JPH08247711A - フィラメントの場所をモニタおよび制御する方法および1つの表面までの距離を測定する装置 - Google Patents
フィラメントの場所をモニタおよび制御する方法および1つの表面までの距離を測定する装置Info
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- JPH08247711A JPH08247711A JP7350018A JP35001895A JPH08247711A JP H08247711 A JPH08247711 A JP H08247711A JP 7350018 A JP7350018 A JP 7350018A JP 35001895 A JP35001895 A JP 35001895A JP H08247711 A JPH08247711 A JP H08247711A
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Abstract
するシステムを提供すること。 【解決手段】 このシステムは、ファイバ(13)に照
射される放射線のビ−ム(25)と、ファイバ(13)
から散乱された光を変調する空間的周波数ωMを有する
ロンキ・ル−リング(50)と、正の焦点距離を有する
レンズ系(27)と、そのレンズ系の後部焦点面内に配
置された検知器(31)を具備している。このしすてむ
の構成要素をこのように配列することによって、ファイ
バ(13)とロンキ・ル−リング(50)の間の距離は
検知器における変調された光の空間的周波数ωDの線形
関数である。ωDを決定するためには、種々の手法を使
用することができるが、好ましい手法が図9に示されて
いる。
Description
他の透明なフィラメントの位置をモニタする方法および
装置に関する。より一般的には、本発明は物体までのま
たは物体の表面の一部分までの距離を測定する方法およ
び装置に関する。
3628号、第5309221号、第3982816
号、第4067651号、第4280827号、Applie
d Optics., Vo. 19, p.2031-2033 (1980)、およびヨ−
ロパ特許公報第608528号は、プリフォ−ムからフ
ァイバを線引きしていいるときに、光導波路ファイバ、
および非円形ファイバの欠陥モニタを含めて、種々の特
性をモニタするための技術について記述している。
に示されている。
イプのファイバ・モニタ・システムに他の機能、すなわ
ちファイバが線引きされている時にそのファイバの位置
をモニタしかつコントロ−ルする能力を与える。このよ
うな位置情報は、ファイバを中心位置決めした状態に保
持するためにおよびファイバの長さに沿った定在波の時
間的周波数の測定によってファイバ中のテンションを測
定するために必要とされる。
知器に結像させることおよび/またはファイバのエッジ
を検知することを含む。線引き牽引装置ではファイバ・
モニタリングに利用できるスペ−スが限られているか
ら、公知のタイプの直径・欠陥・被覆モニタに加えて別
個の位置モニタを用いることは望ましくない。
動を検知することができず、したがってファイバ上の定
在波が非常に小さくなるとファイバのテンション情報が
失われてしまうおそれがある。さらに、ファイバを検知
器上に結像させる現在のモニタは、ファイバが検知器で
焦点がずれた状態となるファイバの前後移動に感応す
る。すなわち、ファイバがそれの焦点が合った位置から
前方または後方に移動すると、検知器における側方向の
移動をモニタする能力が低下する。この焦点の喪失によ
って精度が失われることが、ファイバ・テンションを決
定する場合の現在のモニタの有用性を制限している。
的は、光導波路ファイバのような物体までの距離をモニ
タ(測定)するための改良された方法および装置を提供
することである。さらに、本発明の特定の目的は、ハ−
ドウエアの付加を最少限に抑えて、上述したタイプの直
径・欠陥・被覆モニタと組合せることができる位置モニ
タを提供することである。
目的を実現するために、本発明は、それの態様のあるも
のによれば、表面までの距離を決定する装置であって、
複数の空間的に分布された場所(L1、L2)において光
(68、69)を検知するための手段(29、31、1
31)と、表面(17、113)に光のビ−ム(25、
125)を送って、そのビ−ムの少なくとも一部分が表
面(17、113)から検知手段に散乱される、例えば
拡散状態で反射されるようにする照明手段(23、12
3)(散乱光)と、表面(17、113)と検知手段
(29、31、131)の間にあって散乱光を空間的に
変調し、その散乱光の空間的変調が空間周波数ωMを有
するようにする空間的変調手段(50、150)と、検
知手段(29、31、131)において空間的に変調さ
れた散乱光の空間的周波数ωDを決定する手段(20
1、202、203、204、205、206)を具備
しており、空間的変調手段(50、150)と表面(1
7、113)の間の距離がωDの関数であるようになさ
れた、表面までの距離を決定する装置を提供する。
光の空間的周波数ωDを決定する手段は種々の形態を採
ることができる。例えば、この手段はピ−ク(peak
s)、バレ−(valleys)、および/またはゼロ交差(ze
ro crossings)に基づいて縞計数(fringe counting)
を行うことができるものであり、その縞計数は検知手段
によって発生された空間的デ−タに対してあるいは数値
的に平滑化または濾波された空間的デ−タに対して直接
行なわれる。縞計測のためには、空間的周波数ω Dは係
数された縞の数を検知手段の特性寸法、例えば検知手段
の長さで割ったものである。本発明の好ましい実施例で
は、空間的周波数ωDは、検知手段によって発生された
空間的デ−タの変換、好ましくはフ−リエ変換を行うこ
とによって空間的周波数領域で決定される。もし所望さ
れれば、さざ波手法(wavelet approach)のような他の
空間的周波数領域手法を用いることもできる。
は、この装置は、表面(17、113)と空間的変調手
段(50、150)との間にあり、正の光パワ−を有す
るレンズ系(26、27、127)を具備している。こ
のレンズ系の後部焦点面内に検知手段(29、31、1
31)を配置することによって、空間的変調手段(5
0、150)と表面(17、113)の間の距離がωD
の線形関数となる。
れる距離が光導波路ファイバまでの距離であり、そして
その測定がプリフォ−ムからのファイバの線引きを制御
するための制御系統の一部分として用いられる。その制
御系統はまた、ファイバの直径および気密被覆の厚さを
コントロ−ルし、かつファイバの欠陥をモニタすること
が好ましい。
置モニタ装置の構成要素を示している。ファイバ13は
図4においてAおよびBで示された2つの位置で示され
ている。ファイバからの光は空間的変調手段50と、レ
ンズ系27を通り、検知器31によって検知される。検
知器31は前述の米国特許第5309221号に記載さ
れているタイプのものでありうる。
有しており、それを通る光をその空間的周波数で空間的
に変調する。この空間的変調手段は、伝送、位相、ある
いは他の光学的特性が周期的に変化するマスクまたは同
様の装置であるうる。
キ・ル−リング(Ronchi ruling)である。したがっ
て、下記の説明はそのようなル−リングについてなされ
るが、もし所望されれば、他の空間的変調手段を用いて
もよいことが理解されるであろう。
グは不透明なスリットと透明なスリットの交互の配列よ
りなり、それは例えばクロム・ストリップをガラス板上
に配置することによって形成され得る。その不透明なス
リットはすべて同一の幅を有し、かつ透明なスリットも
すべて同一の幅を有しているが、不透明なスリットと透
明なスリットの幅は同一である必要はない。したがっ
て、リンキ・ル−リングは、それの空間的周波数ω
M(例えば透明なスリット間の間隔上の空間的周波数で
与えられる)のほかに、それのデュ−ティサイクル、す
なわち不透明なスリットの幅と、不透明なスリットの幅
および透明なスリットの幅の和との比によって特徴づけ
られる。
−リングに対する好ましいデュ−ティサイクルは約0.15
である。すなわち、ロンキ・ル−リングの面積の約15%
が不透明である。このデュ−ティサイクルは、検知器3
1において比較的高いレベルの照明を与えるので、すな
わち検知器における光欠乏の問題を回避するので、好ま
しい。もちろん、もし所望されれば、本発明の実施には
他のデュ−ティサイクルを用いてもよい。
よび27のファイバ側にル−リングを取り付けるだけ
で、図2に示されたタイプの直径・欠陥・被覆モニタに
容易に付加され得る。ロンキ・ル−リングは手頃な値段
で市販されている。
装置の出力を直線化する装置の任意の構成要素である。
前述の米国特許第5309221号に記載されているタ
イプのレンズ系が本発明の実施に使用され得る。
キ・ル−リングと検知器の間に配置されることが好まし
く、かつレンズ系の焦点距離fだけ検知器から離間され
ている。すなわち、検知器はレンズ系の焦点面内、特に
それの後部焦点面内にある。レンズ系の焦点面は対象空
間内の平行光線がその系の光軸から共通の半径距離にお
ける焦点面と交差するという重要な特性を有する。
51は系の光軸であり、そしてLはその光軸からの半径
方向の距離である。直線検知器31では、その検知器が
光学軸上に中心位置決めされているとすると、Lはその
検知器の中心からの距離にすぎない。この図に示されて
いるように、平行光線61および62はすべて、距離L
で検知器31に当るようにレンズ系27によって屈折さ
れる。
出る。したがって、この光線は、レンズ系によって屈折
された後で、図5において64で示されているように光
軸と平行に進行する。この光線を使って、光軸と角度Θ
で交差するすべての光線に対応した検知器における距離
Lが容易に決定され得る。具体的には、図5に示されて
いるように、Lは L = f ・ tan Θ (1) で与えられる。ただし、上述のように、fはレンズ系の
焦点距離である。
点面内の所定の長さの検知器が、その検知器からのファ
イバの距離に関係なく、ファイバから来た光の同じ角度
的広がりを見ることを示すものと解釈され得る。この効
果は、長さがレンズ系の光軸のまわりにおける16oの角
度的広がりに相当する検知器について概略的に示されて
いる。この図に示されているように、検知器31は、フ
ァイバ13が位置Aにあるか位置Bにあるかに関係な
く、±8oの範囲内の光を見る。
的に示されており、50はこの図の紙面に直交関係に配
向された不透明スリット55および透明スリット56を
有するロンキ・ル−リングである。透明スリット56
は、1/ωMに等しい距離dだけ互いに離間されている。ロ
ンキ・ル−リングは検知器31から距離Sだけ離間され
ている。
たファイバを考えよう。このファイバからの光線68お
よび69はそれぞれ tan θ1 = L1/(D + S) tan θ2 = L2/(D + S) によって定義される高さL1およびL2において検知器31
に当る。
足しなければならない。 tan θ1 = d/D tan θ2 = 2d/D (2)
トを通る光線に対して下記の式が得られる。 Ln/(D + S) = nd/D
目の被照明領域間の距離は Ln+1 - Ln = d(D + S)/D であり、これは、ωDおよびωMについて、 1/ωD = (D + S)/(ωM・D) となる。
ロンキ・ル−リング50によって空間的に変調された後
で検知器31に到達するファイバからの光についてωD
を決定することによって、モニタ(測定)され得ること
を示している。
くとも一次までは、ファイバの横方向位置には依存しな
い。他の方法と同様に、これは、ル−リング50が図6
において距離dだけ上方に移動されるように結像するこ
とによって見ることができる。平たく言えば、光線68
および69はそれぞれL1およびL2で依然として検知器3
1に当るので、上記の分析は変らない。もちろん、ファ
イバが軸から十分離れるように移動されれば、検知器3
1における被照明領域の数が減少するにつれて、装置の
性能が低下しはじめるであろう。事実、この装置は、フ
ァイバが装置の視界から完全に外にでると、機能を停止
することになる。
線的ではない。ロンキ・ル−リングと検知器との間にレ
ンズ系を設け、検知器をレンズ系の後部焦点面内に配置
することによって、下記のようにして直線性が与えられ
る。
リットに対するθnは tan θn = nd/D によって与えられる。
式をも満足する。 tan θn = Ln/f
下記の関係式をあたえる。 D = f・ωD/ωM
(4)
fに配置され、かつロンキ・ル−リングがレンズ系の正
面に配置された場合には、ファイバのロンキ・ル−リン
グからの距離はωDの直線関数となる。ロンキ・ル−リ
ングはレンズ系の背後に配置されてもよく、それでもそ
の系は働くが、DとωDの関係はもはや一般的に直線性で
はないことに注目されたい。したがって、ロンキ・ル−
リングをレンズ系の前に配置することが好ましい。式
(1)は平行光線に対してのみ精密に該当し、また式
(4)もそのような光線に対してのみ精密に該当するも
のであることにも注目すべきである。
ァイバ、約4.0サイクル/mmのωM値を有するロンキ・ル
−リング、およびレンズ系27の焦点距離fにほぼ等し
いロンキ・ル−リングとファイバとの距離Dについて図
4に示されたタイプの装置の空間的スペクトルを示して
いる。この図に示されているように、このスペクトル
は、空間的周波数ωODが約3.1サイクル/度であるO.
D.成分および空間的周波数ωDが約4.3サイクル/度で
ある位置成分を含んでいる。
71で示された他の2つの成分をも含んでいる。これら
の成分は位置成分とO.D.成分との間のヘテロダイニン
グ(heterodyning)の結果であり、位置成分とO.D.成
分との和および差に相当する空間的周波数で、すなわち
図7において約7.4サイクル/度(4.3 + 3.1)および約
1.2サイクル/度(4.3 - 3.1)で現れる。
に、ヘテロダイン成分をO.D.成分または欠陥成分とし
て誤って識別することにより直径の誤測定および誤った
穴検知の可能性を生ずる。本発明の好ましい実施例によ
れば、これらの問題は、ωODがファイバの予測位置およ
び直径に対して(i)ωDおよび(ii)ωD - ωODより実
質的に小さくなるようにωMを選択することによって回
避することができる。
しい予測されたロンキ・ル−リングとファイバとの距離
に対しておよび約200ミクロンより小さい予測直径を有
するファイバに対しては、12.3サイクル/mmの空間的周
波数を有するロンキ・ル−リングが好ましい。図8に示
されているように、このようなル−リングに対するヘテ
ロダイン、特に、低い周波数のヘテロダインはO.D.成
分よりも十分に高い。
は、ファイバのある位置で位置成分が消える(ドロップ
アウトする)ことがありうることに注目すべきである。
いかなる特定の動作原理にも拘束されることは望まない
が、このようなドロップアウトは、空間的周波の増加に
伴ってロンキ・ル−リングの透明および不透明スリット
の幅が減少する回折効果から生ずるものと考えられてい
る。また、低いデュ−ティサイクルを用いるとこの問題
を悪化させると考えられている。
ωM値は、線引き時におけるファイバの位置のモニタリ
ングに干渉しないドロップアウト位置を有することが認
められた。もちろん、本発明の実施には12.3サイクル/m
m以外のωMの値を用いてもよい。任意の距離測定装置に
使用されるべきωMの特定の値が本明細書の開示から等
業者によって容易に決定され得る。
前述の米国特許第5309221号に開示された分離シ
−ケンス・フ−リエ変換(discrete sequence Fourier
transforms)を用いて計算することができ、高い精度が
要求される場合には、その手法が好ましい。精度は幾分
低いが計算時間が短い他の手法が図9に示されている。
この手法は、2048のピクセルを有する検知器に関して論
述されるであろうが、この手法はそれとは異なる数のピ
クセルを有する検知器にも当業者によって容易に適合さ
れ得ることが理解されるであろう。
な解像度を与えた状態で、計算時間を短縮するために生
デ−タの2048のピクセルから中央の1024のピクセルを選
択することである。つぎに、図9のブロック201に示
されているように、1024の中央ピクセルのデ−タ値のそ
れぞれに下記の形式の複合変調が掛け算される。 exp(-i・n・x・2・π/2048) ただし、iは-1の平方根、nはピクセルの数、そしてxは
位置ピ−クの偏位された空間的周波数がゼロに近いがゼ
ロより大きくなるように選択された所望の変調値であ
る。例えば、最小ωDが12.0サイクル/度より大きいこ
とが予測される場合には、16o検知器の場合のxの好まし
い値は192であり、それが12サイクル/度をゼロに偏位
させるであろう。一般に、4で割切れるxの値を用いるの
が好ましい。
の手法におけるつぎのステップは、変調されたデ−タ値
を26タップ・ロ−パスFIRフィルタで濾波することであ
る。このフィルタは、デシメ−ション・ステップ(deci
mation step)で発生される偽信号を除去するために適
用される。このフィルタは、変調ステップ201によっ
て偏位される直流成分の周波数でノッチを有する。この
フィルタの好ましい係数が下記の表1に示されている。
これらの係数では、このフィルタの平均減衰は-30dBで
ある。 表126タップFIRフィルタに対する係数 H(1) = H(26) = 0.01424 H(2) = H(25) = 0.008238 H(3) = H(24) = 0.01194 H(4) = H(23) = 0.01714 H(5) = H(22) = 0.02362 H(6) = H(21) = 0.03097 H(7) = H(20) = 0.03865 H(8) = H(19) = 0.04614 H(9) = H(18) = 0.05295 H(10) = H(17) = 0.05874 H(11) = H(16) = 0.06324 H(12) = H(15) = 0.06631 H(13) = H(14) = 0.06786
のステップは、1024のピクセルを16対1でデシメ−ト(d
ecimate)することである。このステップは、十分な解
像度を保持しながら、複素高速フ−リエ変換の計算時間
を短縮するために行なわれる。このステップによって10
24のピクセルが64の擬似ピクセルとなされる。
ギングを軽減し、かつ位置ピ−クの空間周波数を十分な
解像度をもって決定できるゆにするためにステップ20
4でウインド−化される。擬似ピクセルは、下記の形式
のブラックマン・ハリス・ウインド−でもってウインド
−化されるのが好ましい。 0.35875 - 0.48829・cos(2・π・n/63) +0.14128・cos
(4・π・n/63) - 0.01168・cos(6・π・n/63) ただし、nは0〜63の範囲の擬似ピクセル指数である。
のステップは、擬似ピクセル値を空間的周波数値に変換
するために64ポイント複素FFTを行うことである。この
複素FFTは、IBM Research Paper RC 1743, February 9,
1967に掲載された"The FastFourier Transform and it
s Applications"という表題の論文に記載されたク−リ
−、ルイスおよびウエルチの技法を用いて行うことがで
きる。また、Rabinerand Gold, Theory and Applicatio
n of Digital Signal Processing, Prentice-Hall, New
York, 1975, page 367、およびcooley et aol., IEEE
Transactionsin Education, March 1969, pages 27-34
も参照されたい。もし所望されれば、他の技法を用いて
もよい。時間を節約するために、この複素FFTによって
発生された周波数係数は大きさを二乗した形のままにな
される。
数係数を発生するので用いられる。また、ヘテロダイン
・ピ−ク(heterodyne peaks)はゼロ周波数を反射させ
る代りに0から63までラップアラウンド(wrap around)
するであろう。このようなラップアラウンドの値は下記
のようにして得ることができる。
は、125ミクロン・ファイバでは位置成分の両側で約3.1
サイクル/度だけ離間される2つのヘテロダインを有す
る(上記を参照されたい)。ステップ202から204
までが実施された後で、位置成分が約13.7サイクル/度
から約1.7サイクル/度まで偏位された場合には、ヘテ
ロダインは約-1.4サイクル/度および約4.8サイクル/
度となる。
は約6.6サイクル/度にラップアラウンドされる。FFTが
用いられた場合には、その下方ヘテロダインが約1.4サ
イクル/度に反射されて、約1.7サイクル/度で位置成
分と干渉するであろう。
の手法における最後のステップは、ωDの値を決定する
ことである。非気密的に被覆されたファイバの場合に
は、上述したドロップアウト領域の外側で、位置ピ−ク
が最も大きいピ−クとなる。したがって、位置ピ−クの
場所は最大の周波数空間ピ−クをまず見出すことによっ
て決定される。その後で、この最大ピ−クの大きさおよ
び最大ピ−クの両側におけるピ−クの大きさに対して放
物線適合(parabolic fit)が行なわれる。位置ピ−ク
の場所は、この放物線曲線がそれの最大値を有する空間
的周波数となる。
テロダインのうちの1つが、あるファイバ位置では、位
置ピ−クよりも大きくなりうる。したがって、位置ピ−
クは、ヘテロダインを排除するために最大ピ−クの探索
領域を限定することによって見出される。例えば、上述
した数値の場合には。最大ピ−クの探索は約2.3サイク
ル/度より下に限定されるであろう。
位置を決定する問題に図9の手法を適用した結果を示し
ている。これらの図に示されているデ−タは図4の装置
を用いて得られたものである。使用されたロンキ・ル−
リングは12.3サイクル/度のωM値および15%のデュ−
ティサイクルを有していた。長期にわたる使用でも、こ
の装置にはドリフトは観察されなかった。
された検知器31におけるωD値を示しており、そして
水平軸は、ファイバのセグメントを数ミクロン以内に位
置決めできるようにするテスト用器具を用いて測定され
たファイバの実際の位置を示している。図11の垂直軸
は、実際の位置とωD位置との差(残差)を示してお
り、そして水平軸は実際の位置を示している。(この装
置は通常図10のもののような曲線を用いて較正される
であろう。)
明白である。ファイバが検知器に接近するにつれて、す
なわち図10の右側に向って移動するにつれて、ωDの
値は直線的に減少する。図11に示されているように、
±150ミル(±3.8mm)における点別誤差は50ミクロンよ
り小さい。この装置の解像度の測定は局部傾斜を決定す
るために3デ−タ点を用いてなされ、そしてその局部傾
斜は解像度の推定として用いられた。この解像度は±15
0ミル(±3.8mm)の範囲にわたって幾分変化することが
認められたが、10ミクロンより悪くなると推定される点
は存在しなかった。これらの誤差および解像度値は、線
引き時におけるファイバの位置をモニタしかつコントロ
−ルするためおよびそのモニタされた位置からファイバ
中のテンションを決定しかつコントロ−ルするのに十分
以上である。もし所望されれば、上述のように、前記の
米国特許第5309221号の解析技術を用いて、より
高い精度を実現することができる。
手法は、前記ヨ−ロッパ特許公報第608538号、米
国特許第5185636号および第5309221号の
ファイバ直径測定、欠陥検知、および気密被覆モニタ手
法と組合されることが好ましい。それらの手法はまた、
米国特許第5283628号に記載されている非円形フ
ァイバの直径を測定するための技法と組合されることが
好ましい。図2に示されているように、これらの技法で
は2つの検知器を用いて、各検知器に対して本発明の方
法と装置が用いられた場合に、ファイバの位置について
2つの測定値を与えるようにすることが好ましい。これ
ら2つの測定値を用いれば、レ−ザビ−ム25によって
画定された平面内におけるファイバの正確な位置が、こ
のような総合的なコントロ−ル装置においてレンズ系2
6、27の前に配置されたロンキ・ル−リングの既知の
位置を用いることによってかつ/または較正によって容
易に決定され得る。
用が図12に示されている。この図は、ロンキ・ル−リ
ング150から散乱させる、例えば拡散的に反射させる
表面113までの距離Dを決定するための装置を示して
いる。この装置はレンズ系27と、このレンズ系の後部
焦点面内に配置された検知器131を具備している。上
述のように、このレンズ系は任意であり、もし所望され
れば省略してもよい。また、表面113上の点141
は、光線143〜146の図示を容易にするために、レ
ンズ系の前方焦点面内に位置づけられて示されている。
距離を決定されるべき表面上の点はもちろんこの位置に
ある必要はない。
7、レンズ系127、そしてロンキ・ル−リング150
の透明スリット148を通る光ビ−ム125を生ずる。
もし所望されれば、この光源は検知器の上方または下方
に配置されてもよく、その場合には、検知器は開孔を具
備する必要はない。光源はコヒレントな単色光ビ−ムを
発生するひつようはないが、もし所望されれば、そのよ
うなビ−ムを用いることができ、例えば、光源としてレ
−ザを用いてもよい。と言うより、ロンキ・ル−リング
150のシャドウが検知器131において十分なコント
ラストを有するように表面113において小さい光のス
ポットを生ずるかぎり、任意のタイプの光源を用いるこ
とができる。
し、したがって距離Dは式(4)によって与えられる。
この装置は、1つの表面までの距離を高精度をもって決
定するための既存の装置と比較して多くの利点を有して
いる。特に、この装置は、このような測定を行うために
過去に用いられたレ−ザ三角測定装置と比較して多くの
利点を有している。
であり限り、カラ−とテクスチャ−のような表面の特徴
に対して本質的に感応しないこと、(2)ロンキ・ル−
リングによって導入された変調が検知器において周囲光
によって完全に消されない限り、周囲光に対して本質的
に感応しないこと、(3)位置の決定がアナログ測定値
に依存していないので本質的に安定であること、および
(4)入射ビ−ムと被検知光との間の内抱角が小さいこ
とを含む。
特徴を与えるように設計され得るが、これらの特徴を本
質的には有しておらず、それらの特徴を与えるために
は、一般に装置のコストと複雑性が増すことになる。特
徴(4)はレ−ザ−三角測定装置には組込むことはでき
ない。なぜなら、その装置は表面に当るビ−ムと検知器
との間に、例えば少なくとも約15oの角度のような大き
な内抱角を必要とするからである。事実、レ−ザ−三角
測定装置の感度はその内抱角が大きくなるにつれて上昇
することになる。
とは、特に穴のようなくっきりとした凹状の面をトレ−
スする場合に、レ−ザ−三角測定装置の重大な欠点とな
る。然るに、本発明では、ビ−ムと検知器と間の内抱角
を±4o以下のように小さくできるので、このような欠点
はない。
び識別ステップを実行するための適当なプログラミング
によって構成されたディジタルコンピュ−タシステムで
実施されるのが好ましい。そのプログラミングは公知の
種々のプログラミング言語で行うことができる。好まし
いプログラミング言語は、科学計算を行うのに特に適し
たC言語である。使用可能な他の言語としては、FORTRA
N、BASIC、PASCAL、C++等がある。
クイップメント・コ−ポレイション、IBM、ヒュ−レ
ット・パッカ−ド等で現在製作されているコンピュ−タ
および周辺機器のような汎用の科学用コンピュ−タおよ
びその周辺機器で構成され得る。あるいは、本発明を実
施するには、多数のディジタル信号処理チップを用いた
システムのような指定されたシステムを用いることもで
きる。
ぎのような特徴、すなわち、毎秒5億回の浮動小数点演
算の処理速度、32ビット浮動小数点のワ−ド長、少な
くとも4メガバイトのメモリ、および少なくとも40メ
ガバイトのディスク記憶容量を有することが好ましい。
このシステムは、光検知器アレイからのデ−タを入力す
る手段と、処理制御で使用するための電気形式とシステ
ムオペレ−タ、メンテナンス要員等による観察のための
ビジュアル形式の両方の形式で位置決定の結果を出力す
るための手段を具備していなければならない。また、そ
の出力は、爾後の分析および/または表示のために、デ
ィスクドライブ、テ−プドライブ等に記憶され得る。
るワトキンス型装置の基本的な要素を示す概略図であ
る。
および制御装置の構成要素を示す概略図である。
ア無しファイバの計算された遠視野干渉じまの周波数ス
ペクトルを示している。
置決めすることの効果を示す概略図である。
31におけるωDの間の関係を決定する場合に用いられ
る幾何学的形状寸法関係を示す概略図である。
欠陥の無い光導波路ファイバの場合の空間的周波数スペ
クトルを示す図である。
欠陥の無い光導波路ファイバの場合の空間的周波数スペ
クトルを示す図である。
ペクトルを発生する好ましい手法を示すブロック図であ
る。
る。
る。
決定するために本発明を用いた場合を示している。
Claims (14)
- 【請求項1】 フィラメントの場所をモニタする方法で
あって、 (a)前記フィラメントの一部分が散乱光源となるよう
に前記フィラメントに放射線のビ−ムを送り、 (b)前記散乱光源からの光を空間的に変調し、この場
合の空間的変調が空間的周波数ωMを有し、 (c)前記空間的に変調された光を検知し、 (d)前記検知された空間的に変調された光に対して空
間的周波数ωDを決定し、前記空間的周波数が前記フィ
ラメントの場所を表わし、 (e)必要に応じて、前記ωDの値から前記フィラメン
トの場所に対する制御信号を発生する工程よりなるフィ
ラメントの場所をモニタする方法。 - 【請求項2】 前記工程(d)は、 前記検知された空間的に変調された光に対する空間的周
波数スペクトルを発生し、 前記フィラメントの場所を表わす前記空間的周波数ωD
を有する前記空間的周波数スペクトルの1つの成分を識
別することによって行なわれる請求項1の方法。 - 【請求項3】 前記工程(b)を行うためにロンキ・ル
−リングが用いられる請求項1の方法。 - 【請求項4】 前記工程(b)と(c)の間で、前記空
間的に変調された光がレンズ系によって変換されて、前
記フィラメントの場所がωDの線形関数となる請求項1
の方法。 - 【請求項5】 前記フィラメントが透明であり、かつ前
記放射線のビ−ムが前記工程(c)で検知される干渉じ
まを生ずる請求項2の方法。 - 【請求項6】 前記空間的周波数スペクトルが前記フィ
ラメントの直径をモニタするために用いられる外径成分
を含んでいる請求項5の方法。 - 【請求項7】 前記外径成分が空間的周波数ωODを有
し、かつωODが前記フィラメントの予測場所および直径
に対して(i)ωDおよび(ii)ωD - ωODより実質的に
小さくなるようにωMが選択される請求項6の方法。 - 【請求項8】 前記空間的周波数スペクトルが前記フィ
ラメントの欠陥を検知するためおよび/または前記フィ
ラメント上の気密被覆の厚さをモニタするために用いら
れる請求項5の方法。 - 【請求項9】 前記工程(b)〜(d)が2つの空間的
に分離された場所のそれぞれで行なわれる請求項1の方
法。 - 【請求項10】 前記放射線ビ−ムが軸線を画定し、か
つ前記2つの空間的に分離された場所がそれぞれ前記軸
線から角度的に変位される請求項9の方法。 - 【請求項11】 フィラメントの場所を制御する方法で
あって、 (a)前記フィラメントの一部分が散乱光源となるよう
に前記フィラメントに放射線のビ−ムを送り、 (b)前記散乱光源からの光を空間的に変調し、この場
合の空間的変調が空間的周波数ωMを有し、 (c)前記空間的に変調された光を検知し、 (d)前記検知された空間的に変調された光に対して空
間的周波数ωDを決定し、前記空間的周波数が前記フィ
ラメントの場所を表わし、 (e)前記ωDの値から前記フィラメントの場所に対す
る制御信号を発生する工程よりなるフィラメントの場所
を制御する方法。 - 【請求項12】 1つの表面までの距離を測定する装置
であった、 複数の空間的に分布された場所において光を検知する検
知手段と、 前記表面に光のビ−ムを送って、前記ビ−ムの少なくと
も一部分が前記表面から前記検知手段に散乱される(散
乱光)ようにする照明手段と、 前記表面と前記検知手段の間にあって、前記散乱光を空
間的に変調し、前記散乱光の空間的変調が空間的周波数
ωMを有するようにする空間的変調手段と、 前記検知手段において前記空間的に変調された散乱光の
空間的周波数ωDを決定する手段よりなり、前記空間的
変調手段と前記表面との間の距離がωDの関数であるよ
うになされた1つの表面までの距離を測定する装置。 - 【請求項13】 前記空間的変調手段がロンキ・ル−リ
ングである請求項12の装置。 - 【請求項14】 前記空間的変調手段と前記検知手段の
間にレンズ系をさらに具備しており、前記レンズ系は正
のパワ−を有し、滑]前記検知手段が前記レンズ系の後
部焦点面内にあり、それによって前記空間的変調手段と
前記表面との間の距離DがωDの線形関数である請求項
12または13の装置。
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