JPH08503983A - フォトレジスト用底部反射防止塗料における金属イオンの低減 - Google Patents
フォトレジスト用底部反射防止塗料における金属イオンの低減Info
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- JPH08503983A JPH08503983A JP6513171A JP51317194A JPH08503983A JP H08503983 A JPH08503983 A JP H08503983A JP 6513171 A JP6513171 A JP 6513171A JP 51317194 A JP51317194 A JP 51317194A JP H08503983 A JPH08503983 A JP H08503983A
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. 下記を含んでなることを特徴とする、金属イオンの含有量が非常に低い 底部反射防止塗料の製造法。 a)酸性イオン交換樹脂を水で処理し、前記イオン交換樹脂を鉱酸溶液で洗浄し 、それによってイオン交換樹脂中のナトリウムおよび鉄イオンの量をそれぞれ5 00ppb未満に下げること、 b)適当な溶剤中2〜50重量%の、メチルビニルエーテルおよび無水マレイン 酸の共重合体と、分子量が約500〜約100,000である適当な染料の反応 生成物の溶液を用意すること、 c)前記溶液をイオン交換樹脂に通し、それによって溶液中のナトリウムおよび 鉄イオンの量をそれぞれ200ppb未満に下げること、および d)下記のものを混合することにより、底部反射防止塗料組成物を製造すること 。 (1)前記溶液および (2)適当な溶剤 2. 底部反射防止塗料組成物を製造する前に、前記溶液を酸性イオン交換樹 脂に通し、溶液中のナトリウムおよび鉄イオンの量をそれぞれ200ppb未満に 下げる、請求項1に記載の方法。 3. 最終的な底部反射防止塗料を製造する前に、 (1)前記反応生成物の前記溶液、 (2)適当な溶剤 の混合物を用意し、次いで前記混合物を酸性イオン交換樹脂に通し、それによっ て溶液中のナトリウムおよび鉄イオンの量をそれぞれ100ppb未満に下げ、前 記混合物に適当な溶剤を加え、それによって金属イオンの量が非常に低い底部反 射防止塗料を形成する、請求項2に記載の方法。 4. イオン交換樹脂中のナトリウムおよび鉄イオンの量をそれぞれ200pp b未満に下げる、請求項1に記載の方法。 5. イオン交換樹脂中のナトリウムおよび鉄イオンの量をそれぞれ100pp b未満に下げる、請求項4に記載の方法。 6. 底部反射防止塗料中のナトリウムおよび鉄イオンの量をそれぞれ100 ppb未満に下げる、請求項1に記載の方法。 7. 底部反射防止塗料中のナトリウムおよび鉄イオンの量をそれぞれ50pp b未満に下げる、請求項1に記載の方法。 8. イオン交換樹脂中のナトリウムおよび鉄イオンの量をそれぞれ100pp b未満に下げ、底部反射防止塗料中のナトリウムおよび鉄イオンの量をそれぞれ 50ppb未満に下げる、請求項1に記載の方法。 9. メチルビニルエーテルおよび無水マレイン酸の共重合体と、適当な染料 の反応生成物の溶液をイオン交換樹脂で処理する前に、イオン交換樹脂を、その イオン交換樹脂で処理すべき成分または成分の混合物用の溶剤と同じであるか、 または少なくとも相容性がある溶剤で処理する、請求項1に記載の方法。 10. イオン交換樹脂のナトリウムおよび鉄イオンの量がそれぞれ100pp b未満であり、得られる底部反射防止塗料のナトリウムおよび鉄イオンの量がそ れぞれ50ppb未満である、請求項1に記載の方法。 11. 下記を特徴とする、基材上に写真画像を形成することによる半導体デ バイスの製造法。 a)酸性イオン交換樹脂を水で処理し、前記イオン交換樹脂を鉱酸溶液で洗浄し 、それによってイオン交換樹脂中のナトリウムおよび鉄イオンの量をそれぞれ5 00ppb未満に下げること、 b)適当な溶剤中2〜50重量%の、メチルビニルエーテルおよび無水マレイン 酸の共重合体と、分子量が約500〜約100,000である適当な染料の反応 生成物の溶液を用意すること、 c)前記溶液をイオン交換樹脂に通し、それによって溶液中のナトリウムおよび 鉄イオンの量をそれぞれ200ppb未満に下げること、および d)(1)前記溶液および (2)適当な溶剤 を混合することにより、底部反射防止塗料組成物を製造すること、 e)1)フォトレジスト組成物を感光性にするのに十分な量の感光性成分、 2)本質的に均一なフォトレジスト組成物を形成するのに十分な量の、水に 不溶であり、アルカリ水溶液に可溶な被膜形成ノボラック樹脂、および 3)適当な溶剤 を混合することにより、フォトレジスト組成物を製造すること、 f)適当な基材を底部反射防止組成物で被覆すること、 g)適当な基材をフォトレジスト組成物で被覆すること、 j)被覆された基材を本質的にすべての溶剤が除去されるまで加熱処理し、フォ トレジスト組成物を像様露光し、その様な組成物の像様露光した区域を適当な現 像剤、例えば水性アルカリ現像剤、で除去すること。 12. 前記被覆された基材を、露光工程の後で、ただし除去工程の前に、約 90℃〜約150℃の温度に、ホットプレート上で約30秒間〜約180秒間、 あるいは加熱炉中で約15分間〜約40分間加熱する工程をさらに含む、請求項 11に記載の方法。 13. 前記被覆された基材を、除去工程の後で、約90℃〜約150℃の温 度で、ホットプレート上で約30秒間〜約180秒間、あるいは加熱炉中で約1 5分間〜約40分間加熱する工程をさらに含む、請求項11に記載の方法。 14. 前記基材が、シリコン、アルミニウム、重合体状樹脂、二酸化ケイ素 、ドーピングされた二酸化ケイ素、窒化ケイ素、タンタル、銅およびポリシリコ ンからなる群から選択された1種以上の成分を含んでなる、請求項11に記載の 方法。 15. 被膜形成樹脂がノボラック樹脂である、請求項11に記載の方法。 16. フォトレジスト組成物中のノボラック樹脂の量が固体の重量の約70 %〜約90%である、請求項15に記載の方法。 17. 感光性成分が多価フェノール性化合物のエステルを含んでなる、請求 項11に記載の方法。 18. 感光性成分がトリス−ヒドロキシフェニルエタンのスルホン酸誘導体 を含んでなる、請求項17に記載の方法。 19. ノボラック樹脂が、ホルムアルデヒドと1種以上の多置換フェノール の反応生成物である、請求項15に記載の方法。 20. 溶剤が、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレング リコールメチルエーテルアセテート、エチル−3−エトキシプロピオネート、乳 酸エチル、エチル−3−エトキシプロピオネートと乳酸エチルの混合物、エチル −3−エトキシプロピオネートと乳酸エチルの混合物、酢酸ブチル、キシレン、 ジグライムおよびエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートからなる群 から選択される、請求項11に記載の方法。 21. 溶剤がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートまたはエ チル−3−エトキシプロピオネートを含んでなる、請求項11に記載の方法。 22. 下記のことを特徴とする、基材上に写真画像を形成することにより製 造された半導体デバイス。 a)酸性イオン交換樹脂を水で処理し、前記イオン交換樹脂を鉱酸溶液で洗浄し 、それによってイオン交換樹脂中のナトリウムおよび鉄イオンの量をそれぞれ5 00ppb未満に下げること、 b)適当な溶剤中2〜50重量%の、メチルビニルエーテルおよび無水マレイン 酸の共重合体と、分子量が約500〜約100,000である適当な染料の反応 生成物の溶液を用意すること、 c)前記溶液をイオン交換樹脂に通し、それによって溶液中のナトリウムおよび 鉄イオンの量をそれぞれ200ppb未満に下げること、および d)(1)前記溶液および (2)適当な溶剤 を混合することにより、底部反射防止塗料組成物を製造すること、 e)1)フォトレジスト組成物を感光性にするのに十分な量の感光性成分、 2)本質的に均一なフォトレジスト組成物を形成するのに十分な量の、水に 不溶であり、アルカリ水溶液に可溶な被膜形成ノボラック樹脂、および 3)適当な溶剤 を混合することにより、フォトレジスト組成物を製造すること、 f)適当な基材を底部反射防止組成物で被覆すること、 g)適当な基材をフォトレジスト組成物で被覆すること、 j)被覆された基材を本質的にすべての溶剤が除去されるまで加熱処理し、フォ トレジスト組成物を像様露光し、その様な組成物の像様露光した区域を適当な現 像剤、例えば水性アルカリ現像剤、で除去すること。 23. 基材が、シリコン、アルミニウム、重合体状樹脂、二酸化ケイ素、ド ーピングされた二酸化ケイ素、ヒ化ガリウム、III/V族化合物、窒化ケイ素、タ ンタル、銅、ポリシリコン、セラミック、アルミニウム/銅混合物からなる群か ら選択される、請求項22に記載の半導体デバイス。 24. 基材が接着促進表面を有する、請求項22に記載の素子。 25. 被膜形成樹脂がノボラック樹脂である、請求項22に記載の半導体デ バイス。 26. フォトレジスト組成物中のノボラック樹脂の量が固体の重量の約70 %〜約90%である、請求項25に記載の半導体デバイス。 27. 感光性成分が多価フェノール性化合物のエステルを含んでなる、請求 項22に記載の半導体デバイス。 28. 感光性成分がトリス−ヒドロキシフェニルエタンのスルホン酸誘導体 を含んでなる、請求項27に記載の半導体デバイス。 29. ノボラック樹脂が、ホルムアルデヒドと1種以上の多置換フェノール の反応生成物である、請求項25に記載の半導体デバイス。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US98219792A | 1992-11-25 | 1992-11-25 | |
US07/982,197 | 1992-11-25 | ||
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JP3727335B2 JP3727335B2 (ja) | 2005-12-14 |
Family
ID=25528927
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Country Status (7)
Country | Link |
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US (1) | US5580700A (ja) |
EP (1) | EP0671025B1 (ja) |
JP (1) | JP3727335B2 (ja) |
DE (1) | DE69313132T2 (ja) |
HK (1) | HK1001101A1 (ja) |
SG (1) | SG49596A1 (ja) |
WO (1) | WO1994012912A1 (ja) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A601 | Written request for extension of time |
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A521 | Written amendment |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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A521 | Written amendment |
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A711 | Notification of change in applicant |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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