JPH08313459A - Ｘ線分析装置 - Google Patents
Ｘ線分析装置Info
- Publication number
- JPH08313459A JPH08313459A JP7149593A JP14959395A JPH08313459A JP H08313459 A JPH08313459 A JP H08313459A JP 7149593 A JP7149593 A JP 7149593A JP 14959395 A JP14959395 A JP 14959395A JP H08313459 A JPH08313459 A JP H08313459A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- sample
- rays
- detector
- analysis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】分析面積が小さくなっても、得られる２次Ｘ線
の強度が不足せず、正確な分析ができるＸ線分析装置を
提供する。 【構成】発散スリット６、弯曲分光素子７および検出器
１０を有する２次側ユニット１５と、Ｘ線源１および試
料台３を有する１次側ユニット１４との少なくとも一方
を、試料４から発生して発散スリット６を通過し弯曲分
光素子７へ向かう２次Ｘ線の通路に沿って、他方に対し
接近または離間させる移動手段１６を備えたＸ線分析装
置。
の強度が不足せず、正確な分析ができるＸ線分析装置を
提供する。 【構成】発散スリット６、弯曲分光素子７および検出器
１０を有する２次側ユニット１５と、Ｘ線源１および試
料台３を有する１次側ユニット１４との少なくとも一方
を、試料４から発生して発散スリット６を通過し弯曲分
光素子７へ向かう２次Ｘ線の通路に沿って、他方に対し
接近または離間させる移動手段１６を備えたＸ線分析装
置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、試料に１次Ｘ線を照
射して、発生する２次Ｘ線を分析するために用いるＸ線
分析装置に関するものである。
射して、発生する２次Ｘ線を分析するために用いるＸ線
分析装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のＸ線分析装置として、例えば、図
１２に示すような装置がある。この装置において、Ｘ線
源１から発生した１次Ｘ線２が試料台３に固定された試
料４に照射され、試料４から発生した２次Ｘ線５は、発
散スリット６により発散され、弯曲分光素子７に入射さ
れて所望の特性Ｘ線８に分光され、受光スリット９で焦
点を結び、検出器１０へ入射され、その強度が測定され
る。ここで、試料４は直径３０ｍｍのものが標準的に用
いられ、その大きさから、両スリット６，９の位置なら
びに弯曲分光素子７の位置および入射面の面積等が決め
られる。このように決められた条件を満たすよう、Ｘ線
源１および試料台４を有する試料室１１と、発散スリッ
ト６、弯曲分光素子７、受光スリット９および検出器１
０を有する分光室１２とが、連結固定されている。
１２に示すような装置がある。この装置において、Ｘ線
源１から発生した１次Ｘ線２が試料台３に固定された試
料４に照射され、試料４から発生した２次Ｘ線５は、発
散スリット６により発散され、弯曲分光素子７に入射さ
れて所望の特性Ｘ線８に分光され、受光スリット９で焦
点を結び、検出器１０へ入射され、その強度が測定され
る。ここで、試料４は直径３０ｍｍのものが標準的に用
いられ、その大きさから、両スリット６，９の位置なら
びに弯曲分光素子７の位置および入射面の面積等が決め
られる。このように決められた条件を満たすよう、Ｘ線
源１および試料台４を有する試料室１１と、発散スリッ
ト６、弯曲分光素子７、受光スリット９および検出器１
０を有する分光室１２とが、連結固定されている。
【０００３】この従来の装置を使用して分析する際、分
析したい試料４が直径３０ｍｍよりも小さい場合、また
は、試料４の分析したい部分が直径３０ｍｍよりも小さ
い場合（以下、総合して分析したい面を分析面、その面
積を分析面積と呼ぶ）には、図１３に示すように、試料
４と発散スリット６との間に、分析面積Ｓ1 に対応した
適切な孔径を有する視野制限ダイヤフラム１３を進出さ
せ、分析面から発生した２次Ｘ線５のみをその孔から通
過させている。視野制限ダイヤフラム１３は、分析面積
Ｓ1 の大小に応じられるよう、複数の相異なる径の孔を
有している。
析したい試料４が直径３０ｍｍよりも小さい場合、また
は、試料４の分析したい部分が直径３０ｍｍよりも小さ
い場合（以下、総合して分析したい面を分析面、その面
積を分析面積と呼ぶ）には、図１３に示すように、試料
４と発散スリット６との間に、分析面積Ｓ1 に対応した
適切な孔径を有する視野制限ダイヤフラム１３を進出さ
せ、分析面から発生した２次Ｘ線５のみをその孔から通
過させている。視野制限ダイヤフラム１３は、分析面積
Ｓ1 の大小に応じられるよう、複数の相異なる径の孔を
有している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、例えば、図
１３のように視野制限ダイヤフラム１３を用いた際の分
析面積Ｓ1 が、図１２のように用いない際の分析面積Ｓ
0 （直径３０ｍｍより２２５πｍｍ2 である）の４分の
１であったとすると、分析面から発生する２次Ｘ線の強
度も４分の１に減少する。一方、最終的に検出器１０に
入射する２次Ｘ線の強度は、分析面上の１点から発散ス
リット６を見込む立体角αにも比例するが、この立体角
αについては、図１３のように視野制限ダイヤフラム１
３を用いた場合と、図１２のように用いない場合とにお
いて、変わりはない。結局、視野制限ダイヤフラム１３
を用いると、検出器１０に入射する２次Ｘ線の強度が、
４分の１に減少することになる。すなわち、視野制限ダ
イヤフラム１３を用いて分析面積Ｓ1 を減少させると、
検出器１０に入射する２次Ｘ線の強度が分析面積Ｓ1に
比例して減少してしまい、分析面積Ｓ1 が小さくなるほ
ど得られる２次Ｘ線の強度が不足して、正確な分析が困
難になる。
１３のように視野制限ダイヤフラム１３を用いた際の分
析面積Ｓ1 が、図１２のように用いない際の分析面積Ｓ
0 （直径３０ｍｍより２２５πｍｍ2 である）の４分の
１であったとすると、分析面から発生する２次Ｘ線の強
度も４分の１に減少する。一方、最終的に検出器１０に
入射する２次Ｘ線の強度は、分析面上の１点から発散ス
リット６を見込む立体角αにも比例するが、この立体角
αについては、図１３のように視野制限ダイヤフラム１
３を用いた場合と、図１２のように用いない場合とにお
いて、変わりはない。結局、視野制限ダイヤフラム１３
を用いると、検出器１０に入射する２次Ｘ線の強度が、
４分の１に減少することになる。すなわち、視野制限ダ
イヤフラム１３を用いて分析面積Ｓ1 を減少させると、
検出器１０に入射する２次Ｘ線の強度が分析面積Ｓ1に
比例して減少してしまい、分析面積Ｓ1 が小さくなるほ
ど得られる２次Ｘ線の強度が不足して、正確な分析が困
難になる。
【０００５】そこで本発明は、分析面積が小さくなって
も、得られる２次Ｘ線の強度が不足せず、正確な分析が
できるＸ線分析装置を提供することを目的とするもので
ある。
も、得られる２次Ｘ線の強度が不足せず、正確な分析が
できるＸ線分析装置を提供することを目的とするもので
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１のＸ線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ
線源と、試料が固定される試料台と、前記１次Ｘ線が照
射された試料から発生する２次Ｘ線を通過させる発散ス
リットと、前記発散スリットを通過した２次Ｘ線が入射
される弯曲分光素子と、前記弯曲分光素子で回折された
２次Ｘ線が入射される検出器とを備えたＸ線分析装置に
おいて、前記発散スリット、弯曲分光素子および検出器
を有する２次側ユニットと、前記Ｘ線源および試料台を
有する１次側ユニットとの少なくとも一方を、前記試料
から発生して発散スリットを通過し弯曲分光素子へ向か
う２次Ｘ線の通路に沿って、他方に対し接近または離間
させる移動手段を備えている。
に、請求項１のＸ線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ
線源と、試料が固定される試料台と、前記１次Ｘ線が照
射された試料から発生する２次Ｘ線を通過させる発散ス
リットと、前記発散スリットを通過した２次Ｘ線が入射
される弯曲分光素子と、前記弯曲分光素子で回折された
２次Ｘ線が入射される検出器とを備えたＸ線分析装置に
おいて、前記発散スリット、弯曲分光素子および検出器
を有する２次側ユニットと、前記Ｘ線源および試料台を
有する１次側ユニットとの少なくとも一方を、前記試料
から発生して発散スリットを通過し弯曲分光素子へ向か
う２次Ｘ線の通路に沿って、他方に対し接近または離間
させる移動手段を備えている。
【０００７】上記目的を達成するために、請求項２のＸ
線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ線源と、試料が固
定される試料台と、前記１次Ｘ線が照射された試料から
発生する２次Ｘ線を通過させる絞りと、前記絞りを通過
した２次Ｘ線が入射される検出器とを備えたＸ線分析装
置において、前記絞りおよび検出器を有する２次側ユニ
ットと、前記Ｘ線源および試料台を有する１次側ユニッ
トとの少なくとも一方を、前記試料から発生して絞りを
通過し検出器へ向かう２次Ｘ線の通路に沿って、他方に
対し接近または離間させる移動手段を備えている。
線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ線源と、試料が固
定される試料台と、前記１次Ｘ線が照射された試料から
発生する２次Ｘ線を通過させる絞りと、前記絞りを通過
した２次Ｘ線が入射される検出器とを備えたＸ線分析装
置において、前記絞りおよび検出器を有する２次側ユニ
ットと、前記Ｘ線源および試料台を有する１次側ユニッ
トとの少なくとも一方を、前記試料から発生して絞りを
通過し検出器へ向かう２次Ｘ線の通路に沿って、他方に
対し接近または離間させる移動手段を備えている。
【０００８】上記目的を達成するために、請求項３のＸ
線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ線源と、前記１次
Ｘ線が照射された試料から発生する２次Ｘ線を通過させ
るスリットと、前記スリットを通過した２次Ｘ線が入射
される検出器とを備えたＸ線分析装置において、前記ス
リットを、前記試料から発生してスリットを通過し検出
器へ向かう２次Ｘ線の通路に沿って、前記試料に接近ま
たは離間させる移動手段を備えている。
線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ線源と、前記１次
Ｘ線が照射された試料から発生する２次Ｘ線を通過させ
るスリットと、前記スリットを通過した２次Ｘ線が入射
される検出器とを備えたＸ線分析装置において、前記ス
リットを、前記試料から発生してスリットを通過し検出
器へ向かう２次Ｘ線の通路に沿って、前記試料に接近ま
たは離間させる移動手段を備えている。
【０００９】
【作用および効果】請求項１のＸ線分析装置によれば、
発散スリット、弯曲分光素子および検出器を有する２次
側ユニットと、Ｘ線源および試料台を有する１次側ユニ
ットとの少なくとも一方を、試料から発生して発散スリ
ットを通過し弯曲分光素子へ向かう２次Ｘ線の通路に沿
って、分析面積に応じて他方に対し接近または離間させ
るので、分析面積が減少しても、分析面上の１点から発
散スリットを見込む立体角が分析面積に反比例して増大
する。したがって、分析面積が小さくなっても、得られ
る２次Ｘ線の強度が不足せず、正確な分析ができる。
発散スリット、弯曲分光素子および検出器を有する２次
側ユニットと、Ｘ線源および試料台を有する１次側ユニ
ットとの少なくとも一方を、試料から発生して発散スリ
ットを通過し弯曲分光素子へ向かう２次Ｘ線の通路に沿
って、分析面積に応じて他方に対し接近または離間させ
るので、分析面積が減少しても、分析面上の１点から発
散スリットを見込む立体角が分析面積に反比例して増大
する。したがって、分析面積が小さくなっても、得られ
る２次Ｘ線の強度が不足せず、正確な分析ができる。
【００１０】請求項２のＸ線分析装置によれば、絞りお
よび検出器を有する２次側ユニットと、Ｘ線源および試
料台を有する１次側ユニットとの少なくとも一方を、試
料から発生して絞りを通過し検出器へ向かう２次Ｘ線の
通路に沿って、分析面積に応じて他方に対し接近または
離間させるので、分析面積が減少しても、分析面上の１
点から絞りを見込む立体角が分析面積に反比例して増大
する。したがって、分析面積が小さくなっても、得られ
る２次Ｘ線の強度が不足せず、正確な分析ができる。
よび検出器を有する２次側ユニットと、Ｘ線源および試
料台を有する１次側ユニットとの少なくとも一方を、試
料から発生して絞りを通過し検出器へ向かう２次Ｘ線の
通路に沿って、分析面積に応じて他方に対し接近または
離間させるので、分析面積が減少しても、分析面上の１
点から絞りを見込む立体角が分析面積に反比例して増大
する。したがって、分析面積が小さくなっても、得られ
る２次Ｘ線の強度が不足せず、正確な分析ができる。
【００１１】請求項３のＸ線分析装置によれば、スリッ
トを、試料から発生してスリットを通過し検出器へ向か
う２次Ｘ線の通路に沿って、試料に接近または離間させ
る分析面積が減少しても、分析面上の１点からスリット
を見込む立体角が分析面積に反比例して増大する。した
がって、分析面積が小さくなっても、得られる２次Ｘ線
の強度が不足せず、正確な分析ができる。
トを、試料から発生してスリットを通過し検出器へ向か
う２次Ｘ線の通路に沿って、試料に接近または離間させ
る分析面積が減少しても、分析面上の１点からスリット
を見込む立体角が分析面積に反比例して増大する。した
がって、分析面積が小さくなっても、得られる２次Ｘ線
の強度が不足せず、正確な分析ができる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。本発明の第１の実施例のＸ線分析装置
は、図１に示すように、１次側ユニット１４と、２次側
ユニット１５と、移動手段１６と、金属ベローズ１７と
を備えている。１次側ユニット１４は、１次Ｘ線２を発
生するＸ線源１と、試料４が固定される試料台３とを有
している。２次側ユニット１５は、１次Ｘ線２が照射さ
れた試料４から発生する２次Ｘ線５を通過させる発散ス
リット６と、発散スリット６を通過した２次Ｘ線５が入
射される弯曲分光素子７と、弯曲分光素子７で回折され
た２次Ｘ線８を通過させる受光スリット９と、受光スリ
ット９を通過した２次Ｘ線８が入射される検出器１０と
を有している。
ながら説明する。本発明の第１の実施例のＸ線分析装置
は、図１に示すように、１次側ユニット１４と、２次側
ユニット１５と、移動手段１６と、金属ベローズ１７と
を備えている。１次側ユニット１４は、１次Ｘ線２を発
生するＸ線源１と、試料４が固定される試料台３とを有
している。２次側ユニット１５は、１次Ｘ線２が照射さ
れた試料４から発生する２次Ｘ線５を通過させる発散ス
リット６と、発散スリット６を通過した２次Ｘ線５が入
射される弯曲分光素子７と、弯曲分光素子７で回折され
た２次Ｘ線８を通過させる受光スリット９と、受光スリ
ット９を通過した２次Ｘ線８が入射される検出器１０と
を有している。
【００１３】移動手段１６は、２次側ユニット１５の上
部に設けられた雌ねじ部２２に貫通螺合し、スライド部
４０に貫通する１本のボールねじ１８と、２次側ユニッ
ト１５の左右に設けられたスライド部４１に貫通する２
本のスライドシャフト１９（１本のみ図示）と、ボール
ねじ１８の一端に回転軸を連結されたモータ２５と、そ
のモータ２５等が取り付けられる取り付け板２０と、移
動指令信号を受けてモータ２５を適切に回転させる制御
手段４２とを有している。
部に設けられた雌ねじ部２２に貫通螺合し、スライド部
４０に貫通する１本のボールねじ１８と、２次側ユニッ
ト１５の左右に設けられたスライド部４１に貫通する２
本のスライドシャフト１９（１本のみ図示）と、ボール
ねじ１８の一端に回転軸を連結されたモータ２５と、そ
のモータ２５等が取り付けられる取り付け板２０と、移
動指令信号を受けてモータ２５を適切に回転させる制御
手段４２とを有している。
【００１４】１本のボールねじ１８と２本のスライドシ
ャフト１９は、いずれも、試料４から発生して発散スリ
ット６を通過し弯曲分光素子７へ向かう２次Ｘ線５の通
路に沿っており、互いに平行で、それらの軸方向IIから
みた矢視図である図２に示すように、それらの端面の中
心が、二等辺三角形の頂点の位置となるように配置され
ている。図１に戻り、ボールねじ１８は、モータ２５側
の約半分に端部を除いて雄ねじが形成されており、その
一端を回転軸受け２１を介して１次側ユニット１４の支
持部２０に回転自在に支持され、２次側ユニット１５の
上部に設けられたスライド部４０にスライド軸受け２４
を介して貫通し、２次側ユニット１５の上部に設けられ
た雌ねじ部２２に螺合し、他端近傍を回転軸受け２３を
介して取り付け板２０に回転自在に支持され、他端をモ
ータ２５の回転軸に連結されている。
ャフト１９は、いずれも、試料４から発生して発散スリ
ット６を通過し弯曲分光素子７へ向かう２次Ｘ線５の通
路に沿っており、互いに平行で、それらの軸方向IIから
みた矢視図である図２に示すように、それらの端面の中
心が、二等辺三角形の頂点の位置となるように配置され
ている。図１に戻り、ボールねじ１８は、モータ２５側
の約半分に端部を除いて雄ねじが形成されており、その
一端を回転軸受け２１を介して１次側ユニット１４の支
持部２０に回転自在に支持され、２次側ユニット１５の
上部に設けられたスライド部４０にスライド軸受け２４
を介して貫通し、２次側ユニット１５の上部に設けられ
た雌ねじ部２２に螺合し、他端近傍を回転軸受け２３を
介して取り付け板２０に回転自在に支持され、他端をモ
ータ２５の回転軸に連結されている。
【００１５】スライドシャフト１９は、その一端を１次
側ユニット１４にねじ止め等で固定され、２次側ユニッ
ト１５の左右に設けられたスライド部４１（左側の２つ
のみ図示）にスライド軸受け２４を介して貫通し、他端
をねじ止め等で取り付け板２０に固定されている。この
構成により、２次側ユニット１５は、モータ２５の回転
によって、固定された１次側ユニット１４に対して、ボ
ールねじ１８およびスライドシャフト１９に沿って移動
自在である。金属ベローズ１７は、筒状で可撓性を有
し、２次側ユニット１５が移動しても、１次側ユニット
１４と２次側ユニット１５とを、気密を維持しつつ連結
する。
側ユニット１４にねじ止め等で固定され、２次側ユニッ
ト１５の左右に設けられたスライド部４１（左側の２つ
のみ図示）にスライド軸受け２４を介して貫通し、他端
をねじ止め等で取り付け板２０に固定されている。この
構成により、２次側ユニット１５は、モータ２５の回転
によって、固定された１次側ユニット１４に対して、ボ
ールねじ１８およびスライドシャフト１９に沿って移動
自在である。金属ベローズ１７は、筒状で可撓性を有
し、２次側ユニット１５が移動しても、１次側ユニット
１４と２次側ユニット１５とを、気密を維持しつつ連結
する。
【００１６】次に、第１実施例の装置の動作について説
明する。簡単のため、この装置の光学系のみを図３に示
す。分析面積Ｓ0 の標準的な大きさの試料４を分析する
際には、従来の装置と同様に、分析面上の１点から発散
スリット６を見込む立体角はαである。ここで、例え
ば、分析面積Ｓ1 がＳ0 の４分の１となるような分析面
を分析する際には、図１の制御手段４２に手動操作で移
動指令信号を入力すると、予め設定されたプログラムに
従って、モータ２５を一定量回転させ、２次側ユニット
１５をボールねじ１８およびスライドシャフト１９に沿
って、すなわち試料４から発生して発散スリット６を通
過し弯曲分光素子７へ向かう２次Ｘ線５の通路に沿っ
て、１次側ユニット１４に対し接近させる。
明する。簡単のため、この装置の光学系のみを図３に示
す。分析面積Ｓ0 の標準的な大きさの試料４を分析する
際には、従来の装置と同様に、分析面上の１点から発散
スリット６を見込む立体角はαである。ここで、例え
ば、分析面積Ｓ1 がＳ0 の４分の１となるような分析面
を分析する際には、図１の制御手段４２に手動操作で移
動指令信号を入力すると、予め設定されたプログラムに
従って、モータ２５を一定量回転させ、２次側ユニット
１５をボールねじ１８およびスライドシャフト１９に沿
って、すなわち試料４から発生して発散スリット６を通
過し弯曲分光素子７へ向かう２次Ｘ線５の通路に沿っ
て、１次側ユニット１４に対し接近させる。
【００１７】この状態の光学系のみを図４に示す。この
状態において、分析面から発生する２次Ｘ線の強度が４
分の１に減少する点については従来の装置と同様であ
る。しかし、第１実施例の装置においては、分析面積Ｓ
1 が前記Ｓ0 の４分の１に減少しても、分析面上の１点
から発散スリット６を見込む立体角βが分析面積に反比
例して前記αの４倍に増大する。最終的に検出器１０に
入射する２次Ｘ線の強度は、分析面上の１点から発散ス
リット６を見込む立体角にも比例するから、結局、分析
面積Ｓ1 が小さくなっても、検出器１０において得られ
る２次Ｘ線の強度は変わらず、正確な分析ができる。
状態において、分析面から発生する２次Ｘ線の強度が４
分の１に減少する点については従来の装置と同様であ
る。しかし、第１実施例の装置においては、分析面積Ｓ
1 が前記Ｓ0 の４分の１に減少しても、分析面上の１点
から発散スリット６を見込む立体角βが分析面積に反比
例して前記αの４倍に増大する。最終的に検出器１０に
入射する２次Ｘ線の強度は、分析面上の１点から発散ス
リット６を見込む立体角にも比例するから、結局、分析
面積Ｓ1 が小さくなっても、検出器１０において得られ
る２次Ｘ線の強度は変わらず、正確な分析ができる。
【００１８】次に、本発明の第２実施例について説明す
る。第２実施例のＸ線分析装置は、図５に示すように、
１次側ユニット１４と、２次側ユニット２６と、移動手
段２７と、金属ベローズ１７とを備えている。１次側ユ
ニット１４は、１次Ｘ線２を発生するＸ線源１と、試料
４が固定される試料台３とを有している。２次側ユニッ
ト２６は、１次Ｘ線２が照射された試料４から発生する
２次Ｘ線５を通過させる絞り２８と、絞り２８を通過し
た２次Ｘ線５が入射される検出器２９とを有している。
移動手段２７は、検出器２９上部に設けられた雌ねじ部
３０に貫通螺合する１本のボールねじ１８と、検出器２
９下部に設けられたスライド部３１に貫通する２本のス
ライドシャフト１９と、ボールねじ１８の一端に回転軸
を連結されたモータ２５と、そのモータ２５等が取り付
けられる取り付け板３２と、移動指令信号を受けてモー
タ２５を適切に回転させる制御手段４２とを有してい
る。
る。第２実施例のＸ線分析装置は、図５に示すように、
１次側ユニット１４と、２次側ユニット２６と、移動手
段２７と、金属ベローズ１７とを備えている。１次側ユ
ニット１４は、１次Ｘ線２を発生するＸ線源１と、試料
４が固定される試料台３とを有している。２次側ユニッ
ト２６は、１次Ｘ線２が照射された試料４から発生する
２次Ｘ線５を通過させる絞り２８と、絞り２８を通過し
た２次Ｘ線５が入射される検出器２９とを有している。
移動手段２７は、検出器２９上部に設けられた雌ねじ部
３０に貫通螺合する１本のボールねじ１８と、検出器２
９下部に設けられたスライド部３１に貫通する２本のス
ライドシャフト１９と、ボールねじ１８の一端に回転軸
を連結されたモータ２５と、そのモータ２５等が取り付
けられる取り付け板３２と、移動指令信号を受けてモー
タ２５を適切に回転させる制御手段４２とを有してい
る。
【００１９】１本のボールねじ１８と２本のスライドシ
ャフト１９は、いずれも、試料４から発生して絞り２８
を通過し検出器２９へ向かう２次Ｘ線５の通路に沿って
おり、互いに平行で、それらの軸方向VIからみた矢視図
である図６に示すように、それらの端面の中心が、二等
辺三角形の頂点の位置となるように配置されている。図
５に戻り、ボールねじ１８は、両端部を除いて雄ねじが
形成されており、その一端を回転軸受け２１を介して１
次側ユニット１４の支持部２０に回転自在に支持され、
検出器２９上部に設けられた雌ねじ部３０に螺合し、他
端近傍を回転軸受け２３を介して取り付け板３２に回転
自在に支持され、他端をモータ２５の回転軸に連結され
ている。
ャフト１９は、いずれも、試料４から発生して絞り２８
を通過し検出器２９へ向かう２次Ｘ線５の通路に沿って
おり、互いに平行で、それらの軸方向VIからみた矢視図
である図６に示すように、それらの端面の中心が、二等
辺三角形の頂点の位置となるように配置されている。図
５に戻り、ボールねじ１８は、両端部を除いて雄ねじが
形成されており、その一端を回転軸受け２１を介して１
次側ユニット１４の支持部２０に回転自在に支持され、
検出器２９上部に設けられた雌ねじ部３０に螺合し、他
端近傍を回転軸受け２３を介して取り付け板３２に回転
自在に支持され、他端をモータ２５の回転軸に連結され
ている。
【００２０】スライドシャフト１９は、その一端を１次
側ユニット１４にねじ止め等で固定され、検出器２９下
部に設けられたスライド部３１をスライド軸受け２４を
介して貫通し、他端をねじ止め等で取り付け板３２に固
定されている。この構成により、２次側ユニット２６
は、モータ２５の回転によって、固定された１次側ユニ
ット１４に対して、ボールねじ１８およびスライドシャ
フト１９に沿って移動自在である。金属ベローズ１７
は、筒状で可撓性を有し、２次側ユニット２６が移動し
ても、１次側ユニット１４と２次側ユニット２６とを、
気密を維持しつつ連結する。
側ユニット１４にねじ止め等で固定され、検出器２９下
部に設けられたスライド部３１をスライド軸受け２４を
介して貫通し、他端をねじ止め等で取り付け板３２に固
定されている。この構成により、２次側ユニット２６
は、モータ２５の回転によって、固定された１次側ユニ
ット１４に対して、ボールねじ１８およびスライドシャ
フト１９に沿って移動自在である。金属ベローズ１７
は、筒状で可撓性を有し、２次側ユニット２６が移動し
ても、１次側ユニット１４と２次側ユニット２６とを、
気密を維持しつつ連結する。
【００２１】次に、第２実施例の装置の動作について説
明する。簡単のため、この装置の光学系のみを図７に示
す。分析面積Ｓ0 の標準的な大きさの試料４を分析する
際には、分析面上の１点から絞り２８を見込む立体角は
αである。ここで、例えば、分析面積Ｓ1 がＳ0 の４分
の１となるような分析面を分析する際には、図５の制御
手段４２に手動動作で移動指令信号を入力することによ
って、モータ２５を一定量回転させ、２次側ユニット２
６をボールねじ１８およびスライドシャフト１９に沿っ
て、すなわち試料４から発生して絞り２８を通過し検出
器２９へ向かう２次Ｘ線５の通路に沿って、１次側ユニ
ット１４に対し接近させる。
明する。簡単のため、この装置の光学系のみを図７に示
す。分析面積Ｓ0 の標準的な大きさの試料４を分析する
際には、分析面上の１点から絞り２８を見込む立体角は
αである。ここで、例えば、分析面積Ｓ1 がＳ0 の４分
の１となるような分析面を分析する際には、図５の制御
手段４２に手動動作で移動指令信号を入力することによ
って、モータ２５を一定量回転させ、２次側ユニット２
６をボールねじ１８およびスライドシャフト１９に沿っ
て、すなわち試料４から発生して絞り２８を通過し検出
器２９へ向かう２次Ｘ線５の通路に沿って、１次側ユニ
ット１４に対し接近させる。
【００２２】この状態の光学系のみを図８に示す。この
状態において、分析面から発生する２次Ｘ線の強度が４
分の１に減少する点については従来の装置と同様であ
る。しかし、第２実施例の装置においては、分析面積が
４分の１に減少しても、分析面上の１点から絞り２８を
見込む立体角βが分析面積に反比例して前記αの４倍に
増大する。最終的に検出器２９に入射する２次Ｘ線の強
度は、分析面上の１点から絞り２８を見込む立体角にも
比例するから、結局、分析面積Ｓ1 が小さくなっても、
検出器２９において得られる２次Ｘ線の強度は変わら
ず、正確な分析ができる。
状態において、分析面から発生する２次Ｘ線の強度が４
分の１に減少する点については従来の装置と同様であ
る。しかし、第２実施例の装置においては、分析面積が
４分の１に減少しても、分析面上の１点から絞り２８を
見込む立体角βが分析面積に反比例して前記αの４倍に
増大する。最終的に検出器２９に入射する２次Ｘ線の強
度は、分析面上の１点から絞り２８を見込む立体角にも
比例するから、結局、分析面積Ｓ1 が小さくなっても、
検出器２９において得られる２次Ｘ線の強度は変わら
ず、正確な分析ができる。
【００２３】次に、本発明の第３実施例について説明す
る。第３実施例のＸ線分析装置は、図９に示すように、
まず、１次Ｘ線２を発生するＸ線源１と、試料４が固定
される試料台３と、１次Ｘ線２が照射された試料４から
発生する２次Ｘ線５を通過させるスリット３３と、スリ
ット３３を通過した２次Ｘ線５が入射される検出器３４
とを備えている。そして、スリット３３を、試料４から
発生してスリット３３を通過し検出器３４へ向かう２次
Ｘ線５の通路に沿って、試料４に接近または離間させる
移動手段３５を備えている。
る。第３実施例のＸ線分析装置は、図９に示すように、
まず、１次Ｘ線２を発生するＸ線源１と、試料４が固定
される試料台３と、１次Ｘ線２が照射された試料４から
発生する２次Ｘ線５を通過させるスリット３３と、スリ
ット３３を通過した２次Ｘ線５が入射される検出器３４
とを備えている。そして、スリット３３を、試料４から
発生してスリット３３を通過し検出器３４へ向かう２次
Ｘ線５の通路に沿って、試料４に接近または離間させる
移動手段３５を備えている。
【００２４】移動手段３５は、検出器３４の上下におい
て、装置に取り付けられた２つのリニアモータ３６と、
移動指令信号を受けて２つのリニアモータ３６のロッド
３７を適切に伸縮させる制御手段４３とを有している。
リニアモータ３６の軸方向に伸縮自在なロッド３７の先
端は、スリット３３を有するスリット部材３８の上下に
固定されている。この構成により、スリット３３は、２
つのリニアモータ３６のロッド３７の同時の伸縮によっ
て、試料４に対して、試料４から発生してスリット３３
を通過し検出器３４へ向かう２次Ｘ線の通路に沿って、
移動自在である。
て、装置に取り付けられた２つのリニアモータ３６と、
移動指令信号を受けて２つのリニアモータ３６のロッド
３７を適切に伸縮させる制御手段４３とを有している。
リニアモータ３６の軸方向に伸縮自在なロッド３７の先
端は、スリット３３を有するスリット部材３８の上下に
固定されている。この構成により、スリット３３は、２
つのリニアモータ３６のロッド３７の同時の伸縮によっ
て、試料４に対して、試料４から発生してスリット３３
を通過し検出器３４へ向かう２次Ｘ線の通路に沿って、
移動自在である。
【００２５】次に、第３実施例の装置の動作について説
明する。簡単のため、この装置の光学系のみを図１０に
示す。分析面積Ｓ0 の標準的な大きさの試料４を分析す
る際には、分析面上の１点からスリット３３を見込む立
体角はαである。ここで、例えば、分析面積Ｓ1 がＳ0
の４分の１となるような分析面を分析する際には、図９
の制御手段４３に手動操作で移動指令信号を入力するこ
とによって、２本のロッド３７を同時に一定量伸長さ
せ、スリット３３を試料４から発生してスリット３３を
通過し検出器３４へ向かう２次Ｘ線の通路に沿って、試
料４に対し接近させる。
明する。簡単のため、この装置の光学系のみを図１０に
示す。分析面積Ｓ0 の標準的な大きさの試料４を分析す
る際には、分析面上の１点からスリット３３を見込む立
体角はαである。ここで、例えば、分析面積Ｓ1 がＳ0
の４分の１となるような分析面を分析する際には、図９
の制御手段４３に手動操作で移動指令信号を入力するこ
とによって、２本のロッド３７を同時に一定量伸長さ
せ、スリット３３を試料４から発生してスリット３３を
通過し検出器３４へ向かう２次Ｘ線の通路に沿って、試
料４に対し接近させる。
【００２６】この状態の光学系のみを図１１に示す。こ
の状態において、分析面から発生する２次Ｘ線の強度が
４分の１に減少する点については従来の装置と同様であ
る。しかし、第３実施例の装置においては、分析面積が
４分の１に減少しても、分析面上の１点からスリット３
３を見込む立体角βが分析面積に反比例して前記αの４
倍に増大する。最終的に検出器３４に入射する２次Ｘ線
の強度は、分析面上の１点からスリット３３を見込む立
体角にも比例するから、結局、分析面積Ｓ1 が小さくな
っても、検出器３４において得られる２次Ｘ線の強度は
変わらず、正確な分析ができる。
の状態において、分析面から発生する２次Ｘ線の強度が
４分の１に減少する点については従来の装置と同様であ
る。しかし、第３実施例の装置においては、分析面積が
４分の１に減少しても、分析面上の１点からスリット３
３を見込む立体角βが分析面積に反比例して前記αの４
倍に増大する。最終的に検出器３４に入射する２次Ｘ線
の強度は、分析面上の１点からスリット３３を見込む立
体角にも比例するから、結局、分析面積Ｓ1 が小さくな
っても、検出器３４において得られる２次Ｘ線の強度は
変わらず、正確な分析ができる。
【００２７】なお、第１および第２実施例では、固定さ
れた１次側ユニット１４に対して、２次側ユニット１
５，２６を移動させたが、逆に２次側ユニット１５，２
６を固定して、それに対して、１次側ユニット１４を移
動させてもよい。また、本発明が適用される試料４から
発生する２次Ｘ線５は、蛍光Ｘ線に限らず、コンプトン
散乱線にも適用可能である。
れた１次側ユニット１４に対して、２次側ユニット１
５，２６を移動させたが、逆に２次側ユニット１５，２
６を固定して、それに対して、１次側ユニット１４を移
動させてもよい。また、本発明が適用される試料４から
発生する２次Ｘ線５は、蛍光Ｘ線に限らず、コンプトン
散乱線にも適用可能である。
【図１】本発明の第１実施例のＸ線分析装置を示す概略
側面部分断面図である。
側面部分断面図である。
【図２】本発明の第１実施例のＸ線分析装置を示す図１
のII方向における矢視図である。
のII方向における矢視図である。
【図３】標準サイズの分析面を分析する際の本発明の第
１実施例のＸ線分析装置における光学系を示す概略側面
図である。
１実施例のＸ線分析装置における光学系を示す概略側面
図である。
【図４】標準サイズよりも小さい分析面を分析する際の
本発明の第１実施例のＸ線分析装置における光学系を示
す概略側面図である。
本発明の第１実施例のＸ線分析装置における光学系を示
す概略側面図である。
【図５】本発明の第２実施例のＸ線分析装置を示す概略
側面部分断面図である。
側面部分断面図である。
【図６】本発明の第２実施例のＸ線分析装置を示す図５
のVI方向における矢視図である。
のVI方向における矢視図である。
【図７】標準サイズの分析面を分析する際の本発明の第
２実施例のＸ線分析装置における光学系を示す概略側面
図である。
２実施例のＸ線分析装置における光学系を示す概略側面
図である。
【図８】標準サイズよりも小さい分析面を分析する際の
本発明の第２実施例のＸ線分析装置における光学系を示
す概略側面図である。
本発明の第２実施例のＸ線分析装置における光学系を示
す概略側面図である。
【図９】本発明の第３実施例のＸ線分析装置を示す概略
側面部分断面図である。
側面部分断面図である。
【図１０】標準サイズの分析面を分析する際の本発明の
第３実施例のＸ線分析装置における光学系を示す概略側
面図である。
第３実施例のＸ線分析装置における光学系を示す概略側
面図である。
【図１１】標準サイズよりも小さい分析面を分析する際
の本発明の第３実施例のＸ線分析装置における光学系を
示す概略側面図である。
の本発明の第３実施例のＸ線分析装置における光学系を
示す概略側面図である。
【図１２】標準サイズの分析面を分析する際の従来のＸ
線分析装置を示す概略側面部分断面図である。
線分析装置を示す概略側面部分断面図である。
【図１３】標準サイズよりも小さい分析面を分析する際
の従来のＸ線分析装置を示す概略側面部分断面図であ
る。
の従来のＸ線分析装置を示す概略側面部分断面図であ
る。
１…Ｘ線源、２…１次Ｘ線、３…試料台、４…試料、５
…試料から発生する２次Ｘ線、６…発散スリット、７…
弯曲分光素子、８…弯曲分光素子で回折された２次Ｘ
線、１０，２９…検出器、１４…１次側ユニット、１
５，２６…２次側ユニット、１６，２７，３５…移動手
段、２８…絞り、３３…スリット。
…試料から発生する２次Ｘ線、６…発散スリット、７…
弯曲分光素子、８…弯曲分光素子で回折された２次Ｘ
線、１０，２９…検出器、１４…１次側ユニット、１
５，２６…２次側ユニット、１６，２７，３５…移動手
段、２８…絞り、３３…スリット。
Claims (3)
- 【請求項１】 １次Ｘ線を発生するＸ線源と、 試料が固定される試料台と、 前記１次Ｘ線が照射された試料から発生する２次Ｘ線を
通過させる発散スリットと、 前記発散スリットを通過した２次Ｘ線が入射される弯曲
分光素子と、 前記弯曲分光素子で回折された２次Ｘ線が入射される検
出器とを備えたＸ線分析装置において、 前記発散スリット、弯曲分光素子および検出器を有する
２次側ユニットと、前記Ｘ線源および試料台を有する１
次側ユニットとの少なくとも一方を、前記試料から発生
して発散スリットを通過し弯曲分光素子へ向かう２次Ｘ
線の通路に沿って、他方に対し接近または離間させる移
動手段を備えたことを特徴とするＸ線分析装置。 - 【請求項２】 １次Ｘ線を発生するＸ線源と、 試料が固定される試料台と、 前記１次Ｘ線が照射された試料から発生する２次Ｘ線を
通過させる絞りと、 前記絞りを通過した２次Ｘ線が入射される検出器とを備
えたＸ線分析装置において、 前記絞りおよび検出器を有する２次側ユニットと、前記
Ｘ線源および試料台を有する１次側ユニットとの少なく
とも一方を、前記試料から発生して絞りを通過し検出器
へ向かう２次Ｘ線の通路に沿って、他方に対し接近また
は離間させる移動手段を備えたことを特徴とするＸ線分
析装置。 - 【請求項３】 １次Ｘ線を発生するＸ線源と、 前記１次Ｘ線が照射された試料から発生する２次Ｘ線を
通過させるスリットと、 前記スリットを通過した２次Ｘ線が入射される検出器と
を備えたＸ線分析装置において、 前記スリットを、前記試料から発生してスリットを通過
し検出器へ向かう２次Ｘ線の通路に沿って、前記試料に
接近または離間させる移動手段を備えたことを特徴とす
るＸ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7149593A JP2912194B2 (ja) | 1995-05-23 | 1995-05-23 | Ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7149593A JP2912194B2 (ja) | 1995-05-23 | 1995-05-23 | Ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08313459A true JPH08313459A (ja) | 1996-11-29 |
| JP2912194B2 JP2912194B2 (ja) | 1999-06-28 |
Family
ID=15478603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7149593A Expired - Fee Related JP2912194B2 (ja) | 1995-05-23 | 1995-05-23 | Ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2912194B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006292567A (ja) * | 2005-04-12 | 2006-10-26 | Sii Nanotechnology Inc | Ｘ線用レンズ光軸調整機構、ｘ線用レンズ光軸調整方法、およびｘ線分析装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3907121B2 (ja) * | 2004-02-26 | 2007-04-18 | 株式会社リガク | Ｘ線分析装置およびｘ線分析装置用通路装置 |
-
1995
- 1995-05-23 JP JP7149593A patent/JP2912194B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006292567A (ja) * | 2005-04-12 | 2006-10-26 | Sii Nanotechnology Inc | Ｘ線用レンズ光軸調整機構、ｘ線用レンズ光軸調整方法、およびｘ線分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2912194B2 (ja) | 1999-06-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US9606073B2 (en) | X-ray scatterometry apparatus | |
| US6359964B1 (en) | X-ray analysis apparatus including a parabolic X-ray mirror and a crystal monochromator | |
| US6665372B2 (en) | X-ray diffractometer | |
| US20170052128A1 (en) | Detector for x-rays with high spatial and high spectral resolution | |
| EP0377446B1 (en) | Surface analysis method and apparatus | |
| JPH11502025A (ja) | 同時ｘ線回折及びｘ線蛍光測定のための装置 | |
| JP2008014861A (ja) | 超小角ｘ線散乱測定装置 | |
| JPH0552446B2 (ja) | ||
| WO2011079603A1 (zh) | 一种背散射成像用射线束的扫描装置和方法 | |
| Thulke et al. | Versatile curved crystal spectrometer for laboratory extended x‐ray absorption fine structure measurements | |
| US7436934B2 (en) | Collimator with adjustable focal length | |
| US5150395A (en) | Device for examining a test object by means of gamma or x-rays | |
| JPH08313459A (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| US7983389B2 (en) | X-ray optical element and diffractometer with a soller slit | |
| DE112019005321T5 (de) | Röntgenanalyseeinrichtung und röntgenstrahl-erzeugungseinheit | |
| US6444993B1 (en) | Apparatus for radiation analysis with a variable collimator | |
| JP3612654B2 (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| JPH11337696A (ja) | 円筒結晶型分光装置とこれを用いたｘ線分析装置 | |
| JPH0675042B2 (ja) | Ｘ線断層像撮影装置 | |
| JP2599368B2 (ja) | Ｘ線による被測定物の非破壊測定方法 | |
| JPH10142171A (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| JP2007101475A (ja) | Ｘ線光学素子及びそれを用いたｘ線分析装置 | |
| He et al. | X-ray lens of monolithic polycapillaries for macromolecular crystallography | |
| JP2957482B2 (ja) | 表面分析法およびその装置 | |
| JP2000009666A (ja) | Ｘ線分析装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |