋される。従って、エポキシドは骨格
構造上の反応基の存在により変性されている、種々のア
クリルまたはポリエステル樹脂系に対する架橋剤として
使用できる。
合物はクリアコートに、またはクリアコートおよび着色
されたベースコートの両方に混ぜ込むことができる。
光安定剤の同時使用は有利である。このような安定剤は
ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、s−トリアジ
ン、シアノアクリレート、またはオキサニリドタイプの
紫外線吸収剤または金属含有光安定剤、例えば有機ニッ
ケル化合物、または障害性アミン光安定剤である。二度
塗り系ではこれらの光安定剤はクリアコートに、または
クリアコートおよび着色されたベースコートの両方に加
えることができる。
うなものである: 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−1
−エン、ポリ−4−メチルペント−1−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィ
ン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、(所望により架橋結合できる)ポリエチレン、例え
ば高密度ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレ
ン(LDPE)および線状低密度ポリエチレン(LLD
PE)、枝分れ低密度ポリエチレン(BLDPE)。
示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポ
リエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、特に以
下の方法により製造できる: a)(通常、高圧および高温においての)ラジカル重合 b)通常周期表のIVb、Vb、VIbまたはVIII属の金属
の1個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金
属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可
能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エ
ステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよ
び/またはアリールのような配位子の1つ以上を持つ。
これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグ
ネシウム、塩化チタン(III)、酸化アルミニウムまたは
酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これら
の触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触
媒はそれ自体重合において使用でき、または、例えば金
属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金
属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン(該金属
は周期表のIa、IIa および/またはIIIa属の元素であ
る。)のような別の活性剤が使用できる。活性剤は都合
良くは、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリ
ルエーテル基により改良され得る。これら触媒系は通常
フィリップス(Phillips)、スタンダードオイルインディ
アナ(Standard Oil Indiana)、チグラー(−ナッタ)
〔Ziegler-(Natta) 〕、TNZ〔デュポン社(Dupon
t)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒(SSC)
と称されるものである。
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP
/HDPE、PP/LDPE)およびポリエチレンの種
々のタイプの混合物(例えば、LDPE/HDPE)。
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン/プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
(LLDPE)およびその低密度ポリエチレン(LDP
E)との混合物、プロピレン/ブト−1−エンコポリマ
ー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エチレン/
ブト−1−エンコポリマー、エチレン/ヘキセンコポリ
マー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、エチレン
/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコポリマ
ー、プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブチレン
/イソプレンコポリマー、エチレン/アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン/ビニルアセテートコポリマーおよ
びそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエ
チレン/アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類(ア
イオノマー)およびエチレンとプロピレンとジエン例え
ばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデ
ン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー;なら
びに前記コポリマー相互の混合物および1.に記載した
ポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン/エチレン
−プロピレン−コポリマー、LDPE/エチレン−ビニ
ルアセテート(EVA)コポリマー、LDPE/エチレ
ンアクリル酸(EAA)コポリマー、LLDPE/EV
A、LLDPE/EAAおよびランダムまたは交互ポリ
アルキレン/一酸化炭素−コポリマー;ならびに他のポ
リマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。
与剤)およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む
炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5ないし9)。
チレン)、ポリ−(α−メチルスチレン)。
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリ
ル、スチレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブ
タジエン/アルキルアクリレート、スチレン/ブタジエ
ン/アルキルメタクリレート、スチレン/無水マレイン
酸、スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレー
ト;スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリア
クリレート、ジエンポリマーまたはエチレン/プロピレ
ン/ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合物;およ
びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン/ブ
タジエン/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレ
ン、スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン、又はス
チレン/エチレン/プロピレン/スチレン。
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルにスチレンのようなもの;ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル(またはメタア
クリロニトリル);ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート;ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸;ポリブタジエンに
スチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また
はマレインイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびマ
レインイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン/プロ
ピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート/ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、ならびにこれらと6.に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばABS、MBS、ASAおよびAESポリ
マーとして知られているコポリマー混合物。
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコ
ポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマ
ー、特にハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例
えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらの
コポリマー、例えば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化
ビニル/酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン/酢酸ビニル
コポリマー。
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート;ブチルアクリレートとの耐衝撃
性改良ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル/ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル/ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル/ア
ルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル
/ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル
−アルキルメタクリレート−ブタジエンターポリマー。
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン;
ならびにそれらと上記1.に記載したオレフィンとのコ
ポリマー。
ポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらと
ビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
チレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはMBSで変性させたポリアセタール。
ィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
またはポリアミドとの混合物。
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物
質。
またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリア
ミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/10、
6/9、6/12、4/6および12/12、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミン、およ
びアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミ
ド;ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および
/またはテレフタル酸および所望により変性剤としての
エラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−
2,4,4−(トリメチルヘキサメチレン)テレフタル
アミドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミド;
さらに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィン
コポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグ
ラフトしたエラストマーとのコポリマー;またはこれら
とポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコ
ールとのコポリマー;ならびにEPDMまたはABSで
変性させたポリアミドまたはコポリアミド;加工の間に
縮合させたポリアミド(RIM−ポリアミド系)。
イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポ
リヒダントインおよびポリベンズイミダゾール。
よび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
1, 4−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ
キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル;およびまたポリカー
ボネートまたはMBSにより改良されたポリエステル。
−カーボネート。
およびポリエーテルケトン。
フェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、尿
素/ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホルムアル
デヒド樹脂。
アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリ
エステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および
燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。
アネートまたはエポキシ樹脂で架橋させたアルキッド樹
脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
用の硬化剤および所望により促進剤で架橋されたビスフ
ェノールAおよびビスフェノールFのジグリシジルエー
テルの生成物のような脂肪族、環状脂肪族、複素環また
は芳香族グリシジル化合物から誘導された架橋エポキシ
樹脂。
ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース;ならびにロジンおよびそれらの誘
導体。
ド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMま
たはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC
/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/A
SA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アクリ
レート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PU
R、POM/アクリレート、POM/MBS、PPO/
HIPS、PPO/PA6.6およびコポリマー、PA
/HDPE、PA/PP、PA/PPO、PBT/PC
/ABSまたはPBT/PET/PC。
混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、
動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成
エステル(例えばフタレート、アジペート、ホスフェー
トまたはトリメリテート)に基づいたオイル、脂肪およ
びワックス、ならびにポリマー用可塑剤として、または
紡糸製剤油として用いられているいかなる重量比での合
成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水
性エマルジョン。
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン/ブタジエンコポリマーのラテックス。
7号に記載された軟質、親水性ポリシロキサンおよび米
国特許第4,355,147号に記載された硬質ポリオ
ルガノシロキサンのようなポリシロキサン。
樹脂もしくは不飽和アクリル樹脂と組合わせるポリケチ
ミン。不飽和アクリル樹脂はウレタンアクリレート、ポ
リエーテルアクリレート、側鎖不飽和基をもつビニルま
たはアクリルコポリマーおよびアクリル化メラミン。ポ
リケチミンは酸触媒の存在下ポリアミンおよびポリケト
ンから製造される。
ゴマーおよびポリ不飽和脂肪族オリゴマーを含む放射線
硬化性組成物。
santo)) のようなエポキシ官能コエーテル化(coetheri
fied) したハイソリッドメラミン樹脂により架橋された
光安定性エポキシ樹脂のようなエポキシメラミン樹脂。
約0.01ないし約20重量%で使用されるが、しかし
これは特に基材および適用法により変化する。有利な範
囲は0.1ないし10%、例えば1ないし5%、好まし
くは1.5ないし2.5%である。
ノン、ベンゾトリアゾール、シアノアクリル酸誘導体、
ヒドロキシアリール−s−トリアジン、有機ニッケル化
合物およびオキサニリドからなる群から選択される紫外
線吸収剤を含むものである。
ロキシ−3,5−ジ−(α,α−ジメルベンジル)フェ
ニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロ
キシ−3−(α,α−ジメルベンジル)−5−オクチル
フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒ
ドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルアミルフェニル)−
2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−3
−第三ブチル−5−(ω−ヒドロキシ−オクタ(エチレ
ンオキシ)カルボニルエチルフェニル]−2H−ベンゾ
トリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−3−第三ブチル
−5−(2−オクルオキシコルボニルエチル)フェニ
ル]−2H−ベンゾトリアゾール、4,4’−ジオクチ
ルオクシオキサニリド、2,2’−ジオクチル−5,
5’−ジ−第三ブチルオキサニリド、2,2’−ジドデ
シルオキシ−5,5’−ジ第三ブチルブチルオキサニリ
ド,2−エトキシ−2’−エチルオキサニリド、2,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−4−(2−ヒド
ロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−s−トリアジ
ン、2,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−4−
(2,4−ジヒドロキシフェニル)−s−トリアジン、
2,4−ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)−6−
(4−クロロフェニル)−s−トリアジン、2,6−ビ
ス(2,4−ジメチルフェニル)−4−[2−ヒドロキ
シ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシプロパ
ノキシ)−フェニル]−s−トリアジンおよび2,2’
−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン
から選択される。
抗酸化剤の安定化有効量を含むもの、さらにヒンダード
アミン誘導体を含むもの、さらにホスフィットまたはホ
スホナイト安定剤を含むものである。
コイル用塗料として使用される、浸透性木材仕上剤とし
て使用される、またはフィルム形成木材仕上剤として使
用される工業用仕上塗料のためのハイソリッドエナメル
であるものを含むものである。
む場合、上記化合物は縮合またはフリーラジカル付加反
応により化学的に結合してポリマー基材にすることがで
きる。これは非移行性、非昇華性紫外線吸収剤安定剤を
提供する。このような反応性官能基はヒドロキシ基、ア
ミノ基、アミド基、カルボキシル基およびエチレン性不
飽和部分を含む。
の出願の後半に詳細に記載し、ならびに本発明の化合物
に付随して使用する種々の補助安定剤はしばしば非常に
有利であることが見出される。
所望によりまた、以下に示す材料のような種々の慣用の
添加剤またはその混合物約0.01ないし約5重量%、
好ましくは約0.025ないし約重量2%、および特に
は約0.1ないし約1重量%を含む。
−第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチル
−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチ
ル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−イソブチルフェノール、2,6−ジ−シクロペンチ
ル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘ
キシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオ
クタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,6−トリ
シクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジノニル−4
−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−
メチル−ウンデカ−1′−イル)−フェノール、2,4
−ジメチル−6−(1′−メチル−ヘプタデカ−1′−
イル)−フェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−
メチル−トリデカ−1′−イル)−フェノールおよびそ
れらの混合物。
例えば2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−第三ブチ
ルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−
メチルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−
6−エチルフェノール、2,6−ジ−ドデシルチオメチ
ル−4−ノニルフェノール。
ドロキノン、例えば2,6−ジ−第三ブチル−4−メト
キシフェノール、2,5−ジ−第三ブチル−ハイドロキ
ノン、2,5−ジ−第三−アミル−ハイドロキノン、
2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノー
ル、2,6−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、2,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアレー
ト、ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)アジペート。
フェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロー
ル、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物(ビタミ
ンE)
ーテル、例えば2,2′−チオビス(6−第三ブチル−
4−メチルフェノール)、2,2′−チオビス(4−オ
クチルフェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブ
チル−3−メチルフェノール)、4,4′−チオビス
(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、4,4′
−チオ−ビス(3,6−ジ−第二−アミルフェノー
ル)、4,4′−ビス(2,6−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−ジスルフィド。
えば2,2′−メチレン−ビス(6−第三ブチル−4−
メチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス(6−
第三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2′−メチ
レン−ビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキ
シル)フェノール]、2,2′−メチレン−ビス(4−
メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2′−
メチレン−ビス(6−ノニル−4−メチルフェノー
ル)、2,2′−メチレン−ビス(4,6−ジ−第三ブ
チルフェノール)、2,2′−エチリデン−ビス(4,
6−ジ−第三ブチルフェノール)、2,2′−エチリデ
ン−ビス(6−第三ブチル−4−イソブチルフェノー
ル)、2,2′−メチレン−ビス [6−(α−メチルベ
ンジル)−4−ノニルフェノール] 、2,2′−メチレ
ン−ビス [6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノ
ニルフェノール] 、4,4′−メチレン−ビス(2,6
−ジ−第三ブチルフェノール)、4,4′−メチレン−
ビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、1,
1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチ
ルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第三ブチル−
5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフ
ェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブチル−4−
ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビ
ス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェ
ニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス[3,3−ビス(3′−第三ブチル−
4′−ヒドロキシフェニル)ブチレート] 、ビス(3−
第三ブチル−4ーヒドロキシ−5−メチルフェニル)ジ
シクロペンタジエン、ビス[2−(3′−第三ブチル−
2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジル)−6−第三
ブチル−4−メチルフェニル]テレフタレート、1,1
−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)
ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(5−第
三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4
−n−ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5−テ
トラ−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチル
フェニル)ペンタン。
化合物、例えば3,5,3′,5′−テトラ−第三ブチ
ル−4,4′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリス−(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−アミン、ビス(4
−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベン
ジル)−ジチオテレフタレート、ビス(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−スルフィド、イ
ソオクチル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセテート。
ト、例えばジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ
−第三ブチル−2−ヒドロキシベンジル)−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−2−(3−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルベンジル)−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−2,2−ビス(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−マロネート、
ジ−[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−
フェニル]−2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)−マロネート。
物、例えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメ
チルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラ
メチルベンゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−フェノール。
2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5
−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)
−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−
4,6−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6
−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェノキシ)−1,2,3−トリアジン、1,3,5−ト
リス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第
三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)−イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−
1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)−ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,
3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒド
ロキシベンジル)−イソシアヌレート。
ばジメチル−2,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−5−第三ブチル−
4−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホネート、
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのCa塩。
えばラウリン酸4−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
4−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸N−(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)オクチルエ
ステル。
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサ
ンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,
N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3
−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、ト
リメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、
4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−ト
リオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘ
キサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレング
リコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミ
ド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,
7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
キシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキ
サンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリ
コール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミ
ド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,
7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒ
ドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2.2.2]オクタン。
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミド、
例えばN,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジア
ミン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミ
ン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
N,N′−ジイソプロピル−p−フェニレンジアミン、
N,N′−第二ブチル−p−フェニレンジアミン、N,
N′−ビス−(1,4−ジメチルペンチル)−p−フェ
ニレンジアミン、N,N′−ビス(1−エチル−3−メ
チルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N′−
ビス(1−メチルヘプチル)−p−フェニレンジアミ
ン、N,N′−ジシクロヘキシル−p−フェニレンジア
ミン、N,N′−ジフェニル−p−フェニレンジアミ
ン、N,N′−ジ(2−ナフチル)−p−フェニレンジ
アミン、N−イソプロピル−N′−フェニル−p−フェ
ニレンジアミン、N−(1,3−ジメチルブチル)−
N′−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1−
メチルヘプチル)−N′−フェニル−p−フェニレンジ
アミン、N−シクロヘキシル−N′−フェニル−p−フ
ェニレンジアミン、4−(p−トルエンスルホンアミ
ド)ジフェニルアミン、N,N′−ジメチル−N,N′
−第二ブチル−p−フェニレンジアミン、ジフェニルア
ミン、N−アリルジフェニルアミン、4−イソプロポキ
シジフェニルアミン、N−フェニル−1−ナフチルアミ
ン、N−(4−第三オクチルフェニル)−1−ナフチル
アミン、N−フェニル−2−ナフチルアミン、オクチル
化ジフェニルアミン、例えばp,p′−ジ第三ブチル−
オクチルジフェニルアミン、4−n−ブチルアミノフェ
ノール、4−ブチリルアミノフェノール、4−ノナノイ
ルアミノフェノール、4−ドデカノイルアミノフェノー
ル、4−オクタデカノイルアミノフェノール、ジ(4−
メトキシフェニル)アミン、2,6−ジ第三ブチル−ブ
チル−4−ジメチルアミノメチルフェノール、2,4′
−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−ジアミノジフ
ェニルメタン、N,N,N′,N′−テトラメチル−
4,4′−ジアミノジフェニルメタン、1,2−ジ
[(2−メチルフェニル)アミノ]エタン、1,2−ジ
(フェニルアミノ)プロパン、(o−トリル)ビグアニ
ド、ビス[4−(1′,3′−ジメチルブチル)フェニ
ル]アミン、第三オクチル化N−フェニル−1−ナフチ
ルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル/第三オ
クチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキ
ル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ及びジアル
キル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及び
ジアルキル化イソプロピル/イソヘキシルジフェニルア
ミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフ
ェニルアミンの混合物、2,3−ジヒドロ−3,3−ジ
メチル−4H−1,4−ベンゾチアジン、フェノチアジ
ン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル/第三オクチル
フェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三
オクチルフェノチアジンの混合物、N−アリルフェノチ
アジン、N,N,N′,N′−テトラフェニル−1,4
−ジアミノブテ−2−エン、N,N−ビス(2,2,
6,6−テトラメチルピペリジ−4−イル−ヘキサメチ
レンジアミン、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジ−4−イル)セバケート、2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−オン及び2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−オール。
リアゾール 、例えば、2−(2’−ヒドロキシ−5’−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,
5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(5’−第三ブチル−2’−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−
ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブ
チル) フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,
5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)−
5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチ
ル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−
クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第二ブチル−
5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクト
キシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’
−ジ−第三アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(3’,5’−ビス(α,α−ジメ
チルベンジル)−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾト
リアゾール;2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキ
シ−5’−(2’−オクチルオキシカルボニルエチル)
フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−
(3’−第三ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシ
ルオキシ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェ
ニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−
第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシ
カルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベンゾトリ
アゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ
−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−
ヒドロキシ−5’−(2−オクトキシカルボニルエチ
ル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三
ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)カ
ルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(3−ドデシル−2’−ヒドロキシ
−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、および
2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−
(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニル
ベンゾトリアゾールの混合物、2,2’−メチレン−ビ
ス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6
−ベンゾトリアゾール−2−イルフェノール];2−
[3’−第三ブチル−5’−(2−メトキシカルボニル
エチル)−2’−ヒドロキシフェニル]ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール300とのエステル交換
生成物;[R−CH2 CH2 −COO(CH2 )3 −]
2 −(式中,R=3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ
−5’−2H−べンゾトリアゾール−2−イル−フェニ
ルである。)。
ン、例えば4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オ
クトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ
−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒド
ロキシ−または2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキ
シ誘導体。
酸のエステル、例えば4−第三ブチルフェニル=サリチ
レート、フェニル=サリチレート、オクチルフェニル=
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4
−第三ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、2,4−ジ−第三ブチルフェニル=
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル=3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンゾエート、オクタデシル=3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−
4,6−ジ第三ブチルフェニル=3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンゾエート。
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−p−メトキシ
シンナメート、およびN−(β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −2−メチルインドリン。
2′−チオビス−[4−(1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル) −フェノール]のニッケル錯体,例えば1:
1または1:2錯体であって,所望によりn−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、2−ヒドロキシ−4
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって,所望により他の配位
子を伴うもの。
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セ
バケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)サクシネート、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス
(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,
6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)n−ブチル−
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロ
ネート、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク
酸との縮合生成物、N,N′−ビス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミ
ンと4−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,
3,5−トリアジンとの縮合生成物、トリス(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリ
アセテート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラ
カルボキシレート、1,1′−(1,2−エタンジイ
ル)−ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノ
ン),4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−
ペンタメチルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2
−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチル−ベンジル)マ
ロネート、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラ
メチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン
−2,4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバケート、ビ
ス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジル)サクシネート、N,N’−ビス(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサ
メチレンジアミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ
−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ
−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジン
と1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンの
縮合生成物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチル
アミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−ア
ミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセ
チル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−
1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4
−ジオン、3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオ
ン、3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−4−ピペリジル)−ピロリジン−2,5−ジオ
ン、4−ヘキサデシルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジンおよび4−ステアリルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジンの混合物、N,
N’−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−クロロヘキシ
ルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジン
との縮合生成物、1,2−ビス(3−アミノプロピルア
ミノ)エタンと2,4,6−トリクロロ−1,3,5−
トリアジンならびに4−ブチルアミノ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン(CAS 登録No.[13
6504−96−6])の縮合生成物;N−(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−n−ドデシ
ルスクシミド、N−(1,2,2,6,6−ペンタメチ
ル−4−ピペリジル)−n−ドデシルスクシミド、2−
ウンデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1−オキ
サ−3,8−ジアザ−4−オキソ−スピロ[4,5]デ
カン、7,7,9,9−テトラメチル−2−シクロウン
デシル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソ−ス
ピロ[4,5]デカンとエピクロロヒドリンとの反応生
成物。
4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,2′−ジ
エトキシオキシアニリド、2,2′−ジ−オクチルオキ
シ−5,5′−ジ−第三ブチルオキサニリド、2,2′
−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオキ
サニリド、2−エトキシ−2′−エチルオキサニリド、
N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサ
ミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2′−エトキシ
オキサニリドおよび該化合物と2−エトキシ−2′−エ
チル−5,4′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混
合物,o−およびp−メトキシ−二置換オキサニリドの
混合物およびo−およびp−エトキシ−二置換オキサニ
リドの混合物。
ル)−1,3,5−トリアジン、例えば2,4,6−ト
リス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)
−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4
−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−
ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキ
シフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−メチル
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒド
ロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2−(2−ヒドロキシ−4−トリデシルオキシフェ
ニル) −4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−
(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシ−プロポキシ)フ
ェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)
−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4
−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシ−プロピルオ
キシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフ
ェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[4−(ドデ
シルオキシ/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポ
キシ)−2−ヒドロキシ−フェニル]−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3
−ドデシルオキシ−プロポキシ)フェニル]−4,6−
ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリ
アジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシ)
フェニル−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジ
ン、2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−
4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2,
4,6−トリス[2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ
−2−ヒドロキシ−プロポキシ)フェニル]−1,3,
5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシフェニル)−4
−(4−メトキシフェニル)−6−フェニル−1,3,
5−トリアジン。
ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サリチラル−N′−
サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス(サリチロイ
ル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジ
ン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾー
ル、ビス(ベンジリデン)シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ
ス−フェニルヒドラジド、N,N’−ジアセタール−ア
ジピン酸ジヒドラジド、N,N’−ビス−サリチロイル
−シュウ酸ジヒドラジド、N,N’−ビス−サリチロイ
ル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス(2,6−ジ−第三ブチル−4−
メチルフェニル)−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メ
チルフェニル)−ペンタエリトリトールジホスフィット
ビス(2,4,6−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル)−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)4,4′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ−2,
4,8,10−テトラ−第三ブチル−12H−ジベンズ
[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、6−フ
ルオロ−2,4,8,10−テトラ−第三ブチル−12
−メチル−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサ
ホスホシン、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メチ
ルフェニル)メチルホスフィット、ビス(2,4−ジ−
第三ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフィッ
ト。
−ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒ
ドロキシルアミン、N,N−ジオクチルヒドロキシルア
ミン、N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、N,N
−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジヘキ
サデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクタデシル
ヒドロキシルアミン、N−ヘキサデシル−N−オクダデ
シルヒドロキシルアミン、N−ヘプタデシル−N−オク
タデシルヒドロキシルアミン、ハロゲン化獣脂アミンか
ら誘導されたN,N−ジアルキルヒドロキシルアミン。
ルファ−フェニル−ニトロン、N−エチル−アルファ−
メチル−ニトロン、N−オクチル−アルファ−ヘプチル
−ニトロン、N−ラウリル−アルファ−ウンデシル−ニ
トロン、N−テトラデシル−アルファ−トリデシル−ニ
トロン、N−ヘキサデシル−アルファ−ペンタデシル−
ニトロン、N−オクタデシル−アルファ−ヘプタデシル
−ニトロン、N−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシ
ル−ニトロン、N−オクタデシル−アルファ−ペンタデ
シル−ニトロン、N−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタ
デシル−ニトロン、N−オクタデシル−アルファ−ヘキ
サデシル−ニトロン、ハロゲン化獣脂アミンから誘導さ
れたN,N−ジアルキルヒドロキシルアミンより誘導さ
れたニトロン。
ジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネ
ート。
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネ
ート。
および/またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ca塩、ステアリン酸Zn塩、ベヘン酸Mg塩、ステ
アリン酸Mg塩、リシノール酸Na塩およびパルミチン
酸K塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。
ク、二酸化チタンまたは酸化マグネシウムのような金属
酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸
塩または硫酸塩;有機化合物例えば、モノ−またはポリ
カルボン酸およびその塩、例えば4−第三ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム
または安息香酸ナトリウム;イオン共重合体(「イオノ
マー(ionomers)」)のような重合性化合物。
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化
物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、
木粉および天然物の粉もしくは繊維、合成繊維。
剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤(rheology addit
ives) 、触媒、流れ調整剤、光沢剤、難燃剤、静電防止
剤および発泡剤。
例えばUS−A−4325863号、US−A−433
8244号、US−A−5175312号、US−A−
5216052号、US−A−5252643号、DE
−A−4316611号、DE−A−4316622
号、DE−A−4316876号、EP−A−0589
839号もしくはEP−A−0591102号に記載さ
れているもの、または3−[4−(2−アセトキシエト
キシ)フェニル]−5,7−ジ−第三ブチル−ベンゾフ
ラノ−2−オン、5,7−ジ−第三ブチル−3−[4−
(2−ステアロイルオキシエトキシ)フェニル]ベンゾ
フラノ−2−オン、3,3’−ビス[5,7−ジ−第三
ブチル−3−(4−[2−ヒドロキシエトキシ]フェニ
ル)ベンゾフラノ−2−オン]、5,7−ジ−第三ブチ
ル−3−(4−エトキシフェニル)ベンゾフラノ−2−
オン、3−(4−アセトキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)−5,7−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−2−オ
ン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロイルオキシフ
ェニル)−5,7−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−2
−オン。
オクタデシル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシヒ
ドロシンナメート、ネオペンタンテトライルテトラキス
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナ
メート)、ジ−n−オクタデシル3,5−ジ第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、1,3,5ト
リス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)イソシアヌレート、チオジエチレンビス(3,5−
ジ第三ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)、
1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5
−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、
3,6−ジオキサオクタメチレンビス(3−メチル−5
−第三ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)、
2,6−ジ第三ブチル−p−クレゾール、2,2’−エ
チリデン−ビス(4,6−ジ第三ブチルフェノール)、
1,3,5−トリス(2,6−ジメチル−4−第三ブチ
ル−3−ヒドロキシベンジル)イソシヌレート、1,
1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第
三ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリス〔2−
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナ
モイルオキシ)エチル〕−イソシアヌレート、3,5−
ジ−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)メシトール、ヘキサメチレンビス(3,5−ジ第三
ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)、1−
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−
3,5−ジ−(オクチルチオ)−s−トリアジン、N,
N’−ヘキサメチレン−ビス(3,5−ジ第三ブチル−
4−ヒドロキシヒドロシンナミド)、カルシウム ビス
(エチル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ルホスホネート)、エチレンビス〔3,3−ジ(3−第
三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ブチレート〕、オ
クチル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル
メルカプトアセテート、ビス(3,5−ジ第三ブチル−
4−ヒドロキシヒドロシンナモイル)−ヒドラジド、お
よびN,N’−ビス〔2−(3,5−ジ第三ブチル−4
−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ)−エチル〕−
オキサミドからなる群から選ばれる。
は、ネオペンタンテトライルテトラキス(3,5−ジ第
三ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)、n−
オクタデシル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシヒ
ドロシンナメート、1,3,5トリメチル−2,4,6
−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)ベンゼン、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、
2,6−ジ第三ブチル−p−クレゾールまたは2,2’
−エチリデン−ビス−(4,6−ジ第三ブチルフェノー
ル)である。
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジン−4−イル)セバケート、ジ(1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル)
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ブ
チルマロネート、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン、4−ステアリールオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン、3−n−オクチ
ル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリ
アザ−スピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、トリ
ス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)ニトリロトリアセテート、1,2−ビス(2,2,
6,6−テトラメチル−3−オキソ−ピペラジン−4−
イル)エタン、2,2,4,4−テトラメチル−7−オ
キサ−3,20−ジアザ−21−オキサジスピロ〔5.
1.11.2〕ヘンエイコサン、2,4−ジクロロ−6
−第三オクチルアミノ−s−トリアジンと4,4’−ヘ
キサメチレンビス(アミノ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン)の縮合物、1−(2−ヒドロキシエチ
ル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシ
ピペリジンとコハク酸の縮合物、4,4’−ヘキサメチ
レンビス(アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン)と1,2−ジブロモエタンの縮合物、テトラキ
ス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、
テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリ
ジン−4−イル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボ
キシレート、2,4−ジクロロ−6−モルホリノ−s−
トリアジンと4,4’−ヘキサメチレンビス(アミノ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン)の縮合物、
N,N’,N”,N”’−テトラキス〔(4,6−ビス
(ブチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)−アミノ−s−トリアジン−2−イル〕−
1,10−ジアミノ−4,7−ジアザデカン、混合され
た〔2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル/β,β,β’,β’−テトラメチル−3,9−
(2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5.5〕−
ウンデカン)ジエチル〕1,2,3,4−ブタンテトラ
カルボキシレート、混合された〔1,2,2,6,6−
ペンタメチルピペリジン−4−イル/β,β,β’,
β’−テトラメチル−3,9−(2,4,8,10−テ
トラオキサスピロ〔5.5〕−ウンデカン)ジエチル〕
1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、オク
タメチレンビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−4−カルボキシレート)、4,4’−エチレンビ
ス(2,2,6,6−テトラメチルピペラジン−3−オ
ン)、N−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル−n−ドデシルスクシンイミド、N−1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル−n−
ドデシルスクシンイミド、1−アセチル−5−ドデシル
−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリア
ザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、ジ−(1
−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−4−イル)セバケート、ジ−(1−シクロヘキ
シルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イル)スクシネート、1−オクチルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジ
ン、ポリ−{[6−第三オクチルアミノ−s−トリアジ
ン−2,4−ジイル][2−(1−シクロヘキシルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)イミノ−ヘキサメチレン−[4−(1−シクロヘキ
シルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イル)イミノ]および2,4,6−トリス[N−
(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)−n−ブトキシアミノ]
−s−トリアジンからなる群から選ばれる。
ス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジン−4−イル)セバケート、ジ(1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル)
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
ブチルマロネート、1−(2−ヒドロキシエチル)−
2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリ
ジンとコハク酸の縮合生成物、2,4−ジクロロ−6−
第三オクチルアミノ−s−トリアジンと4,4’−ヘキ
サメチレンビス(アミノ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン)、N,N’,N”,N”’−テトラキス
〔(4,6−ビス(ブチル−(2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)アミノ−s−トリアジン
−2−イル〕−1,10−ジアミノ−4,7−ジアザデ
カン、ジ−(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−イル)セバケート、ジ−
(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)スクシネート、1−オク
チルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒド
ロキシピペリジン、ポリ−{[6−第三オクチルアミノ
−s−トリアジン−2,4−ジイル][2−(1−シク
ロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−4−イル)イミノ−ヘキサメチレン−[4−
(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)イミノ]および2,4,
6−トリス[N−(1−シクロヘキシルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−n
−ブトキシアミノ]−s−トリアジンである。
いかなる方法においても本発明の特徴および範囲を制限
するものと解釈すべきでない。
−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−s−
トリアジン マグネチックスターラー、冷却器を備えおよび窒素雰囲
気にした500mlの三首の、丸底フラスコに2−クロ
ロ−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−s
−トリアジン5.10g(16.0mmol)、ヘキシ
ルレゾルシノール3.10g(16.0mmol)およ
びテトラクロロメタン40mlを装填する。混合物を穏
やかに加熱しながら均質にし、その後塩化アルミニウム
2.10g(16mmol)を少量ずつ速やかに加え
る。混合物を148℃に保持した油浴で5時間加熱し、
室温で1夜置いておく。2N塩酸200mlの添加の
後、混合物を2時間還流する。室温まで冷却後、酢酸エ
チルを加えそして層を分離させる。水層を酢酸エチルで
2回抽出しそして併せた有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。ろ過の後、溶媒を減圧下で除去し、黄色固
体7.35gを得る。粗生成物を酢酸エチル/ヘプタン
から再結晶化させて、黄色固体として標記化合物4.1
5gを得る:融点165−167℃1 H−NMR(CDCl3 )およびマススペクトルは所
望の化合物と一致する;UVλmax (酢酸エチル)28
8;348nm(ε38,000;16,200)。 分析値: C31H35N3 O2 に対する 計算値:C,77.3;H,7.3;N,8.7 実測値:C,77.2;H,7.3;N,8.7
[5−ヘキシル−2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキ
シ−3−フェノキシプロポキシ)−フェニル] −s−ト
リアジン マグネチックスターラー、冷却器を備えおよび窒素雰囲
気にした500mlの三首の、丸底フラスコに実施例1
の生成物3.88g(8.10mmol)、1,2−エ
ポキシ−3−フェノキシプロパン30mlおよびトリフ
ェニルエチルホスホニウムヨーダイド200mgを装填
する。混合物を外部温度210℃で6時間攪拌する。室
温に冷却後、過剰のエポキシドを減圧下で除去しそして
残渣をヘプタン:酢酸エチル3:1の適宜量に溶解す
る。溶液をシリカゲルのプラグ中に通過させそして溶媒
を除去して橙色固体7.70gを得る。粗生成物をヘプ
タン:酢酸エチル3:1による中圧クロマトグラフィー
(Medium pressure chromatography) に続いてヘプタン
からの再結晶化にて精製し、黄色固体として標記化合物
1.17gを得る:融点110−111℃1 H−NMR(CDCl3 )およびマススペクトルは所
望の化合物と一致する;UVλmax (酢酸エチル)28
8;350nm(ε40,500;19,500)。 分析値: C40H45N3 O4 に対する 計算値:C,76.0;H,7.2;N,6.7 実測値:C,75.7;H,7.4;N,6.5
[4−(3−ドデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキ
シ−5−ヘキシル−2−ヒドロキシフェニル] −s−ト
リアジン マグネチックスターラー、冷却器および温度計を備えお
よび窒素雰囲気にした1リットルの三首の、丸底フラス
コに実施例1の生成物15.0g(31.1mmo
l)、グリシジルドデシル(*) エーテル12.0g(4
6.9mmol)およびトリフェニルエチルホスホニウ
ムヨーダイド770mgを装填する。混合物を210℃
で8時間攪拌する。室温に冷却後、過剰のエポキシドを
減圧下で除去する。粗生成物を酢酸エチルに溶解し、シ
リカゲルのプラグ中に通過させそしてヘプタン:酢酸エ
チル3:1による中圧クロマトグラフィーにて精製し、
橙色ガラス状固体として標記化合物16.4gを得る。
1H−NMR(CDCl3 )およびマススペクトルは所
望の化合物と一致する;UVλmax (酢酸エチル)29
0;350nm(ε49,500;23,900)。 *ドデシルは本発明に関連してグリシジルドデセニルエ
ーテル、グリシジルテトラデシルエーテルおよび幾つか
の他の長鎖グリシジルエーテルの混合物が使用され、お
よびチバ−ガイギー社(Ciba-Geigy Corporation) から
入手可能な上記グリシジルエーテルの混合物である「エ
ポキシド8」から誘導される。
4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−s−ト
リアジン マグネチックスターラー、冷却器を備えおよび窒素雰囲
気にした500mlの三首の、丸底フラスコに2−クロ
ロ−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−s
−トリアジン5.14g(15.9mmol)、4−エ
チルレゾルシノール2.20g(15.9mmol)お
よびテトラクロロメタン40mlを装填する。混合物を
穏やかに加熱しながら均質にし、その後塩化アルミニウ
ム2.13g(15.9mmol)を少量ずつ速やかに
加える。混合物を外部温度145℃で5.5時間攪拌お
よび加熱する。室温で1夜置いた後、2N塩酸200m
lの添加の後、混合物を3時間還流する。室温まで冷却
後、酢酸エチルの適宜量を加えそして層を分離させる。
水層を酢酸エチルで2回抽出しそして併せた有機層をブ
ラインで1回洗浄しそして無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。ろ過の後、溶媒を減圧下で除去し、黄色固体7.
10gを得る。粗生成物をヘプタン:酢酸エチル3:1
から再結晶化させて、黄色固体として標記化合物2.2
1gを得る:融点193−195℃1 H−NMR(CDCl3 )およびマススペクトルは所
望の化合物と一致する;UVλmax (酢酸エチル)28
8;348nm(ε40,400;18,300)。 分析値: C27H27N3 O2 に対する 計算値:C,76.2;H,6.4;N, 9.9 実測値:C,76.2;H,6.4;N,10.1
エチルフェニル]−4,6−ビス−(2,4−ジメチル
フェニル)−s−トリアジン マグネチックスターラー、冷却器を備えおよび窒素雰囲
気にした250mlの丸底フラスコに2−(2,4−ジ
ヒドロキシフェニル)−4,6−ビス−(2,4−ジメ
チルフェニル)−s−トリアジン440mg(11.1
mmol)、ジイソブチレン2mlおよびメタンスルホ
ン酸6mlを装填する。混合物を外部温度75℃にて3
時間攪拌する。混合物を室温まで冷却させておき、酢酸
エチルおよび水の等量の適宜量を加える。層が分離しお
よび有機層を水で1回、飽和重炭酸ナトリウムで2回、
ブラインで1回洗浄しならびに無水硫酸マグネシウムに
より乾燥する。ろ過の後、溶媒を減圧下で除去し、黄色
固体1.28gを得る。粗生成物をヘプタン:酢酸エチ
ル3:1による中圧クロマトグラフィーにより精製し、
黄色固体として表記化合物59mgを得る。1H−NM
R(CDCl3 )およびマススペクトルは所望の化合物
と一致する;UVλmax (酢酸エチル)290;346
nm(ε29,400;16,600)。
フェニルエチル)フェニル]−4,6−ビス−(2,4
−ジメチルフェニル)−s−トリアジン マグネチックスターラー、冷却器、滴下ロート、温度計
を備えおよび窒素雰囲気にした1リットルの三首の、丸
底フラスコに2−(2,4−ヒドロキシフェニル)−
4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−s−ト
リアジン15.0g(37.8mmol)およびアルミ
ニウムイソプロポキシド390mgを装填する。混合物
を175℃に加熱し、α−メチルスチレン4.47g
(37.9mmol)を1滴/2秒の割合の滴下で加え
る。α−メチルスチレンの総量6当量4.5時間にわた
りこの方法で添加する。室温に冷却後、混合物を酢酸エ
チルで希釈し、水で2回およびブラインで1回洗浄し、
ならびに無水硫酸マグネシウムにより乾燥する。ろ過の
後、溶媒を減圧下で除去し、黄色固体を得る。粗生成物
を12%酢酸エチル/ヘプタンによる中圧クロマトグラ
フィーにより精製し、黄色固体として表記化合物13.
2gを得る。融点168−170℃。1H−NMR(C
DCl3 )およびマススペクトルは所望の化合物と一致
する;UVλmax (酢酸エチル)290;347nm
(ε45,700;23,300)。
[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ノニル
オキシプロポキシ)−5−(1−メチル−1−フェニル
エチル)フェニル]−s−トリアジン 実施例3の一般的方法に従って、実施例6の生成物4.
59g(8.91mmol)、グリシジルノニル(*) エ
ーテル3.10g(16.9mmol)およびトリフェ
ニルエチルホスホニウムヨーダイド510mgを160
℃で7時間反応させる。生成物は実施例3におけると同
様に仕上げられ、ワックス状の透明な褐色固体として標
記化合物3.82gを得る。1H−NMR(CDC
l3 )およびマススペクトルは所望の化合物と一致す
る;UVλmax (酢酸エチル)291;348nm(ε
36,600;19,000)。 *ノニルは本発明に関連してグリシジルオクチルエーテ
ル、グリシジルデシルエーテルおよび幾つかの他のグリ
シジルエーテルの混合物が使用され、およびチバ−ガイ
ギー社(Ciba-Geigy Corporation) から入手可能な上記
グリシジルエーテルの混合物である「エポキシド7」か
ら誘導される。
−ヘキシルオキシ−2−ヒドロキシ−5−(1メチル−
1−フェニルエチル)フェニル]−s−トリアジン マグネチックスターラー、冷却器、温度計を備えおよび
窒素雰囲気にした500mlの三首の、丸底フラスコに
実施例6の生成物5.50g(10.7mmol)およ
びN,N−ジメチルホルムアミド50mlを装填する。
加熱して均質な溶液を形成した後、水素化ナトリウム
0.43g(17.9mmol)および1−ヨードヘキ
サン2.26g(10.7mmol)を加える。混合物
を40℃で4時間攪拌する。室温に冷却後、混合物を水
の入ったビーカーに注ぎ入れる。減圧ろ過により黄色の
固体として標記化合物4.64gを得る:融点111−
115℃1 H−NMR(CDCl3 )およびマススペクトルは所
望の化合物と一致する;UVλmax (酢酸エチル)29
0;348nm(ε41,700;22,300)。
フェニルエチル)フェニル]−4,6−ビス−フェニル
−s−トリアジン マグネチックスターラー、滴下ロート、冷却器、温度計
を備えおよび窒素雰囲気にした500mlの三首の、丸
底フラスコに2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)
4,6−ビス−フェニル−s−トリアジン5.00g
(14.7mmol)およびアルミニウムイソプロポキ
シド300mgを装填する。混合物を160℃に加熱し
およびα−メチルスチレン17.3gを一度に加える。
この温度で26時間攪拌した後、混合物を冷却しおよび
ヘプタンの適宜量を加える。減圧ろ過により黄色の固体
として標記化合物4.45gを得る。1H−NMR(C
DCl3 )およびマススペクトルは所望の化合物と一致
する。
ルエチル)−4−オクチルオキシフェニル]−4,6−
ビス−フェニル−s−トリアジン 冷却器、マグネチックスターラー、温度計を備えおよび
窒素雰囲気にした500mlの三首の、丸底フラスコに
実施例9の生成物4.00g(8.71mmol)、
N,N−ジメチルホルムアミド50mlおよび水素化ナ
トリウム(鉱物油中60%)0.40g(10mmo
l)を装填する。混合物を外部温度50℃に加熱しおよ
び1−ブロモオクタン1.68g(8.70mmol)
を加える。混合物をこの温度で6時間攪拌しそして室温
に冷却させる。混合物を水の入ったビーカーに注ぎそれ
をクロロホルムで4回抽出する。合わせたクロロホルム
層を水で4回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、ろ過する。溶媒を減圧下で除去し、黄色油を得る。
粗生成物をヘプタン:酢酸エチル10:1による中圧ク
ロマトグラフィー、その後のアセトン/水から再結晶化
させて精製し、黄色固体として標記化合物2.21gを
得る。1H−NMR(CDCl3 )およびマススペクト
ルは所望の化合物と一致する;UVλmax (酢酸エチ
ル)271;351nm(ε44,000;24,00
0)。
4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−s−ト
リアジン マグネチックスターラー、温度計、冷却器を備えおよび
窒素雰囲気にした1リットルの三首の、丸底フラスコに
2−クロロ−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニ
ル)−s−トリアジン20.0g(61.9mmol)
およびテトラクロロメタン50mlを装填する。混合物
を固形物が溶解するように温めそして塩化アルミニウム
8.24g(62.0mmol)を直ちに小分けして加
え続いて4−クロロレゾルシノール9.00g(62.
1mmol)を加える。混合物を120℃で5時間攪拌
する。室温に冷却後、水50mlおよび濃塩酸10ml
を加えて、混合物を2時間還流する。冷却後、混合物を
酢酸エチルで3回抽出し、そして合わせた有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥しそしてろ過する。溶媒を減圧
下で除去し、黄色固体を得る。粗生成物を酢酸エチル/
ヘプタンから再結晶化させて、黄色固体として標記化合
物8.65gを得る。1H−NMR(CDCl3 )およ
びマススペクトルは所望の化合物と一致する;UVλ
max (酢酸エチル)248;345nm(ε48,00
0;19,000)。
ルフェニル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェ
ニル)−s−トリアジン 機械式スターラー(mechanical stirrer) 、冷却器を備
えおよび窒素雰囲気にした500mlの三首の、丸底フ
ラスコに2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,
6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジ
ン5.33g(13.0mmol)およびテトラクロロ
メタン20mlを装填する。混合物を外面温度40℃ま
で温めそして塩化アルミニウム8.24g(62.0m
mol)を速やかに小分けして加える。テトラクロロメ
タン20ml中の塩化プロピオニル1.20g(13.
0mmol)を15分かけて滴下で加える。混合物は外
部温度110℃4時間攪拌する。室温に冷却後、水50
mlおよび濃塩酸6mlを加えそして混合物は2時間温
めながら攪拌する。酢酸エチルの適宜量を温めながら加
え固体の全てを溶解する。層を分離しそして水層をもう
一度酢酸エチルで抽出する。合わせた有機層を無水硫酸
マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過する。生成物を結晶
化させ、標記化合物2.04gを黄色の固体として減圧
ろ過により集める。1H−NMR(CDCl3 )、赤外
線、およびマススペクトルは所望の化合物と一致する;
UVλmax (酢酸エチル)270;338nm(ε4
9,500;17,500)。
ミノ)プロピルフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジ
メチルフェニル)−s−トリアジン 実施例12の生成物(410mg,0.900mmo
l)を温めながらイソブチルアミンに溶解する。溶液は
1時間放置しておく。水の適宜量を加え、混合物を減圧
ろ過しそして濾液を酢酸エチルで洗浄する。固体を空気
で乾燥し、黄色固体として標記化合物の300mgを得
る。1H−NMR(CDCl3 )およびマススペクトル
は所望の化合物と一致する;UVλmax (酢酸エチル)
276;348nm(ε28,700;16,50
0)。
ミノ)プロピルフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジ
メチルフェニル)−s−トリアジン マグネチックスターラーを備えた100ml丸底フラス
コに実施例13の生成物67mg(0.13mmo
l)、酢酸4mlおよびホウ水素化ナトリウム50ml
を装填する。混合物を1時間攪拌する。酢酸エチルおよ
び水の適宜量を加えおよびそして層を分離する。有機層
を水で2回、飽和重炭酸ナトリウム溶液で2回、ブライ
ンで1回洗浄し、そして無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。ろ過に続いて溶媒を減圧下で除去し透明黄色油と
しての標記化合物73mgを得る。1H−NMR(CD
Cl3 )、赤外線およびマススペクトルは所望の化合物
と一致する;UVλmax (酢酸エチル)288;348
nm(ε28,900;17,500)。
示される置換されたs−トリアジン化合物を製造する。実施例 2−(2,4−ジヒドロキシ−5− ) 4,6−ジ− 15 メチル キシリル 16 メチル フェニル 17 エチル フェニル 18 クロロ キシリル
−4,6−ジフェニル−s−トリアジン 機械式スターラー(mechanical stirrer) 、冷却器を備
えおよび窒素雰囲気下である350mlスルホン化フラ
スコに2−クロロ−4,6−ジフェニル−s−トリアジ
ン21.4g(80mmol)およびキシレン(異性体
の混合物)100mlを装填する。このベージュ色の懸
濁物に塩化アルミニウム11.3g(85mmol)を
一度に加える。混合物を約80℃に45分間温める。4
−ヘキシルレゾルシノール18.8g(96mmol)
を40分間にわたり5つの部分に分けて加える。反応混
合物を90℃で24時間加熱する。室温に冷却後、フラ
スコの内容物を12%塩酸水溶液100ml中に注ぐ。
形成された沈澱物をろ過により除き水でpH7になるま
で洗浄し、メタノールですすぎ、70℃、減圧下で乾燥
する。橙色の粗生成物として標記の化合物が得られ(2
9.2g)および209−213℃で融解する。これは
さらに精製することなく使用できる。
す置換されたs−トリアジン化合物を製造する。実施例 2−(2,4−ジヒドロキシ−5− ) 4,6−ジ− 20 第三ブチル フェニル 21 ドデシル フェニル 22 ドデシル キシリル 23 オクチル キシリル 24 オクチル フェニル
す置換されたs−トリアジン化合物を製造する。実施例 2−(2−ジヒドロキシ− ) 4,6−ジ− 25 5−ヘキシル−4−OCH2 CHOHCH2 OC9 H19 キシリル 26 5−α−クミル−4−OCH2 CHOHCH2 OC6 H5 キシリル 27 5−α−クミル−4−OCH2 CHOHCH2 OC6 H5 フェニル 28 5−α−クミル−4−OCH2 CHOHCH2 OC12H25 キシリル 29 5−ヘキシル−4−OCH2 CHOHCH2 OC6 H5 フェニル 30 5−ヘキシル−4−OCH2 CHOHCH2 OC9 H19 フェニル 31 5−ヘキシル−4−OCH2 CHOHCH2 OC12H25 フェニル 32 5−α−クミル−4−OCH2 CHOHCH2 OC12H25 フェニル 33 5−α−クミル−4−OCH2 CHOHCH2 OC9 H19 フェニル
ルオキシ−2−ヒドロキシフェニル)−s−トリアジン 機械式スターラー、冷却器、滴下ロートを備えおよび窒
素雰囲気にした350mlスルホン化フラスコに実施例
19の生成物20.0g(47mmol)、炭酸カリウ
ム6.5g(47mmol)、ヨウ化カリウム50mg
および2−エトキシエタノール50mlを装填する。懸
濁物を110℃に温め、そして1−ブロモヘキサン8.
5g(51mmol)を滴下で30分かけて添加する。
22時間後反応混合物を室温に冷却し、沈澱物をろ過に
より除き水でpH6になるまで洗浄し、メタノールです
すぎ、70℃、減圧下で乾燥する。黄色の粗生成物(1
9g)を2−エトキシエタノール100mlで2回再結
晶化し、140−141℃で融解する、純度98.8%
(DSC分析)の黄色の固体として15.6mgの収量
で標記の化合物を得る。1H−NMR(CDCl3 )ス
ペクトルは所望の化合物と一致する;UVλmax(クロ
ロホルム)273;355nm(ε42,000;2
0,000)。 分析値: C33H39N3 O2 に対する 計算値:C,77.8;H,7.7;N,8.2 実測値:C,77.6;H,7.9;N,8.2
−ヘキシル−4−ヘキシルオキシ−2−ヒドロキシフェ
ニル)−s−トリアジン 機械式スターラー、冷却器、滴下ロートを備えおよび窒
素雰囲気にした200mlスルホン化フラスコに実施例
1の生成物14.5g(30mmol)、炭酸カリウム
4.6g(33mmol)、ヨウ化カリウム50mgお
よび2−エトキシエタノール60mlを装填する。懸濁
物を110℃に温め、そして1−ブロモヘキサン5.5
g(33mmol)を滴下で20分かけて添加する。1
6時間後、もう1度1−ブロモヘキサン5.5g(33
mmol)を添加しそしてもう8時間加熱を続ける。反
応混合物を室温に冷却し、沈澱物をろ過により除き水で
pH6になるまで洗浄し、メタノールですすぎ、70
℃、減圧下で乾燥する。黄色の粗生成物(13.9g)
を2−エトキシエタノール300mlで2回再結晶化
し、78−80℃で融解する、純度99.1%(DSC
分析)の黄色の固体として10.7mgの収量で標記の
化合物を得る。1H−NMR(CDCl3 )スペクトル
は所望の化合物と一致する;UVλmax(クロロホル
ム)293;353nm(ε42,000;21,00
0)。 分析値: C37H47N3 O2 に対する 計算値:C,78.5;H,8.4;N,7.4 実測値:C,78.0;H,8.3;N,7.4
置換されたs−トリアジン化合物を製造する。実施例 2−(2−ヒドロキシ− ) 4,6−ジ− 36 5−ヘキシル−4−ドデシルオキシ キシリル 37 5−ヘキシル−4−ドデシルオキシ フェニル 38 5−ヘキシル−4−オクチルオキシ キシリル 39 5−ヘキシル−4−オクタデシルオキシ フェニル 40 5−ヘキシル−4−オクタデシルオキシ キシリル 41 5−α−クミル−4−ドデシルオキシ フェニル 42 5−α−クミル−4−ドデシルオキシ キシリル 43 5−α−クミル−4−オクチルオキシ キシリル 44 5−α−クミル−4−オクタデシルオキシ フェニル 45 5−α−クミル−4−オクタデシルオキシ キシリル
[2,4−ジヒドロキシ−5−(1−ヒドロキシプロピ
ル)フェニル]−s−トリアジン 冷却器、マグネチックスターラー、温度計、滴下ロート
を備えおよび窒素雰囲気にした500mlの三首の、丸
底フラスコにテトラヒドロフラン25mlおよび水素化
リチウムアルミニウム0.89g(24mmol)を装
填する。テトラヒドロフラン250ml中の実施例12
の生成物2.00g(4.42mmol)を攪拌される
懸濁物に30分かけて滴下で加える。混合物を室温で
3.5時間攪拌しおよび過剰の水素化リチウムアルミニ
ウムを酢酸エチル、次に水の適量で抑制(quench)する。
無水硫酸マグネシウムを加え、混合物を濾過し、そして
溶媒を減圧下で除去する。粗生成物をヘプタン:酢酸エ
チル3:1によるフラッシュクロマトグラフィーによっ
て精製し黄色の固体として標記化合物0.27gを得
る。1H−NMR(CDCl3 )およびマススペクトル
は所望の化合物と一致する;UVλmax (酢酸エチル)
289;344nm(ε45,000;18,70
0)。
ル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−
s−トリアジン 機械式スターラー、冷却器、温度計、滴下ロートを備え
および窒素雰囲気にした500mlの三首の、丸底フラ
スコに2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6
−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジ
ン5.57g(14.0mmol)およびテトラクロロ
エタン25mlを装填する。混合物を外部温度90℃に
温めおよびテトラクロロエタン20ml中の塩化ベンゾ
イル2.88g(20.5mmol)を45分かけて滴
下で添加する。混合物を外部温度145℃で6時間攪拌
しそして一夜室温に置いておく。水50mlおよび濃塩
酸5mlを加えそして混合物を温めながら3時間攪拌す
る。酢酸エチルの適宜量を加え、そして有機固体が溶解
するように温める。層を分離し、水層を酢酸エチルで洗
浄し、合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せそしてろ過する。生成物は溶液から結晶化させ、標記
化合物(オフ−ホワイト色の針状物)3.55gを減圧
ろ過により集める。1H−NMR(CDCl3 )および
マススペクトルは所望の化合物と一致する;UVλmax
(酢酸エチル)282;340nm(ε61,400;
15,600)。
[2,4−ジヒドロキシ−5−(α−ヒドロキシベンジ
ル)フェニル]−s−トリアジン 滴下ロート、冷却器、マグネチックスターラーを備えお
よび窒素雰囲気にした300mlの三首の、丸底フラス
コにテトラヒドロフラン20mlおよび水素化リチウム
アルミニウム0.26g(6.8mmol)を装填す
る。テトラヒドロフラン30ml中の実施例47の生成
物0.50g(1.0mmol)を攪拌される懸濁物に
10分かけて加える。混合物を2時間還流しそして室温
に冷却させておく。過剰の水素化リチウムアルミニウム
を酢酸エチル、次に水の適量で抑制(quench)する。無水
硫酸マグネシウムを加え、混合物をろ過し、そして溶媒
を減圧下で除去して、黄色の固体として標記化合物0.
35gを得る。1H−NMR(CDCl3 )およびマス
スペクトルは所望の化合物と一致する;UVλmax (酢
酸エチル)288;343nm(ε32,400;1
3,500)。
ル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−
s−トリアジン マグネチックスターラー、冷却器、温度計を備えおよび
窒素雰囲気下である500mlの三首の、丸底フラスコ
に実施例11の生成物1.30g(3.0mmol)、
N−メチルピロリジノン5mlおよび水酸化カリウム
0.51g(9.1mmol)を装填する。混合物を攪
拌しおよび140℃に加熱しそしてチオフェノール0.
33g(3.0mmol)を一度に加える。15時間
後、混合物を室温に冷却させておく。10%塩酸水溶液
の適宜量を攪拌しながら加える。この混合物を濾過しそ
して固体を水、次いでヘプタンで洗浄する。粗生成物を
酢酸エチルから再結晶化してオフ−ホワイト色の固体と
して標記化合物0.56gを得る。1H−NMR(CD
Cl3 )およびマススペクトルは所望の化合物と一致す
る;UVλmax (酢酸エチル)289;339nm(ε
51,000;18,000)。
ルフェニル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェ
ニル)−s−トリアジン 冷却器、マグネチックスターラー、温度計を備えおよび
窒素雰囲気下である250mlの三首の、丸底フラスコ
に実施例49の生成物0.25g(0.49mmo
l)、酢酸0.059g(0.98mmol)および2
−プロパノール20mlを装填する。混合物を還流まで
加熱しそして50%過酸化水素0.067g(1.0m
mol)を加える。混合物を1時間還流し、室温に冷却
させる。酢酸エチルの適宜量を加えおよび有機層を10
%ナトリウムメタビスルフィット水溶液で2回、飽和重
炭酸ナトリウムで2回、ブラインで1回洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。ろ過後、溶媒を減圧下で除
去し黄色の固体を得る。ヘプタン:酢酸エチル3:1を
用いるフラッシュクロマトグラフィーによる精製により
黄色の固体として標記の化合物0.11gを得る。1H
−NMR(1,1,2,2−テトラクロロエタン−
d2 )スペクトルは所望の化合物と一致する;UVλ
max (テトラヒドロフラン)279;373nm(ε2
3,000;23,000)。
フェニル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニ
ル)−s−トリアジン マグネチックスターラー、冷却器、温度計を備えおよび
窒素雰囲気下である250mlの三首の、丸底フラスコ
に実施例50の生成物0.27g(0.54mmo
l)、酢酸0.80g(1.3mmol)、硫酸0.1
0g(1.0mmol)および2−プロパノール20m
lを装填する。混合物を還流まで加熱しそして50%過
酸化水素0.077g(1.1mmol)を加える。5
時間後、混合物を室温に冷却させ、酢酸エチルの適宜量
を加える。有機層を10%ナトリウムメタビスルフィッ
ト水溶液で2回、飽和重炭酸ナトリウムで2回、ブライ
ンで1回洗浄しそして無水硫酸マグネシウムを用いて乾
燥させる。ろ過後、溶媒を減圧下で除去し黄色の固体を
得る。ヘプタン:酢酸エチル3:1を用いるフラッシュ
クロマトグラフィーによる精製により黄色の固体として
標記の化合物0.11gを得る。1H−NMR(テトラ
クロロエタン−d8 )およびマススペクトルは所望の化
合物と一致する;UVλmax (酢酸エチル)276;3
77nm(ε30,000;31,000)。
す式IVで表される化合物を製造する。実施例 X,X’,Y,Y’ R1 およびR2 ’ L 52 キシリル ハロゲン原子 1−(2,2−イソプロピリ デン)−4−メチル−1,4− シクロヘキシレン 53 キシリル オクチル基 α,α,α’,α’−テトラメ チル−m−キシリレン
4,6−ジフェニル−s−トリアジン 機械式スターラー、冷却器を備えおよび窒素雰囲気下で
ある350mlスルホン化フラスコに2−クロロ−4,
6−ジフェニル−s−トリアジン26.8g(100m
mol)およびキシレン(異性体の混合物)100ml
を装填する。このベージュ色の懸濁物に塩化アルミニウ
ム14.9g(112mmol)を一度に加える。混合
物を約80℃に2時間温める。4−クロロレゾルシノー
ル17.4g(120mmol)を40分間にわたり5
つの部分に分けて今や均質なった溶液に加える。反応混
合物を90℃で42時間加熱する。室温に冷却後、フラ
スコの内容物を12%塩酸水溶液100ml中に注ぐ。
形成された沈澱物をろ過により除き水でpH7になるま
で洗浄し、メタノールですすぎ、70℃、減圧下で乾燥
する。黄土赤色の粗生成物として標記の化合物が得られ
(29.5g)および255−265℃で融解する。こ
れはさらに精製することなく使用できる。
オキシ−2−ヒドロキシフェニル)−s−トリアジン 機械式スターラー、冷却器、滴下ロートを備えおよび窒
素雰囲気下である350mlスルホン化フラスコに実施
例54の生成物26.3g(70mmol)、炭酸カリ
ウム10.6g(77mmol)、ヨウ化カリウム50
mgおよび2−エトキシエタノール50mlを装填す
る。懸濁物を110℃に温め、そして1−ブロモヘキサ
ン10.8g(77mmol)を滴下で30分かけて添
加する。8時間後、反応混合物を室温に冷却し、沈澱物
をろ過により除き水でpH6になるまで洗浄し、メタノ
ールですすぎ、70℃、減圧下で乾燥する。ベージュ色
の粗生成物(26.9g)を2−エトキシエタノール6
00mlで2回再結晶化し、147−149℃で融解す
る、純度98.7%(DSC分析)の黄色の固体として
18.6mgの収量で標記の化合物を得る。1H−NM
R(CDCl3 )スペクトルは所望の化合物と一致す
る;UVλmax(クロロホルム)281;351nm
(ε45,000;18,400)。
シ−2−ヒドロキシフェニル)−s−トリアジン 機械式スターラー、冷却器、滴下ロートを備えおよび窒
素雰囲気にした350mlスルホン化フラスコに実施例
19の生成物20.0g(47mmol)、炭酸カリウ
ム7.2g(52mmol)および2−エトキシエタノ
ール100mlを装填する。懸濁物を50℃に温め、そ
してヨウ化メチル13.3g(94mmol)を滴下で
45分かけて添加する。14時間後反応混合物を室温に
冷却し、沈澱物をろ過により除き、水でpH6になるま
で洗浄し、メタノールですすぎ、70℃、減圧下で乾燥
する。黄色の粗生成物(16.1g)を2−エトキシエ
タノールで3回再結晶化し、186−188℃で融解す
る、純度94.1%(DSC分析)の黄色の固体として
9.8gの収量で標記の化合物を得る。1H−NMR
(CDCl3 )スペクトルは所望の化合物と一致する;
UVλmax(クロロホルム)275;354nm(ε4
1,900;18,500)。 分析値: C28H29N3 O2 に対する 計算値:C,76.5;H,6.7;N,9.6 実測値:C,75.3;H,6.8;N,9.4
キシ)−5−ヘキシル−2−ヒドロキシフェニル]−
4,6−ジフェニル−s−トリアジン 機械式スターラー、冷却器、滴下ロートを備えおよび窒
素雰囲気にした350mlスルホン化フラスコに実施例
19の生成物8.5g(20mmol)、臭化トリフェ
ニルエチルホスホニウム0.4g(1mmol)、ブチ
ルグリシジルエーテル3.0g(22mmol)および
キシレン(異性体混合物)50mlを装填する。濃厚な
橙色の懸濁物を24時間還流する。反応混合物を次に室
温に冷却し、沈澱物をろ過により除き、キシレンの少量
で洗浄し、メタノールですすぎ、70℃、減圧下で乾燥
する。黄色の粗生成物(9.0g)を2−エトキシエタ
ノール30mlで2回再結晶化し、145−146℃で
融解する、純度98.2%(DSC分析)の黄色の固体
として6.0gの収量の標記の化合物を得る。1H−N
MR(CDCl3 )スペクトルは所望の化合物と一致す
る;UVλmax(クロロホルム)275;354nm
(ε43,000;19,000)。 分析値: C34H41N3 O2 に対する 計算値:C,73.5;H,7.4;N,7.6 実測値:C,73.6;H,7.5;N,7.5
−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−s−トリアジ
ン 機械式スターラー、冷却器を備えおよび窒素雰囲気下で
ある350mlスルホン化フラスコに2−クロロ−4,
6−ビス(4−メチルフェニル)−s−トリアジン2
9.6g(100mmol)およびキシレン(異性体の
混合物)100mlを装填する。このベージュ色の懸濁
物に塩化アルミニウム11.3g(85mmol)を一
度に加える。混合物を約90℃に75分間温める。4−
ヘキシルレゾルシノール21.4g(110mmol)
を45分間にわたり5つの部分に分けて今や均質なった
溶液に加える。反応混合物を90℃で18時間加熱す
る。室温に冷却後、フラスコの内容物を6%塩酸水溶液
120ml中に注ぐ。形成された沈澱物をろ過により除
き水でpH7になるまで洗浄し、メタノールですすぎ、
70℃、減圧下で乾燥する。橙色の粗生成物として標記
の化合物が得られ(43.1g)および228−231
℃で融解する。これはさらに精製することなく使用でき
る。
シル−4−ヘキシルオキシ−2−ヒドロキシフェニル)
−s−トリアジン 機械式スターラー、冷却器、滴下ロートを備えおよび窒
素雰囲気下である200mlスルホン化フラスコに実施
例58の生成物13.6g(30mmol)、炭酸カリ
ウム4.6g(33mmol)、ヨウ化カリウム50m
gおよび2−エトキシエタノール70mlを装填する。
懸濁物を110℃に温め、そして1−ブロモヘキサン
5.5g(33mmol)を滴下で30分かけて添加す
る。20時間後、もう一度1−ブロモヘキサン5.5g
(33mmol)を加えもう25時間加熱を続ける。反
応混合物を室温に冷却し、沈澱物をろ過により除き水で
pH6になるまで洗浄し、メタノールですすぎ、70
℃、減圧下で乾燥する。黄色の粗生成物(13.6g)
を2−エトキシエタノール350mlから再結晶化し、
137−138℃で融解する、純度96.9%(DSC
分析)の黄色の固体として10.6gの収量で標記の化
合物を得る。1H−NMR(CDCl3 )スペクトルは
所望の化合物と一致する;UVλmax(クロロホルム)
293;354nm(ε56,000;21,50
0)。 分析値: C35H43N3 O2 に対する 計算値:C,78.2;H,8.1;N,7.8 実測値:C,77.5;H,8.2;N,7.8
キシ)−5−ヘキシル−2−ヒドロキシフェニル]−
4,6−ビス(4−メチルフェニル)−s−トリアジン 機械式スターラー、冷却器、滴下ロートを備えおよび窒
素雰囲気にした350mlスルホン化フラスコに実施例
58の生成物13.6g(30mmol)、臭化トリフ
ェニルエチルホスホニウム0.6g(1.5mmo
l)、ブチルグリシジルエーテル4.5g(33mmo
l)およびキシレン(異性体混合物)40mlを装填す
る。濃厚な橙色の懸濁物を21時間還流する。反応混合
物を次に室温に冷却し、沈澱物をろ過により除き、水で
洗浄し、メタノールですすぎ、70℃、減圧下で乾燥す
る。黄色の粗生成物(14g)を2−エトキシエタノー
ル50mlで2回再結晶化し、163−164℃で融解
する、純度98.8%(DSC分析)の黄色の固体とし
て9.3gの収量の標記の化合物を得る。1H−NMR
(CDCl3 )スペクトルは所望の化合物と一致する;
UVλmax(クロロホルム)293;351nm(ε5
9,000;20,000)。 分析値: C36H45N3 O4 に対する 計算値:C,74.1;H,7.8;N,7.2 実測値:C,73.4;H,7.8;N,7.1
キシ)−5−ヘキシル−2−ヒドロキシフェニル]−
4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリ
アジン 機械式スターラー、冷却器、滴下ロートを備えおよび窒
素雰囲気にした350mlスルホン化フラスコに実施例
1の生成物14.4g(30mmol)、臭化トリフェ
ニルエチルホスホニウム0.6g(1.5mmol)、
ブチルグリシジルエーテル4.5g(33mol)およ
びキシレン(異性体混合物)40mlを装填する。濃厚
な橙色の懸濁物を24時間還流する。反応混合物を次に
室温に冷却し、沈澱物をろ過により除き、水で洗浄し、
メタノールですすぎ、70℃、減圧下で乾燥する。ろ液
をロータリーエバポレーターで濃縮して粗生成物の二次
生成物を得る。合わせた固体(14.9g)を2−エト
キシエタノール40mlで再結晶化し、101−102
℃で融解する、純度97.3%(DSC分析)の黄色の
固体として9.0gの収量の標記の化合物を得る。1H
−NMR(CDCl3 )スペクトルは所望の化合物と一
致する;UVλmax(クロロホルム)292;350n
m(ε49,000;21,000)。 分析値: C38H49N3 O4 に対する 計算値:C,74.6;H,8.1;N,6.9 実測値:C,74.5;H,8.0;N,6.9
ェニル)−6−フェニル−s−トリアジン 機械式スターラー、冷却器、滴下ロートを備えおよび窒
素雰囲気にした750mlスルホン化フラスコに2,4
−ジクロロ−6−フェニル−s−トリアジン34.0g
(150mmol)、塩化アルミニウム44.0g(3
30mmol)およびリグロイン(沸騰範囲110−1
40℃)100mlを装填する。この懸濁物にスルホネ
ート60mlを温度を50℃に上昇させて攪拌しながら
15分間かけて滴下で加える。スルホネート60ml中
の4−ヘキシルレゾルシノール62.1(320mmo
l)を次に15分間かけて滴下で加える。60℃に温度
を上昇させそして塩化水素を放出させる。反応混合物を
80℃で4時間加熱する。二層混合物の低い方の層をメ
タノール500mlおよび水300ml中の濃塩酸50
mlの溶液に注ぐ。混合物を14時間室温で攪拌する。
得られた生成物を80℃で1時間、水800mlに懸濁
し、ろ過により単離しおよび同じ条件で再度懸濁し最後
に単離しそして85℃、減圧下で乾燥する。橙色の粗生
成物(77.0g)として標記化合物が得られ、それは
230−238℃で溶融する。これはさらに精製するこ
となく使用できる。1H−NMR(DMSO−d6 ))
スペクトルは所望の化合物と一致する。 C33H39N3 O4 に対する 計算値:C,73.2;H,7.3;N,7.8 実測値:C,73.2;H,7.3;N,7.6
シプロポキシ)−5−ヘキシルフェニル]−6−フェニ
ル−s−トリアジン 機械式スターラー、冷却器を備えおよび窒素雰囲気にし
た350mlスルホン化フラスコに実施例62の生成物
16.2g(30mmol)、臭化トリフェニルエチル
ホスホニウム1.1g(3mmol)およびブチルグリ
シジルエーテル8.6g(66mmol)およびメシチ
レン120mlを装填する。濃厚な橙色の懸濁物を13
0℃で18時間加熱して褐色の液体を生成する。溶媒を
ロータリーエバポレーターを使用して除去する。粗生成
物を酢酸エチル100mlに溶解する。溶液を、溶離液
として酢酸エチルを1000mlを使用して230−4
00メッシュのシリカのパッド(100g,10cm
径))に通してろ過する。溶媒を蒸発後、黄色の樹脂
(25.9g)を酢酸エチル50mlに再溶解し、そし
てヘキサン150mlで沈澱させて、生成物20gを得
る。この物質を酢酸エチル70mlから再結晶化し、7
5℃、減圧下で乾燥して、108−115℃で融解する
樹脂状橙色固体としての標記化合物15.9gを得る。
1H−NMR(CDCl3 )スペクトルは所望の化合物
と一致する;UVλmax(クロロホルム)298;36
9nm(ε37,000;38,000)。 C47H67N3 O8 に対する 計算値:C,70.4;H,8.4;N,5.2 実測値:C,70.2;H,8.4;N,5.1
−ヒドロキシフェニル)−6−フェニル−s−トリアジ
ン 機械式スターラー、冷却器、滴下ロートを備えおよび窒
素雰囲気にした350mlスルホン化フラスコに実施例
62の生成物16.2g(30mmol)、粉末水酸化
カリウム3.7g(66mmol)および2−エトキシ
エタノール100mlを装填する。得られた赤色溶液に
1−ブロモヘキサン10.9g(66mmol)を滴下
で30分かけて加える。混合物を90℃で20時間加熱
し、熱ろ過する。濾液を100℃に温め、そして酢酸1
mlを加える。溶液を0℃に冷却し沈澱を得る。粗黄色
生成物を2−エトキシエタノール70mlから再結晶化
して118−121℃で融解する黄色固体として13.
1gの収量で標記化合物を得る。1H−NMR(CDC
l3 )スペクトルは所望の化合物と一致する;UVλ
max(クロロホルム)301;371nm(ε33,0
00;40,000)。 C45H63N3 O4 に対する 計算値:C,76.1;H,8.9;N,5.9 実測値:C,76.2;H,8.9;N,5.9
フェニル]−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニ
ル)−s−トリアジン マグネチックスターラー、冷却器、滴下ロートを備えお
よび窒素雰囲気にした100mlの三首の、丸底フラス
コにホウ水素化ナトリウム410mg(10.0mmo
l)および無水エタノール30mlを装填する。エタノ
ール10ml中の実施例12の生成物500mg(1.
1mmol)の溶液を35分間かけて滴下で加える。混
合物を68℃に加熱しそして3時間攪拌する。混合物を
室温に冷却させておき、そして2M塩酸10mlで急冷
(quench) する。酢酸エチルの適宜量を加え、層を分離
させる。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させ、
ろ過し、そして溶媒を減圧下で除去する。粗生成物をヘ
プタン:酢酸エチル3:1を用いる中圧クロマトグラフ
ィーにて精製し、黄色の固体として標記化合物34mg
を得る。1H−NMR(CDCl3 )、赤外およびマス
スペクトルは所望の化合物と一致する;UVλmax (酢
酸エチル)286;352nm(ε44,000;1
2,500)。
(3,5−ビス(2,4−ジメチルフェニル−s−トリ
アジニル))フェニル]−1−メチルエチル}ベンゼン マグネチックスターラー、冷却器、滴下ロートを備えお
よび窒素雰囲気にした500mlの三首の、丸底フラス
コに2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−
ジメチルフェニル)−s−トリアジン5.0g(12.
6mmol)およびアルミニウムイソプロポキシド13
0mgを装填する。混合物を185℃に加熱しそして
1,3−ジイソプロペニルベンゼン1.0g(6.3m
mol)を一度に加える。温度を132℃に下げそして
混合物を6時間攪拌する。室温に冷却後、混合物を酢酸
エチルで希釈し、水で2回、ブラインで1回洗浄する。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させそしてろ過す
る。溶媒を減圧下で除去する。粗生成物を12%酢酸エ
チル/ヘプタンを使用して中圧クロマトグラフィーにて
精製し、黄色の固体として標記化合物0.42gを得
る。1H−NMR(CDCl3 )およびマススペクトル
は所望の化合物と一致する;UVλmax (酢酸エチル)
289;347nm(ε73,000;35,00
0)。
橋されたメチレン−ビス−2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル)−4,6−(2,4−ジメチ
ルフェニル)−s−トリアジンの混合物 冷却器、マグネチックスターラーを備えおよび窒素雰囲
気にした250mlの丸底フラスコに2−(2−ヒドロ
キシ−4−オクチルオキシ−フェニル)−4,6−ビス
−(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン9.
37g(18.4mmol)、ジエトキシメタン12m
l、p−トルエンスルホン酸200mgおよびジオキサ
ン50mlを装填する。混合物を90℃で28時間攪拌
し、そして次に室温に放置させて、そして酢酸エチルの
適宜量で希釈する。混合物を水で3回、飽和重炭酸ナト
リウムで次にブラインで3回洗浄する。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥させそしてろ過する。有機溶媒を
減圧下で除去して橙色ガラス状物10.0gを得る。。
粗生成物をヘプタン:酢酸エチル19:1を用いる中圧
クロマトグラフィーにて精製し、黄色のガラス状固体と
してメチレン架橋された二量体混合物5.46gを得
る。1H−NMR(CDCl3 )およびマススペクトル
は所望の化合物と一致する;UVλmax (酢酸エチル)
290;344nm(ε80,900;34,30
0)。混合物はtが0の場合の式VIに一致する。この混
合異性体生成物のスペクトル分析で見出される、tが
1,2および/または3の場合のより大きいオリゴマー
の少量ないし微量もまた存在する。
ジリデン−ビス−2−(2−ヒドロキシ−4−オクチル
オキシフェニル)−4,6−(2,4−ジメチルフェニ
ル)−s−トリアジン 冷却器、マグネチックスターラーを備えおよび窒素雰囲
気にした250mlの丸底フラスコに2−(2−ヒドロ
キシ−4−オクチルオキシ−フェニル)−4,6−ビス
−(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン1
0.71g(21.0mmol)、ベンジルアルデヒド
2.70g(25.4mmol)およびp−トルエンス
ルホン酸400mgを装填する。混合物を140℃で3
時間攪拌し、そして次に室温に放置させる。混合物を酢
酸エチルに溶解し、そして飽和重炭酸ナトリウムで2
回、水で次にブラインで1回洗浄する。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥させそしてろ過する。有機溶媒お
よび過剰なベンジルアルデヒドを減圧下で除去しそして
茶赤色のガラス状物質10.95gを得る。。粗生成物
をヘプタン:酢酸エチル19:1を用いる中圧クロマト
グラフィーにて精製し、黄色のガラス状固体としてベン
ジリデン架橋された二量体混合物5.18gを得る。1
H−NMR(CDCl3 )およびマススペクトルは所望
の化合物と一致する;UVλmax (酢酸エチル)29
1;348nm(ε75,800;35,700)。混
合物はtが0でありおよびLがベンジリデンである場合
の式VIに一致する。
s) の上に塗布した紫外線吸収剤を含むハイソリッド熱
硬化性アクリルクリアコートの離層抵抗 E−コートプライマー層上に、アクリルメラミン樹脂に
基づき本発明の実施例7の試験紫外線吸収剤安定剤〔即
ち、2,4−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−6
−[2−ヒドロキシ−4−(3−ノニルオキシ−2−ヒ
ドロキシプロポキシ−5−α−クミル)フェニル]−s
−トリアジン〕2重量%を含む、市販のハイソリッド熱
硬化性アクリルメラミンクリアコートの1.8−2.0
ミル(0.036−0.051mm)厚フィルムになる
よう吹付塗布することにより、試験パネルを調整する。
比較の目的で公知の化合物A〔2,4−ビス(2,4−
ジメチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(3
−{2−エチルヘキシル}オキシ−2−ヒドロキシプロ
ピル)フェニル]−s−トリアジン〕により安定化され
た別の試験試料を調整する。トップコートをアドバンス
・コーティングズ・テクノロジー社(Adbance Coatings
Technology Inc.)から入手した4″×12″(10.1
6×30.48cm)の登録商標ユニプライム(UNIPRI
ME) パネル上に塗布する。次に、塗布されたパネルを2
50°F(121℃)で30分間焼き付ける。空気調整
室における1週間貯蔵後、SAEJ−1976に従うブ
ラックボックスで、5°南面で、パネルをフロリダで曝
露する。パネルは41日間曝露し(39MJ−UV)お
よび曝露したパネルを次に離層の徴候に対して検査す
る。化合物Aにより安定化されたクリアコートは、パネ
ルの好適な部分にふくれが見られる。本発明の実施例7
の赤色側にシフトした化合物により安定化されたクリア
コートはふくれの徴候も離層の徴候も示さない。
収剤を含むアクリルウレタンクリアコートの離層抵抗 アドバンス・コーティングズ・テクノロジー社(Adbance
Coatings TechnologyInc.)から入手した4″×12″
(10.16×30.48cm)の登録商標ユニプライ
ム(UNIPRIME) パネル上に、直接、アクリルウレタン樹
脂に基づき本発明の紫外線吸収剤安定剤2重量%を含
む、市販のアクリルウレタンクリアコートの1.8−
2.0ミル(0.036−0.051mm)厚フィルム
になるよう吹付塗布することにより、試験パネルを調整
する。次に、塗布されたパネルを250°F(121
℃)で30分間焼き付ける。空気調整室における1週間
貯蔵後、SAEJ−1976に従うブラックボックス
で、パネルを5°南面でフロリダで曝露する。パネルは
離層について毎日評価され、そして離層が明らかにパネ
ル面積の10%を越えたとき試験から外す。本発明の化
合物はエレクトロコートからのクリアコートの離層を遅
延させるのに有効である。
製造されるような薄い表面保護層内のみに混入されてい
る積層されたポリカーボネートプラークにおける本発明
のo−ヒドロキシフェニル−s−トリアジンの使用効果
を示す。ワバッシュ圧縮成形機(Wabash Compression m
older)にて、350F°(177℃)において、100
0psi(70kg/cm2 )で3分間、3000ps
i(210kg/cm2 )で3分間、さらに冷却しなが
ら3000psi(210kg/cm2 )で3分間、圧
縮成形することにより、紫外線吸収剤5%を含む、1ミ
ル(0.0254mm)ポリカーボネートフィルム(登
録商標レクサン(LEXAN) 141−111N),ゼネラル
エレクトリック社(General Electric Co.) に紫外線安
定化してない125ミル(3.18mm)ポリカーボネ
ートプラーク(登録商標レクサン141−111N)を
接着することによって、積層プラークを調整する。保護
層を入射光に対面させてASTM表示G26−88試験
法Cを使用し、このプラークをアトラス CI−65
キセノンアーク ウエザローメーター(Atras CI-65 Xe
non Arc Weatherometer)に曝露する。ポリマーの劣化は
ACS分光光度計による黄色度指数(YI)を測定する
ことにより決定する。本発明のo−ヒドロキシフェニル
−s−トリアジンは劣化および変色からポリカーボネー
トを保護するのに非常に有効である。
ロキシルアミン、金属ステアレート、紫外線吸収剤もし
くは障害性アミン光安定剤、または紫外線吸収剤および
立体障害性アミン光安定剤を含む、繊維用銘柄ポリプロ
ピレンを押し出すことにより、ポリプロピレン繊維試料
を調整する。顔料は、顔料濃縮物として添加する。該濃
縮物は、純顔料およびプロピレン樹脂〔登録商標プロフ
ァクス(PROFAX) 6301,ハイモント社(Himont) 〕
から、2成分を顔料25%および樹脂75%の割合でで
高剪断ミキサーで混合し、得られた樹脂/顔料混合物を
ワバッシュ圧縮成形機(モデル#30−1515−4T
3)にて薄いシートにプレスし、そして次に減少した濃
度にて新しいポリプロピレン樹脂に分散させるため、シ
ートを細かいチップに粉砕することによって、製造され
る。 最終配合物における全ての添加剤および顔料濃度
は樹脂に基づく重量%として表す。
%、フェノール系抗酸化剤0−1.25%、ヒドロキシ
ルアミン0−0.1%、カルシウムステアレート0.0
5−0.1%、本発明の紫外線吸収剤0−1.25%お
よび/または障害性アミン安定剤0−1.25%を含
む。材料をタンブルドライヤー(tumble dryer)にてドラ
イブレンドし、汎用万能スクリュー(24:1 L/
D)を備えたスペリア(Superior) /MPM,1″
(2.54cm)一軸スクリュー押出機において、47
5F°(246℃)で押し出し、水浴中で冷却しそして
ペレット化する。得られたペレットを41孔、三角形状
紡糸口金(delta configuration spinnerette)を取り付
けたヒルズリサーチファイバー押出機(HILLS Research
Fiber Extruder)(モデル#REM−3P−24)にて
約525F°(274℃)で繊維に紡糸する。紡糸され
たトウを3.2:1の延伸比で延伸して、最終的に61
5/41デニールにする。
ーアナリシスニッター(Lawson-Hemphill Fiber Analys
is Knitter) にてソックスに編み、適当な長さに切断
し、89℃ブラックパネル温度、340ナノメーターに
おいて0.55W/m2 および相対湿度50%にてアト
ラスCI65キセノンアークウエザロメーターに曝露す
る〔ソサエティ オブ オートモーティヴ エンジニア
ーズ(Society of Automotive Engineers) SAE J
1885試験方法〕。ASTM D2244−79に
従う反射率モードによるアプライド カラーシステムズ
(Applied Color Systems) 分光光度計にて一定間隔で測
色を行うことによって繊維試料を試験する。同時に、し
かし別にした試料を突発的退色(catastrophic failure)
に対して検査する。
剤の組合せは、着色したポリプロピレン繊維に対してか
なり優れた保護を提供し、同じ総濃度にて使用した場合
に障害性アミンのみにより提供される保護の水準にまさ
る全く相乗的安定化保護を提供する。同様の優れた安定
化は着色したポリプロピレン繊維を着色したナイロンも
しくはポリエステル繊維に置き換えた場合においても見
られる。
配合する。 シンスアクリル(Synthacryl)SC303*), 27.51部 (キシレン/ブタノール:26/9中に65%) シンスアクリル(Synthacryl)SC370*), 23.34部 〔ソルベッソ(Solvesso) 100*)中に75%〕 マプレナル(Maprenal) MF650*), 27.29部 (イソブタノール中に55%) 〔*上記、4つの商品はヘキスト社(HOECHST)から入手〕 酢酸ブチル/ブタノール:37/8 4.33部 イソブタノール 4.87部 ソルベッソ(Solvesso)150〔エクソン社(EXXON)〕2.72部 クリスタルオイル(Crystal Oil)K−30 8.74部 〔シェル社(shell)〕 他の添加剤は流れ調節剤(flow agent)としてバイエル社
(Bayer)からのベイシロン(Baysilone)MA(ソルベッ
ソ 150中に1%)ならびに下式
る。本発明より製造される試料は、さらに式
合物である。)で表される化合物の混合物を樹脂固形分
に基づき2もしくは3重量%含む。
る。吹付粘度はフォード4カップ(Ford 4 cup) を使用
して18秒である。塗布パネルを、ウォーターボーンポ
リウレタン分散プライマー(water bornepolyurethane
dispersion primer) により下塗し、75℃で13分間
および165℃で30分間で表面硬化する。上記ウォー
ターボーン赤色固体で覆われた遮蔽されたベースコート
を80℃で10分間硬化させる。クリアコートを20μ
mの厚みでベースコートの上に吹付けそして硬化させ
る。硬化は130℃、15分間加熱することにより得ら
れる。パネルを、UVB−313を用いる、登録商標U
VCONに、70℃でUV8時間、50℃で凝縮(conde
nsation)4時間で曝露する。曝露3200時間後、パネ
ルを一定間隔で亀裂に対して検査する。結果を以下の表
に示す。 表:UVCON曝露後の亀裂 赤色側にシフトしたUVA 3200時間 3600時間 4000時間曝露 無 亀裂発生 2% − 亀裂発生 3% − − 亀裂発生 ────────────────────────────────── 本発明の化合物は、クリアコートが亀裂発生を紡糸する
ことにおいて非常に有効である。
Claims (21)
- 【請求項1】 次式A)またはB): 【化1】 {式A)で表される化合物においては;AおよびA’は
同じかまたは異なって、フェニル基、または式: 【化2】 で表される基、または1ないし3個の、低級アルキル
基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基もしくはアルコキシ基
で置換されたフェニル基を表し;R1 は1ないし24個
の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、2ない
し24個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルケニル
基、5ないし12個の炭素原子のシクロアルキル基、ハ
ロゲン原子、−SR3 、−SOR3 または−SO2R3
を表すか;または1ないし8個の、ハロゲン原子、−R
4 、−OR5 、−N(R5 )2 、=NR5 、=O、−C
ON(R5 )2 、−COR5 、−COOR5、−OCO
R5 、−CN、−NO2 、−SR5 、−SOR5 、−S
O2 R5 、−P(O)(OR5 )2 、モルホリニル基、
ピペリジニル基、2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジニル基、ピペラジニル基もしくはN−メチルピペラジ
ニル基またはそれらの組合せにより置換された上記アル
キル基またはシクロアルキル基;または1ないし6個
の、フェニレン基、−O−、−NR5 −、−CONR5
−、−COO−、−OCO−、−C(R5 )=C
(R5 )−もしくは−CO−基またはそれらの組合せに
より中断された上記アルキル基またはシクロアルキル
基;あるいは上記で言及した基の組合せにより置換およ
び中断の両方がなされた上記アルキル基またはシクロア
ルキル基を表し;R3 は1ないし20個の炭素原子のア
ルキル基、3ないし18個の炭素原子のアルケニル基、
5ないし12個の炭素原子のシクロアルキル基、7ない
し15個の炭素原子のフェニルアルキル基、6ないし1
0個の炭素原子のアリール基または1ないし4個の炭素
原子のアルキル基の1もしくは2個で置換された上記ア
リール基を表し;R4 は6ないし10個の炭素原子のア
リール基、または1ないし3個の、ハロゲン原子、1な
いし8個の炭素原子のアルキル基、1ないし8個の炭素
原子のアルコキシ基またはその組合せにより置換された
上記アリール基;5ないし12個の炭素原子のシクロア
ルキル基;または7ないし15個の炭素原子のフェニル
アルキル基;またはフェニル環上1ないし3個の、ハロ
ゲン原子、1ないし8個の炭素原子のアルキル基、1な
いし8個の炭素原子のアルコキシ基またはそれらの組合
せによって置換された上記フェニルアルキル基;あるい
は2ないし18個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のア
ルケニル基を表し;R5 はR4 と同じ定義であるか、あ
るいはR5 はまた、水素原子または1ないし24個の炭
素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表すか;あ
るいはR5は式 【化3】 (式中、Tは水素原子、オキシル基、ヒドロキシ基;1
ないし12個の炭素原子のアルキル基;少なくとも1つ
のヒドロキシ基もしくは低級アルコキシ基によって置換
された上記アルキル基;ベンジル基または2ないし18
個の炭素原子のアルカノイル基を表す。)で表される基
を表し;R2 は水素原子;1ないし24個の炭素原子の
直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基または5ないし12個
の炭素原子のシクロアルキル基;または1ないし8個の
ハロゲン原子、エポキシ基、グリシジルオキシ基、フリ
ルオキシ基、−R4 、−OR5 、−N(R5)2 、−CO
N(R5 )2 、−COR5 、−COOR5 、−OCOR
5 、−OCOC(R5 )=C(R5 )2 、−C(R5)=
C(R5)−COOR5 、−CN、−NCOもしくは基 【化4】 またはそれらの組合せにより置換された上記アルキル基
またはシクロアルキル基を表すか;あるいは1ないし6
個の、エポキシ基、−O−、−NR5 −、−CONR5
−、−COO−、−OCO−、−CO−、−C(R5 )
=C(R5 )COO−、−OCOC(R5 )=C
(R5 )−、−(R5 )C=C(R5 )−、フェニレン
基または基:−フェニレン−G−フェニレン−〔基中、
Gは−O−、−S−、−SO2 −、−CH2 −もしくは
−C(CH3 )2−を表す。〕、またはそれらの組合せに
より中断された上記アルキル基またはシクロアルキル基
を表すか;あるいは上記で言及した基の組合せにより置
換および中断の両方がなされている上記アルキル基また
はシクロアルキル基を表し;あるいはR2 は−SO2 R
3 、または−COR6 を表し;R6 は1ないし18個の
炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、2ないし
18個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルケニル
基、フェニル基、1ないし12個の炭素原子のアルコキ
シ基、フェノキシ基、1ないし12個の炭素原子のアル
キルアミノ基、6ないし12個の炭素原子のアリールア
ミノ基または基:−R7 COOHまたは−NH−R8 −
NCOを表し;R7 は2ないし14個の炭素原子のアル
キレン基またはo−フェニレン基を表し;R8 は2ない
し10個の炭素原子のアルキレン基、フェニレン基、ト
リレン基、ジフェニレンメタン基または基 【化5】 を表し;k=1ないし4を表し;kが1を表すとき、Z
は上記R2 と同じ定義であり;kが2を表すとき、Zは
2ないし16個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアル
キレン基;または1ないし8個の−OHにより置換され
た上記アルキレン基;または1ないし8個の−CH=C
H−もしくは−O−により中断されている上記アルキレ
ン基;あるいは上記で言及した基の組合せにより置換お
よび中断の両方がなされている上記アルキレン基を表す
か;あるいはZはキシリレン基または−CONH−R8
−NHCO−、−CH2 CH(OH)CH2 O−R9 −
OCH2 CH(OH)CH2 −、−CO−R10−CO
−、または−(CH2)m −COO−R11−OOC−(C
H2)m −(基中、mは1ないし3を表す。)を表すか;
あるいはZは 【化6】 を表し;R8 は上記と同じ定義であり;R9 は2ないし
50個の炭素原子のアルキレン基;または1ないし10
個の−O−、フェニレン基、あるいは基:−フェニレン
−G−フェニレン−〔基中、Gは−O−、−S−、−S
O2 −、−CH2 −もしくは−C(CH2 )2 −を表
す。〕で中断された上記アルキレン基を表し;R10は2
ないし10個の炭素原子のアルキレン基、または1ない
し4個の、−O−、−S−もしくは−CH=CH−によ
り中断された上記アルキレン基;あるいはR10は6ない
し12個の炭素原子のアリーレン基を表し;R11は4な
いし20個の炭素原子のアルキレン基または、1ないし
8個の−O−により中断された上記アルキレン基を表
し;kが3を表すとき、Zは基:−[(CH2 )m CO
O]3 −R12(基中、m=1ないし3を表しおよびR12
は3ないし12個の炭素原子のアルカントリイル基を表
す。)を表し;kが4を表すとき、Zは基:−[(CH
2 )m COO]4 −R13(基中、m=1ないし3を表し
およびR13は4ないし12個の炭素原子のアルカンテト
リル基を表す。)を表し;但し、Zが水素原子を表しお
よびR1 がn−ヘキシル基を表すとき、AおよびA’が
おのおの5−n−ヘキシル−2,4−ジヒドロキシフェ
ニル基を表さず;ならびに式B)で表される化合物にお
いては;tは0ないし9を表し;X、X’,Yおよび
Y’は同じかまたは異なってフェニル基、または1ない
し3個の、低級アルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ
基またはアルコキシ基により置換されたフェニル基を表
し;Lは1ないし12個の炭素原子の直鎖もしくは分枝
鎖のアルキレン基、5ないし12個の炭素原子のシクロ
アルキレン基、シクロヘキシレン基もしくはフェニレン
基により置換されたまたは中断されたアルキレン基を表
すか;あるいはLはベンジリデン基を表すか;あるいは
Lは−S−、−S−S−、−S−E−S−、−SO−、
−SO2 −、−SO−E−SO−、−SO2 −E−SO
2 −、−CH2 −NH−E−NH−CH2 −または 【化7】 (式中、Eは2ないし12個の炭素原子のアルキレン
基、5ないし12個の炭素原子のシクロアルキレン基、
または8ないし12個の炭素原子のシクロヘキシレンに
よって中断もしくはそれらを末端基とするアルキレン基
を表す。)を表し;R2 およびR2 ’は同じかまたは異
なってR2 として上記に示した定義を表し;但し、L結
合の少なくとも1つが、5位にてフェニル環に結合して
いる。}で表される化合物。 - 【請求項2】 次式I、II、III 、IV、VまたはVI 【化8】 【化9】 {式Iで表される化合物においては;XおよびYは同じ
かまたは異なってフェニル基、または1ないし3個の、
低級アルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基もしくは
アルコキシ基により置換されたフェニル基を表し;R1
は1ないし24個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のア
ルキル基、2ないし24個の炭素原子の直鎖もしくは分
枝鎖のアルケニル基、5ないし12個の炭素原子のシク
ロアルキル基、ハロゲン原子、−SR3 、−SOR3 ま
たは−SO2R3 を表すか;または1ないし8個の、ハ
ロゲン原子、−R4 、−OR5 、−N(R5 )2 、=N
R5 、=O、−CON(R5 )2 、−COR5 、−CO
OR5、−OCOR5 、−CN、−NO2 、−SR5 、
−SOR5 、−SO2 R5 、−P(O)(OR5 )2 、
モルホリニル基、ピペリジニル基、2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジニル基、ピペラジニル基もしくはN
−メチルピペラジニル基またはそれらの組合せにより置
換された上記アルキル基またはシクロアルキル基;また
は1ないし6個の、フェニレン基、−O−、−NR
5 −、−CONR5 −、−COO−、−OCO−、−C
(R5 )=C(R5 )−もしくは−CO−基またはそれ
らの組合せにより中断された上記アルキル基またはシク
ロアルキル基;あるいは上記で言及した基の組合せによ
り置換および中断の両方がなされた上記アルキル基また
はシクロアルキル基を表し;R3 は1ないし20個の炭
素原子のアルキル基、3ないし18個の炭素原子のアル
ケニル基、5ないし12個の炭素原子のシクロアルキル
基、7ないし15個の炭素原子のフェニルアルキル基、
6ないし10個の炭素原子のアリール基または1ないし
4個の炭素原子のアルキル基の1もしくは2個で置換さ
れた上記アリール基を表し;R4 は6ないし10個の炭
素原子のアリール基、または1ないし3個の、ハロゲン
原子、1ないし8個の炭素原子のアルキル基、1ないし
8個の炭素原子のアルコキシ基またはその組合せにより
置換された上記アリール基;5ないし12個の炭素原子
のシクロアルキル基;または7ないし15個の炭素原子
のフェニルアルキル基;またはフェニル環上1ないし3
個の、ハロゲン原子、1ないし8個の炭素原子のアルキ
ル基、1ないし8個の炭素原子のアルコキシ基またはそ
れらの組合せによって置換された上記フェニルアルキル
基;あるいは2ないし18個の炭素原子の直鎖もしくは
分枝鎖のアルケニル基を表し;R5 はR4 と同じ定義で
あるか、あるいはR5 はまた、水素原子または1ないし
24個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を
表すか;あるいはR5は式 【化10】 (式中、Tは水素原子、オキシル基、ヒドロキシ基;1
ないし12個の炭素原子のアルキル基;少なくとも1つ
のヒドロキシ基もしくは低級アルコキシ基によって置換
された上記アルキル基;ベンジル基または2ないし18
個の炭素原子のアルカノイル基を表す。)で表される基
を表し;R2 は水素原子;1ないし24個の炭素原子の
直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基または5ないし12個
の炭素原子のシクロアルキル基;または1ないし8個の
ハロゲン原子、エポキシ基、グリシジルオキシ基、フリ
ルオキシ基、−R4 、−OR5 、−N(R5)2 、−CO
N(R5 )2 、−COR5 、−COOR5 、−OCOR
5 、−OCOC(R5 )=C(R5 )2 、−C(R5)=
C(R5)−COOR5 、−CN、−NCOもしくは基 【化11】 またはそれらの組合せにより置換された上記アルキル基
またはシクロアルキル基を表すか;あるいは1ないし6
個の、エポキシ基、−O−、−NR5 −、−CONR5
−、−COO−、−OCO−、−CO−、−C(R5 )
=C(R5 )COO−、−OCOC(R5 )=C
(R5 )−、−(R5 )C=C(R5 )−、フェニレン
基または基:−フェニレン−G−フェニレン−〔基中、
Gは−O−、−S−、−SO2 −、−CH2 −もしくは
−C(CH3 )2−を表す。〕、またはそれらの組合せに
より中断された上記アルキル基またはシクロアルキル基
を表すか;あるいは上記で言及した基の組合せにより置
換および中断の両方がなされている上記アルキル基また
はシクロアルキル基を表し;あるいはR2 は−SO2 R
3 、または−COR6 を表し;R6 は1ないし18個の
炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、2ないし
18個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルケニル
基、フェニル基、1ないし12個の炭素原子のアルコキ
シ基、フェノキシ基、1ないし12個の炭素原子のアル
キルアミノ基、6ないし12個の炭素原子のアリールア
ミノ基または基:−R7 COOHまたは−NH−R8 −
NCOを表し;R7 は2ないし14個の炭素原子のアル
キレン基またはo−フェニレン基を表し;R8 は2ない
し10個の炭素原子のアルキレン基、フェニレン基、ト
リレン基、ジフェニレンメタン基または基 【化12】 を表し;但し、R2 が水素原子を表しおよびR1 がn−
ヘキシル基を表すとき、XおよびYがおのおの5−n−
ヘキシル−2,4−ジヒドロキシフェニル基を表さず;
式IIで表される化合物においては;Xはフェニル基、ま
たは1ないし3個の、低級アルキル基、ハロゲン原子、
ヒドロキシ基もしくはアルコキシ基により置換されたフ
ェニル基を表し;R1 およびR1 ’は同じかまたは異な
って、上記にR1 として定義された意味を表し;R2 お
よびR2 ’は同じかまたは異なって、上記にR2 として
定義された意味を表し;および但し、R1 およびR1 ’
がおのおのn−ヘキシル基を表し、R2およびR2 ’が
おのおの水素原子を表すとき、Xが5−n−ヘキシル−
2,4−ジヒドロキシフェニル基を表さず;式III で表
される化合物においては;R1 、R1 ’およびR1 ”は
同じかまたは異なって、上記にR1 に対する定義と同じ
意味を表し;R2 、R2 ’およびR2 ”は同じかまたは
異なって、上記にR2 に対する定義と同じ意味を表し;
および但し、R2 、R2 ’およびR2 ”がおのおの水素
原子を表すとき、R1 、R1 ’およびR1 ”がおのおの
n−ヘキシル基を表さず;式IVで表される化合物におい
ては;X、X’、YおよびY’は同じかまたは異なって
フェニル基、または1ないし3個の、低級アルキル基、
ハロゲン原子、ヒドロキシ基もしくはアルコキシ基によ
り置換されたフェニル基を表し;Lは1ないし12個の
炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基、5ない
し12個の炭素原子のシクロアルキレン基、シクロヘキ
シレン基もしくはフェニレン基により置換されたまたは
中断されたアルキレン基を表すか;あるいはLはベンジ
リデン基を表すか;あるいはLは−S−、−S−S−、
−S−E−S−、−SO−、−SO2 −、−SO−E−
SO−、−SO2 −E−SO2 −、−CH2 −NH−E
−NH−CH2 −または 【化13】 (式中、Eは2ないし12個の炭素原子のアルキレン
基、5ないし12個の炭素原子のシクロアルキレン基ま
たは、8ないし12個の炭素原子のシクロヘキシレン基
によって中断もしくはそれらを末端基とするアルキレン
基を表す。)を表し;R2 およびR2 ’は同じかまたは
異なってR2 として上記で定義した意味を表し;式Vで
表される化合物においては;X、YおよびR1 は上記で
定義した意味を表し;n=2ないし4であり;nが2を
表すとき;Qは2ないし16個の炭素原子の直鎖もしく
は分枝鎖のアルキレン基;または1ないし8個の−OH
により置換された上記アルキレン基;または1ないし8
個の−CH=CH−もしくは−O−により中断されてい
る上記アルキレン基;あるいは上記で言及した基の組合
せにより置換および中断の両方がなされている上記アル
キレン基を表すか;あるいはQはキシリレン基または−
CONH−R8 −NHCO−、−CH2 CH(OH)C
H2 O−R9 −OCH2 CH(OH)CH2 −、−CO
−R10−CO−、または−(CH2)m −COO−R11−
OOC−(CH2)m −(基中、mは1ないし3を表
す。)を表すか;あるいはQは 【化14】 を表し;R8 は上記と同じ定義であり;R9 は2ないし
50個の炭素原子のアルキレン基;または1ないし10
個の−O−、フェニレン基、あるいは基:−フェニレン
−G−フェニレン−〔基中、Gは−O−、−S−、−S
O2 −、−CH2 −もしくは−C(CH2 )2 −を表
す。〕で中断された上記アルキレン基を表し;R10は2
ないし10個の炭素原子のアルキレン基、または1ない
し4個の、−O−、−S−もしくは−CH=CH−によ
り中断された上記アルキレン基;あるいはR10は6ない
し12個の炭素原子のアリーレン基を表し;R11は4な
いし20個の炭素原子のアルキレン基、または1ないし
8個の−O−により中断された上記アルキレン基を表
し;nが3を表すとき、Qは基:−[(CH2 )m CO
O]3 −R12(基中、m=1ないし3を表しおよびR12
は3ないし12個の炭素原子のアルカントリイル基を表
す。)を表し;nが4を表すとき、Qは基:−[(CH
2 )m COO]4 −R13(基中、m=1ないし3を表し
およびR13は4ないし12個の炭素原子のアルカンテト
リル基を表す。)を表し;ならびに式VIで表される化合
物においては;XおよびYは上記で定義した意味を表
し;tは0ないし9を表し;Lは上記で定義した意味を
表し;但し、L結合の少なくとも1つが、5位にてフェ
ニル環に結合しており;R2 は上記に定義した意味を表
す。}で表される請求項1に記載の化合物。 - 【請求項3】 式中、X、Y、X’およびY’はフェニ
ル基、または1ないし3個の、低級アルキル基もしくは
ハロゲン原子により置換されたフェニル基を表し;R1
は1ないし24個の炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のア
ルキル基、3ないし12個の炭素原子の直鎖もしくは分
枝鎖のアルケニル基、−Cl、−SR3 、−SOR3 ま
たは−SO2 R3 を表すか;またはフェニル基、−OR
5 、−N(R5 )2 、=NR5 、=Oにより置換されお
よび/または−O−、−NR5 −、、−CO−基または
それらの組合せにより中断された上記アルキル基;5な
いし12個の炭素原子のシクロアルキル基;または7な
いし15個の炭素原子のフェニルアルキル基を表し;R
2 およびR2 ’は水素原子、1ないし24個の炭素原子
のアルキル基または1もしくは2個の−OR5 によって
置換された2ないし24個の炭素原子のアルキル基を表
し;R5 はH、1ないし24個の炭素原子のアルキル基
またはフェニル基を表し;ならびにLはメチレン基;ベ
ンジリデン基; 【化15】 である請求項1に記載の化合物。 - 【請求項4】 式中、AおよびA’がフェニル基、式 【化16】 で表される基または1もしくは2個の低級アルキル基で
置換されたフェニル基を表し;R1 は1ないし18個の
炭素原子の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、プロペニ
ル基、−Cl、4ないし12個の炭素原子のアルキルア
ミノアルキル基、4ないし12個の炭素原子のアルキル
イミノアルキル基、2ないし18個の炭素原子のアルカ
ノイル基、ベンゾイル基、−SR3 、−SOR3 または
−SO2 R3 を表すか;またはフェニル基および/また
は−OHにより置換された炭素原子数1ないし7のアル
キル基を表し;R2 およびR2 ’は水素原子、1ないし
24個の炭素原子のアルキル基または1もしくは2個の
−OR5 によって置換された2ないし12個の炭素原子
のアルキル基を表し;R3 はフェニル基を表し;R5 は
H、1ないし12個の炭素原子のアルキル基またはフェ
ニル基を表す請求項3に記載の化合物。 - 【請求項5】 式中、X、Y、X’およびY’はフェニ
ル基、または1ないし3個の、低級アルキル基もしくは
ハロゲン原子により置換されたフェニル基を表し;
R1 、R1 ’およびR1 ”は1ないし24個の炭素原子
の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基、5ないし12個の
炭素原子のシクロアルキル基;または7ないし15個の
炭素原子のフェニルアルキル基を表し;R2 および
R2 ’は2ないし24個の炭素原子の直鎖もしくは分枝
鎖のアルキル基、または1もしくは2個の−OR5 (式
中、R5 は水素原子、1ないし24個の炭素原子の直鎖
もしくは分枝鎖のアルキル基、またはフェニル基を表
す。)によって置換された上記アルキル基を表し;Lは
メチレン基;ベンジリデン基; 【化17】 である請求項2に記載の化合物。 - 【請求項6】 a.2−(2,4−ジヒドロキシ−5−
ヘキシルフェニル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチ
ルフェニル)−s−トリアジン; b.4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−2
−[5−ヘキシル−2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロ
キシ−3−フェノキシプロポキシ)フェニル]−s−ト
リアジン; c.4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−2
−[4−(3−ドデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポ
キシ)−5−ヘキシル−2−ヒドロキシフェニル]−s
−トリアジン; d.2−(2,4−ジヒドロキシ−5−エチルフェニ
ル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−
s−トリアジン; e.2−[2,4−ジヒドロキシ−5−(1,1−ジメ
チルエチル)フェニル]−4,6−ビス−(2,4−ジ
メチルフェニル)−s−トリアジン; f.2−[2,4−ジヒドロキシ−5−(1−メチル−
1−フェニルエチル)フェニル]−4,6−ビス−
(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン; g.4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−2
−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ノニ
ルオキシプロポキシ)−5−(1−メチル−1−フェニ
ルエチル)フェニル]−s−トリアジン; h.4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−2
−[4−ヘキシルオキシ−2−ヒドロキシ−5−(1−
メチル−1−フェニルエチル)フェニル]−s−トリア
ジン; i.2−[2,4−ジヒドロキシ−5−(1−メチル−
1−フェニルエチル)フェニル]−4,6−ビス−フェ
ニル−s−トリアジン; j.2−[2−ヒドロキシ−5−(1−メチル−1−フ
ェニルエチル)−4−オクチルオキシフェニル]−4,
6−ビス−フェニル−s−トリアジン; k.2−(5−クロロ−2,4−ジヒドロキシフェニ
ル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−
s−トリアジン; l.2−(2,4−ジヒドロキシ−5−プロピオニルフ
ェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)
−s−トリアジン; m.2−[2,4−ジヒドロキシ−5−(1−イソブチ
ルイミノ)プロピルフェニル]−4,6−ビス(2,4
−ジメチルフェニル)−s−トリアジン n.2−[2,4−ジヒドロキシ−5−(1−イソブチ
ルアミノ)プロピルフェニル]−4,6−ビス−(2,
4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン; o.4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−2
−[2,4−ジヒドロキシ−5−(1−ヒドロキシプロ
ピル)フェニル]−s−トリアジン; p.2−(5−ベンゾイル−2,4−ジヒドロキシフェ
ニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−
s−トリアジン; q.4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−2
−[2,4−ジヒドロキシ−5−(α−ヒドロキシベン
ジル)フェニル]−s−トリアジン; r.2−(2,4−ジヒドロキシ−5−フェニルチオフ
ェニル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニ
ル)−s−トリアジン; s.2−(2,4−ジヒドロキシ−5−フェニルスルフ
ィニルフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフ
ェニル)−s−トリアジン; t.2−(2,4−ジヒドロキシ−5−フェニルスルホ
ニルフェニル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフ
ェニル)−s−トリアジン; u.2−(5−クロロ−2,4−ジヒドロキシフェニ
ル)−4,6−ジフェニル−s−トリアジン; v.4,6−ジフェニル−2−(5−クロロ−4−ヘキ
シルオキシ−2−ヒドロキシフェニル)−s−トリアジ
ン; w.4,6−ジフェニル−2−(5−ヘキシル−4−メ
トキシ−2−ヒドロキシフェニル)−s−トリアジン; x.2−[4−(3−ブチルオキシ−2−ヒドロキシプ
ロポキシ)−5−ヘキシル−2−ヒドロキシフェニル]
−4,6−ジフェニル−s−トリアジン; y.2−(2,4−ジヒドロキシ−5−ヘキシルフェニ
ル)−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−s−トリ
アジン; z.4,6−ビス(4−メチルフェニル)−2−(5−
ヘキシル−4−ヘキシルオキシ−2−ヒドロキシフェニ
ル)−s−トリアジン; aa.2−[4−(3−ブチルオキシ−2−ヒドロキシプ
ロポキシ)−5−ヘキシル−2−ヒドロキシフェニル]
−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−s−トリアジ
ン; bb.2−[4−(3−ブチルオキシ−2−ヒドロキシプ
ロポキシ)−5−ヘキシル−2−ヒドロキシフェニル]
−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−s−ト
リアジン; cc.2,4−ビス(2,4−ジヒドロキシ−5−ヘキシ
ルフェニル)−6−フェニル−s−トリアジン; dd.2,4−ビス[4−(3−ブチルオキシ−2−ヒド
ロキシプロポキシ)−5−ヘキシル−2−ヒドロキシフ
ェニル]−6−フェニル−s−トリアジン; ee.2,4−ビス(5−ヘキシル−4−ヘキシルオキシ
−2−ヒドロキシフェニル)−6−フェニル−s−トリ
アジン; ff. 2−[2,4−ジヒドロキシ−5−(1−プロペニ
ル)フェニル]−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフ
ェニル)−s−トリアジン; gg. 2−(2,4−ジヒドロキシ−5−ヘキシルフェニ
ル)−4,6−ジフェニル−s−トリアジン; hh. 4,6−ジフェニル−2−(5−ヘキシル−4−ヘ
キシルオキシ−2−ヒドロキシフェニル)−s−トリア
ジン; ii. 4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−2−
(5−ヘキシル−4−ヘキシルオキシ−2−ヒドロキシ
フェニル)−s−トリアジン; jj. 2−[5−ヘキシル−2−ヒドロキシ−4−(2−
ヒドロキシ−3−ノニルオキシプロポキシ)フェニル]
−4,6−ビス−フェニル−s−トリアジン; kk. 4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−2−
[2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシ−5−(1−メ
チル−1−フェニルエチル)フェニル]−s−トリアジ
ン; ll. 1,3−ビス{1−[2,4−ジヒドロキシ−5−
(3,5−ビス(2,4−ジメチルフェニル−s−トリ
アジニル))フェニル]−1−メチルエチル}ベンゼ
ン; mm. 5:4:1の割合で3:5,5:5および3:3位
で架橋されたメチレン−ビス−2−(2−ヒドロキシ−
4−オクチルオキシフェニル)−4,6−(2,4−ジ
メチルフェニル)−s−トリアジンの混合物;あるいは nn. 1:1の割合で3:5および5:5位で架橋された
ベンジリデン−ビス−2−(2−ヒドロキシ−4−オク
チルオキシフェニル)−4,6−(2,4−ジメチルフ
ェニル)−s−トリアジンの混合物である、請求項1に
記載の化合物。 - 【請求項7】 式I 【化18】 (式中、R1 が4ないし24個の炭素原子の直鎖もしく
は分枝鎖のアルキル基、5ないし12個の炭素原子のシ
クロアルキル基または8ないし15個の炭素原子のフェ
ニルアルキル基を表し;R2 が水素原子を表しおよびX
およびYは同じかまたは異なってフェニル基、または1
ないし3個の低級アルキルによってもしくは1ないし3
個の塩素基によって置換されたフェニル基を表す。)で
表される化合物の製造方法であって、式Ia 【化19】 (式中、R2 、XおよびYは上記で定義した意味を表
す。)で表される化合物と、4ないし24個の炭素原子
のアルケン、5ないし12個の炭素原子のシクロアルケ
ンまたは8ないし15個の炭素原子のフェニルアルケン
の、式Iaの化合物の量に比べて2ないし10倍過剰当
量とを、フリーデル−クラフツアルキル化触媒の触媒量
の存在下、110℃ないし250℃の温度で反応させる
ことからなる方法。 - 【請求項8】 触媒が塩化アルミニウム、p−トルエン
スルホン酸、メタンスルホン酸、水素化ジイソブチルア
ルミニウムまたはアルミニウムイソプロポキシドである
請求項7に記載の方法。 - 【請求項9】 触媒がアルミニウムイソプロポキシドで
ある請求項8に記載の方法。 - 【請求項10】 (a)化学線に曝露したときに分解し
やすい有機材料および(b)請求項1に記載の式A)ま
たはB)で表される化合物の安定化有効量を含む、化学
線の有害な作用に対して安定化された組成物。 - 【請求項11】 成分(a)の有機材料がポリマーであ
る請求項10に記載の組成物。 - 【請求項12】 組成物の0.01ないし20重量%の
量で成分(b)の安定剤を含む請求項10に記載の組成
物。 - 【請求項13】 ポリマーがハイソリッド熱硬化性アク
リル/メラミン樹脂またはアクリルウレタン樹脂である
請求項10に記載の組成物。 - 【請求項14】 組成物が、(a)金属基材に密着して
いるエレクトロコートプライマー(electro coat prime
r)、(b)エレクトロコートに密着しており、およびフ
ィルム形成結合剤および有機顔料もしくは無機顔料また
はその混合物とを含むベースコートもしくはカラーコー
ト、(c)ベースコートに密着しており、フィルム形成
結合剤を含むクリアコート、ならびに(d)ベースコー
トもしくはクリアコート、またはベースコートおよびク
リアコートの両方に含まれる、トリス−アリール−s−
トリアジン紫外線吸収剤の少なくとも1種の安定化有効
量を含むポリマーフィルム組成物である請求項10に記
載の組成物。 - 【請求項15】 成分(d)がフィルム形成結合剤の1
ないし20重量%にある請求項14に記載の組成物。 - 【請求項16】 成分(d)がベースコート中に混合さ
れる請求項14に記載の組成物。 - 【請求項17】 2−ヒドロキシフェニル−2H−ベン
ゾトリアゾール;他のトリス−アリール−s−トリアジ
ン;もしくは障害性アミン(hindered amine)光安定剤ま
たはそれらの混合物の少なくとも1種の安定化有効量を
さらに含む請求項14に記載の組成物。 - 【請求項18】 フィルム形成結合剤がハイソリッド熱
硬化性アクリル/メラミン樹脂またはアクリルウレタン
樹脂である請求項14に記載の組成物。 - 【請求項19】 光、酸素および/または熱による分解
に対して有機ポリマーを保護するための安定剤としての
請求項1に記載の式A)またはB)の化合物の使用方
法。 - 【請求項20】 光、酸素および/または熱による分解
に対して有機ポリマーを保護する方法であって、上記材
料に式A)またはB)の化合物の少なくとも1種を混合
することからなる方法。 - 【請求項21】 有機ポリマーが表面塗料組成物のため
の結合剤である請求項20に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/281,381 | 1994-07-27 | ||
US08/281,381 US5556973A (en) | 1994-07-27 | 1994-07-27 | Red-shifted tris-aryl-s-triazines and compositions stabilized therewith |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0853427A true JPH0853427A (ja) | 1996-02-27 |
JP3965603B2 JP3965603B2 (ja) | 2007-08-29 |
Family
ID=23077052
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21108895A Expired - Fee Related JP3965603B2 (ja) | 1994-07-27 | 1995-07-27 | 赤色側にシフトされたトリス−アリール−s−トリアジンおよびそれらにより安定化された組成物 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (7) | US5556973A (ja) |
EP (1) | EP0704437B1 (ja) |
JP (1) | JP3965603B2 (ja) |
KR (1) | KR100346064B1 (ja) |
AT (1) | ATE224880T1 (ja) |
BR (1) | BR9503460A (ja) |
CA (1) | CA2154626A1 (ja) |
CZ (1) | CZ192595A3 (ja) |
DE (1) | DE69528331T2 (ja) |
ES (1) | ES2181760T3 (ja) |
SK (1) | SK283404B6 (ja) |
TW (1) | TW308602B (ja) |
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- 1995-06-02 US US08/463,573 patent/US5648488A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-02 US US08/463,569 patent/US5675004A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-02 US US08/463,572 patent/US5637706A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-07-18 EP EP95810471A patent/EP0704437B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-07-18 DE DE69528331T patent/DE69528331T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-07-18 ES ES95810471T patent/ES2181760T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-07-18 AT AT95810471T patent/ATE224880T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-07-21 KR KR1019950021471A patent/KR100346064B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1995-07-25 SK SK935-95A patent/SK283404B6/sk unknown
- 1995-07-25 CA CA002154626A patent/CA2154626A1/en not_active Abandoned
- 1995-07-25 CZ CZ951925A patent/CZ192595A3/cs unknown
- 1995-07-26 BR BR9503460A patent/BR9503460A/pt not_active Application Discontinuation
- 1995-07-27 JP JP21108895A patent/JP3965603B2/ja not_active Expired - Fee Related
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ES2181760T3 (es) | 2003-03-01 |
EP0704437A2 (en) | 1996-04-03 |
SK93595A3 (en) | 1996-02-07 |
DE69528331D1 (de) | 2002-10-31 |
US5648488A (en) | 1997-07-15 |
SK283404B6 (sk) | 2003-07-01 |
JP3965603B2 (ja) | 2007-08-29 |
DE69528331T2 (de) | 2003-05-15 |
CA2154626A1 (en) | 1996-01-28 |
CZ192595A3 (en) | 1996-02-14 |
US5543518A (en) | 1996-08-06 |
US5681955A (en) | 1997-10-28 |
US5556973A (en) | 1996-09-17 |
KR960004328A (ko) | 1996-02-23 |
EP0704437B1 (en) | 2002-09-25 |
US5675004A (en) | 1997-10-07 |
US5684070A (en) | 1997-11-04 |
KR100346064B1 (ko) | 2002-11-16 |
TW308602B (ja) | 1997-06-21 |
EP0704437A3 (en) | 1996-10-23 |
ATE224880T1 (de) | 2002-10-15 |
BR9503460A (pt) | 1996-02-27 |
US5637706A (en) | 1997-06-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060823 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20061122 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20061128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070223 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20070223 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070509 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070517 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |