JPH0841445A - 帯電防止剤及びそれを含有する化粧料 - Google Patents
帯電防止剤及びそれを含有する化粧料Info
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- JPH0841445A JPH0841445A JP17814994A JP17814994A JPH0841445A JP H0841445 A JPH0841445 A JP H0841445A JP 17814994 A JP17814994 A JP 17814994A JP 17814994 A JP17814994 A JP 17814994A JP H0841445 A JPH0841445 A JP H0841445A
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Abstract
帯電防止剤及びそれを含有する化粧料。 【効果】 優れた帯電防止能を有する帯電防止剤であ
り、界面活性剤との併用により更に帯電防止能が増加す
る。
Description
たはその塩を含有する帯電防止剤に関し、更に詳しく
は、帯電防止能や安全性の優れた帯電防止剤及びそれを
含有する化粧料に関する。
して、風合いや櫛通り性を改良してコンディショニング
効果を付与するために、シリコーン油、カチオン性界面
活性剤、カチオン性ポリマー等が用いられている。しか
し、これらのものはコンディショニング効果には優れる
ものの、ブラッシング時の静電気防止や髪のパサつき防
止という点では、十分な効果を有するとは言えない。
又、口紅やファンデーション等の化粧料については、製
造工程中での飛散防止や使用時のほこり付着を防止する
ために、ソルビタン脂肪酸エステル等の親油性界面活性
剤が帯電防止剤としてしばしば添加されるが、使用感や
品質が低下するという問題があった。
有することは知られており、例えば特開平1−2425
17号公報の特許請求の範囲に記載されているようなN
−モノ長鎖アシル塩基性アミノ酸と界面活性剤との組合
せや、特開昭61−85354号公報の特許請求の範囲
に記載されているようなアスパラギン酸誘導体等を挙げ
ることができる。しかしながら、ポリアミノ酸の帯電防
止効果については未だ知られていなかった。
防止能を有する帯電防止剤を得ることを目的とし、更
に、帯電防止効果の優れた整髪剤、リンス、化粧品等の
化粧料を得ることを目的とする。
を解決するために鋭意検討した結果、ポリアスパラギン
酸またはその塩が優れた帯電防止能を有することを見い
出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、ポ
リアスパラギン酸またはその塩を含有する帯電防止剤に
関し、更に、ポリアスパラギン酸またはその塩を配合し
た整髪剤、リンス、化粧品等の化粧料に関する。本発明
の帯電防止剤は、ポリアスパラギン酸またはその塩を、
水、またはメタノール、エタノール等の含水アルコール
に、0.1〜50重量%の割合で溶解させたものであ
る。
パラギン酸またはその塩の合成法としては、アスパラギ
ン酸をホスゲンによりN−カルボン酸無水物にしてから
重合させる方法や、アスパラギン酸を加熱してポリコハ
ク酸イミドにした後、アルカリで加水分解して得る方法
等が知られている。本発明に用いられるポリアスパラギ
ン酸またはその塩は、何れの方法により製造したもので
もよく、必要により、常法に従って精製することができ
る。又、その塩としては、ナトリウム、カリウム、カル
シウム、マグネシウムなどの金属塩、アンモニウム塩、
或いはメチルアミン、n−ブチルアミン、モルホリン、
(モノ、ジ、もしくはトリ)エチルアミン、(モノ、
ジ、もしくはトリ)エタノールアミン、トリイソプロパ
ノールアミンなどのアミン塩などが用いられる。
位は、D体、L体、DL体の何れでもよい。又、ポリマ
ー鎖の結合には、アスパラギン酸単位のα−カルボキシ
ル基によるアミド結合と、β−カルボキシル基によるア
ミド結合の2つがあるが、α/β結合の割合に特に制限
は無い。更に、ポリアスパラギン酸の分子量としては、
500〜50万、好ましくは1000〜20万が適当で
ある。
剤を添加することもできる。使用できる界面活性剤とし
ては、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、ノニ
オン界面活性剤または両性界面活性剤のいずれでもよ
い。具体的には、アニオン界面活性剤として、例えば、
アルキル硫酸エステル塩、アルキルエーテル硫酸エステ
ル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステ
ル塩、α−オレフィンスルホン酸塩、N−アシルグルタ
ミン酸塩、N−アシルサルコシン塩、N−アシルメチル
アラニン塩、N−アシルメチルタウリン塩、スルホコハ
ク酸エステル塩、モノアルキルリン酸エステル塩、アシ
ルイセチオン酸塩等があげられる。カチオン界面活性剤
としては、例えば、アルキルトリメチルアンモニウム
塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩等があげられ
る。また、ノニオン界面活性剤としては、例えば、脂肪
酸ジエタノールアミド、アルキルアミンオキサイド、ポ
リオキシエチレン硬化ヒマシ油、ソルビタン脂肪酸エス
テル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキ
ルエーテル等があげられる。更に、両性界面活性剤とし
ては、例えば、カルボキシベタイン、アミドベタイン、
スルホベタイン、イミダゾリニウムベタイン等をあげる
ことができる。
中、0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜20重
量%である。
ては、ヘアローション、ヘアクリーム、ムース、ゲル、
スプレー等の整髪剤や、リンス、トリートメント、更
に、クリーム、乳液、化粧水、口紅、ファンデーション
等の化粧品などがあげられる。本発明の化粧料は、通
常、本発明の帯電防止剤を、整髪剤、リンス、化粧品等
に直接添加して得られるが、ポリアスパラギン酸または
その塩をそのまま化粧料に溶解させて、本発明の帯電防
止剤を含有する化粧料とすることもできる。
たはその塩を、化粧料中に、0.01〜50重量%、好
ましくは0.05〜20重量%含有するものである。
又、本発明の化粧料については、その使用目的により、
さらに、各種界面活性剤の他、スクワラン、ヒマシ油等
の油分、プロピレングリコール、グリセリン等の保湿
剤、カルボキシビニルポリマー、ポリエチレングリコー
ル等の増粘剤、メチルパラベン、ブチルパラベン等の防
腐剤、顔料、色素、香料等の一般的に化粧料に用いられ
ている添加物を、本発明の効果が損なわれない程度に添
加することが可能である。
明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるも
のではない。 製造例1 ポリアスパラギン酸ナトリウム塩の合成 L−アスパラギン酸100gと、85重量%リン酸50
gとを混合し、ロータリーエバポレーターにより、減圧
条件下、180℃で2.5時間反応させた。反応液を4
00mlのN,N−ジメチルホルムアミドに溶解した
後、2Lの水を加えて再沈させ、得られた沈澱を洗浄、
乾燥して65gのポリコハク酸イミドを得た。次に、水
1Lにポリコハク酸イミド60gを添加して、室温で撹
拌しながら、2N−NaOHの水溶液を徐々に加えて、
pH9〜11に保ちながら、溶液が透明になるまで撹拌
した。得られた溶液を濃縮後、3Lのメタノールを加え
て再沈し、得られた沈澱を洗浄、乾燥してポリアスパラ
ギン酸ナトリウム塩60gを得た。このポリマーの重量
平均分子量は約5万であった。なお、ポリマーの分子量
は、ポリエチレンオキサイドを標準物質として、GPC
により測定した。
ノールアミン塩の合成 製造例1で合成したポリコハク酸イミド60gに、2L
の水を添加して室温で撹拌しながら、トリエタノールア
ミン100gを徐々に加えて24時間撹拌を継続した。
反応後の溶液を濃縮した後、3Lのエタノールを加えて
再沈し、得られた沈澱を洗浄、乾燥してポリアスパラギ
ン酸トリエタノールアミン塩130gを得た。このポリ
マーの重量平均分子量は約4.5万であった。
20重量%濃度で水に溶解させて、本発明の帯電防止剤
を得た。得られた帯電防止剤をガラス板(5×5cm
角)に100μアプリケーターを用いて塗布し、乾燥さ
せた。乾燥後、25℃、相対湿度60%の雰囲気下で1
日放置し、Hiresta IP MCP−HT250
(三菱油化製)により表面抵抗率を測定した。その結
果、ガラス板のみの表面抵抗率は1012Ω以上であるの
に対して、本発明の帯電防止剤を塗布したものは1.7
×109 Ωとなり、帯電防止性に優れていることがわか
った。 実施例2 実施例1において、ポリアスパラギン酸ナトリウムの代
わりに、製造例2で得られたポリアスパラギン酸トリエ
タノールアミン塩を用いて、同様にして帯電防止剤を得
た。この帯電防止剤を用いて、実施例1と同様に評価し
た結果、帯電防止剤を塗布したものの表面抵抗率は2.
1×1010Ωであった。
わりに、製造例1で得られたポリアスパラギン酸ナトリ
ウム塩90重量%とラウリルエーテル硫酸ナトリウム1
0重量%との混合物を用い、同様にして帯電防止剤を得
た。この帯電防止剤を用いて実施例1と同様に評価した
結果、帯電防止剤を塗布したものの表面抵抗率は1.2
×109 Ωであった。
ヘアローションは櫛通り性や帯電防止性に優れ、ブラッ
シング時のパサつきや切毛、枝毛を防止することがわか
った。
れにLPGを添加して以下の組成のムースを調製した。 ポリアスパラギン酸トリエタノールアミン塩(製造例2) 3.0重量% ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油エステル(EO=40) 3.0重量% プロピレングリコール 3.0重量% エタノール 7.0重量% 香料 0.4重量% LPG(4kg/cm2 ) 7.0重量% 純水 残 部 このムースは毛髪のセット性や風合いを改善し、また、
ほこり等の付着を防ぐことができた。
毛髪の静電気発生を抑制することができた。
付着性も優れていることがわかった。
塩を含有する帯電防止剤は、優れた帯電防止能を有し、
界面活性剤との併用により更に優れた効果を発揮する。
その上、ポリアスパラギン酸またはその塩は、皮膚刺激
作用が全く無く、生分解性にも優れた化合物であり、こ
れを、整髪剤、リンス、化粧品等に配合すると、風合い
や櫛通り性が良好で、髪のパサつきを防ぎ、ブロッキン
グやフレーキングも防止する整髪剤や、毛髪に対する滑
り性や櫛通り性、しっとり感といったコンディショニン
グ効果の高いリンス、感触や付着性、滑り性等の優れた
化粧品等を得ることができる。
Claims (5)
- 【請求項1】 ポリアスパラギン酸またはその塩を含有
することを特徴とする帯電防止剤。 - 【請求項2】 ポリアスパラギン酸またはその塩の含有
量が0.1〜50重量%である請求項1記載の帯電防止
剤。 - 【請求項3】 アニオン界面活性剤、カチオン界面活性
剤、ノニオン界面活性剤または両性界面活性剤の少なく
とも1種を含有する請求項1又は2記載の帯電防止剤。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の帯電防
止剤を含有する化粧料。 - 【請求項5】 ポリアスパラギン酸またはその塩の含有
量が0.01〜50重量%である請求項4記載の化粧
料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17814994A JPH0841445A (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | 帯電防止剤及びそれを含有する化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17814994A JPH0841445A (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | 帯電防止剤及びそれを含有する化粧料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0841445A true JPH0841445A (ja) | 1996-02-13 |
Family
ID=16043499
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17814994A Pending JPH0841445A (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | 帯電防止剤及びそれを含有する化粧料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0841445A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19839569A1 (de) * | 1998-08-31 | 2000-03-09 | Wella Ag | Verwendung von Polyasparaginsäure in Haarbehandlungsmitteln |
JP2002080330A (ja) * | 2000-09-06 | 2002-03-19 | Arimino Kagaku Kk | 毛髪処理剤組成物 |
JP2006213697A (ja) * | 2005-01-07 | 2006-08-17 | Mitsui Chemicals Inc | 皮膚外用剤組成物 |
WO2020036432A1 (ko) * | 2018-08-14 | 2020-02-20 | 주식회사 코스메카코리아 | 미세먼지 부착방지용 화장료 조성물 |
-
1994
- 1994-07-29 JP JP17814994A patent/JPH0841445A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19839569A1 (de) * | 1998-08-31 | 2000-03-09 | Wella Ag | Verwendung von Polyasparaginsäure in Haarbehandlungsmitteln |
JP2002080330A (ja) * | 2000-09-06 | 2002-03-19 | Arimino Kagaku Kk | 毛髪処理剤組成物 |
JP2006213697A (ja) * | 2005-01-07 | 2006-08-17 | Mitsui Chemicals Inc | 皮膚外用剤組成物 |
WO2020036432A1 (ko) * | 2018-08-14 | 2020-02-20 | 주식회사 코스메카코리아 | 미세먼지 부착방지용 화장료 조성물 |
KR20200019561A (ko) * | 2018-08-14 | 2020-02-24 | 주식회사 코스메카코리아 | 미세먼지 부착방지용 화장료 조성물 |
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A977 | Report on retrieval |
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Effective date: 20041228 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050405 |
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A02 | Decision of refusal |
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