JPH08244353A

JPH08244353A - 感熱記録材料

Info

Publication number: JPH08244353A
Application number: JP7078494A
Authority: JP
Inventors: Kunio Hayakawa; 邦雄早川; Masashi Torii; 昌史鳥居
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1995-03-10
Filing date: 1995-03-10
Publication date: 1996-09-24

Abstract

(57)【要約】【目的】地肌部の保存性に優れた特に高温高湿下での
保存性に優れた感熱記録材料を提供すること。【構成】Ａ）Ｎ置換インドール、Ｂ）カルボニル化合
物、Ｃ）酸性物質を含有し加熱により発色する感熱記録
材料において、前記Ａ）、Ｂ）、Ｃ）の成分のうち少な
くとも１成分が樹脂により表面被覆された化合物を利用
することを特徴とした記録材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は画像及び地肌の保存性に
優れ特に高温高湿下での地肌保存性に優れた記録材料に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】感熱記録材料は一般に支持体上に電子供
与性の無色もしくは淡色の染料前駆体と電子受容性の顕
色剤とを主成分とする感熱記録層を設けたもので、熱ヘ
ッド、熱ペン、レーザ光等で加熱することにより、染料
前駆体と顕色剤とが瞬時に反応し、記録画像が得られる
ものであり、特公昭４３−４１６０号公報、特公昭４５
−１４０３９号公報等に開示されている。このような感
熱記録材料は、比較的簡単な装置で記録が得られ、保守
が容易であること、騒音の発生が少ないなどの利点があ
り、近年、電子計算機、ファクシミリ、券売機、ラベル
プリンター、レコーダー等の記録材料として広範囲な分
野に利用されている。

【０００３】このような電子供与性染料前駆体と電子受
容性顕色剤を用いた感熱記録材料は、外観がよい、感触
がよい、発色濃度が高い等の優れた特性を有す反面、記
録画像部が、ポリ塩化ビニルなどのプラスチック等と接
触し、プラスチック中に含有される可塑剤や添加材など
により消色したり、あるいは食品や化粧品等に含有され
る薬品と接触して容易に記録画像部が消色または地肌部
が発色するなど、記録材料としての保存性が劣るという
欠点を有していた。一方、不可逆反応を利用した感熱記
録材料として、有機還元剤やキレート化剤などを電子供
与体とし、有機金属塩を電子受容体とする金属塩系感熱
記録材料（特公昭３２−８７８７号公報、特公昭３４−
６４８５号公報参照）、イミノ化合物とイソシアナート
化合物からなる感熱記録材料（特開昭５８−３８７３３
号公報、特開昭５８−５４０８５号公報参照）、アルデ
ヒド化合物と活性メチレン基を有する有機縮合化合物及
び顕色剤からなる感熱記録材料（特開平４−２２１６７
５号公報参照）等が知られているが、これら感熱記録材
料は記録画像の安定性は優れているものの、地肌の着色
やカブリ及び熱感度が遅い等の欠点を有している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
従来技術における欠点を改善し、地肌部の保存性に優れ
た特に耐温湿保存性に優れた感熱記録材料を提供するこ
とにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】このような本発明の目的
は、「Ａ）Ｎ置換インドール、Ｂ）カルボニル化合物、
Ｃ）酸性物質を含有し加熱により発色する感熱記録材料
において、前記Ａ）、Ｂ）、Ｃ）の成分のうち少なくと
も１成分が樹脂により表面被覆されたものであることを
特徴とした記録材料」、「Ａ）Ｎ置換インドール、Ｂ）
カルボニル化合物、Ｃ）酸性物質を含有し加熱により発
色する感熱記録材料において、前記Ａ）、Ｂ）、Ｃ）の
成分のうち少なくとも１成分が樹脂により表面被覆され
たものであり、前記樹脂により表面被覆された成分がス
プレードライ法をにより表面被覆されたものであること
を特徴とする感熱記録材料」、「Ａ）Ｎ置換インドー
ル、Ｂ）カルボニル化合物、Ｃ）酸性物質を含有し加熱
により発色する感熱記録材料において、前記Ａ）、
Ｂ）、Ｃ）の成分のうち少なくとも１成分が樹脂により
表面被覆されたものであり、前記樹脂により表面被覆さ
れた成分がスプレードライ法により表面被覆されたもの
であり、前記表面被覆された化合物が芯材と樹脂の比率
が１：０．１〜１：１の範囲であることを特徴とする感
熱記録材料」及び／又は「Ａ）Ｎ置換インドール、Ｂ）
カルボニル化合物、Ｃ）酸性物質を含有し加熱により発
色する感熱記録材料において、前記Ａ）、Ｂ）、Ｃ）の
成分のうち少なくとも１成分が樹脂により表面被覆され
たものであり、前記樹脂により表面被覆された成分がス
プレードライ法により表面被覆されたものであり、前記
表面被覆された化合物が芯材と樹脂の比率が１：０．１
〜１：１の範囲であり、前記表面被覆された成分の平均
粒子径が１５μｍ以下であることを特徴とする感熱記録
材料」により達成される。本発明を実施する場合、樹脂
により表面被覆された化合物に関して説明すると、表面
被覆に用いる手段としてはマイクロカプセルの製法が一
般的であり各種の方法が知られている（久保輝一郎、神
保元二共著、水渡英二、高橋浩及び早川宋八郎編「粉体
−理論と応用−、第二版」（昭５４−５−１２）丸善
ｐ．２４５参照）が、本発明では、被覆方法として容易
であり応用範囲の広いスプレードライ法を利用すること
により被覆を行うことができる。ただし、スプレードラ
イ法の場合、粒子径が大きくなる傾向がある。斯して、
本発明のための検討過程において、スプレードライ法を
注意深く観測すると、表面被覆した化合物の粒子径は被
覆前に比べて１０倍程度大きくなることを確認した。感
熱記録材料において発色成分の粒子系の大きさは、発色
性に影響を及ぼし粒子径が大きすぎると発色性が著しく
低下する。そこで、表面被覆に供する化合物成分の粒径
と被覆された粒子の粒径、及びこれを用いた感熱記録材
料の性能との諸関係について更に検討を加えた結果、本
発明においては表面被覆した発色成分の粒子系は１５μ
ｍ以下であることが望ましくこれ以上大きい粒子径では
発色性が低下してしまい好ましくないとの知見を得、か
つ、そのような望ましい粒径の樹脂被覆粒子を得るため
の原料化合物粒子の具体的な処理手段についても充分な
解決の途を拓くことができた。一方、表面被覆した化合
物の芯剤（発色成分）と樹脂の比率も発色性に影響を及
ぼす。当然のことながら樹脂の比率が多くなるに従い発
色性が低下する。従って、本発明においては表面被覆さ
れた化合物が芯材と樹脂の比率が１：０．１〜１：１の
範囲であることが好ましいとの知見も得た。本発明はこ
のような知見に基づいて完成されたものである。

【０００６】以下、本発明を更に詳しく説明する。本発
明において用いられるＮ置換インドールとしては一般式
（１）で表わされる化合物が好ましい。

【０００７】

【一般式１】｛式（１）中、Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄は水素原子、ハロゲン原
子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未
置換のアリール基、置換もしくは未置換のアラルキル基
を表わし、Ｒ₁は水素原子である場合を除くＲ₂〜Ｒ₄と
同じ定義の基を表わす｝

【０００８】ここで、Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄の具体例として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソ
プロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、クロ
ロメチル基、ヒドロキシエチル基、メトキシエチル基、
フェノキシエチル基、ピリジルエチル基が挙げられ、ま
た、ジクロロフェノキシエチル基などのハロゲン原子、
カルボニル基、シアノ基、アルコキシアルボニル基、オ
キサ基、アリールオキシカルボニル基、置換アミノ基、
ヒドロキシ基などで置換していてもよいアルキル基、フ
ェニル基、トリル基、クロロフェニル基、メトキシフェ
ニル基、アセチルフェニル基、シアノフェニル基、ヒド
ロキシフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、メ
タンスルホニルフェニル基、ナフチル基が挙げられ、さ
らに、ニトロフェニル基などのアルキル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニト
ロ基、アシル基、アリールスルホニル基、ヒドロキシ
基、カルボキシル基等の１個以上で置換されていても良
いフェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル
基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル基、ニトロベ
ンジル基、ヒドロキシベンジル基、メチルベンジル基、
シアノベンジル基が挙げられ、また、メトキシベンジル
基などのアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、シ
アノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基などの１個以上で置換
されていても良いアラルキル基等が挙げられる。

【０００９】一般式（１）で表わされる化合物として具
体例を挙げると次のようなものが挙げられるが必ずしも
これらに限定されるものではない。１−メチルインドー
ル、１−エチルインドール、１−フェニルインドール、
１−ベンジルインドール、１，２−ジメチルインドー
ル、１−メチル−２−フェニルインドール、１−メチル
−２−エチルインドール、１，３−ジメチルインドー
ル、５−クロロ−１−メチル−２−フェニルインドー
ル、５−ヒドロキシ−１，２−ジメチルインドール、５
−メトキシ−１、２−ジメチルインドール、２−メチル
−２−クロロメチルインドール、１−メチル−２−トリ
ルインドール等。

【００１０】本発明において用いられる（Ｂ）カルボニ
ル化合物としては、芳香族アルデヒド化合物、芳香族ケ
トン化合物、複素環アルデヒド化合物等が使用できる。
芳香族アルデヒド化合物、芳香族ケトン化合物としては
一般式（２）で表わされる化合物が好ましい。

【００１１】

【一般式２】｛式（２）中、Ａは水素原子、置換もしくは未置換のア
ルキル基、置換もしくは未置換のアラルキル基、置換も
しくは未置換のアラルキル基をＸは水素原子、ハロゲン
原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは
未置換のアルコキシ基、置換もしくは未置換のアミノ基
を、それぞれ表わす｝

【００１２】一般式（２）で表わされる化合物の具体例
としては次のものが挙げられる。４−ジメチルアミノベ
ンズアルデヒド、４−ジエチルアミノベンズアルデヒ
ド、４−ジベンジルアミノベンズアルデヒド、４−ジフ
ェニルアミノベンズアルデヒド、４−Ｎ−メチル−Ｎ−
ｐージメチルアミノフェニルベンズアルデヒド、４−Ｎ
−エチル−Ｎ−ｐージエチルアミノフェニルベンズアル
デヒド、４−Ｎ−メチル−Ｎ−ｐーメトキシフェニルベ
ンズアルデヒド、４−ビス（ｐートリルアミノベンズア
ルデヒド、４−ジメチルアミノ−２−メチルベンズアル
デヒド、４−ジメチルアミノ−２−メトキシベンズアル
デヒド、４−ジメチルアミノアセトフェノン、４−ジエ
チルアミノアセトフェノン、４−メトキシアセトフェノ
ン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４−メトキシ
ベンゾフェノン、４，４’−ビスジメチルアミノベンゾ
フェノン、４，４’−ビスジエチルアミノアセトフェノ
ン、４−ジメチルアミノ−４’−メトキシベンゾフェノ
ン、４−ジメチルアミノ−４’−メチルベンゾフェノ
ン、４−ジメチルアミノ−４’−クロロベンゾフェノ
ン、複素環アルデヒド化合物としては置換または未置換
のインドール、イソインドール、インダゾール、カルバ
ゾール、キノリン、ピリジン、イソキノリン、シンノリ
ン、キサゾリン、キノキサリン、フタラジン、プリン、
ピロール、イミダゾール、ピラゾール、チオフェン、ベ
ンゾチオフェン、フラン、ベンゾフランなどの複素環部
分を有しかつアルデヒド基を有する化合物が挙げられ
る。更に具体例を示すと以下のものが挙げられる。イン
ドール−３−カルボキシアルデヒド、２−メチルインド
ール−３−カルボキシアルデヒド、１，２−ジメチルイ
ンドール−３−カルボキシアルデヒド、２−フェニルイ
ンドール−３−カルボキシアルデヒド、１−メチル−２
−フェニルインドール−３−カルボキシアルデヒド、１
−メチルインドール−３−カルボキシアルデヒド、カル
バゾール−３−カルボキシアルデヒド、Ｎ−メチルカル
バゾール−３−カルボキシアルデヒド、Ｎ−エチルカル
バゾール−３−カルボキシアルデヒド、Ｎ−フェニルカ
ルバゾール−３−カルボキシアルデヒド、２−クロロ−
６−メトキシ−３−キノリンカルボキシアルデヒド、２
−クロロ−６，７−ジメトキシ−３−キノリンカルボキ
シアルデヒド、２−クロロ−５，６，７−トリメトキシ
−３−キノリンカルボキシアルデヒド、ピリジン−３−
カルボキシアルデヒド、ピロール−２−カルボキシアル
デヒド、４−メチルフラン−２−カルボキシアルデヒ
ド、チオフェン−２−カルボキシアルデヒド、３−メチ
ルベンゾフラン−２−カルボキシアルデヒド。

【００１３】本発明において用いられる酸性成分（酸性
物質）はカルボン酸化合物、フェノール性化合物または
スルホン酸誘導体等の化合物が特に好ましくその具体例
を挙げると、カルボン酸化合物としては、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリル酸、１，２−
ヒドロキシステアリン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク
酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、アクリル酸、プロピオ
ル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、オ
レイン酸、マレイン酸、フマル酸、安息香酸、トルイル
酸、イソプロピル安息香酸、ジメチル安息香酸、トリメ
チル安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、５−クロロイソフタル酸、ベンゼントリカルボン
酸、ベンゼンテトラカルボン酸、ベンゼンペンタンカル
ボン酸、ベンゼンヘキサカルボン酸、フタル酸モノエチ
ル、フルオロ安息香酸、ジクロロ安息香酸、ブロモフタ
ル酸、ニトロ安息香酸、ジニトロ安息香酸、トリニトロ
安息香酸、ニトロイソフタル酸、ヒドロキシ安息香酸、
クロロヒドロキシ安息香酸、ヒドロキシニトロ安息香
酸、４−アリル−２−ヒドロキシ−６−メトキシ安息香
酸、フェノキシ安息香酸、ベンゾイル安息香酸、４，
４’−カルボニル二安息香酸、メルカプト安息香酸、メ
ルチオ安息香酸、アミノ安息香酸、フタルアミド酸、フ
ェニル酢酸、フェニルプロピオン酸、フェニル酪酸、ジ
ヒドロキシフェニル酪酸、２，３−ジブロモ−３−フェ
ニルプロピオン酸、マンデル酸、２，３−エポキシ−３
−フェニルプロピオン酸、フェニルコハク酸、１，２−
ベンゼン二酢酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、βーメチルケ
イ皮酸、５−フェニル−２，４−ペンタジエン酸、クロ
ロケイ皮酸、メトキシクマル酸、フェニルグリオキシ
酸、ベンゾイル酢酸、カルバニル酸、ジヒドロキシ安息
香酸、没食子酸、ナフトエ酸、ヒドロキシナフトエ酸、
ニコチン酸、イソニコチン酸、フロ酸、テノ酸等が挙げ
られ、フェノール化合物としては、４，４’−イソプロ
ピリデンビスフェノール、４，４’−ジフェノールスル
ホン、４−イソプロポキシ−４’−ヒドロキシジフェニ
ルスルホン、４−ベンジルオキシ−４’−ヒドロキシジ
フェニルスルホン、ビス（４−ヒドロキシ−３−アリル
フェニル）スルホン、４−ヒドロキシ安息香酸ベンジ
ル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）酢酸メチル、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）酢酸ベンジル、ビス（４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）スルフィド、４，７
−ビス（４−ヒドロキシフェニルチオ）−３，５−ジオ
キサヘプタン、３，４−ジヒドロキシ−４’−メチルス
ルホン、２，４’−ジフェノールスルホン、１，５−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニルチオ）−３−オキサペンタ
ン、１，３−ビス（４−ヒドロキシクミル）ベンゼン、
プロトカテキュ酸ベンジル、１，３−ビス（４−ヒドロ
キシフェニルチオ）プロパン、１，３−ビス（４−ヒド
ロキシフェニルチオ）ジヒドロキシプロパン等が挙げら
れる。

【００１４】また、スルホン酸誘導体としては、例え
ば、ベンゼンスルホン酸、ｐートルエンスルホン酸、４
−ブロモベンゼンスルホン酸、４−メトキシベンゼンス
ルホン酸、４−ベンジルオキシベンゼンスルホン酸、β
ーナフタレンスルホン酸、１，３−ベンゼンジスルホン
酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、２−ニトロ
ベンゼンスルホン酸、３−ニトロベンゼンスルホン酸、
４−ニトロベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸とメ
タノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、２−フェニルエタノール、１−フェニルプロパノー
ル、ブタノール、イソブタノール、第２ブタノール、第
３ブタノール、アミルアルコール、シクロヘキサノー
ル、２−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロ
ヘキサノール、４−第３ブチルシクロヘキサノール、２
−シクロヘキシルシクロヘキサノール、４−シクロヘキ
シルシクロヘキサノール、２，６ージメチルシクロヘキ
サノール、ベンズヒドロール、１−フェニルエタノー
ル、２，３−ジヒドロインデン−２−オール、２−フェ
ニル−１，３−ジオキサン−５−オール、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、
１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、
２，５−ヘキサンジオール、１，２−シクロヘキサンジ
オール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，４−シ
クロヘキサンジオール、２，２−ビス（４−シクロヘキ
シル）プロパン等とのエステル化合物が挙げられる。

【００１５】具体的には次のようなものが挙げられる。
シクロヘキシル−ｐートルエンスルホネート、シクロヘ
キシルベンゼンスルホネート、シクロヘキシル−ｏーニ
トロベンゼンスルホネート、シクロヘキシル−ｍーニト
ロベンゼンスルホネート、シクロヘキシル−ｐーニトロ
ベンゼンスルホネート、シクロヘキシル−βーナフタレ
ンスルホネート、シクロヘキシルメタンスルホネート、
２−メチルシクロヘキシル−ｐートルエンスルホネー
ト、２−メチルシクロヘキシルベンゼンスルホネート、
２−メチルシクロヘキシル−ｏーニトロベンゼンスルホ
ネート、２−メチルシクロヘキシル−ｍーニトロベンゼ
ンスルホネート、２−メチルシクロヘキシル−ｐーニト
ロベンゼンスルホネート、２−メチルシクロヘキシル−
βーナフタレンスルホネート、２−メチルシクロヘキシ
ルメタンスルホネート、２−シクロヘキシルシクロヘキ
シル−ｐートルエンスルホネート、２−シクロヘキシル
シクロヘキシルベンゼンスルホネート、２−シクロヘキ
シルシクロヘキシル−ｏーニトロベンゼンスルホネー
ト、２−シクロヘキシルシクロヘキシル−ｍーニトロベ
ンゼンスルホネート、２−シクロヘキシルシクロヘキシ
ル−ｐーニトロベンゼンスルホネート、２−シクロヘキ
シルシクロヘキシル−βーナフタレンスルホネート、２
−シクロヘキシルシクロヘキシルメタンスルホネート、
４−第３ブチルシクロヘキシル−ｐートルエンスルホネ
ート、４−第３ブチルシクロヘキシルベンゼンスルホネ
ート、４−第３ブチルシクロヘキシル−ｏーニトロベン
ゼンスルホネート、４−第３ブチルシクロヘキシル−ｍ
ーニトロベンゼンスルホネート、４−第３ブチルシクロ
ヘキシル−ｐーニトロベンゼンスルホネート、４−第３
ブチルシクロヘキシル−βーナフタレンスルホネート、
４−第３ブチルシクロヘキシルメタンスルホネート、
１，３−シクロヘキシレンビス（ｐートルエンスルホネ
ート）、１，３−シクロヘキシレンビス（ベンゼンスル
ホネート）、１，３−シクロヘキシレンビス（ｏーニト
ロベンゼンスルホネート）、１，３−シクロヘキシレン
ビス（ｍーニトロベンゼンスルホネート）、１，３−シ
クロヘキシレンビス（ｐーニトロベンゼンスルホネー
ト）、１，３−シクロヘキシレンビス（βーナフタレン
スルホネート）、１，３−シクロヘキシレンビス（メタ
ンスルホネート）、１，４−シクロヘキシレンビス（ｐ
ートルエンスルホネート）、１，４−シクロヘキシレン
ビス（ベンゼンスルホネート）、１，４−シクロヘキシ
レンビス（ｏーニトロベンゼンスルホネート）、１，４
−シクロヘキシレンビス（ｍーニトロベンゼンスルホネ
ート）、１，４−シクロヘキシレンビス（ｐーニトロベ
ンゼンスルホネート）、１，４−シクロヘキシレンビス
（βーナフタレンスルホネート）、１，４−シクロヘキ
シレンビス（メタンスルホネート）、２，３−ブチレン
ビス（ｐートルエンスルホネート）、２，３−ブチレン
ビス（ベンゼンスルホネート）、２，３−ブチレンビス
（ｏーニトロベンゼンスルホネート）、２，３−ブチレ
ンビス（ｍーニトロベンゼンスルホネート）、２，３−
ブチレンビス（ｐーニトロベンゼンスルホネート）、
２，３−ブチレンビス（βーナフタレンスルホネー
ト）、２，３−ブチレンビス（メタンスルホネート）、
ジフェニルメタン−ｐートルエンスルホネート、ジフェ
ニルメタンベンゼルスルホネート、ジフェニルメタン−
ｏーニトロベンゼンスルホネート、ジフェニルメタン−
ｍーニトロベンゼンスルホネート、ジフェニルメタン−
ｐーニトロベンゼンスルホネート、ジフェニルメタン−
βーナフタレンスルホネート、ジフェニルメタンスルホ
ネート、１−フェニルエチル−ｐートルエンスルホネー
ト、１−フェニルエチルベンゼンスルホネート、１−フ
ェニルエチル−ｏーニトロベンゼンスルホネート、１−
フェニルエチル−ｍーニトロベンゼンスルホネート、１
−フェニルエチル−ｐーニトロベンゼンスルホネート、
１−フェニルエチル−βーナフタレンスルホネート、１
−フェニルエチルメタンスルホネート、４−シクロヘキ
シルシクロヘキシルベンゼンスルホネート、２−フェニ
ル−１，３−ジオキサン−５−イルベンゼンスルホネー
ト、２，３−ジヒドロインデン−２−イルベンゼンスル
ホネート。本発明においてＡ）Ｎ置換インドール、Ｂ）
カルボニル化合物、Ｃ）酸性物質を構成要素として発色
させることが可能であるが、更にＤ）キノン化合物を併
用することにより信頼性のより高い画像を得ることがで
きる。本発明において用いられる好ましいＤ）キノン化
合物としては一般式（４）、一般式（５）で表わされる
化合物が挙げられる。

【００１６】

【一般式４】

【００１７】

【一般式５】｛式（４）及び式（５）中、Ｒ１〜Ｒ４はハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシアルボニル基、アラルキ
ルオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基又は、ア
リールスルホニル基を表わす｝

【００１８】具体例としては次のものが挙げられる。ベ
ンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン、クロラニ
ル、２−メチルナフトキノン、ジクロロナフトキノン、
クロラニル酸、ジベンゾイルベンゾキノン、ジシアニジ
クロロベンゾキノン、テトラシアノキノン、ジブロモジ
シアノキノン、テトラブロモキノン、テトラメトキシカ
ルボニルベンゾキノン、テトラフェノキシカルボニルベ
ンゾキノン、ジベンジルオキシジクロロベンゾキノン、
ジエトキシカルボニルフェニルスルホニルベンゾキノン
等。さらに、本発明により感熱記録材料を得る場合に
は、Ａ）Ｎ置換インドール、Ｂ）カルボニル化合物、
Ｃ）酸性物質、水放出材料とともに必要に応じ、従来の
感熱記録材料に慣用される添加成分、例えば填料、界面
活性剤、滑剤、圧力発色防止剤等を併用することができ
る。また、層構成としては、単層でも多層でもよく、必
要に応じてオーバー層、アンダー層、バック層を設ける
ことができる。本発明の記録材料は、記録画像の保存安
定性を向上させたり、記録材料への筆記性向上等の目的
により感熱記録層の上に、保護層を設けることも可能で
あるが、この場合、保護層を構成する成分としては慣用
の顔料、バインダー、熱可融性物質等を用いることがで
きる。本発明において感熱記録材料の他の実施態様とし
て、支持体を用いない示温材料および塗料等として使用
することも可能である。また、この場合、ワックス等を
添加し使用することもできる。

【００１９】次に、本発明を実施例により更に詳細に説
明する。なお、以下に示す％及び部は重量基準である。

【００２０】

【実施例】

（スプレードライ法による表面被覆）つぎの組成よりな
る混合物を磁性ボールミルを用いて分散し平均粒子径が
２μｍ以下になるまで粉砕し分散液を調整する。表１の（１）で表わされる化合物１０部２０％スチレン−アクリル樹脂アンモニア水溶液２５部（商品名ジョンクリル６７９）水５部次にこの分散液をＹＡＭＡＴＯ科学製スプレードライ装
置ＧＳ−３１型を用い、下記の条件にてスプレードライ
を行い表面被覆したパウダーを得た。ＩｎｌｅｔＴｅｍｐ８０℃ ＯｕｔｌｅｔＴｅｍｐ５０℃ 噴霧圧力１Ｋｇ／ｆ以上のようにして表面被覆した化合物の粒子径をコール
タカウンタ（ＴＡII型)で測定した結果を表１に示す。

【００２１】

【表１】次に、ｐージメチルアミノベンズアルデヒドと２０％ス
チレン−アクリル樹脂アンモニア水溶液の重量比を変化
させた分散液を調整し、前記した条件と同一でスプレー
ドライを行い表面被覆を行った。その結果を表２に示
す。

【００２２】

【表２】以上のように調整した各パウダーを芯材化合物の固形分
濃度が２０％となるように水に分散し分散液［Ａ液］〜
［Ｇ液］を調整した。

【００２３】（感熱紙の調整）下記組成よりなる混合物
を磁性ボールミルを用いて分散し［Ｈ液］〜［Ｋ液］を
調整する。［Ｈ液］１−メチル−２−フェニルインドール１０部１０％ポリビニルアルコール水溶液１０部水３０部［Ｉ液］１，４−シクロヘキシリデンビス（ｏーニトロ１０部ベンゼンスルホネート）１０％ポリビニルアルコール水溶液１０部水３０部［Ｊ液］ｐージメチルアミノベンズアルデヒド１０部１０％ポリビニルアルコール水溶液１０部水３０部［Ｋ液］水酸化アルミニウム１０部１０％ポリビニルアルコール水溶液１０部水３０部［Ｌ液］ステアリン酸亜鉛１０部１０％ポリビニルアルコール水溶液１０部水

【００２４】実施例１［Ａ液］：［Ｈ液］：［Ｉ液］：［Ｋ液］：［Ｌ液］＝
１：１：４：３：１の割合で混合して感熱層塗液を調整
した。次いで、乾燥後の付着量が８．０ｇ／ｍ²となる
ように塗布乾燥して感熱発色層を形成した後ベック平滑
度５００〜３０００秒となるようにキャレンダー処理し
て感熱記録材料とした。

【００２５】実施例２実施例１において［Ａ液］の代わりに［Ｂ液］を用いた
以外は実施例１と同様にして感熱記録材料を調整した。

【００２６】実施例３実施例１において［Ａ液］の代わりに［Ｊ液］を［Ｉ
液］の代わりに［Ｃ液］を用いた以外は実施例１と同様
にして感熱記録材料を調整した。

【００２７】実施例４実施例１において［Ａ液］の代わりに［Ｄ液］を用いた
以外は実施例１と同様にして感熱記録材料を調整した。

【００２８】実施例５実施例１において［Ａ液］の代わりに［Ｅ液］を用いた
以外は実施例１と同様にして感熱記録材料を調整した。

【００２９】実施例６実施例１において［Ａ液］の代わりに［Ｆ液］を用いた
以外は実施例１と同様にして感熱記録材料を調整した。

【００３０】比較例１実施例１において［Ａ液］の代わりに［Ｊ液］を用いた
以外は実施例１と同様にして感熱記録材料を調整した。

【００３１】比較例２実施例３において［Ｃ液］の代わりに［Ｉ液］を用いた
以外は実施例１と同様にして感熱記録材料を調整した。

【００３２】比較例３スプレードライ法による表面被覆においてｐージメチル
アミノベンズアルデヒドをスチレン−アクリル樹脂で表
面被覆する際に噴霧圧力を０．５Ｋｇ／ｆでおこなった
ところ粒子径１８．６μｍの粒子が形成された。この粒
子を芯材化合物の固形分濃度が２０％となるように水に
分散し分散液［Ｍ液］を調整した。次いで、実施例１に
おいて［Ａ液］の代わりに［Ｍ液］を用いた以外は実施
例１と同様にして感熱記録材料を調整した。以上のよう
にして作成した感熱記録材料を、松下電子部品製印字装
置にて、印加電力０．６８ｗ／ドット、ライン周期１０
ｍｓ／ライン、パルス幅０．８０ｍｓの条件下で印字
し、その発色濃度および地肌濃度をマクベス濃度計ＲＤ
−９１４にて濃度測定した。次に耐温湿性試験として未
印字サンプルを４０℃、９０％Ｒｈの環境下１６時間放
置し、地肌濃度をマクベス濃度計ＲＤ−９１４にて濃度
測定し耐温湿性地肌カブリを評価した。その結果を表３
に示す。

【００３３】

【表３】

【００３４】

【発明の効果】以上の具体的記述から明らかなように、
本発明の「Ａ）Ｎ置換インドール、Ｂ）カルボニル化合
物、Ｃ）酸性物質を含有し加熱により発色する感熱記録
材料において、前記Ａ）、Ｂ）、Ｃ）の成分のうち少な
くとも１成分が樹脂により表面被覆されたものであるこ
とを特徴とする感熱記録材料は、地肌保存性に優れた特
に高温高湿下での保存性に優れたものである。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】Ａ）Ｎ置換インドール、Ｂ）カルボニル
化合物、Ｃ）酸性物質を含有し加熱により発色する感熱
記録材料において、前記Ａ）、Ｂ）、Ｃ）の成分のうち
少なくとも１成分が樹脂により表面被覆されたものであ
ることを特徴とする記録材料。
【請求項２】樹脂による表面被覆の方法としてスプレ
ードライ法を利用することを特徴とする請求項１記載に
記録材料。
【請求項３】表面被覆された化合物が、芯材と樹脂の
比率が１：０．１〜１：１の範囲であることを特徴とす
る請求項１記載の記録材料。
【請求項４】表面被覆された化合物の平均粒子径が１
５μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の記録
材料。