JPH08222030A - 透明導電性フィルム - Google Patents

透明導電性フィルム

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JPH08222030A
JPH08222030A JP2827995A JP2827995A JPH08222030A JP H08222030 A JPH08222030 A JP H08222030A JP 2827995 A JP2827995 A JP 2827995A JP 2827995 A JP2827995 A JP 2827995A JP H08222030 A JPH08222030 A JP H08222030A
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JP
Japan
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transparent conductive
conductive film
film
surface resistance
transparent
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JP2827995A
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Inventor
Yumi Yamazaki
由美 山崎
Hiroyuki Yamada
博之 山田
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OJI KAKO KK
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OJI KAKO KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 透明高分子フィルムの少なくとも片面に、金
属および/または金属酸化物の透明導電層を形成されて
いる透明導電性フィルムであって、10mm巾×60m
m長フィルム切片を四探針法で測定した表面抵抗
(R0 )と、フィルムの短辺の一端を固定し、6mmφ
の真円棒に沿って透明導電層を外側に向け、荷重100
gを掛けた状態で、90度屈曲させ、それを10回繰り
返した後の表面抵抗(R)との比(R/R0 )が1.2
未満であることを特徴とする透明導電性フィルム。 【効果】 屈曲による表面抵抗の増加を抑制、加工工程
等における抵抗異常や断線等を防止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、透明導電性フィルム
に関するものである。さらに詳しくは、電磁波シール
ド、面状発熱体、エレクトロルミネッセンス素子や、液
晶表示素子、およびタッチパネルの透明電極等に有用な
透明導電性フィルムに関するものである。
【0002】
【従来の技術とその課題】透明導電性フィルムとして
は、従来よりポリエチレンテレフタレート(PET)等
の透明高分子フィルム表面の片面もしくは両面に、酸化
インジウム、酸化スズあるいはこれらの混合物の透明導
電層を設けたものや、透明高分子フィルムに、導電性塗
料を塗布したもの等からなる透明導電性フィルムが用い
られている。そして、このような透明導電性フィルム
は、長尺の連続加工や、打ち抜き加工が可能で、フレキ
シブルであることが特徴であって、このような特徴か
ら、加工工程途中で折り曲げられたり、湾曲した状態で
用いられたりすることがある。しかしながら、従来で
は、このような場合、透明導電層にクラックが発生し
て、表面抵抗が増大したり、断線することがあり、加工
歩留の低下に非常に大きく影響を与えていたのが実情で
ある。
【0003】そこで、このような欠点を改善し、透明導
電性フィルムの耐屈曲性を向上させるために、透明導電
層のX線回析の半価巾とピークハイトの比から結晶性の
範囲を限定する(特開昭63−906)ことや、アンダ
ーコート層を設ける(特公平1−12665)こと、結
晶粒径を0.3μm以下とする(特開平2−19494
3)こと等の様々な方法が提案されている。
【0004】しかしながら、結晶性や結晶粒を制御する
ためには、基材を高温に加熱する必要があるため、基材
が変形したり、オリゴマーが発生して透過率が低下した
りする問題があり、しかも、成膜速度が著しく低下し、
生産性が悪くなるという問題がある。アンダーコート
(AC)層を設ける方法では、依然としてその耐屈曲性
は不十分である。
【0005】この発明は、以上の通りの事情に鑑みてな
されたものであり、透明導電性フィルムの加工工程途中
や、湾曲した状態で使用された場合に透明導電性フィル
ムに掛かる負荷に起因する表面抵抗の増大や、透明導電
層の断線を防止することのできる、改善された新しい透
明導電性フィルムを提供することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記した従
来からの課題を解決するものとして、透明高分子フィル
ムの少なくとも片面に、金属および/または金属酸化物
の透明導電層が形成された透明導電性フィルムであっ
て、10mm巾×60mm長フィルム切片を四探針法で
測定した表面抵抗(R0 )と、フィルムの短辺の一端を
固定し、6mmφの真円棒に沿って透明導電層を外側に
向け、荷重100gを掛けた状態で、90度屈曲させ、
それを10回繰り返した後の表面抵抗(R)との比(R
/R0 )が1.2未満であることを特徴とする透明導電
性フィルム(請求項1)を提供する。
【0007】また、この発明は、上記フィルムにおいて
150℃、30分加熱後の製造流れ方向の熱収縮率が
0.1%未満であること(請求項2)や、透明導電層を
形成する前の透明高分子フィルム基材として、150
℃、30分加熱後の製造流れ方向の熱収縮率が0.15
〜1.2%であること(請求項3)、少なくとも片面
に、AC(アンダーコート)層として易接着性の高分子
樹脂層を設けてあること(請求項4)をもその態様の一
つとしている。
【0008】この場合の透明高分子フィルムとしては、
透明性を有し、かつ耐熱性に優れたものが望ましい。た
とえば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリサルホ
ン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケト
ン、ポリエーテルイミド、ポリカーボネート、ポリアミ
ド、ポリイミド等を例示することができる。
【0009】これらの基材としての透明高分子フィルム
の熱収縮率が0.15%よりも小さい場合と、1.2%
よりも大きい場合は、加工工程途中の湾曲や、湾曲した
状態で使用された場合に、表面抵抗が増大したり、透明
導電層が断線したりする。また、アニール処理後のカー
ルが非常に大きくなり、加工工程中で取り扱いが難しく
なる。
【0010】もちろん、基材としての上記の透明高分子
フィルムについては、その厚みに特段の制限はなく、熱
収縮率が上記の範囲にあれば、目的とする透明導電性フ
ィルムの用途、性能等に応じて決めることができる。エ
レクトロニクス機器、ディスプレイ等への応用を考える
と、通常は、300μm程度の厚みのものまでが一般的
に考慮される。
【0011】易接着性のAC層として用いられる高分子
樹脂は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル
樹脂、ウレタンアクリル樹脂、シリコンアクリル樹脂、
ポリシロキサン樹脂等の公知のものをはじめとする各種
のものを用いることができる。このAC層は、その厚み
を0.1〜10μmの範囲とするが、この層の形成は、
塗布等として実施することができる。ロールコーター、
グラビアコーター、バーコーター等の方法によって塗布
される。
【0012】易接着性高分子樹脂層の厚みが0.1μm
より小さい場合、または10μmを超える場合には、い
ずれも、この発明による所望目的の実現が難しくなる。
より好ましくは、その厚みは0.5〜5μm、さらに1
〜3μm程度とする。透明高分子フィルム上に形成する
金属および/または金属酸化物の透明導電層には、金、
銀、銅、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウム−
酸化スズ混合物(ITO)等を用いることができる。こ
の中でも、透明導電層として酸化インジウム−酸化スズ
混合物(ITO)が代表的なものとして例示される。透
明導電層の成膜方法は、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレーティング法等の種々の方法があり、全
ての方法が適用可能である。
【0013】透明導電性の厚みも、用途や所要の導電性
特性に応じて決めることができ、たとえば、50〜20
00Å程度の範囲を目安とすることができる。また、こ
の発明では、透明導電層を形成した後、好ましくは12
0〜200℃の温度で、1分〜30分のアニール処理を
行い、透明導電性フィルムの熱収縮率を0.1%以下と
する。0.1%以下とすることにより、加工工程途中の
乾燥工程や、ヒートプレス工程等の加熱による収縮がほ
とんどなく、寸法安定性が良好となる。
【0014】アニール処理の温度が120℃未満の場
合、あるいは200℃を超える場合には、いずれもこの
発明の所望目的の実現は難しくなる。120〜200℃
の温度、1〜30分のアニール処理が好ましい要件とし
て提示される。
【0015】
【作用】上記の通りの構成により、折り曲げや湾曲とい
う動作が加えられたとしても、、クラックの発生はな
く、表面抵抗の変化は、極小に抑えられた優れた耐屈曲
性透明導電性フィルムが実現される。すなわち、これま
での透明導電性フィルムでは実現されてこなかった、6
mmφの真円棒に沿って湾曲させた前後の表面抵抗比
(R/R0 )が1.2未満という機械的特性が極めて優
れた透明導電性フィルムが提供される。
【0016】このようなこの発明の透明導電性フィルム
によって、屈曲による表面抵抗の増大はほとんどなく、
従来加工工程等に於いて抵抗異常や断線等により低下し
ていた歩留が向上し、非常に特性の優れた透明導電性フ
ィルムとなる。以下、実施例を示し、この発明について
さらに詳しく説明する。
【0017】
【実施例】実施例1 熱収縮率(150℃、30分加熱)が0.16%であ
る、厚さ125μmの易接着剤PETフィルムを基材と
し、その片面にシロキサン系縮合物から成る易接着剤
(大八化学工業(株)製Siコート801A)を厚み1
μmでコーティングし、その表面に、1×10-5Tor
r排気後、アルゴン分圧6×10-4Torr、酸素分圧
2×10-4Torrにおいて、ITO蒸発源を用いて高
周波励起イオンプレーティング法により膜厚が400Å
のITO薄膜を成膜した。この透明導電性フィルムを、
熱風循環式乾燥機中で、150℃、5分間アニール処理
し、透明導電性フィルムの熱収縮率を0.07%とし
た。
【0018】そして、このようにして得られた透明導電
性フィルムの屈曲試験を行ない、表面抵抗の変化を調べ
た。流れ方向より、10mm巾×60mm長でサンプリ
ングし、透明導電層が成膜されている面の中央1cm2
をマスク後、銀を蒸着する。マスクをして銀が蒸着され
なかった部分の表面抵抗(R0 )を四探針法にて測定し
た。図1に示す様に、この試料(1)の短辺の一方を試
料固定治具(4)に固定し、もう一方に100gの荷重
(3)を掛けて銀が蒸着されていない部分を6mmφの
真円棒(2)に沿わせ、10秒間90度に曲げる。この
操作を10秒おきに10回繰り返す。屈曲を解放後、表
面抵抗(R)を測定して、R/R0 を算出した。その結
果は表1に示した通り、わずかに1.06であった。
【0019】実施例2 実施例1のPETフィルムを、流れ方向の熱収縮率が
0.91%のものに代え、実施例1と同様の製造方法に
て透明導電性フィルム(熱収縮率0.08)を作成し
た。そして、この透明導電性フィルムを実施例1と同様
の方法で表面抵抗比を測定した。その結果は表1に示し
た通りR/R0 =1.03であった。
【0020】実施例3 実施例1のPETフィルムを、流れ方向の熱収縮率が
1.20%のものに代え、実施例1と同様の製造方法に
て透明導電性フィルム(熱収縮率0.08)を作成し
た。そして、この透明導電性フィルムを実施例1と同様
の方法で表面抵抗比を測定した。その結果は表1に示し
た通りR/R0 =1.02であった。
【0021】実施例4 実施例1において、易接着性高分子樹脂層の厚みを5μ
mとするように塗布した。アニール処理後の熱収縮率は
0.08であった。また、この場合のR/R0 の値は
1.05であった。
【0022】実施例5 実施例2において、易接着性高分子樹脂層の厚みを0.
5μmとした。アニール処理後の熱収縮率は0.09で
あった。R/R0 は1.04であった。実施例6 実施例1において、ITO膜の厚みを300Åとし、ア
ニール処理を120℃、2分間とした。
【0023】アニール処理後の熱収縮率は0.10で、
R/R0 は1.03であった。実施例7 実施例1において、ウレタンアクリル樹脂を易接着性高
分子樹脂層に用いた。この場合のアニール処理後の熱収
縮率は0.09であった。R/R0 の値は1.08と小
さかった。
【0024】比較例1 実施例1のPETフィルムを、流れ方向の熱収縮率が
0.04%のものに代え、実施例1と同様の製造方法に
て透明導電性フィルム(熱収縮率0.01)を作成し
た。そして、この透明導電性フィルムを実施例1と同様
の方法で表面抵抗比を測定した。その結果は表1に示し
た通りR/R0 =3.3であった。
【0025】比較例2 実施例1のPETフィルムを、流れ方向の熱収縮率が
0.11%のものに代え、実施例1と同様の製造方法に
て透明導電性フィルム(熱収縮率0.02)を作成し
た。そして、この透明導電性フィルムを実施例1と同様
の方法で表面抵抗比を測定した。その結果は表1に示し
た通りR/R0 =8.1であった。
【0026】比較例3 実施例1のPETフィルムを、流れ方向の熱収縮率が
0.11%のものに代え、実施例1と同様の製造方法に
て透明導電性フィルムを作成した。この場合、透明導電
層成膜後のアニール処理を行なわなかった。そして、こ
の透明導電性フィルムを実施例1と同様の方法で表面抵
抗比を測定した。その結果は表1に示した通りR/R0
=11.0であった。
【0027】比較例4 実施例1と同様の、流れ方向の熱収縮率が0.18%の
PETフィルムに、実施例1と同様の製造方法にて透明
導電性フィルムを作成した。この場合、透明導電層成膜
後のアニール処理を行なわなかった。そして、この透明
導電性フィルムを実施例1と同様の方法で表面抵抗比を
測定した。その結果は表1に示した通りR/R0 =8.
2であった。
【0028】比較例5 実施例2と同様の、流れ方向の熱収縮率が0.91%の
PETフィルムに、実施例1と同様の製造方法にて透明
導電性フィルムを作成した。この場合、透明導電層成膜
後のアニール処理を行なわなかった。そして、この透明
導電性フィルムを実施例1と同様の方法で表面抵抗比を
測定した。その結果は表1に示した通りR/R0 =5.
0であった。
【0029】比較例6 実施例3と同様の、流れ方向の熱収縮率が1.20%の
PETフィルムに、実施例1と同様の製造方法にて透明
導電性フィルムを作成した。この場合、透明導電層成膜
後のアニール処理を行なわなかった。そして、この透明
導電性フィルムを実施例1と同様の方法で表面抵抗比を
測定した。その結果は表1に示した通りR/R0 =4.
0であった。
【0030】比較例7 実施例1のPETフィルムを、易接着剤層をコーティン
グしていない流れ方向の熱収縮率が0.80%のものに
代え、実施例1と同様の製造方法にて透明導電性フィル
ム(熱収縮率0.10)を作成した。そして、この透明
導電性フィルムを実施例1と同様の方法で表面抵抗比を
測定した。その結果は表1に示した通りR/R0 =2.
5であった。
【0031】比較例8 実施例1のPETフィルムを、流れ方向の熱収縮率が
1.59%のものに代え、実施例1と同様の製造方法に
て透明導電性フィルム(熱収縮率0.10)を作成し
た。そして、この透明導電性フィルムを実施例1と同様
の方法で表面抵抗比を測定した。その結果は表1に示し
た通りR/R0 =7.1であった。
【0032】比較例9 実施例1のPETフィルムを、流れ方向の熱収縮率が
4.02%のものに代え、実施例1と同様の製造方法に
て透明導電性フィルムを作成した。この場合、透明導電
層成膜後のアニール処理を行なわなかった。そして、こ
の透明導電性フィルムを実施例1と同様の方法で表面抵
抗比を測定した。その結果は表1に示した通りR/R0
=25であった。
【0033】比較例10 実施例1のPETフィルムを、流れ方向の熱収縮率が
4.02%のものに代え、実施例1と同様の製造方法に
て透明導電性フィルム(熱収縮率0.11)を作成し
た。そして、この透明導電性フィルムを実施例1と同様
の方法で表面抵抗比を測定した。カールが大きく測定不
能であった。
【0034】比較例11 実施例1において、易接着性高分子樹脂層の厚みを15
μmとした。アニール処理後の熱収縮率は0.09であ
った。しかし、R/R0 は3.5と大きな値であった。
【0035】
【表1】
【0036】この表1からも明らかなように、この発明
の実施例は、比較例と比べ、屈曲試験による透明導電性
フィルムの表面抵抗変化が1.2倍未満と非常に小さい
ことが確認された。比較例1,2,3は、PETフィル
ムの熱収縮率が0.15%よりも小さいため、屈曲試験
による透明導電性フィルムの表面抵抗変化が、大きく増
大した。比較例4,5,6は、アニール処理を行なわな
かったため、屈曲試験による透明導電性フィルムの表面
抵抗変化が、大きく増大した。比較例7は、PETフィ
ルムが易接着剤コーティングされていないため、屈曲試
験による透明導電性フィルムの表面抵抗変化が、大きく
増大した。比較例8,9は、PETフィルムの熱収縮率
が大きいため、屈曲試験による透明導電性フィルムの表
面抵抗が大きく増大した。比較例10は、アニール後の
カールが非常に大きく、使用不可能であった。
【0037】比較例11は、易接着性高分子樹脂層の厚
みが、10μmよりも厚いため、屈曲による透明導電性
フィルムの表面抵抗変化が大きく増大した。もちろんこ
の発明は、以上の例によって限定されるものではない。
細部については様々な態様が可能であることはいうまで
もない。
【0038】
【発明の効果】以上詳しく説明した通り、この発明によ
って、屈曲による透明導電層の表面抵抗の増加を小さく
することが可能となり、その結果、加工工程等における
抵抗異常や断線等を防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例においての屈曲試験方法を示した概略図
である。
【符号の説明】
1 試料 2 真円棒 3 荷重 4 試料固定治具

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明高分子フィルムの少なくとも片面
    に、金属および/または金属酸化物の透明導電層が形成
    されている透明導電性フィルムであって、10mm巾×
    60mm長フィルム切片を四探針法で測定した表面抵抗
    (R0 )と、フィルムの短辺の一端を固定し、6mmφ
    の真円棒に沿って透明導電層を外側に向け、荷重100
    gを掛けた状態で、90度屈曲させ、それを10回繰り
    返した後の表面抵抗(R)との比(R/R0 )が1.2
    未満であることを特徴とする透明導電性フィルム。
  2. 【請求項2】 150℃、30分加熱後の製造流れ方向
    の熱収縮率が0.1%未満である請求項1の透明導電性
    フィルム。
  3. 【請求項3】 透明導電層を形成する前の透明高分子フ
    ィルムの150℃、30分加熱後の製造流れ方向の熱収
    縮率が0.15〜1.2%である請求項1または2の透
    明導電性フィルム。
  4. 【請求項4】 透明高分子フィルムの少なくとも片面
    に、アンダーコート層として高分子樹脂層が設けられて
    いる請求項1,2または3の透明導電性フィルム。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007157409A (ja) * 2005-12-02 2007-06-21 Dainippon Printing Co Ltd Ito成膜装置とito成膜方法
JP2012028817A (ja) * 2011-10-27 2012-02-09 Fujimori Kogyo Co Ltd Fpc用保護フィルム、fpc用保護フィルム付樹脂導体箔積層体およびそれを用いたフレキシブルプリント配線基板の製造方法

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