JPH0822840B2 - ３，３−ジアリールアクリル酸アミドの製造法 - Google Patents
３，３−ジアリールアクリル酸アミドの製造法Info
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- JPH0822840B2 JPH0822840B2 JP63140675A JP14067588A JPH0822840B2 JP H0822840 B2 JPH0822840 B2 JP H0822840B2 JP 63140675 A JP63140675 A JP 63140675A JP 14067588 A JP14067588 A JP 14067588A JP H0822840 B2 JPH0822840 B2 JP H0822840B2
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- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/16—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、下記の式の3,3−ジアリールアクリル酸ア
ミドの新規な製造法に関する： 式中、Ａは を表し、Ｂは を表しそしてＱは を表し、しかしてR1はC1〜4アルキルC1〜4はアルコキ
シ、アミノ、モノ又はジ（C1〜4アルキル）アミノ、C3
〜4アルケニル、C3〜4アルキニル、C3〜4アルケニルオ
キシ、C3〜4アルキニルオキシ又はC3〜6シクロアルキル
基を表し、R2はC1〜4アルキル又はC1〜4アルコキシ基も
しくはハロゲン原子を表し、R3は水素又はハロゲン原子
を表し、R4は水素又はハロゲン原子もしくはC1〜4アル
キル又はC1〜4アルコキシ基を表し、R5は水素原子、随
意にC1〜4アルキル、C1〜4アルコキシ、ハロゲン、フエ
ニル及びフエノキシから選択された１個又はそれ以上の
置換基によつて置換されたフエニル基、随意に１個又は
それ以上のハロゲン原子によつて置換されたC1〜12アル
キル基、各々随意にフエニル基によつて置換されたC3〜
7シクロアルキル基、C2〜6アルケニル基又はC2〜6アル
キニル基、もしくはナフチル又はC5〜8シクロアルケニ
ル基を表し、−Ｘ−Ｙ−は単結合もしくは−Ｏ−、−S
(O)p−（ここで、ｐは0,1又は２である。）、−Ｎ＝Ｎ
−、−CHR10−Ｏ−、−Ｏ−CHR10−、−CHR10−S(O)
p−、−S(O)p−CHR10−、−CnH2n−（ここで、ｎは１〜
10の整数である。）、−HC＝CH−又は−Ｃ≡Ｃ−を表
し、R6はC1〜4アルキル、C3〜7シクロアルキル、ベンジ
ル、C3〜4アルケニル、又はC3〜4アルキニル基を表し、
R7はC1〜4アルキル基を表し、R8は水素原子もしくはC1
〜4アルキル又はC1〜4アルコキシ基を表し、そしてR9及
びR10は独立的に水素原子またはC1〜4アルキル基を表
す。
ミドの新規な製造法に関する： 式中、Ａは を表し、Ｂは を表しそしてＱは を表し、しかしてR1はC1〜4アルキルC1〜4はアルコキ
シ、アミノ、モノ又はジ（C1〜4アルキル）アミノ、C3
〜4アルケニル、C3〜4アルキニル、C3〜4アルケニルオ
キシ、C3〜4アルキニルオキシ又はC3〜6シクロアルキル
基を表し、R2はC1〜4アルキル又はC1〜4アルコキシ基も
しくはハロゲン原子を表し、R3は水素又はハロゲン原子
を表し、R4は水素又はハロゲン原子もしくはC1〜4アル
キル又はC1〜4アルコキシ基を表し、R5は水素原子、随
意にC1〜4アルキル、C1〜4アルコキシ、ハロゲン、フエ
ニル及びフエノキシから選択された１個又はそれ以上の
置換基によつて置換されたフエニル基、随意に１個又は
それ以上のハロゲン原子によつて置換されたC1〜12アル
キル基、各々随意にフエニル基によつて置換されたC3〜
7シクロアルキル基、C2〜6アルケニル基又はC2〜6アル
キニル基、もしくはナフチル又はC5〜8シクロアルケニ
ル基を表し、−Ｘ−Ｙ−は単結合もしくは−Ｏ−、−S
(O)p−（ここで、ｐは0,1又は２である。）、−Ｎ＝Ｎ
−、−CHR10−Ｏ−、−Ｏ−CHR10−、−CHR10−S(O)
p−、−S(O)p−CHR10−、−CnH2n−（ここで、ｎは１〜
10の整数である。）、−HC＝CH−又は−Ｃ≡Ｃ−を表
し、R6はC1〜4アルキル、C3〜7シクロアルキル、ベンジ
ル、C3〜4アルケニル、又はC3〜4アルキニル基を表し、
R7はC1〜4アルキル基を表し、R8は水素原子もしくはC1
〜4アルキル又はC1〜4アルコキシ基を表し、そしてR9及
びR10は独立的に水素原子またはC1〜4アルキル基を表
す。
式Ｉの化合物は、殺菌活性がありそして植物病原菌特
にプラスモパラ・ビチコラ（Plasmopara viticola）及
びフイトフソラ・インフエスタンス（Phytophthora inf
estans）の防除に格別有用である。これに関して式Ｉの
特に好ましい化合物は、Ａが3,4−ジメトキシフエニ
ル、３−エトキシ−４−メトキシフエニル、３−クロロ
−４−メトキシフエニル、３−ブロモ−４−メトキシフ
エニル、３−メチル−４−メトキシフエニル、３−エチ
ル−４−メトキシフエニル、３−プロピル−４−メトキ
シフエニル、3,4−ジメチルフエニル、３−アミノ−４
−メトキシフエニル、3,5−ジクロロ−４−アミノフエ
ニル又は３−メトキシ−４−メチルフエニル基を表すも
のであり、しかしてこれらのうち3,4−ジメトキシフエ
ニルが特に好ましい。Ｑがモルホリノ基を表すことも好
ましい。式Ｉの特に好ましい化合物は、３−（４−クロ
ロフエニル）−３−（3,4−ジメトキシフエニル）−ア
クリル酸モルホリドである。
にプラスモパラ・ビチコラ（Plasmopara viticola）及
びフイトフソラ・インフエスタンス（Phytophthora inf
estans）の防除に格別有用である。これに関して式Ｉの
特に好ましい化合物は、Ａが3,4−ジメトキシフエニ
ル、３−エトキシ−４−メトキシフエニル、３−クロロ
−４−メトキシフエニル、３−ブロモ−４−メトキシフ
エニル、３−メチル−４−メトキシフエニル、３−エチ
ル−４−メトキシフエニル、３−プロピル−４−メトキ
シフエニル、3,4−ジメチルフエニル、３−アミノ−４
−メトキシフエニル、3,5−ジクロロ−４−アミノフエ
ニル又は３−メトキシ−４−メチルフエニル基を表すも
のであり、しかしてこれらのうち3,4−ジメトキシフエ
ニルが特に好ましい。Ｑがモルホリノ基を表すことも好
ましい。式Ｉの特に好ましい化合物は、３−（４−クロ
ロフエニル）−３−（3,4−ジメトキシフエニル）−ア
クリル酸モルホリドである。
従来の技術 式Ｉの化合物はEP0120321A1（欧州特許公開公報）置
換EP0219756A1としてそれぞれ発行された欧州特許出願
第84102012、６号及び第86113835合の主題をなし、そし
てそれらの公報にはこれらの化合物の製造のための先に
開示された方法のみしか記載されていない。
換EP0219756A1としてそれぞれ発行された欧州特許出願
第84102012、６号及び第86113835合の主題をなし、そし
てそれらの公報にはこれらの化合物の製造のための先に
開示された方法のみしか記載されていない。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、式Ｉの化合物がまた公知の反応を変更
してベンゾフエノンを適切なアセトアミドと反応させそ
して必要な場合次いで脱水することによつて製造され得
る、ということを今般驚くべきことに見出した。
してベンゾフエノンを適切なアセトアミドと反応させそ
して必要な場合次いで脱水することによつて製造され得
る、ということを今般驚くべきことに見出した。
問題点を解決するための手段 それ故、本発明によれば、上記に定義された式Ｉの化
合物の製造法において、式 （式中、Ａ及びＢは上記に記載した意味を有する。） の化合物を式 ZCH2−CO−Ｑ （III） （式中、Ｚは水素又はハロゲン原子を表し、そしてＱは
上記に記載した意味を有する。） の化合物と縮合させ、そして式 （式中、Ａ、Ｂ及びＱは上記に記載した意味を有す
る。） の中間化合物が生成する場合はこの中間化合物を脱水す
る、ことを特徴とする上記製造法が提供される。
合物の製造法において、式 （式中、Ａ及びＢは上記に記載した意味を有する。） の化合物を式 ZCH2−CO−Ｑ （III） （式中、Ｚは水素又はハロゲン原子を表し、そしてＱは
上記に記載した意味を有する。） の化合物と縮合させ、そして式 （式中、Ａ、Ｂ及びＱは上記に記載した意味を有す
る。） の中間化合物が生成する場合はこの中間化合物を脱水す
る、ことを特徴とする上記製造法が提供される。
上記の製造法は、次の反応機構によつて表され得る： この機構において、Ａ、Ｂ、Ｑ及びＺは上記に定義した
通りである。該機構に示されるように、用いられる反応
条件及び薬剤に依り、上記の反応は一工程で直接式Ｉの
最終生成物まで進行するかあるいは二工程で式IVの中間
体を経て進行する。後者の場合、式Ｉの最終生成物を生
成させるために別個の脱水工程が必要である。
通りである。該機構に示されるように、用いられる反応
条件及び薬剤に依り、上記の反応は一工程で直接式Ｉの
最終生成物まで進行するかあるいは二工程で式IVの中間
体を経て進行する。後者の場合、式Ｉの最終生成物を生
成させるために別個の脱水工程が必要である。
Ｚが水素原子を表す場合、縮合反応は強塩基の存在下
で行われ得る。適当な強塩基には、アルカリ水酸化物、
アルカリ炭酸塩、カリウム第３級ブチラート及び第３級
ブチルリチウムがある。使用塩基及び反応が行われる温
度に依り、式Ｉの化合物は時々、別個の脱水工程を必要
とすることなく水の離脱によつて直接生成される（「ダ
ブリユ・コドキーヴイクズ（W.Chodkiewicz）等、ブル
・ソク・チム（Bull.Coc.Chim.），フランス国，1958,1
586〜９」参照）。
で行われ得る。適当な強塩基には、アルカリ水酸化物、
アルカリ炭酸塩、カリウム第３級ブチラート及び第３級
ブチルリチウムがある。使用塩基及び反応が行われる温
度に依り、式Ｉの化合物は時々、別個の脱水工程を必要
とすることなく水の離脱によつて直接生成される（「ダ
ブリユ・コドキーヴイクズ（W.Chodkiewicz）等、ブル
・ソク・チム（Bull.Coc.Chim.），フランス国，1958,1
586〜９」参照）。
Ｚがハロゲン特に臭素原子を表す場合、縮合反応は適
当には亜鉛の存在下で行われる（「エヌ・エル・ドレイ
ク（N.L.Drake）等，ジエイ・アム・ケム・ソク（J.Am.
Chem.Soc.），70,677（1948）」参照）。この場合、反
応は通常式IVの単離可能な中間体を経て進行し、かくし
て別個の脱水工程が必要となる。
当には亜鉛の存在下で行われる（「エヌ・エル・ドレイ
ク（N.L.Drake）等，ジエイ・アム・ケム・ソク（J.Am.
Chem.Soc.），70,677（1948）」参照）。この場合、反
応は通常式IVの単離可能な中間体を経て進行し、かくし
て別個の脱水工程が必要となる。
反応は、トルエン、ベンゼン、ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、ジグリメ、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルホルムアミド、アセトン又はエチレンクロ
ライドの如き不活性溶媒の存在下で行われ得る。その代
わり、反応体の１つの過剰量は溶媒としても働き得る。
反応体の反応性に依り、縮合反応は室温から反応混合物
の還流温度までの任意の温度にて行われ得る。
イソプロピルエーテル、ジグリメ、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルホルムアミド、アセトン又はエチレンクロ
ライドの如き不活性溶媒の存在下で行われ得る。その代
わり、反応体の１つの過剰量は溶媒としても働き得る。
反応体の反応性に依り、縮合反応は室温から反応混合物
の還流温度までの任意の温度にて行われ得る。
式IVの化合物が中間生成物として生成する場合、トル
エン、ベンゼン等の如き不活性溶媒中随意にトルエンス
ルホン酸、硫酸、リン酸及び塩化水素酸の如き酸の存在
下で該化合物を加熱することにより脱水は開始され得
る。その代わりに、脱水は、単に上記に挙げたものの如
き適切な酸と反応させることにより達成され得る。氷酢
酸の如き多くの酸は、原則的に溶媒として有用である。
しかしながら、ギ酸の如きいくつかの酸は、酸及び溶媒
の両方の機能を有する。
エン、ベンゼン等の如き不活性溶媒中随意にトルエンス
ルホン酸、硫酸、リン酸及び塩化水素酸の如き酸の存在
下で該化合物を加熱することにより脱水は開始され得
る。その代わりに、脱水は、単に上記に挙げたものの如
き適切な酸と反応させることにより達成され得る。氷酢
酸の如き多くの酸は、原則的に溶媒として有用である。
しかしながら、ギ酸の如きいくつかの酸は、酸及び溶媒
の両方の機能を有する。
式II及び式IIIの化合物は、公知の化合物であるかあ
るいは公知の方法によつて公知の化合物から製造され得
る。
るいは公知の方法によつて公知の化合物から製造され得
る。
実施例 次の特定の例によつて本発明の方法を説明する。
例１ ３−（４−クロロフエニル）−３−（3,4−ジメ
トキシフエニル）−アクリル酸モルホリドの製造 6.92g（25ミリモル）の４−クロロ−３′,4′−ジメ
トキシベンゾフエノン、12.9g（100ミリモル）のＮ−ア
セチルモルホリン及び11.2g（170ミリモル）の粉末状水
酸化カリウム（85％）を充分に混合し、そして時々かく
はんしながら30分間室温に放置した。このようにして得
られた粘性な塊を次いで、100mlの水と50mlのトルエン
との激しくかくはんされている混合物に添加した。トル
エン相を乾燥し、そして溶離剤として95:5,90:10及び8
0:20のトルエン−アセトン混合物各150mlを用いて50gの
シリカゲルを含むカラムを通じて分離した。0.37のRf値
（トルエン／アセトン7:3）を有する画分を回転エバポ
レータで蒸発させ、その後少量のジイソプロピルエーテ
ルを用いてすりつぶして0.8gの標題の化合物を得た。
トキシフエニル）−アクリル酸モルホリドの製造 6.92g（25ミリモル）の４−クロロ−３′,4′−ジメ
トキシベンゾフエノン、12.9g（100ミリモル）のＮ−ア
セチルモルホリン及び11.2g（170ミリモル）の粉末状水
酸化カリウム（85％）を充分に混合し、そして時々かく
はんしながら30分間室温に放置した。このようにして得
られた粘性な塊を次いで、100mlの水と50mlのトルエン
との激しくかくはんされている混合物に添加した。トル
エン相を乾燥し、そして溶離剤として95:5,90:10及び8
0:20のトルエン−アセトン混合物各150mlを用いて50gの
シリカゲルを含むカラムを通じて分離した。0.37のRf値
（トルエン／アセトン7:3）を有する画分を回転エバポ
レータで蒸発させ、その後少量のジイソプロピルエーテ
ルを用いてすりつぶして0.8gの標題の化合物を得た。
0.52のRf値を有する画分を蒸発させることにより、融
点150℃の3.4g（理論量の33.5％）の３−（４−クロロ
フエニル）−３−（3,4−ジメトキシフエニル）−３−
ヒドロキシプロピオン酸モルホリドを得た。脱水工程の
ために次いでこの物質を10mlの氷酢酸中で暖めて溶解
し、0.1mlの濃硫酸を加え、その混合物を次いで５分間
還流煮沸した。50℃に冷却した後、その混合物を100ml
の水中にかくはんしながら導入した。最初に分離してき
た油は、更にかくはんすると固化した。その物質を次い
で吸引別し、水洗しそして乾燥した。薄層クロマトグ
ラフイ（TLC）により、その最終生成物は実質的に純粋
であることがわかつた。収量:2.9g（理論量の30％）。
総収量:3.7g（理論量の38％）,TLCで純粋。
点150℃の3.4g（理論量の33.5％）の３−（４−クロロ
フエニル）−３−（3,4−ジメトキシフエニル）−３−
ヒドロキシプロピオン酸モルホリドを得た。脱水工程の
ために次いでこの物質を10mlの氷酢酸中で暖めて溶解
し、0.1mlの濃硫酸を加え、その混合物を次いで５分間
還流煮沸した。50℃に冷却した後、その混合物を100ml
の水中にかくはんしながら導入した。最初に分離してき
た油は、更にかくはんすると固化した。その物質を次い
で吸引別し、水洗しそして乾燥した。薄層クロマトグ
ラフイ（TLC）により、その最終生成物は実質的に純粋
であることがわかつた。収量:2.9g（理論量の30％）。
総収量:3.7g（理論量の38％）,TLCで純粋。
例２ ３−（４−クロロフエニル）−３−（3,4−ジメ
トキシフエニル）−アクリル酸モルホリドの製造 13.84g（50ミリモル）の４−クロロ−３′,4′−ジメ
トキシベンゾフエノン、7.75g（60ミリモル）のＮ−ア
セチルモルホリン、7.29g（65ミリモル）のカリウム第
３級ブチラート及び75mlの無水トルエンを混合しそして
窒素下で80℃にて２時間かくはんした。その溶液を次い
で冷却し、100mlの水で抽出し、乾燥しそし回転エバポ
レータで蒸発させた。
トキシフエニル）−アクリル酸モルホリドの製造 13.84g（50ミリモル）の４−クロロ−３′,4′−ジメ
トキシベンゾフエノン、7.75g（60ミリモル）のＮ−ア
セチルモルホリン、7.29g（65ミリモル）のカリウム第
３級ブチラート及び75mlの無水トルエンを混合しそして
窒素下で80℃にて２時間かくはんした。その溶液を次い
で冷却し、100mlの水で抽出し、乾燥しそし回転エバポ
レータで蒸発させた。
11.5gの粘性な油が得られ、次いで50mlのジイソプロピ
ルエーテルとともにかくはんしながら加熱した。その油
は、冷却しそしてこすると結晶化した。その結晶を次い
で吸引別し、少量のジイソプロピルエーテルで洗浄し
そして乾燥した。収量:9.25g（理論量の48％）。融点:1
22−148℃。TLCで純粋（Rf値:7:3のトルエン／アセトン
中で0.38）。
ルエーテルとともにかくはんしながら加熱した。その油
は、冷却しそしてこすると結晶化した。その結晶を次い
で吸引別し、少量のジイソプロピルエーテルで洗浄し
そして乾燥した。収量:9.25g（理論量の48％）。融点:1
22−148℃。TLCで純粋（Rf値:7:3のトルエン／アセトン
中で0.38）。
例３ ３−（４−クロロフエニル）−３−（3,4−ジメ
トキシフエニル）アクリル酸モルホリドの製造 5.53g（20ミリモル）の４−クロロ−３′,4′−ジメ
トキシベンゾフエノン、3.23g（25ミリモル）のＮ−ア
セチルモルホリン、3.29g（50ミリモル）の粉末状水酸
化カリウム（85％）及び30mlの無水テトラヒドロフラン
を、窒素下で５時間還流下でかくはんした。冷却後、か
くして得られた液状ペーストを100mlの水と50mlのトル
エンとの充分にかくはんされている混合物に添加した。
トルエン相を乾燥し、そして溶離剤として95:5,90:10及
び80:20のトルエン−アセトン混合物各100mlを用いて50
gのシリカゲルを含むカラムを通じて分離した。0.38のR
f値（トルエン／アセトン7:3）を有する物質を含む画分
を、次いで回転エバポレータで蒸発させた。このように
して得られた油は、少量のジイソプロピルエーテルを用
いてすりつぶすと固化した。融点125〜145℃。収量:3.2
5g（理論量の42％）。
トキシフエニル）アクリル酸モルホリドの製造 5.53g（20ミリモル）の４−クロロ−３′,4′−ジメ
トキシベンゾフエノン、3.23g（25ミリモル）のＮ−ア
セチルモルホリン、3.29g（50ミリモル）の粉末状水酸
化カリウム（85％）及び30mlの無水テトラヒドロフラン
を、窒素下で５時間還流下でかくはんした。冷却後、か
くして得られた液状ペーストを100mlの水と50mlのトル
エンとの充分にかくはんされている混合物に添加した。
トルエン相を乾燥し、そして溶離剤として95:5,90:10及
び80:20のトルエン−アセトン混合物各100mlを用いて50
gのシリカゲルを含むカラムを通じて分離した。0.38のR
f値（トルエン／アセトン7:3）を有する物質を含む画分
を、次いで回転エバポレータで蒸発させた。このように
して得られた油は、少量のジイソプロピルエーテルを用
いてすりつぶすと固化した。融点125〜145℃。収量:3.2
5g（理論量の42％）。
例４ ３−（４−クロロフエニル）−３−（3,4−ジメ
トキシフエニル）−アクリル酸モルホリドの製造 20.9g（76ミリモル）の４−クロロ−３′,4′−ジメ
トキシベンゾフエノン、32.7g（200ミリモル）のクロロ
アセチルモルホリン、50mlのトルエン及び50mlのベンゼ
ンを混合して溶液を作つた。この溶液の10％を16.3g（2
50ミリモル）の新鮮に活性化された亜鉛（30メツシユ）
及び数個のヨウ素結晶に添加し、そして還流下で急速か
くはんした。該溶液の残りを次いで滴下的に添加し、そ
して生じた混合物を４時間還流させた。この混合物を冷
却し、150mlのエチレンクロライドを添加しそして固体
を別した。液を氷と濃硫酸との200mlの10:1の混合
物ともに振とうした。有機相を分離し、そして50mlの水
で１回、次いで30mlの2N−水酸化ナトリウムで、次いで
50mlの水でそして最後に30mlの飽和塩化ナトリウム溶液
で洗浄した。有機相を次いで硫酸マグネシウム上で乾燥
しそして蒸発させた。残渣を30mlのジイソプロピルエー
テルで処理しそして冷却し、次いで生成物を吸引別し
そして少量のジイソプロピルエーテルで洗浄した。収
量:22.0g（理論量の74.3％）。純度：＞95％。NMR:生成
物の構造と一致。
トキシフエニル）−アクリル酸モルホリドの製造 20.9g（76ミリモル）の４−クロロ−３′,4′−ジメ
トキシベンゾフエノン、32.7g（200ミリモル）のクロロ
アセチルモルホリン、50mlのトルエン及び50mlのベンゼ
ンを混合して溶液を作つた。この溶液の10％を16.3g（2
50ミリモル）の新鮮に活性化された亜鉛（30メツシユ）
及び数個のヨウ素結晶に添加し、そして還流下で急速か
くはんした。該溶液の残りを次いで滴下的に添加し、そ
して生じた混合物を４時間還流させた。この混合物を冷
却し、150mlのエチレンクロライドを添加しそして固体
を別した。液を氷と濃硫酸との200mlの10:1の混合
物ともに振とうした。有機相を分離し、そして50mlの水
で１回、次いで30mlの2N−水酸化ナトリウムで、次いで
50mlの水でそして最後に30mlの飽和塩化ナトリウム溶液
で洗浄した。有機相を次いで硫酸マグネシウム上で乾燥
しそして蒸発させた。残渣を30mlのジイソプロピルエー
テルで処理しそして冷却し、次いで生成物を吸引別し
そして少量のジイソプロピルエーテルで洗浄した。収
量:22.0g（理論量の74.3％）。純度：＞95％。NMR:生成
物の構造と一致。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 317/44 323/60 323/62 Ｃ０７Ｄ 265/30 265/32 295/18 Ｚ
Claims (9)
- 【請求項１】式 〔式中、Ａは を表し、Ｂは を表しそしてＱは を表し、しかしてR1はC1〜4アルキル、C1〜4はアルコキ
シ、アミノ、モノ又はジ（C1〜4アルキル）アミノ、C3
〜4アルケニル、C3〜4アルキニル、C3〜4アルケニルオ
キシ、C3〜4アルキニルオキシ又はC3〜6シクロアルキル
基を表し、R2はC1〜4アルキル又はC1〜4アルコキシ基も
しくはハロゲン原子を表し、R3は水素又はハロゲン原子
を表し、R4は水素又はハロゲン原子もしくはC1〜4アル
キル又はC1〜4アルコキシ基を表し、R5は水素原子、随
意にC1〜4アルキル、C1〜4アルコキシ、ハロゲン、フエ
ニル及びフエノキシから選択された１個又はそれ以上の
置換基によつて置換されたフエニル基、随意に１個又は
それ以上のハロゲン原子によつて置換されたC1〜12アル
キル基、各々随意にフエニル基によつて置換されたC3〜
7シクロアルキル基、C2〜6アルケニル基又はC2〜6アル
キニル基、もしくはナフチル又はC5〜8シクロアルケニ
ル基を表し、−Ｘ−Ｙ−は単結合もしくは−Ｏ−、−S
(O)p−（ここで、ｐは0,1又は２である。）、−Ｎ＝Ｎ
−、−CHR10−Ｏ−、−Ｏ−CHR10−、−CHR10−S(O)
p−、−S(O)p−CHR10−、−CnH2n−（ここで、ｎは１〜
10の整数である。）、−HC＝CH−又は−Ｃ≡Ｃ−を表
し、R6はC1〜4アルキル、C3〜7シクロアルキル、ベンジ
ル、C3〜4アルケニル又はC3〜4アルキニル基を表し、R7
はC1〜4アルキル基を表し、R8は水素原子もしくはC1〜4
アルキル又はC1〜4アルコキシ基を表し、そしてR9及びR
10は独立的に水素原子またはC1〜4アルキル基を表
す。〕 の化合物の製造法において、式 （式中、Ａ及びＢは上記に記載した意味を有する。） の化合物を式 ZCH2−CO−Ｑ （III） （式中、Ｚは水素又はハロゲン原子を表し、そしてＱは
上記に記載した意味を有する。） の化合物と縮合させ、そして式 （式中、Ａ、Ｂ及びＱは上記に記載した意味を有す
る。） の中間化合物が生成する場合はこの中間化合物を脱水す
る、ことを特徴とする上記製造法。 - 【請求項２】Ｚが水素でありかつ縮合反応を強塩素の存
在下で行う、請求項１記載の製造法。 - 【請求項３】強塩基をアルカリ水酸化物、アルカリ炭酸
塩、カリウム第３級ブチラート及び第３級ブチルリチウ
ムから選択する、請求項２記載の製造法。 - 【請求項４】Ｚがハロゲンでありかつ縮合反応を亜鉛の
存在下で行う、請求項１記載の製造法。 - 【請求項５】縮合反応を室温から反応混合物の還流温度
までの温度にて行う、請求項１〜４のいずれか１つの項
記載の製造法。 - 【請求項６】式IVの中間化合物を不活性溶媒中で加熱す
ることによつて脱水する、請求項１〜５のいずれか１つ
の項記載の製造法。 - 【請求項７】式IVの中間化合物を酸との反応によつて脱
水する、請求項１〜６のいずれか１つの項記載の製造
法。 - 【請求項８】溶媒の存在下で実施する、請求項１〜７の
いずれか１つの項記載の製造法。 - 【請求項９】溶媒をトルエン、ベンゼン、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジグリメ、テトラヒド
ロフラン、ジメチルホルムアミド、アセトン及びエチレ
ンクロライドから選択する、請求項８記載の製造法。
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