JPH08259995A - 溶剤組成物 - Google Patents
溶剤組成物Info
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- JPH08259995A JPH08259995A JP7069641A JP6964195A JPH08259995A JP H08259995 A JPH08259995 A JP H08259995A JP 7069641 A JP7069641 A JP 7069641A JP 6964195 A JP6964195 A JP 6964195A JP H08259995 A JPH08259995 A JP H08259995A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 ＣＨＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＨ2 ＦＣＦ
2 −Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3
等の含フッ素エーテルの少なくとも１種からなるフッ素
系溶剤、及びアルコール類とフッ素系溶剤を含む溶剤組
成物である。 【効果】 オゾン層破壊の心配がなく、物品表面からフ
ラックス、油等の汚れまたは水分を除去するために有用
なフッ素系溶剤を得ることができる。
2 −Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3
等の含フッ素エーテルの少なくとも１種からなるフッ素
系溶剤、及びアルコール類とフッ素系溶剤を含む溶剤組
成物である。 【効果】 オゾン層破壊の心配がなく、物品表面からフ
ラックス、油等の汚れまたは水分を除去するために有用
なフッ素系溶剤を得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フッ素系溶剤に関する
ものであり、より詳しくは物品表面からフラックス、油
等の汚れ又は水分を除去するために用いるフッ素系溶剤
に関する。
ものであり、より詳しくは物品表面からフラックス、油
等の汚れ又は水分を除去するために用いるフッ素系溶剤
に関する。
【０００２】
【従来の技術】フラックス、油等の汚れ又は水分を除去
するためには、不燃性、低毒性、安定性に優れるＣＣｌ
2 ＦＣＣｌＦ2 （以下、フロン１１３という）、また
は、フロン１１３とこれに可溶な溶剤との混合溶剤組成
物が広く使用されている。フロン１１３は、金属、プラ
スチック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れ
を選択的に溶解する等の特徴を有するため、各種精密機
械部品や金属、プラスチック、エラストマー等からなる
各種電子部品、光学部品などの洗浄には最適であった。
するためには、不燃性、低毒性、安定性に優れるＣＣｌ
2 ＦＣＣｌＦ2 （以下、フロン１１３という）、また
は、フロン１１３とこれに可溶な溶剤との混合溶剤組成
物が広く使用されている。フロン１１３は、金属、プラ
スチック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れ
を選択的に溶解する等の特徴を有するため、各種精密機
械部品や金属、プラスチック、エラストマー等からなる
各種電子部品、光学部品などの洗浄には最適であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来使用されてきたフ
ロン１１３は、種々の利点を有するにもかかわらず、化
学的に極めて安定なため、対流圏での寿命が長く、拡散
して成層圏に達し、ここで紫外線により光分解して塩素
ラジカルを発生する。この塩素ラジカルが成層圏オゾン
と連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊することから、そ
の生産及び消費について規制が実施されている。本発明
は、以上の状況に鑑みてなされたものであり、従来のフ
ロン１１３の優れた性質を損なうことなく、且つオゾン
層破壊の心配がない新規なフッ素系溶剤を提供すること
を目的としている。
ロン１１３は、種々の利点を有するにもかかわらず、化
学的に極めて安定なため、対流圏での寿命が長く、拡散
して成層圏に達し、ここで紫外線により光分解して塩素
ラジカルを発生する。この塩素ラジカルが成層圏オゾン
と連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊することから、そ
の生産及び消費について規制が実施されている。本発明
は、以上の状況に鑑みてなされたものであり、従来のフ
ロン１１３の優れた性質を損なうことなく、且つオゾン
層破壊の心配がない新規なフッ素系溶剤を提供すること
を目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記の課題を
解決する溶剤として、ＣＨＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、Ｃ
Ｈ2 ＦＣＦ2 −Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −
Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3
ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 Ｆ、ＣＨＦ2 ＣＦ2ＣＨ2 −
Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨＦ2 、Ｃ
ＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ3 、ＣＨＦ2 ＣＦ2 −Ｏ
−ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＨ
2 Ｆ、ＣＦ3 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ
2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ
−ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ 2 −Ｏ−ＣＨ2 Ｃ
Ｆ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＨＦ2 、ＣＨ
Ｆ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＦ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 Ｃ
Ｈ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＦ3 、（ＣＦ3 ）2 ＣＨＣＦ2 −Ｏ
−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＨＦＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、Ｃ
Ｆ3 ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＨＦＣ
Ｆ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨＦ 2 、ＣＦ3 ＣＨＦＣＦ2 ＣＨ2
−Ｏ−ＣＦ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2
ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＦ2 ＣＨＦ
2 、ＣＦ3 ＣＦ2ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＦ2 ＣＦ3 、Ｃ
Ｆ3 ＣＨ（ＯＣＨ3 ）2 及び（ＣＦ3 ）2Ｃ（ＯＣ
Ｈ3 ）2 からなる群から選ばれる少なくとも一種の含フ
ッ素エーテルからなることを特徴とするフッ素系溶剤に
ある。
解決する溶剤として、ＣＨＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、Ｃ
Ｈ2 ＦＣＦ2 −Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −
Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3
ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 Ｆ、ＣＨＦ2 ＣＦ2ＣＨ2 −
Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨＦ2 、Ｃ
ＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ3 、ＣＨＦ2 ＣＦ2 −Ｏ
−ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＨ
2 Ｆ、ＣＦ3 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ
2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ
−ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ 2 −Ｏ−ＣＨ2 Ｃ
Ｆ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＨＦ2 、ＣＨ
Ｆ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＦ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 Ｃ
Ｈ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＦ3 、（ＣＦ3 ）2 ＣＨＣＦ2 −Ｏ
−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＨＦＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、Ｃ
Ｆ3 ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＨＦＣ
Ｆ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨＦ 2 、ＣＦ3 ＣＨＦＣＦ2 ＣＨ2
−Ｏ−ＣＦ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2
ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＦ2 ＣＨＦ
2 、ＣＦ3 ＣＦ2ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＦ2 ＣＦ3 、Ｃ
Ｆ3 ＣＨ（ＯＣＨ3 ）2 及び（ＣＦ3 ）2Ｃ（ＯＣ
Ｈ3 ）2 からなる群から選ばれる少なくとも一種の含フ
ッ素エーテルからなることを特徴とするフッ素系溶剤に
ある。
【０００５】特に、引火点を持たない ＣＨ2 ＦＣＦ2
−Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ 2 −Ｏ−ＣＨ2 Ｆ、
ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 Ｃ
Ｈ2−Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ
3 、ＣＨＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＨ
2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＨ2 Ｆ、ＣＦ3 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2Ｃ
ＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ3 、ＣＦ
3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 Ｃ
Ｆ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＦ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2−Ｏ−Ｃ
Ｆ2 ＣＨＦ2 、ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＦ
3 、ＣＦ3 ＣＦ 2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＦ3 、（Ｃ
Ｆ3 ）2 ＣＨＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2
ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＨＦＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−
ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＨＦＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ3 、Ｃ
Ｆ3 ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2ＣＨ3 、ＣＦ3 Ｃ
Ｆ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＦ2 ＣＨＦ2 及びＣＦ3 ＣＦ
2 ＣＦ 2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＦ2 ＣＦ3 からなる群から選ば
れる少なくとも一種の含フッ素エーテルが好ましい。
−Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ 2 −Ｏ−ＣＨ2 Ｆ、
ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 Ｃ
Ｈ2−Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ
3 、ＣＨＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＨ
2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＨ2 Ｆ、ＣＦ3 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2Ｃ
ＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ3 、ＣＦ
3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 Ｃ
Ｆ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＦ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2−Ｏ−Ｃ
Ｆ2 ＣＨＦ2 、ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＦ
3 、ＣＦ3 ＣＦ 2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＦ3 、（Ｃ
Ｆ3 ）2 ＣＨＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2
ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＨＦＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−
ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＨＦＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ3 、Ｃ
Ｆ3 ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2ＣＨ3 、ＣＦ3 Ｃ
Ｆ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＦ2 ＣＨＦ2 及びＣＦ3 ＣＦ
2 ＣＦ 2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＦ2 ＣＦ3 からなる群から選ば
れる少なくとも一種の含フッ素エーテルが好ましい。
【０００６】これらの含フッ素エーテルの中で、ＣＨＦ
2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＨ2 −Ｏ−Ｃ
Ｆ2 ＣＨ2 Ｆ、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＨＦ
2 、（ＣＦ3 ）2 ＣＨＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ3 は、例えば相
当するアルコールとオレフィンを水酸化カリウム存在下
に反応させることにより容易に得られる。
2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＨ2 −Ｏ−Ｃ
Ｆ2 ＣＨ2 Ｆ、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＨＦ
2 、（ＣＦ3 ）2 ＣＨＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ3 は、例えば相
当するアルコールとオレフィンを水酸化カリウム存在下
に反応させることにより容易に得られる。
【０００７】また、ＣＨＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＨ
Ｆ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −
Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＨＦＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、
ＣＦ 3 ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＨ
（ＯＣＨ3 ）2 、（ＣＦ3 ）2Ｃ（ＯＣＨ3 ）2 は、例
えば相当するアルコールまたはヘミアセタールとジメチ
ル硫酸等のアルキル化剤を水酸化カリウム存在下に反応
させることにより容易に得られる。
Ｆ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −
Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＨＦＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、
ＣＦ 3 ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＨ
（ＯＣＨ3 ）2 、（ＣＦ3 ）2Ｃ（ＯＣＨ3 ）2 は、例
えば相当するアルコールまたはヘミアセタールとジメチ
ル硫酸等のアルキル化剤を水酸化カリウム存在下に反応
させることにより容易に得られる。
【０００８】そして、ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ
Ｆ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＨ
ＦＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨＦ2 は、例えば相当するアル
コールとクロロジフルオロメタンを水酸化カリウム存在
下に反応させることにより容易に得られる。
Ｆ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＨ
ＦＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨＦ2 は、例えば相当するアル
コールとクロロジフルオロメタンを水酸化カリウム存在
下に反応させることにより容易に得られる。
【０００９】そしてまた、ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−
ＣＦ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2ＣＨＦ2 、ＣＦ3 Ｃ
Ｆ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −
Ｏ−ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2
ＣＦ3 、ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ 2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＦ3 、Ｃ
Ｆ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＦ3 、ＣＦ3 ＣＨＦＣ
Ｆ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ2 −
Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 Ｃ
Ｆ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ 2 ＣＦ2
ＣＦ3 は、例えば相当する酸フロリドまたは酸クロリド
をフッ化カリウムの存在下に相当するトリフルオロメチ
ルスルホン酸エステル等のアルキル化剤と反応させるこ
とにより容易に得られる。
ＣＦ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2ＣＨＦ2 、ＣＦ3 Ｃ
Ｆ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −
Ｏ−ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2
ＣＦ3 、ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ 2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＦ3 、Ｃ
Ｆ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＦ3 、ＣＦ3 ＣＨＦＣ
Ｆ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ2 −
Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 Ｃ
Ｆ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ 2 ＣＦ2
ＣＦ3 は、例えば相当する酸フロリドまたは酸クロリド
をフッ化カリウムの存在下に相当するトリフルオロメチ
ルスルホン酸エステル等のアルキル化剤と反応させるこ
とにより容易に得られる。
【００１０】さらに、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2
Ｆは、例えば、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2−Ｏ−ＣＨ3 を塩素
化した後フッ素化することにより容易に得られる。さら
にまた、ＣＨ2 ＦＣＦ2 −Ｏ- ＣＨＦ2 は、例えば、Ｃ
ＨＣｌＦＣＦ2 −Ｏ−ＣＨＦ 2 と (ｎＢｕ) 3 ＳｎＨを
α, α'-アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）触媒
量存在下に反応させることにより容易に得られる。
Ｆは、例えば、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2−Ｏ−ＣＨ3 を塩素
化した後フッ素化することにより容易に得られる。さら
にまた、ＣＨ2 ＦＣＦ2 −Ｏ- ＣＨＦ2 は、例えば、Ｃ
ＨＣｌＦＣＦ2 −Ｏ−ＣＨＦ 2 と (ｎＢｕ) 3 ＳｎＨを
α, α'-アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）触媒
量存在下に反応させることにより容易に得られる。
【００１１】本発明で使用する含フッ素エーテルの主な
物性を表１、表２に示す。本発明のフッ素系溶剤は、必
要に応じてその他の成分をさらに含有してもよい。例え
ば、炭化水素類、フッ素化炭化水素類、アルコール類、
フッ素化アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステ
ル類、有機窒素化合物類、有機硫黄化合物類及び有機ケ
イ素化合物類からなる群から選ばれる１種または２種以
上を、フッ素系溶剤中に１〜５０重量％、好ましくは１
〜２０重量％含有してもよい。
物性を表１、表２に示す。本発明のフッ素系溶剤は、必
要に応じてその他の成分をさらに含有してもよい。例え
ば、炭化水素類、フッ素化炭化水素類、アルコール類、
フッ素化アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステ
ル類、有機窒素化合物類、有機硫黄化合物類及び有機ケ
イ素化合物類からなる群から選ばれる１種または２種以
上を、フッ素系溶剤中に１〜５０重量％、好ましくは１
〜２０重量％含有してもよい。
【００１２】炭化水素類としては、具体的にはペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン等の脂肪族あるいは芳香族炭化水素
類が挙げられる。またフッ素化炭化水素類としては、Ｈ
ＦＣ４３−１０ｍｅｅ（ＣＦ3ＣＦ2 ＣＨＦＣＨＦＣＦ
3 ）、ＨＦＣ３３８ｐｃｃ（ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＨ
Ｆ2 ）等が挙げられる。アルコール類としては、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、
ブタノール、カルビトール等が挙げられる。フッ素化ア
ルコール類としては、トリフルオロエタノール、ヘキサ
フルオロ−２−プロパノール、ペンタフルオロプロパノ
ール等が挙げられる。
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン等の脂肪族あるいは芳香族炭化水素
類が挙げられる。またフッ素化炭化水素類としては、Ｈ
ＦＣ４３−１０ｍｅｅ（ＣＦ3ＣＦ2 ＣＨＦＣＨＦＣＦ
3 ）、ＨＦＣ３３８ｐｃｃ（ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＨ
Ｆ2 ）等が挙げられる。アルコール類としては、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、
ブタノール、カルビトール等が挙げられる。フッ素化ア
ルコール類としては、トリフルオロエタノール、ヘキサ
フルオロ−２−プロパノール、ペンタフルオロプロパノ
ール等が挙げられる。
【００１３】エーテル類としては、ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、モノグライム、ジグライム等が挙げられ
る。ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、シクロペンタノ
ン、シクロヘキサノン等が挙げられる。エステル類とし
ては、カルボン酸エステル、例えばギ酸エステル、酢酸
エステル等が挙げられる。
ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、モノグライム、ジグライム等が挙げられ
る。ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、シクロペンタノ
ン、シクロヘキサノン等が挙げられる。エステル類とし
ては、カルボン酸エステル、例えばギ酸エステル、酢酸
エステル等が挙げられる。
【００１４】有機窒素化合物類としては、アセトニトリ
ル、ニトロベンゼン、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチ
ルピロリドン等が挙げられる。有機硫黄化合物類として
は、ジメチルスルホキシド、スルホラン等が挙げられ
る。有機ケイ素化合物類としては、具体的にはテトラメ
チルシラン、テトラエチルシラン、メトキシトリメチル
シラン、エトキシトリメチルシラン、ヘキサメチルジシ
ロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙
げられる。
ル、ニトロベンゼン、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチ
ルピロリドン等が挙げられる。有機硫黄化合物類として
は、ジメチルスルホキシド、スルホラン等が挙げられ
る。有機ケイ素化合物類としては、具体的にはテトラメ
チルシラン、テトラエチルシラン、メトキシトリメチル
シラン、エトキシトリメチルシラン、ヘキサメチルジシ
ロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙
げられる。
【００１５】本発明のフッ素系溶剤は、過酷な条件での
使用に際しては更に各種の安定剤を含有させてもよい。
安定剤としては、蒸留操作により同伴留出されるもの、
あるいは共沸様混合物を形成するものが望ましい。
使用に際しては更に各種の安定剤を含有させてもよい。
安定剤としては、蒸留操作により同伴留出されるもの、
あるいは共沸様混合物を形成するものが望ましい。
【００１６】このような安定剤の具体例としては、ニト
ロメタン、ニトロエタン等の脂肪族ニトロ化合物類；ニ
トロベンゼン、ニトロスチレン等の芳香族ニトロ化合物
類、ジメトキシメタン、１, ２−ジメトキシエタン、
１, ４−ジオキサン、１, ３,５−トリオキサン等のエ
ーテル類；グリシド−ル、メチルグリシジルエーテル、
アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテ
ル、１, ２−ブチレンオキシド、シクロヘキセンオキシ
ド、エピクロルヒドリン等のエポキシド類；ヘキセン、
ヘプテン、ペンタジエン、シクロペンテン、シクロヘキ
セン等の不飽和炭化水素類；アリルアルコール、１−ブ
テン−３−オール等のエチレン系アルコール類、３−メ
チル−１−ブチン−３−オール、３−メチル−１−ペン
チン−３−オール等のアセチレン系アルコール類、アク
リル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、
メタクリル酸ビニル等のアクリル酸またはメタクリル酸
エステル類が挙げられる。これらの安定剤は、単独で使
用してもよく或いは２種以上組み合わせて使用してもよ
い。
ロメタン、ニトロエタン等の脂肪族ニトロ化合物類；ニ
トロベンゼン、ニトロスチレン等の芳香族ニトロ化合物
類、ジメトキシメタン、１, ２−ジメトキシエタン、
１, ４−ジオキサン、１, ３,５−トリオキサン等のエ
ーテル類；グリシド−ル、メチルグリシジルエーテル、
アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテ
ル、１, ２−ブチレンオキシド、シクロヘキセンオキシ
ド、エピクロルヒドリン等のエポキシド類；ヘキセン、
ヘプテン、ペンタジエン、シクロペンテン、シクロヘキ
セン等の不飽和炭化水素類；アリルアルコール、１−ブ
テン−３−オール等のエチレン系アルコール類、３−メ
チル−１−ブチン−３−オール、３−メチル−１−ペン
チン−３−オール等のアセチレン系アルコール類、アク
リル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、
メタクリル酸ビニル等のアクリル酸またはメタクリル酸
エステル類が挙げられる。これらの安定剤は、単独で使
用してもよく或いは２種以上組み合わせて使用してもよ
い。
【００１７】またさらに、相乗的安定化効果を得る為
に、フェノール類、アミン類、ベンゾトリアゾール類を
併用してもよい。安定剤の使用量は、安定剤の種類等に
より異なるが、通常本発明のフッ素系溶剤中に０. ０１
〜１０重量％、好ましくは０.１〜５重量％の範囲とす
ることが望ましい。
に、フェノール類、アミン類、ベンゾトリアゾール類を
併用してもよい。安定剤の使用量は、安定剤の種類等に
より異なるが、通常本発明のフッ素系溶剤中に０. ０１
〜１０重量％、好ましくは０.１〜５重量％の範囲とす
ることが望ましい。
【００１８】また、本発明フッ素系溶剤には、洗浄力、
界面作用等をより一層改善する為に、必要に応じて各種
の界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤としては、
ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート
等のソルビタン脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレン
ソルビタンモノオレエート等のポリオキシエチレンソル
ビタン脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンモノラウ
レート等のポリエチレングリコール脂肪酸エステル類；
ポリオキシエチレンラウリルエーテル等のポリオキシエ
チレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンノニル
フェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル類；ポリオキシエチレンオレイン酸アミド
等のポリオキシエチレン脂肪酸アミド類等のノニオン系
界面活性剤が挙げられ、単独で使用してもよく、あるい
は２種以上組み合わせて使用してもよい。
界面作用等をより一層改善する為に、必要に応じて各種
の界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤としては、
ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート
等のソルビタン脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレン
ソルビタンモノオレエート等のポリオキシエチレンソル
ビタン脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンモノラウ
レート等のポリエチレングリコール脂肪酸エステル類；
ポリオキシエチレンラウリルエーテル等のポリオキシエ
チレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンノニル
フェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル類；ポリオキシエチレンオレイン酸アミド
等のポリオキシエチレン脂肪酸アミド類等のノニオン系
界面活性剤が挙げられ、単独で使用してもよく、あるい
は２種以上組み合わせて使用してもよい。
【００１９】相乗的に洗浄力及び界面作用を改善する目
的で、これらのノニオン系界面活性剤に加えてカチオン
系界面活性剤又はアニオン系界面活性剤を併用してもよ
い。界面活性剤の使用量は、その種類等により異なる
が、通常本発明のフッ素系溶剤中０. １〜２０重量％で
あり、好ましくは０. ３〜５重量％の範囲が望ましい。
的で、これらのノニオン系界面活性剤に加えてカチオン
系界面活性剤又はアニオン系界面活性剤を併用してもよ
い。界面活性剤の使用量は、その種類等により異なる
が、通常本発明のフッ素系溶剤中０. １〜２０重量％で
あり、好ましくは０. ３〜５重量％の範囲が望ましい。
【００２０】本発明のフッ素系溶剤は、物品表面からフ
ラックス、油等の汚れまたは水分を除去するために使用
でき、従来のフロン１１３や１, １, １−トリクロロエ
タンの代替物として極めて有用なものである。除去でき
る汚れには、フラックス、油、グリース、ワックス、イ
ンキ等の汚れ、又はドライクリーニングで除去する各種
汚れ等がある。
ラックス、油等の汚れまたは水分を除去するために使用
でき、従来のフロン１１３や１, １, １−トリクロロエ
タンの代替物として極めて有用なものである。除去でき
る汚れには、フラックス、油、グリース、ワックス、イ
ンキ等の汚れ、又はドライクリーニングで除去する各種
汚れ等がある。
【００２１】物品の種類には、電子部品（プリント基
板、液晶表示器、磁気記録部品、半導体材料等）、電機
部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学レンズ、衣料
品等が挙げられる。汚れ又は水分を除去する方法として
は、浸漬、スプレ−、沸騰洗浄、超音波洗浄、蒸気洗浄
等或いはこれらの組み合わせ等の従来から用いられてい
る方法が採用できる。また、本発明のフッ素系溶剤は、
従来のフロンと同様に塗料用溶剤、抽出剤、反応溶媒、
熱媒体及び発泡剤等の各種用途にも使用できる。
板、液晶表示器、磁気記録部品、半導体材料等）、電機
部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学レンズ、衣料
品等が挙げられる。汚れ又は水分を除去する方法として
は、浸漬、スプレ−、沸騰洗浄、超音波洗浄、蒸気洗浄
等或いはこれらの組み合わせ等の従来から用いられてい
る方法が採用できる。また、本発明のフッ素系溶剤は、
従来のフロンと同様に塗料用溶剤、抽出剤、反応溶媒、
熱媒体及び発泡剤等の各種用途にも使用できる。
【００２２】
【実施例】以下に実施例を示し、本発明の特徴とすると
ころを一層明確にする。勿論、本発明は、これらの実施
例によって限定されるものではない。 ［実施例１］表３、表４に示す含フッ素エーテルを用い
てフラックスの洗浄試験を行った。テストピース（ＳＵ
Ｓ−３１６；５０ｍｍ×１０ｍｍ×１ｍｍ）をフラック
ス〔アサヒ化学研究所製ＧＸ−８Ｓ〕に浸漬した後、取
り出して２００℃で１分間加熱処理した。そのテストピ
ースを参考例１中で１分間超音波洗浄し、次いで温風乾
燥した。フラックスの除去状況（○；良好、×；不良）
は肉眼で観察し、その結果を表３（Ｎｏ．１〜１５）、
表４（Ｎｏ．１６〜２７）に示した。
ころを一層明確にする。勿論、本発明は、これらの実施
例によって限定されるものではない。 ［実施例１］表３、表４に示す含フッ素エーテルを用い
てフラックスの洗浄試験を行った。テストピース（ＳＵ
Ｓ−３１６；５０ｍｍ×１０ｍｍ×１ｍｍ）をフラック
ス〔アサヒ化学研究所製ＧＸ−８Ｓ〕に浸漬した後、取
り出して２００℃で１分間加熱処理した。そのテストピ
ースを参考例１中で１分間超音波洗浄し、次いで温風乾
燥した。フラックスの除去状況（○；良好、×；不良）
は肉眼で観察し、その結果を表３（Ｎｏ．１〜１５）、
表４（Ｎｏ．１６〜２７）に示した。
【００２３】［参考例１、比較例１］実施例１の含フッ
素エーテルに代えて、フロン１１３とペルフルオロヘキ
サンを用いた以外は、実施例１と同様に試験を行い、そ
の結果を表４（Ｎｏ．２８：参考例１、Ｎｏ．２９：比
較例１）に示した。
素エーテルに代えて、フロン１１３とペルフルオロヘキ
サンを用いた以外は、実施例１と同様に試験を行い、そ
の結果を表４（Ｎｏ．２８：参考例１、Ｎｏ．２９：比
較例１）に示した。
【００２４】［実施例２］表５、表６に示す含フッ素エ
ーテル９５重量％とメタノール（ＭｅＯＨ）５重量％、
エタノール（ＥｔＯＨ）５重量％，又はイソプロパノー
ル（ｉＰｒＯＨ）５重量％との混合組成物をそれぞれ別
個に用いて付着水の除去試験を行った。予めよく脱脂洗
浄したガラス板（３０ｍｍ×２０ｍｍ×１ｍｍ）を純水
に浸漬し、次いで上記の混合組成物中に３０秒間浸漬し
た。取り出したガラス板を常温下で１分間放置して残存
していた混合組成物を蒸発させた後、無水メタノール中
に浸漬し、そのメタノールの水分増加量をカールフィッ
シャー水分計により測定した。一方、純水に浸漬しただ
けで上記の混合組成物中に浸漬しなかった場合のメタノ
ールの水分増加量との比較から、付着水の除去状況
（○；良好、×；不良）を調べ、その結果を表５（Ｎ
ｏ．１〜１５）、表６（Ｎｏ．１６〜２７）に示した。
ーテル９５重量％とメタノール（ＭｅＯＨ）５重量％、
エタノール（ＥｔＯＨ）５重量％，又はイソプロパノー
ル（ｉＰｒＯＨ）５重量％との混合組成物をそれぞれ別
個に用いて付着水の除去試験を行った。予めよく脱脂洗
浄したガラス板（３０ｍｍ×２０ｍｍ×１ｍｍ）を純水
に浸漬し、次いで上記の混合組成物中に３０秒間浸漬し
た。取り出したガラス板を常温下で１分間放置して残存
していた混合組成物を蒸発させた後、無水メタノール中
に浸漬し、そのメタノールの水分増加量をカールフィッ
シャー水分計により測定した。一方、純水に浸漬しただ
けで上記の混合組成物中に浸漬しなかった場合のメタノ
ールの水分増加量との比較から、付着水の除去状況
（○；良好、×；不良）を調べ、その結果を表５（Ｎ
ｏ．１〜１５）、表６（Ｎｏ．１６〜２７）に示した。
【００２５】［参考例２］実施例２の含フッ素エーテル
に代えて、フロン１１３を用いること以外は、実施例２
と同様に試験を行い、その結果を表６（Ｎｏ．２８：参
考例２）に示した。
に代えて、フロン１１３を用いること以外は、実施例２
と同様に試験を行い、その結果を表６（Ｎｏ．２８：参
考例２）に示した。
【００２６】
【表１】
【００２７】
【表２】
【００２８】
【表３】
【００２９】
【表４】
【００３０】
【表５】
【００３１】
【表６】
【００３２】
【発明の効果】本発明は、上記の構成を採用することに
より、塩素原子を含まないため、オゾン層破壊の心配が
なく、また、水素原子を含むため、大気中の水酸基ラジ
カルとの反応性が高く、対流圏で分解され易いため、温
室効果が小さく、かつ、フロン１１３に替わる洗浄用溶
剤、水切り乾燥用溶剤として有用な溶剤組成物の提供を
可能にした。
より、塩素原子を含まないため、オゾン層破壊の心配が
なく、また、水素原子を含むため、大気中の水酸基ラジ
カルとの反応性が高く、対流圏で分解され易いため、温
室効果が小さく、かつ、フロン１１３に替わる洗浄用溶
剤、水切り乾燥用溶剤として有用な溶剤組成物の提供を
可能にした。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山下 史朗 東京都文京区本郷２丁目40番17号 本郷岩 井ビル６階 財団法人 地球環境産業技術 研究機構 新世代冷媒プロジェクト室内 (72)発明者 伊藤 晴明 東京都文京区本郷２丁目40番17号 本郷岩 井ビル６階 財団法人 地球環境産業技術 研究機構 新世代冷媒プロジェクト室内 (72)発明者 後藤 嘉彦 東京都文京区本郷２丁目40番17号 本郷岩 井ビル６階 財団法人 地球環境産業技術 研究機構 新世代冷媒プロジェクト室内 (72)発明者 望月 雄司 東京都文京区本郷２丁目40番17号 本郷岩 井ビル６階 財団法人 地球環境産業技術 研究機構 新世代冷媒プロジェクト室内 (72)発明者 長崎 順隆 東京都文京区本郷２丁目40番17号 本郷岩 井ビル６階 財団法人 地球環境産業技術 研究機構 新世代冷媒プロジェクト室内 (72)発明者 関屋 章 茨城県つくば市東１丁目１番 工業技術院 物質工学工業技術研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 ＣＨＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＨ2 Ｆ
ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨＦ 2 、ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−Ｃ
Ｈ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2
ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 Ｆ、ＣＨＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−Ｃ
ＨＦ2 、ＣＦ 3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＨＦ2
ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ3 、ＣＨＦ2ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ
2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＨ2 Ｆ、ＣＦ
3 ＣＦ 2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −
Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ 2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 Ｃ
ＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＦ3 、ＣＦ
3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＨＦ2 、ＣＨＦ2 ＣＦ2
ＣＨ2 −Ｏ−ＣＦ2 ＣＦ 3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−
ＣＦ2 ＣＦ3 、（ＣＦ3 ）2 ＣＨＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ3 、
ＣＦ3 ＣＨＦＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＦ2
ＣＦ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ3 、ＣＦ3 ＣＨＦＣＦ2 ＣＨ2
−Ｏ−ＣＨＦ2 、ＣＦ3 ＣＨＦＣＦ2 ＣＨ 2 −Ｏ−ＣＦ
3 、ＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ3 、Ｃ
Ｆ3 ＣＦ2ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＦ2 ＣＨＦ2 、ＣＦ3
ＣＦ2 ＣＦ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＦ2 ＣＦ3 、ＣＦ3 ＣＨ
（ＯＣＨ3 ）2 及び（ＣＦ3 ）2 Ｃ（ＯＣＨ3 ）2 から
なる群から選ばれる少なくとも１種の含フッ素エーテル
からなるフッ素系溶剤。 - 【請求項２】 アルコール類及び請求項１記載のフッ素
系溶剤を含む溶剤組成物。 - 【請求項３】 請求項１記載のフッ素系溶剤又は請求項
２記載の溶剤組成物を用いて物品表面から汚れ又は水分
を除去する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7069641A JP2870577B2 (ja) | 1995-03-28 | 1995-03-28 | 溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7069641A JP2870577B2 (ja) | 1995-03-28 | 1995-03-28 | 溶剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08259995A true JPH08259995A (ja) | 1996-10-08 |
| JP2870577B2 JP2870577B2 (ja) | 1999-03-17 |
Family
ID=13408697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7069641A Expired - Lifetime JP2870577B2 (ja) | 1995-03-28 | 1995-03-28 | 溶剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2870577B2 (ja) |
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| JPH08245470A (ja) * | 1995-03-10 | 1996-09-24 | Agency Of Ind Science & Technol | 含フッ素エーテル及び２−プロパノールからなる共沸様組成物 |
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| US3976788A (en) | 1973-06-25 | 1976-08-24 | Baxter Laboratories, Inc. | Antipsychotic agents |
-
1995
- 1995-03-28 JP JP7069641A patent/JP2870577B2/ja not_active Expired - Lifetime
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