JPH08509517A - テトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ポリイミド - Google Patents
テトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ポリイミドInfo
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Abstract
(57)【要約】
ポリマーのテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジイミドI:
[式中、R1は、シアノ、ニトロ、ハロゲン、C1〜C18−アルコキシ、C5〜C7−シクロアルキル及び/又はC1〜C18−アルキルにより置換されていてよく、各々C原子24個までを含有してよい、同一又は異なるアリール基;R2は、その炭素鎖がエーテル官能基中の酸素原子又はフェニレン−又はシクロヘキシレン基により中断されていてよい、C2〜C30−アルキレン基又は場合によりC1〜C10−アルキレン又は酸素により架橋されているC6〜C30−アリレン−又はシクロヘキシレン基;nは、2〜100]、その製法及びその使用並びにその中間生成物としてのテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジアンヒドリド。
Description
【発明の詳細な説明】
テトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ポリイミド
本発明は、一般式I:
[式中、変数は下記のものを表わす:
R1は、シアノ、ニトロ、ハロゲン、C1〜C18−アルコキシ、C5〜C7−シクロ
アルキル及び/又はC1〜C18−アルキルにより置換されていてよく、各々C原
子24個までを含有してよい、同一又は異なるアリール基;
R2は、その炭素鎖がエーテル官能基中の酸素原子又はフェニレン−又はシクロ
ヘキシレン基により中断されていてよい、C2〜C30−アルキレン基又は場合に
よりC1〜C10−アルキレン又は酸素により架橋されているC6〜C30−アリレン
−又はシクロヘキシレン基;
nは、2〜100]の新規テトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラ
カルボン酸ポリイミド並びにこのポリイミドの製造及びこれをカラーレーザー(
Farbstofflaser)、集光系(Lichtsammelsyste
m)、印刷インキ及び塗料中での使用及びプラスチックの着色のための使用に関
する。
更に、本発明は、ポリイミドI製造用の中間生成物としての一般式III:
の新規テトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジアンヒ
ドリド及び相応するテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボ
ン酸(IIa)に関する。
蛍光染料に関しては公知の多様な使用可能性がある;例えば集光系における光
の面濃縮用に、カラーレーザー及び昼光蛍光染料の製造用に、並びに一般的に印
刷インキ、塗料及びポリマーの着色用に使用される。
このために、染料は、特に集光系に関しては高度で
ある、一連の特性を有すべきである。これは高い蛍光、広い吸収範囲、使用媒体
中における吸収帯及び発光帯の良好な分離、高い耐光堅牢度及び良好な溶解性を
有し、同時に使用媒体中におけるミグレーション傾向が僅かでなければならない
。
これらの要求を同時に満たすことは難しい。このことは、欧州特許(EP−A
)第227980号明細書に記載されている、多置換されたモノマーのペリレン
−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジイミドを基礎とする蛍光染料にも当て
はまり、これはそのミグレーション安定性に関して部分的に十分ではない。
本発明は、所望の特性プロフィールに特に近い蛍光染料を提供することである
。
これに応じて、最初に記載したテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−
テトラカルボン酸ポリイミドIを見出した。
更に、ポリイミドIの製法を見出したが、これは、
a)一般式II:
[式中、基R3は、その炭素鎖がエーテル官能基中の
酸素原子1〜10個により中断されていてよいC1〜C30−アルキル基、各々C1
〜C4−アルキル基2個までにより置換されていてよいC5〜C7−シクロアルキ
ル−又はフェニル基を表わす]のテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−
テトラカルボン酸ジイミドを、極性のプロトン性溶剤中で、塩基で処理し、
b)工程a)で得られた一般式III:
のテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジアンヒドリ
ドと、一般式IV:
H2N−R2−NH2 IV
のジアミンとを極性溶剤の存在で、先ず酸性触媒下で、次いで塩基性触媒下で、
170〜200℃で重縮合させることを特徴とする。
更に、ポリイミドIをカラーレーザー及び集光系を製造するために及び印刷イ
ンキ、塗料及びプラスチックを着色するために使用することを見出した。
当然ポリイミドIの製造用の中間生成物としてのテトラアロキシペリレン−3
,4,9,10−テトラカルボン酸ジアンヒドリドIII及び相応するテトラア
ロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸(IIIa)を見出した
。
その際、好適な基R1は、アリール基、例えばナフチル、アンスリル及び特に
はフェニルである。アリール基は、シアノ、ニトロ、ハロゲン、特に塩素、C1
〜C18−アルコキシ、C5〜C7−シクロアルキル、特にシクロヘキシル、及び/
又はC1〜C18−アルキルにより置換されていてもよく、各々一般にC−原子2
4個までを有する。基R1は同一又は異なるものであってよいが、有利には同一
である。
置換基として好適なC1〜C18−アルコキシ−及びアルキル基の例は下記のも
のである:
−メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ
、s−ブトキシ、t−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペ
ンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、2−エチル
ヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオ
キシ、トリデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデ
シルオキシ、ヘプタデシルオキシ及びオクタデシルオキシ並びにこの種のその他
の分枝基;
−メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル
、t−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、t−ペンチル、ヘキシ
ル、
2−メチルペンチル、ヘプチル、オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、デシ
ル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサ
デシル、ヘプタデシル及びオクタデシル並びに他のこの種の分枝基。
有利な置換されたアリール基の例は、4−t−ブチルフェニル、2−シクロヘ
キシル−4−メチルフェニル、2−及び4−シクロヘキシルフェニル、4−ヘキ
シルオキシフェニル、2−フェニルフェニル、4−シアノフェニル−o−ニトロ
フェニル、ベンジルフェニル及び2−ベンジル−4−クロルフェニルである。
基R2には有利には脂肪族、脂環式又は芳香族基が該当する。
好適なアルキレン基は一般に、C原子2〜30個、有利には3〜10個を含有
する。例えば下記のものが挙げられる:エチレン、1,2−及び1,3−プロピ
レン、1,2−、1,3−、1,4−及び2,3−ブチレン、1,2−、1,3
−、1,4−、1,5−、2,3−及び2,4−ペンチレン、ヘキサメチレン、
ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメチレン及びデカメチレン並びにこの種
のその他の分枝基。
付加的にこれらの基の炭素鎖は、なお、エーテル官能基中の酸素原子1〜10
個又はフェニレン又はシクロヘキシレンにより中断されていてよい。例えば下記
のものが挙げられる(ここで、Ph=フェニレン、C6
H4=シクロヘキシレン);
-(CH2)2-O-(CH2)2-,-[(CH2)2-O]2-(CH2)2-,-[(CH2)2-O]3-(CH2)2-,
-(CH2)3-O-(CH2)4-O-(CH2)3-,-(CH2)3-O-[(CH2)2-O]2-(CH2)3-,
-CH2-Ph-CH2-及び-CH2-C6H4-CH2-.
好適な環式基R2は特にシクロヘキシレン及びフェニレンであるが、ナフチレ
ンでもよい。特にアリーレン−又はシクロヘキシレン基2個が酸素又はC1〜C1 0
−アルキレンを介して架橋していてもよい。この原子団の例は下記のものであ
る(ここで、n=1〜10である):
最後に変数nは、ポリイミドI中に含有されるペリレンジイミド単位の数に関
する平均値を表わし、一般に2〜100、有利には10〜50、特に有利には2
0〜40である。
本発明によるポリイミドIは全体として優れた特性により卓越している:この
ポリイミドは高い耐光堅牢度、高い熱安定性、高い蛍光及び広い吸収範囲を有す
る。これはその分子量にも拘らず、溶解性が非常に良好であり、同時にその都度
の使用媒体中で非常に僅かなミグレーション傾向を示すにすぎない。更に容易に
フィルム形成性であり、ガラス又はプラスチック上に均一なフィルムとして塗布
できる。
ポリイミドIの本発明による製法は二段工程で、中間生成物としての新規テト
ラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジアンヒドリドII
I又は相応する酸(IIIa)を経て行われる。
工程a)で行われる無水物IIIの合成で、遊離体として、前記に定義したテ
トラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジイミドIIを使
用する。
その際、イミド窒素原子の所の好適な基R3は、C1〜C30−アルキル基、有利
には、例えばR1で記載したようなC1〜C18−アルキル基、C5〜C7−シクロア
ルキル基、特にシクロヘキシル基及びフェニル基である。
アルキル基の炭素鎖は、エーテル官能基中の酸素原子1〜10個により中断さ
れていてよい。この例は下記のものである:2−メトキシ−、2−エトキシ−、
2−プロポキシ−、2−イソプロポキシ−及び2−ブ
トキシエチル−、2−及び3−メトキシプロピル、2−及び3−エトキシプロピ
ル、2−及び4−エトキシブチル、2−及び4−イソプロポキシブチル、5−エ
トキシペンチル、6−メトキシヘキシル、4−オキサ−6−エチルデシル、3,
6−ジオキサヘプチル、3,6−ジオキサオクチル、3,6−ジオキサデシル、
3,6,9−トリオキサデシル及び3,6,8−トリオキサウンデシル。
シクロアルキル一及びフェニル基は、同じく前記したように、C1〜C4−アル
キル基2個までにより置換されていてもよい。
ペリルイミドIIは、欧州特許(EP−A)第227980号明細書から公知
であり、そこに記載されているように、テトラクロルペリルイミドと相応するア
リレートとの反応により製造することができる。
本発明による方法の工程a)で、ペリルイミドIIを塩基の作用により、極性
の、非プロトン性溶剤中で相応する無水物IIIに変える。酸(IIIa)自体
は安定ではなく、実際直ちに無水物に変わる。
その際、塩基としては、特に無機塩基、例えば水酸化ナトリウム及び水酸化カ
リウムが好適である。
この種の反応のために、一般に塩基を過剰に、即ち一般に10ミリモル当り1
〜10モルの量で使用する。
極性のプロトン性溶剤としては、特にC1〜C10−
アルコール、例えばプロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、n−ヘ
キサノール、n−デカノール、有利にはt−ブタノールが挙げられる。生成物の
分離を容易にするために、なお僅かな量の水、一般にはII1ミリモル当り0.
1〜0.4モルを添加するのが有利である。
溶剤の量もそれ自体絶対的なものではない。一般的な量は、II1ミリモル当
り0.5〜1.2モルである。
有利には、本発明による方法の工程a)で、ペリレンジアミドII、塩基及び
溶剤から成る混合物を数時間、一般に10〜48時間、還流下で、即ち約80〜
140℃に加熱するように行う。次いで室温に冷却後、有機相を分離することが
できる。無水物IIIの単離は、常法で酸を用いて沈澱し、濾別し、洗浄し、乾
燥させることによって実施することができる。
本発明による方法の工程b)で、工程a)で得られた無水物II及びジアミン
IVを重合させる。
この重縮合は有利には極性溶剤の存在で、先ず酸性の、次いで塩基性の触媒下
で実施する。
極性溶剤としては、ポリイミドの製造で使用した溶剤が好適である。有利な例
としては、クレゾール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メ
チルピリドン、1,3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−
2−オンが挙げられる。溶
剤は一般にジアミンIV10ミリモル当り0.8〜2モル、有利には約1モルの
量で使用する。
酸性触媒としては、例えば安息香酸が有利である。一般にIII1モル当り触
媒2〜4モル、有利には2モルを使用する。特に好適な塩基性触媒は、例えばキ
ノリン及びイソキノリンであり、これらを一般に同じくIII1モル当り約2〜
4モル、有利には2モルの量で使用する。
反応温度は一般に170〜200℃である。
重縮合の際に、ジアミンIV、溶剤、無水物III及び酸性触媒から成る混合
物を、先ず約8〜12時間、塩基性触媒の添加後に一般に更に15〜24時間、
反応温度に加熱するようにして行うのが有利である。室温まで冷却後、ポリイミ
ドIをクロロホルム中に溶解させることによって反応混合物から分離し、メタノ
ールの添加により再び沈澱させることができる。
本発明による方法は、得られるポリイミドIの良好な収率及高い純度により卓
越している。
ポリイミドIは、特に欧州特許(EP−A)第227980号明細書又は西ド
イツ特許(DE−A)第3413418号明細書及びそれぞれ記載の文献中に記
載されている、蛍光染料用に常用の使用目的、例えば集光系及びカラーレーザー
の製造に好適である。更にこのポリイミドは印刷インキ、塗料、特に昼光蛍光顔
料及びプラスチックの着色用に使用することができる。
例
ポリマーのテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジア
ミドI′の製造
a)テトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジアンヒド
リドIII′の製造
ペリルイミドII:
0.74ミリモル、水酸化カリウム6.0g、t−ブ
タノール60ml及び水3mlから成る混合物を撹拌下で25時間還流加熱した
。室温に冷却後、液体の有機相を分離し、同容量の2N塩酸を加えた。
8時間後沈澱を濾別し、水で洗浄して中性にし、真空中で100℃で乾燥させ
た。更に精製するために、生成物を再び5重量%のエタノール性水酸化ナトリウ
ム溶液中に溶解させ、2N塩酸の添加により再び沈澱させた。
この方法及びその結果の詳細を第1表に記載する。
b)ポリマーのテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸
ジイミドI′の製造
m−クレゾール3ml中に溶解させたジアミンIV′
H2N−R−NH2 IV′
0.3ミリモル、無水物III′0.3ミリモル及び安息香酸0.6ミリモルか
ら成る混合物を、撹拌及びアルゴンの導入下で190℃に加熱し、9時間この温
度に保った。m−クレゾール0.3ml中に溶解させたイソキノリン0.6ミリ
モルの添加後、重縮合を引き続き19時間190℃で続けた。
次いで粘性反応物質を室温に冷却し、クロロホルムを添加した。得られたポリ
マー溶液を濾過し、濃縮し、ポリイミドI′をメタノールの添加により沈澱させ
、再結晶させ、常圧でG4−ガラスフィルターで濾過した。
得られたポリイミドI′は全て1700cm-1での6員環の芳香族イミド及び
1660cm-1での2個の芳香族環と結合したカルボニル基に関する特徴的振動
を示し、空気及び窒素下で350℃まで熱に安定であった。
この試験及び結果に関する詳細を第2表及び第3表にまとめる。
【手続補正書】特許法第184条の8
【提出日】1995年3月31日
【補正内容】
更に、本発明は、ポリイミドI製造用の中間生成物としての一般式III:
の新規テトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジアンヒ
ドリド及び相応するテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボ
ン酸(IIa)に関する。
蛍光染料に関しては公知の多様な使用可能性がある;例えば集光系における光
の面濃縮用に、カラーレーザー及び昼光蛍光染料の製造用に、並びに一般的に印
刷インキ、塗料及びポリマーの着色用に使用される。
このために、この染料は、特に集光系に関しては高度である、一連の特性を有
すべきである。これは高い蛍光、広い吸収範囲、使用媒体中における吸収帯及び
発光帯の良好な分離、高い耐光堅牢度及び良好な溶解性を有し、同時に使用媒体
中におけるミグレーション傾向が僅かでなければならない。
これらの要求を同時に満たすことは難しい。このことは、欧州特許(EP−A
)第227980号明細書及び特開平4−53894号公報に記載されている、
多置換されたモノマーのペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジイミ
ドを基礎とする蛍光染料にも当てはまり、これはそのミグレーション安定性に関
して部分的に十分ではない。
特開昭63−110219号及び欧州特許第445577号明細書から、非置
換のペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸イミドが公知であるが、こ
れは、蛍光染料としては使用されない。
本発明は、所望の特性プロフィールに特に近い蛍光染料を提供することである
。
これに応じて、最初に記載したテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−
テトラカルボン酸ポリイミドIを見出した。
更に、ポリイミドIの製法を見出したが、これは、
a)一般式II:
[式中、基R3は、その炭素鎖がエーテル官能基中の酸素原子1〜10個により
中断されていてよいC1〜C30−アルキル基、各々C1〜C4−アルキル基2個ま
でにより置換されていてよいC5〜C7−シクロアルキ
ル−又はフェニル基を表わす]のテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−
テトラカルボン酸ジイミドを、極性のプロトン性溶剤中で、塩基で処理し、
b)工程a)で得られた一般式III:
のテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジアンヒドリ
ドと、一般式IV:
H2N−R2−NH2 IV
のジアミンとを極性溶剤の存在で、先ず酸性触媒下で、次いで塩基性触媒下で、
170〜200℃で重縮合させることを特徴とする。
更に、ポリイミドIをカラーレーザー及び集光系を製造するために及び印刷イ
ンキ、塗料及びプラスチックを着色するために使用することを見出した。
当然ポリイミドIの製造用の中間生成物としてのテトラアロキシペリレン−3
,4,9,10−テトラカルボン酸ジアンヒドリドIII及び相応するテトラア
ロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸(IIIa)を見出した
。
その際、好適な基R1は、アリール基、例えばナフ
チル、アンスリル及び特にはフェニルである。アリール基は、シアノ、ニトロ、
ハロゲン、特に塩素、C1〜C18−アルコキシ、C5〜C7−シクロアルキル、特
にシクロヘキシル、及び/又はC1〜C18−アルキルにより置換されていてもよ
く、各々一般にC−原子24個までを有する。基R1は同一又は異なるものであ
ってよいが、有利には同一である。
置換基として好適なC1〜C18−アルコキシ−及びアルキル基の例は下記のも
のである:
−メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ
、s−ブトキシ、t−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペ
ンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、2−エチル
ヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオ
キシ、トリデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデ
シルオキシ、ヘプタデシルオキシ及びオクタデシルオキシ並びにこの種のその他
の分枝基;
−メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル
、t−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、t−ペンチル、ヘキシ
ル、2−メチルペンチル、ヘプチル、オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、
デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘ
キサデ
シル、ヘプタデシル及びオクタデシル並びに他のこの種の分枝基。
有利な置換されたアリール基の例は、4−t−ブチルフェニル、2−シクロヘ
キシル−4−メチルフェニル、2−及び4−シクロヘキシルフェニル、4−ヘキ
シルオキシフェニル、2−フェニルフェニル、4−シアノフェニル−o−ニトロ
フェニル、ベンジルフェニル及び2−ベンジル−4−クロルフェニルである。
基R2には有利には脂肪族、脂環式又は芳香族基が該当する。
好適なアルキレン基は一般に、C原子2〜30個、有利には3〜10個を含有
する。例えば下記のものが挙げられる:エチレン、1,2−及び1,3−プロピ
レン、1,2−、1,3−、1,4−及び2,3−ブチレン、1,2−、1,3
−、1,4−、1,5−、2,3−及び2,4−ペンチレン、ヘキサメチレン、
ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメチレン及びデカメチレン並びにこの種
のその他の分枝基。
付加的にこれらの基の炭素鎖は、なお、エーテル官能基中の酸素原子1〜10
個又はフェニレン又はシクロヘキシレンにより中断されていてよい。例えば下記
のものが挙げられる(ここで、Ph=フェニレン、C6H4=シクロヘキシレン)
;
-(CH2)2-O-(CH2)2-,-[(CH2)2-O]2-(CH2)2-,-[(CH2)2-O]3-(CH2)2-,
-(CH2)3-O-(CH2)4-O-(CH2)3-,-(CH2)3-O-[(CH2)2-O]2-(CH2)3-,
-CH2-Ph-CH2-及び-CH2-C6H4-CH2-.
好適な環式基R2は特にシクロヘキシレン及びフェニレンであるが、ナフチレ
ンでもよい。特にアリーレン−又はシクロヘキシレン基2個が酸素又はC1〜C1 0
−アルキレンを介して架橋していてもよい。この原子団の例は下記のものであ
る(ここで、n=1〜10である):
最後に変数nは、ポリイミドI中に含有されるペリレンジイミド単位の数に関
する平均値を表わし、一般に2〜100、有利には10〜50、特に有利には2
0〜40である。
本発明によるポリイミドIは全体として優れた特性により卓越している:この
ポリイミドは高い耐光堅牢度、高い熱安定性、高い蛍光及び広い吸収範囲を有す
る。これはその分子量にも拘らず、溶解性が非常に良好であり、同時にその都度
の使用媒体中で非常に僅かなミグレーション傾向を示すにすぎない。更に容易に
フィルム形成性であり、ガラス又はプラスチック上に均一なフィルムとして塗布
できる。
ポリイミドIの本発明による製法は二段工程で、中間生成物としての新規テト
ラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジアンヒドリドII
I又は相応する酸(IIIa)を経て行われる。
工程a)で行われる無水物IIIの合成で、遊離体として、前記に定義したテ
トラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジイミドIIを使
用する。
その際、イミド窒素原子の所の好適な基R3は、C1〜C30−アルキル基、有利
には、例えばR1で記載したようなC1〜C18−アルキル基、C5〜C7−シクロア
ルキル基、特にシクロヘキシル基及びフェニル基である。
アルキル基の炭素鎖は、エーテル官能基中の酸素原子1〜10個により中断さ
れていてよい。この例は下記のものである:2−メトキシ−、2−エトキシ−、
2−プロポキシ−、2−イソプロポキシ−及び2−ブトキシエチル−、2−及び
3−メトキシプロピル、2−及び3−エトキシプロピル、2−及び4−エトキシ
ブチル、2−及び4−イソプロポキシブチル、5−エ
トキシペンチル、6−メトキシヘキシル、4−オキサ−6−エチルデシル、3,
6−ジオキサヘプチル、3,6−ジオキサオクチル、3,6−ジオキサデシル、
3,6,9−トリオキサデシル及び3,6,8−トリオキサウンデシル。
シクロアルキル−及びフェニル基は、同じく前記したように、C1〜C4−アル
キル基2個までにより置換されていてもよい。
ペリルイミドIIは、欧州特許(EP−A)第227980号明細書から公知
であり、そこに記載されているように、テトラクロルペリルイミドと相応するア
リレートとの反応により製造することができる。
本発明による方法の工程a)で、ペリルイミドIIを塩基の作用により、極性
の、非プロトン性溶剤中で相応する無水物IIIに変える。酸(IIIa)自体
は安定ではなく、実際直ちに無水物に変わる。
その際、塩基としては、特に無機塩基、例えば水酸化ナトリウム及び水酸化カ
リウムが好適である。
この種の反応のために、一般に塩基を過剰に、即ち一般に10ミリモル当り1
〜10モルの量で使用する。
極性のプロトン性溶剤としては、特にC1〜C10−アルカノール、例えばプロ
パノール、イソプロパノール、n−ブタノール、n−ヘキサノール、n−デカノ
ール、有利にはt−ブタノールが挙げられる。生成物の分離を容易にするために
、なお僅かな量の水、一般
にはII1ミリモル当り0.1〜0.4モルを添加するのが有利である。
溶剤の量もそれ自体絶対的なものではない。一般的な量は、II1ミリモル当
り0.5〜1.2モルである。
有利には、本発明による方法の工程a)で、ペリレンジアミドII、塩基及び
溶剤から成る混合物を数時間、一般に10〜48時間、還流下で、即ち約80〜
140℃に加熱するように行う。次いで室温に冷却後、有機相を分離することが
できる。無水物IIIの単離は、常法で酸を用いて沈澱し、濾別し、洗浄し、乾
燥させることによって実施することができる。
本発明による方法の工程b)で、工程a)で得られた無水物II及びジアミン
IVを重合させる。
この重縮合は、有利には極性溶剤の存在で、先ず酸性の、次いで塩基性の触媒
下で実施する。
極性溶剤としては、ポリイミドの製造で使用した溶剤が好適である。有利な例
としては、クレゾール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メ
チルピリドン、1,3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−
2−オンが挙げられる。溶剤は一般にジアミンIV10ミリモル当り0.8〜2
モル、有利には約1モルの量で使用する。
酸性触媒としては、例えば安息香酸が有利である。一般にIII1モル当り触
媒2〜4モル、有利には2
モルを使用する。特に好適な塩基性触媒は、例えばキノリン及びイソキノリンで
あり、これらを一般に同じくIII1モル当り約2〜4モル、有利には2モルの
量で使用する。
反応温度は一般に170〜200℃である。
重縮合の際に、ジアミンIV、溶剤、無水物III及び酸性触媒から成る混合
物を、先ず約8〜12時間、塩基性触媒の添加後に一般に更に15〜24時間、
反応温度に加熱するようにして行うのが有利である。室温まで冷却後、ポリイミ
ドIをクロロホルム中に溶解させることによって反応混合物から分離し、メタノ
ールの添加により再び沈澱させることができる。
本発明による方法は、得られるポリイミドIの良好な収率及高い純度により卓
越している。
ポリイミドIは、特に欧州特許(EP−A)第227980号明細書又は西ド
イツ特許(DE−A)第3413418号明細書及びそれぞれ記載の文献中に記
載されている、蛍光染料用に常用の使用目的、例えば集光系及びカラーレーザー
の製造に好適である。更にこのポリイミドは印刷インキ、塗料、特に昼光蛍光顔
料及びプラスチックの着色用に使用することができる。
b)ポリマーのテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸
ジイミドI’の製造
m−クレゾール3ml中に溶解させたジアミンIV’
H2N−R−NH2 IV’
0.3ミリモル、無水物III’0.3ミリモル及び安息香酸0.6ミリモルか
ら成る混合物を、撹拌及びアルゴンの導入下で190℃に加熱し、9時間この温
度に保った。m−クレゾール0.3ml中に溶解させたイソキノリン0.6ミリ
モルの添加後、重縮合を引き続き190℃で19時間続けた。
次いで、粘性反応物質を室温まで冷却し、クロロホルムを添加した。得られた
ポリマー溶液を濾過し、濃縮させ、ポリイミドI’をメタノールの添加により沈
澱させ、再結晶させ、常圧でG4−ガラスフィルターで濾過した。
得られたポリイミドI’は全て1700cm-1での6員環の芳香族イミド及び
1660cm-1での2個の芳香族環と結合したカルボニル基に関する特徴的振動
を示し、空気及び窒素下で350℃まで熱に安定であった。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 クラッパー, マルクス
ドイツ連邦共和国 D―65428 リュッセ
ルスハイム ダンツィンガーシュトラーセ
24
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.一般式I: [式中、変数は下記のものを表わす: R1は、シアノ、ニトロ、ハロゲン、C1〜C18−アルコキシ、C5〜C7−シク ロアルキル及び/又はC1〜C18−アルキルにより置換されていてよく、各々C 原子24個までを含有してよい、同一又は異なるアリール基; R2は、その炭素鎖がエーテル官能基中の酸素原子又はフェニレン−又はシク ロヘキシレン基により中断されていてよい、C2〜C30−アルキレン基又は場合 によりC1〜C10−アルキレン又は酸素により架橋されているC6〜C30−アリレ ン−又はシクロヘキシレン基; nは、2〜100]のテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカ ルボン酸ポリイミド。 2.請求項1に記載の式Iのテトラアロキシペリレン −3,4,9,10−テトラカルボン酸ポリイミドを製造するに当り、 a)一般式II: [式中、基R3は、その炭素鎖がエーテル官能基中の酸素原子1〜10個によ り中断されていてよいC1〜C30−アルキル基、各々C1〜C4−アルキル基2個 までにより置換されていてよいC5〜C7−シクロアルキル−又はフェニル基を表 わす]のテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジイミ ドを、極性のプロトン性溶剤中で、塩基で処理し、 b)工程a)で得られた一般式III: のテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テ トラカルボン酸ジアンヒドリドを、一般式IV: H2N−R2−NH2 IV のジアミンと極性溶剤の存在で、先ず酸性触媒下で、次いで塩基性触媒下で、 170〜200℃で重縮合させることを特徴とする、請求項1に記載の式Iのテ トラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ポリイミドの製法 。 3.請求項1に記載の式Iのテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テト ラカルボン酸ポリイミドをカラーレーザー及び集光系を製造するために、及び印 刷インキ、塗料及びプラスチックを着色するために使用すること。 4.式III: [式中、R1はシアノ、ニトロ、ハロゲン、C1〜C18−アルコキシ、C5〜C7 −シクロアルキル及び/又はC1〜C18−アルキルにより置換されていてよく、 各々C原子24個までを含有してよい、同一又は異なるアリール基を表わす]の テトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジア ンヒドリド及び相応するテトラアロキシペリレン−3,4,9,10−テトラカ ルボン酸(IIIa)。
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