JPH08203993A - 可搬式密閉コンテナのガス供給システム - Google Patents
可搬式密閉コンテナのガス供給システムInfo
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- JPH08203993A JPH08203993A JP2865495A JP2865495A JPH08203993A JP H08203993 A JPH08203993 A JP H08203993A JP 2865495 A JP2865495 A JP 2865495A JP 2865495 A JP2865495 A JP 2865495A JP H08203993 A JPH08203993 A JP H08203993A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、経済的に一定量の置換ガスを常時
流すことにより、密閉コンテナ内の半導体ウエハへの汚
染を低減することのできる可搬式密閉コンテナのガス供
給システムを提供することを目的とする。 【構成】 本発明の可搬式密閉コンテナのガス供給シス
テムは、半導体ウエハＷを収納し内部を不活性ガス雰囲
気に密閉される密閉コンテナ１０と、密閉コンテナ１０
内部に不活性ガスと供給／排気するガス供給装置５とを
備えてなるものにおいて、密閉コンテナ１０には、この
内部と外部とを連通する複数のガス通路２０、２１に互
いに反する方向に不活性ガスの流れを許容する一方向弁
３０、３１を設け、ガス供給装置には、各ガス通路２
０、２１に対応して接離可能にされたガス流路５０、５
１を形成したものである。
流すことにより、密閉コンテナ内の半導体ウエハへの汚
染を低減することのできる可搬式密閉コンテナのガス供
給システムを提供することを目的とする。 【構成】 本発明の可搬式密閉コンテナのガス供給シス
テムは、半導体ウエハＷを収納し内部を不活性ガス雰囲
気に密閉される密閉コンテナ１０と、密閉コンテナ１０
内部に不活性ガスと供給／排気するガス供給装置５とを
備えてなるものにおいて、密閉コンテナ１０には、この
内部と外部とを連通する複数のガス通路２０、２１に互
いに反する方向に不活性ガスの流れを許容する一方向弁
３０、３１を設け、ガス供給装置には、各ガス通路２
０、２１に対応して接離可能にされたガス流路５０、５
１を形成したものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、クリーンルームに用い
られる可搬式密閉コンテナ内を不活性ガスで置換するた
めの、可搬式密閉コンテナのガス供給システムに関す
る。
られる可搬式密閉コンテナ内を不活性ガスで置換するた
めの、可搬式密閉コンテナのガス供給システムに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】例えば、半導体の製造は、内部雰囲気を
清浄化したクリーンルーム内において行われるが、クリ
ーンルーム内での工程間の搬送は、半導体ウエハへの塵
埃の付着を防ぐために当該半導体ウエハを収納したウエ
ハカセットを可搬式の密閉コンテナに収納して行う。更
に、近年、半導体ウエハの自然酸化による酸化膜の成長
を防止するために、この密閉コンテナの内部雰囲気を窒
素Ｎ2 ガス等の不活性ガスで置換するようにしている。
清浄化したクリーンルーム内において行われるが、クリ
ーンルーム内での工程間の搬送は、半導体ウエハへの塵
埃の付着を防ぐために当該半導体ウエハを収納したウエ
ハカセットを可搬式の密閉コンテナに収納して行う。更
に、近年、半導体ウエハの自然酸化による酸化膜の成長
を防止するために、この密閉コンテナの内部雰囲気を窒
素Ｎ2 ガス等の不活性ガスで置換するようにしている。
【０００３】このように、近年では、窒素Ｎ2 ガスを充
満した密閉コンテナにウエハカセットを入れて搬送・保
管するようにしているが、密閉コンテナ内の窒素Ｎ2 ガ
スの濃度は、搬送待機中や保管中に規定値以下に低下し
てしまう場合があり、このような場合、従来は、窒素Ｎ
2 ガスの濃度が低下した密閉コンテナをクリーンルーム
内に設けたガスパージステーションへ搬送して、ここで
再パージしたのち元の場所に戻す等していたので、無駄
な搬送を行なわなくてはならず、かつ密閉コンテナの保
管が複雑になるという問題があった。
満した密閉コンテナにウエハカセットを入れて搬送・保
管するようにしているが、密閉コンテナ内の窒素Ｎ2 ガ
スの濃度は、搬送待機中や保管中に規定値以下に低下し
てしまう場合があり、このような場合、従来は、窒素Ｎ
2 ガスの濃度が低下した密閉コンテナをクリーンルーム
内に設けたガスパージステーションへ搬送して、ここで
再パージしたのち元の場所に戻す等していたので、無駄
な搬送を行なわなくてはならず、かつ密閉コンテナの保
管が複雑になるという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この問題を解決するた
めに、本願発明の発明者は、特願平４−１２８８５０号
に記載の可搬式密閉コンテナのガス供給システムを提案
している。この可搬式密閉コンテナのガス供給システム
は、内部に空間を有するパージボックスと、このパージ
ボックスの開口内に嵌入して当該開口をボックス内側か
ら密閉している昇降台と、パージボックス内部に開口す
る給ガス管及び排ガス管を主要部とし、パージボックス
の開口を密閉状態にして錠機構付きの密閉コンテナが載
置されている。そして、密閉コンテナ内の不活性ガス
（例えば、窒素Ｎ2 ガス）の濃度が低下すると、このコ
ンテナの錠機構を解除して蓋を、昇降台側へ若干だけ変
位させて、供給ガスから窒素Ｎ2 ガスを、パージボック
スの内部空間内、及びコンテナ内に流入するとともに、
これらの内部の気体を排ガス管を通して外部へ追い出す
ことにより、コンテナ内の窒素Ｎ2 ガスを高い濃度のガ
スに置換（再パージ）した後、再び、錠機構で蓋を施錠
してコンテナ内を密閉状態にするものである。
めに、本願発明の発明者は、特願平４−１２８８５０号
に記載の可搬式密閉コンテナのガス供給システムを提案
している。この可搬式密閉コンテナのガス供給システム
は、内部に空間を有するパージボックスと、このパージ
ボックスの開口内に嵌入して当該開口をボックス内側か
ら密閉している昇降台と、パージボックス内部に開口す
る給ガス管及び排ガス管を主要部とし、パージボックス
の開口を密閉状態にして錠機構付きの密閉コンテナが載
置されている。そして、密閉コンテナ内の不活性ガス
（例えば、窒素Ｎ2 ガス）の濃度が低下すると、このコ
ンテナの錠機構を解除して蓋を、昇降台側へ若干だけ変
位させて、供給ガスから窒素Ｎ2 ガスを、パージボック
スの内部空間内、及びコンテナ内に流入するとともに、
これらの内部の気体を排ガス管を通して外部へ追い出す
ことにより、コンテナ内の窒素Ｎ2 ガスを高い濃度のガ
スに置換（再パージ）した後、再び、錠機構で蓋を施錠
してコンテナ内を密閉状態にするものである。
【０００５】しかしながら、従来技術の可搬式密閉コン
テナのガス供給システムでは、密閉コンテナ内を濃度の
高い窒素Ｎ2 ガスで置換した後、蓋を施錠して密閉状態
で保管しておいても、コンテナ内面、錠機構等の機構部
から吸着物（不純物）がコンテナ内に放出をはじめ水
分、酸素濃度が上昇し、半導体ウエハが汚染されるとい
う問題があった。
テナのガス供給システムでは、密閉コンテナ内を濃度の
高い窒素Ｎ2 ガスで置換した後、蓋を施錠して密閉状態
で保管しておいても、コンテナ内面、錠機構等の機構部
から吸着物（不純物）がコンテナ内に放出をはじめ水
分、酸素濃度が上昇し、半導体ウエハが汚染されるとい
う問題があった。
【０００６】この問題を解決するために、給ガス管から
連続的に窒素Ｎ2 ガスを、供給しつづけることも考えら
れるが、コンテナ以外のパージボックスの空間が大き
く、不要ガス濃度を下げるためには、置換用純粋窒素Ｎ
2 ガスが大量に必要となり、その不要ガスの排気も容易
に行えず窒素Ｎ2 ガスの置換に長時間かかり、また、パ
ージボックス分だけガス供給システムが大型化して不経
済なものとなる。
連続的に窒素Ｎ2 ガスを、供給しつづけることも考えら
れるが、コンテナ以外のパージボックスの空間が大き
く、不要ガス濃度を下げるためには、置換用純粋窒素Ｎ
2 ガスが大量に必要となり、その不要ガスの排気も容易
に行えず窒素Ｎ2 ガスの置換に長時間かかり、また、パ
ージボックス分だけガス供給システムが大型化して不経
済なものとなる。
【０００７】本発明は、この問題を解決するためになさ
れたもので、経済的に一定量の置換ガスを常時流すこと
により、密閉コンテナ内の半導体ウエハへの汚染を低減
することのできる可搬式密閉コンテナのガス供給システ
ムを提供することを目的とする。
れたもので、経済的に一定量の置換ガスを常時流すこと
により、密閉コンテナ内の半導体ウエハへの汚染を低減
することのできる可搬式密閉コンテナのガス供給システ
ムを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するた
め、本発明の可搬式密閉コンテナのガス供給システムで
は、半導体ウエハを収納し内部を不活性ガス雰囲気に密
閉される可搬式密閉コンテナと、この可搬式密閉コンテ
ナの内部に不活性ガスを供給／排気するガス供給装置と
を備えてなる可搬式密閉コンテナのガス供給システムに
おいて、前記密閉コンテナには、この内部と外部とを連
通する複数のガス通路に互いに反する方向に前記不活性
ガスの流れを許容する一方向弁をそれぞれ設けると共
に、前記ガス供給装置には、前記各ガス通路に対応して
接離可能にされたガス流路を形成したものである。
め、本発明の可搬式密閉コンテナのガス供給システムで
は、半導体ウエハを収納し内部を不活性ガス雰囲気に密
閉される可搬式密閉コンテナと、この可搬式密閉コンテ
ナの内部に不活性ガスを供給／排気するガス供給装置と
を備えてなる可搬式密閉コンテナのガス供給システムに
おいて、前記密閉コンテナには、この内部と外部とを連
通する複数のガス通路に互いに反する方向に前記不活性
ガスの流れを許容する一方向弁をそれぞれ設けると共
に、前記ガス供給装置には、前記各ガス通路に対応して
接離可能にされたガス流路を形成したものである。
【０００９】
【作用】このように本発明の可搬式密閉コンテナのガス
供給システムでは、密閉コンテナの各ガス通路を、ガス
供給装置の各ガス流路にそれぞれ接続して、一方のガス
流路から一方向弁を介して不活性ガスを密閉コンテナ内
に供給し、一方向弁を介して他方のガス流路から密閉コ
ンテナ内の不要ガス（空気・水等）を外部に排気するこ
とができ、また、密閉コンテナの各ガス通路をガス供給
装置のガス流路に接続するだけで、極めて容易、且つ短
時間に不活性ガスの置換を行うことができる。
供給システムでは、密閉コンテナの各ガス通路を、ガス
供給装置の各ガス流路にそれぞれ接続して、一方のガス
流路から一方向弁を介して不活性ガスを密閉コンテナ内
に供給し、一方向弁を介して他方のガス流路から密閉コ
ンテナ内の不要ガス（空気・水等）を外部に排気するこ
とができ、また、密閉コンテナの各ガス通路をガス供給
装置のガス流路に接続するだけで、極めて容易、且つ短
時間に不活性ガスの置換を行うことができる。
【００１０】また、可搬式密閉コンテナを、ガス供給装
置から取り出して搬送する場合には、各ガス通路に設け
られた一方向弁の閉弁作動により、このガス通路からコ
ンテナ内への不要ガス（空気・水等）の進入を阻止する
ことができる。
置から取り出して搬送する場合には、各ガス通路に設け
られた一方向弁の閉弁作動により、このガス通路からコ
ンテナ内への不要ガス（空気・水等）の進入を阻止する
ことができる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の一実施例である可搬式密閉コ
ンテナのガス供給システムを図面を参照して説明する。
図１は本実施例における可搬式密閉コンテナのガス供給
システムの構成を示す縦断面図、図２（ａ）及び（ｂ）
は本実施例における可搬式密閉コンテナのガス供給シス
テムの一方向弁の構成を示す要部拡大図である。
ンテナのガス供給システムを図面を参照して説明する。
図１は本実施例における可搬式密閉コンテナのガス供給
システムの構成を示す縦断面図、図２（ａ）及び（ｂ）
は本実施例における可搬式密閉コンテナのガス供給シス
テムの一方向弁の構成を示す要部拡大図である。
【００１２】図１において、１はクリーンルーム内の所
定場所に配置された可搬式密閉コンテナのガス供給シス
テムであって、ガス供給装置５と可搬式の密閉コンテナ
１０とを主要部としている。１１は密閉コンテナ（ＰＯ
Ｄ）１０の本体であって、この開口部１２にはフランジ
１３が設けられている。また、密閉コンテナ１０の開口
部１２内には、環状シール材１４を介して蓋１５が嵌合
されているとともに、この蓋１５に設けられた蓋錠機構
１６を施錠することにより密閉コンテナ１０の内部空間
Ａを密閉状態にしている。また、この蓋１５には、所定
半径を有する周方向に所定の間隔を隔てて（１８０度の
位相を持って）、密閉コンテナ１０の内部空間Ａと外部
とを連通するガス通路管２０、２１が設けられている。
各ガス通路管２０、２１は、互いに並行して蓋１５を貫
通して延びており（蓋１５の厚さを貫通して延びてい
る。）、これらの内部には、一方向弁（逆止弁）３０、
３１がそれぞれ配置されている。１６は密閉コンテナ１
０の外部に設けられた把手である。１７は半導体ウエハ
Ｗを収納したウエハカセットであって、密閉コンテナ１
０の内部空間Ａ内の蓋１５上に各ガス通路管２０、２１
を塞ぐことなく載置されている。
定場所に配置された可搬式密閉コンテナのガス供給シス
テムであって、ガス供給装置５と可搬式の密閉コンテナ
１０とを主要部としている。１１は密閉コンテナ（ＰＯ
Ｄ）１０の本体であって、この開口部１２にはフランジ
１３が設けられている。また、密閉コンテナ１０の開口
部１２内には、環状シール材１４を介して蓋１５が嵌合
されているとともに、この蓋１５に設けられた蓋錠機構
１６を施錠することにより密閉コンテナ１０の内部空間
Ａを密閉状態にしている。また、この蓋１５には、所定
半径を有する周方向に所定の間隔を隔てて（１８０度の
位相を持って）、密閉コンテナ１０の内部空間Ａと外部
とを連通するガス通路管２０、２１が設けられている。
各ガス通路管２０、２１は、互いに並行して蓋１５を貫
通して延びており（蓋１５の厚さを貫通して延びてい
る。）、これらの内部には、一方向弁（逆止弁）３０、
３１がそれぞれ配置されている。１６は密閉コンテナ１
０の外部に設けられた把手である。１７は半導体ウエハ
Ｗを収納したウエハカセットであって、密閉コンテナ１
０の内部空間Ａ内の蓋１５上に各ガス通路管２０、２１
を塞ぐことなく載置されている。
【００１３】ガス通路管２０には、図２（ａ）に示すよ
うに、蓋１５から端部側に向かって小径孔２２Ａ、大径
孔２２Ｂ及び小径孔２２Ｃが順々に連続する段付孔２２
が形成されており、この大径孔２２Ｂと小径孔２２Ｃと
をつなぐ傾斜面を、一方向弁３０の弁座３０Ａとして球
状弁体３０Ｂが着座している。この一方向弁３０の球状
弁体３１Ｂは、大径孔２２Ｂの段部２２ａとの間に張設
された弁ばね２３で弁座３０Ａに付勢されている。これ
により、一方向弁３０は、密閉コンテナ１０外部から内
部空間Ａ内への不活性ガス（窒素Ｎ2 ガス）の流れを許
容し、その逆を阻止するようになっている。また、ガス
通路管２１には、図２（ｂ）に示すように、蓋１５から
端部側に向かって小径孔２４Ａ、大径孔２４Ｂ及び小径
孔２４Ｃが順々に連続する段付孔２４が形成されてお
り、この大径孔２４Ｂと小径孔２４Ａとをつなぐ傾斜面
を、一方向弁３１の弁座３１Ａとして球状弁体３１Ｂが
着座している。この一方向弁３１の球状弁体３１Ｂは、
大径孔３１Ｂの段部３１ａとの間に張設された弁ばね２
５で弁座３１Ａに付勢されている。これにより、一方向
弁３１は、密閉コンテナ１０の内部空間Ａから外部への
窒素ガスＮ2 ガスの流れを許容し、その逆を阻止するよ
うになっている。
うに、蓋１５から端部側に向かって小径孔２２Ａ、大径
孔２２Ｂ及び小径孔２２Ｃが順々に連続する段付孔２２
が形成されており、この大径孔２２Ｂと小径孔２２Ｃと
をつなぐ傾斜面を、一方向弁３０の弁座３０Ａとして球
状弁体３０Ｂが着座している。この一方向弁３０の球状
弁体３１Ｂは、大径孔２２Ｂの段部２２ａとの間に張設
された弁ばね２３で弁座３０Ａに付勢されている。これ
により、一方向弁３０は、密閉コンテナ１０外部から内
部空間Ａ内への不活性ガス（窒素Ｎ2 ガス）の流れを許
容し、その逆を阻止するようになっている。また、ガス
通路管２１には、図２（ｂ）に示すように、蓋１５から
端部側に向かって小径孔２４Ａ、大径孔２４Ｂ及び小径
孔２４Ｃが順々に連続する段付孔２４が形成されてお
り、この大径孔２４Ｂと小径孔２４Ａとをつなぐ傾斜面
を、一方向弁３１の弁座３１Ａとして球状弁体３１Ｂが
着座している。この一方向弁３１の球状弁体３１Ｂは、
大径孔３１Ｂの段部３１ａとの間に張設された弁ばね２
５で弁座３１Ａに付勢されている。これにより、一方向
弁３１は、密閉コンテナ１０の内部空間Ａから外部への
窒素ガスＮ2 ガスの流れを許容し、その逆を阻止するよ
うになっている。
【００１４】４０はガス供給装置５の供給台であって、
この上面４０ａには、ガス供給管２０、２１と同一半径
を有する周方向に所定の間隔を隔てて（１８０度の位相
を持って）、コネクタ管４１と４２がそれぞれ突出して
おり、この各コネクタ管４１、４２端には、環状シール
材４１Ａ、４２Ａがそれぞれ設けられている。このコネ
クタ管４２は排ガス管４３を介して、図示しない処理装
置（外部）に、コネクタ管４２は給ガス管４４及び開閉
弁４５を介して、不活性ガス（例えば、窒素Ｎ2 ガス）
を生成するガス供給源４６にそれぞれ接続されており、
コネクタ管４２と排ガス管４３とでガス排気流路５０
を、コネクタ管４１と給ガス管４４、開閉弁４５とでガ
ス供給流路５１を形成している。尚、５２は検知センサ
であって、密閉コンテナ１０がガス供給装置１の供給台
４０に確実に設置されたかを検知するものである。５３
は供給台４０に立設されたコンテナガイドである。
この上面４０ａには、ガス供給管２０、２１と同一半径
を有する周方向に所定の間隔を隔てて（１８０度の位相
を持って）、コネクタ管４１と４２がそれぞれ突出して
おり、この各コネクタ管４１、４２端には、環状シール
材４１Ａ、４２Ａがそれぞれ設けられている。このコネ
クタ管４２は排ガス管４３を介して、図示しない処理装
置（外部）に、コネクタ管４２は給ガス管４４及び開閉
弁４５を介して、不活性ガス（例えば、窒素Ｎ2 ガス）
を生成するガス供給源４６にそれぞれ接続されており、
コネクタ管４２と排ガス管４３とでガス排気流路５０
を、コネクタ管４１と給ガス管４４、開閉弁４５とでガ
ス供給流路５１を形成している。尚、５２は検知センサ
であって、密閉コンテナ１０がガス供給装置１の供給台
４０に確実に設置されたかを検知するものである。５３
は供給台４０に立設されたコンテナガイドである。
【００１５】そして、密閉コンテナ１０の内部空間Ａ内
を窒素Ｎ2 ガスで置換するため、クリーンルーム内の作
業者又は図示しない自動搬送により、この各ガス通路管
２０、２１をコネクタ管４１、４２にそれぞれに一致さ
せてガス供給装置５の供給台４０に載置すると、ガス通
路管２０とコネクタ管４１、ガス通路管２１とコネクタ
管４２とが環状シール材４１Ａ、４２Ａを介してそれぞ
れ気密に接続される。また、検知センサ５０は、密閉コ
ンテナ１０が供給台４０に確実に載置されたか否かを検
知する。各ガス通路管２０、２１をコネクタ管４１、４
２のそれぞれに接続した後、ガス供給源４６を作動させ
るとともに、開閉弁４５を開状態にすると、このガス供
給源４６で生成された窒素Ｎ2 ガスが、開閉弁４５−給
ガス管４４を介してコネクタ管４１に供給され、この供
給され窒素Ｎ2 ガスの圧力が一方向弁３０の球状弁体３
０Ｂに作用するので、この球状弁体３０は弁ばね２３の
ばね力に抗して弁座３０Ａから離座して、一方向弁３０
が開弁する。これにより、窒素Ｎ2 ガスが一方向弁３０
を通って、ガス通路管２０を介して密閉コンテナ１０の
内部空間Ａ内に供給される。
を窒素Ｎ2 ガスで置換するため、クリーンルーム内の作
業者又は図示しない自動搬送により、この各ガス通路管
２０、２１をコネクタ管４１、４２にそれぞれに一致さ
せてガス供給装置５の供給台４０に載置すると、ガス通
路管２０とコネクタ管４１、ガス通路管２１とコネクタ
管４２とが環状シール材４１Ａ、４２Ａを介してそれぞ
れ気密に接続される。また、検知センサ５０は、密閉コ
ンテナ１０が供給台４０に確実に載置されたか否かを検
知する。各ガス通路管２０、２１をコネクタ管４１、４
２のそれぞれに接続した後、ガス供給源４６を作動させ
るとともに、開閉弁４５を開状態にすると、このガス供
給源４６で生成された窒素Ｎ2 ガスが、開閉弁４５−給
ガス管４４を介してコネクタ管４１に供給され、この供
給され窒素Ｎ2 ガスの圧力が一方向弁３０の球状弁体３
０Ｂに作用するので、この球状弁体３０は弁ばね２３の
ばね力に抗して弁座３０Ａから離座して、一方向弁３０
が開弁する。これにより、窒素Ｎ2 ガスが一方向弁３０
を通って、ガス通路管２０を介して密閉コンテナ１０の
内部空間Ａ内に供給される。
【００１６】このとき、密閉コンテナ１０の内部空間Ａ
が窒素Ｎ2 ガスで充満されて、この空間Ａ内の窒素Ｎ2
ガスが所定圧力になると、一方向弁３１の球状弁体３１
Ｂを弁ばね２５のばね力に抗して弁座３１Ａから離座し
て、一方向弁３１が開弁する。これにより、コンテナ１
０の内部空間Ａの不要ガス（空気・水等）がガス通路管
２１、コネクタ管４２、一方向弁３１及び排ガス管４３
を介して、図示しない処理装置（密閉コンテナ１０の外
部）に排気される。そして、所定の時間中に、ガス通路
管２０から窒素Ｎ2 ガスを密閉コンテナ１０内に供給す
るとともに、ガス通路管２１から密閉コンテナ１０内の
不要ガス（空気・水分等）を外部に排気することによ
り、密閉コンテナ１０の内部空間Ａ内の窒素Ｎ2 ガスの
置換が行われ、不要ガス（空気・水等）の濃度を低下さ
せて半導体ウエハＷの保管に適した環境にする。
が窒素Ｎ2 ガスで充満されて、この空間Ａ内の窒素Ｎ2
ガスが所定圧力になると、一方向弁３１の球状弁体３１
Ｂを弁ばね２５のばね力に抗して弁座３１Ａから離座し
て、一方向弁３１が開弁する。これにより、コンテナ１
０の内部空間Ａの不要ガス（空気・水等）がガス通路管
２１、コネクタ管４２、一方向弁３１及び排ガス管４３
を介して、図示しない処理装置（密閉コンテナ１０の外
部）に排気される。そして、所定の時間中に、ガス通路
管２０から窒素Ｎ2 ガスを密閉コンテナ１０内に供給す
るとともに、ガス通路管２１から密閉コンテナ１０内の
不要ガス（空気・水分等）を外部に排気することによ
り、密閉コンテナ１０の内部空間Ａ内の窒素Ｎ2 ガスの
置換が行われ、不要ガス（空気・水等）の濃度を低下さ
せて半導体ウエハＷの保管に適した環境にする。
【００１７】次いで、この窒素Ｎ2 ガスの置換が完了し
て、ガス供給源４６の作動を停止するとともに、開閉弁
４５を閉弁状態にすると、一方向３０の球状弁３０Ｂが
弁ばね２３のばね力で弁座３０Ａに着座して、一方向弁
３０が閉弁するとともに、密閉コンテナ１０の内部空間
Ａ内の圧力が一定値になる（弁ばね２５のばね力を同じ
圧力）と、一方向弁３１の球状弁体３１Ｂが弁ばね２５
のばね力で弁座３１Ａに着座して、一方向弁３１が閉弁
して、密閉コンテナ１０を密閉状態にする。そして、ク
リーンルーム内の作業者又は図示しない自動搬送によ
り、密閉コンテナ１０を供給台４０から取り出して所定
の目的地に搬送する。
て、ガス供給源４６の作動を停止するとともに、開閉弁
４５を閉弁状態にすると、一方向３０の球状弁３０Ｂが
弁ばね２３のばね力で弁座３０Ａに着座して、一方向弁
３０が閉弁するとともに、密閉コンテナ１０の内部空間
Ａ内の圧力が一定値になる（弁ばね２５のばね力を同じ
圧力）と、一方向弁３１の球状弁体３１Ｂが弁ばね２５
のばね力で弁座３１Ａに着座して、一方向弁３１が閉弁
して、密閉コンテナ１０を密閉状態にする。そして、ク
リーンルーム内の作業者又は図示しない自動搬送によ
り、密閉コンテナ１０を供給台４０から取り出して所定
の目的地に搬送する。
【００１８】また、密閉コンテナ１０をガス供給装置５
に載置して保管する場合には、ガス供給源４６を作動し
つづけ、一方向弁３０、３１を開弁状態にして、この保
管中に常時、窒素Ｎ2 ガスを給ガス管４４−コネクタ管
４１−ガス通路管２０及び一方向弁３０を介して密閉コ
ンテナ１０内に供給し続けるとともに、ガス通路管２１
−一方向弁３１−コネクタ管４２及び排ガス管４３を介
して、密閉コンテナ１０内に不要ガス（空気・水分等）
を順次、密閉コンテナ１０の外部に排気して、密閉コン
テナ１０を所定の目的地に搬送するまでの間に、コンテ
ナ内面、錠機構１６等の機構部から密閉コンテナ１０内
に放出しはじめる不要ガス（水分・空気）を、順次、密
閉コンテナ１０の外部に排気して半導体ウエハＷの汚染
を防止する。
に載置して保管する場合には、ガス供給源４６を作動し
つづけ、一方向弁３０、３１を開弁状態にして、この保
管中に常時、窒素Ｎ2 ガスを給ガス管４４−コネクタ管
４１−ガス通路管２０及び一方向弁３０を介して密閉コ
ンテナ１０内に供給し続けるとともに、ガス通路管２１
−一方向弁３１−コネクタ管４２及び排ガス管４３を介
して、密閉コンテナ１０内に不要ガス（空気・水分等）
を順次、密閉コンテナ１０の外部に排気して、密閉コン
テナ１０を所定の目的地に搬送するまでの間に、コンテ
ナ内面、錠機構１６等の機構部から密閉コンテナ１０内
に放出しはじめる不要ガス（水分・空気）を、順次、密
閉コンテナ１０の外部に排気して半導体ウエハＷの汚染
を防止する。
【００１９】尚、本実施例における可搬式密閉コンテナ
のガス供給システムにおいて、各ガス供給管２０、２１
内に配置された一方向弁３０、３１は、これに限定され
るものでなく、図３（ａ）及び図３（ｂ）に示すような
ものであってもよい。即ち、ガス通路管２０内には、図
３（ａ）に示すように、この大径孔部２２Ｂを一方向弁
３０の弁座となる仕切部材３０Ｃで２つの空間Ｂ、Ｃに
区画し、小径孔部２２Ａ側の空間Ｂの仕切部材３０Ｃ
に、一方向弁３０を構成するプラスチックやゴム材で形
成された傘状弁体５５を設けるとともに、この傘状弁体
５５の傘状部５５Ａで仕切部材３０Ｃとの間に形成され
た密閉空間Ｄに連通する複数の通孔５６を設けたもの
で、小径孔部２２Ｃからの窒素Ｎ2 ガスにより傘状弁体
５５の傘状部５５Ａが仕切部材３０Ｃから離座して開弁
状態にする。また、ガス通路管２１内には、図３（ｂ）
に示すように、この大径孔部２４Ｂを一方向弁３１の弁
座となる仕切部材３１Ｃで２つの空間Ｅ、Ｆに区画し、
小径孔部２４Ｃ側の空間Ｆの仕切部材３１Ｃに、一方向
弁３１を構成するプラスチックやゴム材で形成された傘
状弁体６０を設けるとともに、この傘状弁体６０の傘状
部６０Ａで仕切部材３１Ｃとの間に形成された密閉空間
Ｇに連通する複数の通孔６１を設けたもので、小径孔部
２４Ａからの窒素Ｎ2 ガスにより傘状弁体６０の傘状部
６０Ａが仕切部材３１Ｃから離座して開弁状態にする。
のガス供給システムにおいて、各ガス供給管２０、２１
内に配置された一方向弁３０、３１は、これに限定され
るものでなく、図３（ａ）及び図３（ｂ）に示すような
ものであってもよい。即ち、ガス通路管２０内には、図
３（ａ）に示すように、この大径孔部２２Ｂを一方向弁
３０の弁座となる仕切部材３０Ｃで２つの空間Ｂ、Ｃに
区画し、小径孔部２２Ａ側の空間Ｂの仕切部材３０Ｃ
に、一方向弁３０を構成するプラスチックやゴム材で形
成された傘状弁体５５を設けるとともに、この傘状弁体
５５の傘状部５５Ａで仕切部材３０Ｃとの間に形成され
た密閉空間Ｄに連通する複数の通孔５６を設けたもの
で、小径孔部２２Ｃからの窒素Ｎ2 ガスにより傘状弁体
５５の傘状部５５Ａが仕切部材３０Ｃから離座して開弁
状態にする。また、ガス通路管２１内には、図３（ｂ）
に示すように、この大径孔部２４Ｂを一方向弁３１の弁
座となる仕切部材３１Ｃで２つの空間Ｅ、Ｆに区画し、
小径孔部２４Ｃ側の空間Ｆの仕切部材３１Ｃに、一方向
弁３１を構成するプラスチックやゴム材で形成された傘
状弁体６０を設けるとともに、この傘状弁体６０の傘状
部６０Ａで仕切部材３１Ｃとの間に形成された密閉空間
Ｇに連通する複数の通孔６１を設けたもので、小径孔部
２４Ａからの窒素Ｎ2 ガスにより傘状弁体６０の傘状部
６０Ａが仕切部材３１Ｃから離座して開弁状態にする。
【００２０】また、本実施例における可搬式密閉コンテ
ナのガス供給システムにおいて、各ガス通路管２０、２
１を各コネクタ管４１、４２上に載置することにより、
環状シール材４１Ａ、４２Ａを介して各ガス通路管２
０、２１と各コネクタ管４１、４２を気密に接続するよ
うにしているが、これに限定されるものでなく、図４に
示すように、各コネクタ管４１、４２の端面に開口する
凹所６５を形成して、この凹所６５の内周面６５ａに環
状シール材６６を配置するとともに、各ガス通路管２
０、２１の先端部に凹所６５内に嵌合可能な小径部２０
Ａ、２１Ａを形成して、この小径部２０Ａ、２１Ａを各
コネクタ管４１、４２の凹所６５内にそれぞれ嵌合する
ことにより、環状シール材６６を介して各ガス通路管２
０、２１と各コネクタ管４１、４２をと気密にして接続
するようにしたものであってもよい。
ナのガス供給システムにおいて、各ガス通路管２０、２
１を各コネクタ管４１、４２上に載置することにより、
環状シール材４１Ａ、４２Ａを介して各ガス通路管２
０、２１と各コネクタ管４１、４２を気密に接続するよ
うにしているが、これに限定されるものでなく、図４に
示すように、各コネクタ管４１、４２の端面に開口する
凹所６５を形成して、この凹所６５の内周面６５ａに環
状シール材６６を配置するとともに、各ガス通路管２
０、２１の先端部に凹所６５内に嵌合可能な小径部２０
Ａ、２１Ａを形成して、この小径部２０Ａ、２１Ａを各
コネクタ管４１、４２の凹所６５内にそれぞれ嵌合する
ことにより、環状シール材６６を介して各ガス通路管２
０、２１と各コネクタ管４１、４２をと気密にして接続
するようにしたものであってもよい。
【００２１】更に、密閉コンテナ１０及びガス供給装置
５に設けられた、ガス通路管２０、２１及びコネクタ管
４１、４２の配管数は、これに限定されるものでない。
５に設けられた、ガス通路管２０、２１及びコネクタ管
４１、４２の配管数は、これに限定されるものでない。
【００２２】
【発明の効果】このように本発明の可搬式密閉コンテナ
のガス供給システムによれば、密閉コンテナの各ガス通
路を、ガス供給装置の各ガス流路にそれぞれ接続して、
一方のガス流路から一方向弁を介して不活性ガスを密閉
コンテナ内に供給し、一方向弁を介して他方のガス流路
から密閉コンテナ内の不要ガス（空気・水等）を外部に
排気することができるので、密閉コンテナ内の不要ガス
濃度を下げるために必要な不活性ガスが少量で、且つそ
の不要ガスの排気も容易に行うことができ、また、常
時、不活性ガスを密閉コンテナ内に供給する際において
も経済的に半導体ウエハへの汚染を低減することができ
るとともに、密閉コンテナの各ガス通路をガス供給装置
のガス流路に接続するだけで、極めて容易、且つ短時間
に不活性ガスの置換を行うことができる。
のガス供給システムによれば、密閉コンテナの各ガス通
路を、ガス供給装置の各ガス流路にそれぞれ接続して、
一方のガス流路から一方向弁を介して不活性ガスを密閉
コンテナ内に供給し、一方向弁を介して他方のガス流路
から密閉コンテナ内の不要ガス（空気・水等）を外部に
排気することができるので、密閉コンテナ内の不要ガス
濃度を下げるために必要な不活性ガスが少量で、且つそ
の不要ガスの排気も容易に行うことができ、また、常
時、不活性ガスを密閉コンテナ内に供給する際において
も経済的に半導体ウエハへの汚染を低減することができ
るとともに、密閉コンテナの各ガス通路をガス供給装置
のガス流路に接続するだけで、極めて容易、且つ短時間
に不活性ガスの置換を行うことができる。
【００２３】また、可搬式密閉コンテナを、ガス供給装
置から取り出して搬送する場合には、各ガス通路に設け
られた一方向弁の閉弁作動により、このガス通路からコ
ンテナ内への不要ガス（空気・水等）の進入を阻止する
ことができるので、密閉コンテナ内の半導体ウエハが汚
染されることを防止することができる。
置から取り出して搬送する場合には、各ガス通路に設け
られた一方向弁の閉弁作動により、このガス通路からコ
ンテナ内への不要ガス（空気・水等）の進入を阻止する
ことができるので、密閉コンテナ内の半導体ウエハが汚
染されることを防止することができる。
【図１】本発明の一実施例における可搬式密閉コンテナ
のガス供給システムの構成を示す縦断面図である。
のガス供給システムの構成を示す縦断面図である。
【図２】（ａ）及び（ｂ）は本発明の 実施例における
可搬式密閉コンテナのガス供給システムの一方向弁の構
成を示す要部拡大図である。
可搬式密閉コンテナのガス供給システムの一方向弁の構
成を示す要部拡大図である。
【図３】（ａ）及び（ｂ）は本発明の実施例における可
搬式密閉コンテナのガス供給システムの一方向弁の変形
例の構成を示す要部拡大図である。
搬式密閉コンテナのガス供給システムの一方向弁の変形
例の構成を示す要部拡大図である。
【図４】本発明の実施例における可搬式密閉コンテナの
ガス供給システムのガス通路管とコネクタ管との接続構
造の変形例を示す要部拡大図である。
ガス供給システムのガス通路管とコネクタ管との接続構
造の変形例を示す要部拡大図である。
【符号の説明】 ５ ガス供給装置 １０ 可搬式密閉コンテナ ２０、２１ ガス通路管 ３０、３１ 一方向弁 ５０、５１ ガス流路
フロントページの続き (72)発明者 森田 日也 三重県伊勢市竹ヶ鼻町100番地 神鋼電機 株式会社伊勢製作所内
Claims (1)
- 【請求項１】 半導体ウエハを収納し内部を不活性ガス
雰囲気に密閉される可搬式密閉コンテナと、この可搬式
密閉コンテナの内部に不活性ガスを供給／排気するガス
供給装置とを備えてなる可搬式密閉コンテナのガス供給
システムにおいて、 前記密閉コンテナには、この内部と外部とを連通する複
数のガス通路に互いに反する方向に前記不活性ガスの流
れを許容する一方向弁をそれぞれ設けると共に、前記ガ
ス供給装置には、前記各ガス通路に対応して接離可能に
されたガス流路を形成したことを特徴とする可搬式密閉
コンテナのガス供給システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2865495A JP3617681B2 (ja) | 1995-01-24 | 1995-01-24 | 可搬式密閉コンテナのガス供給システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2865495A JP3617681B2 (ja) | 1995-01-24 | 1995-01-24 | 可搬式密閉コンテナのガス供給システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08203993A true JPH08203993A (ja) | 1996-08-09 |
| JP3617681B2 JP3617681B2 (ja) | 2005-02-09 |
Family
ID=12254501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2865495A Expired - Fee Related JP3617681B2 (ja) | 1995-01-24 | 1995-01-24 | 可搬式密閉コンテナのガス供給システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3617681B2 (ja) |
Cited By (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10112496A (ja) * | 1996-10-03 | 1998-04-28 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | 半導体ウエハの保存方法および収容装置 |
| JPH11121602A (ja) * | 1997-10-13 | 1999-04-30 | Tdk Corp | クリーンボックス、クリーン搬送方法及び装置 |
| JPH11191587A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-07-13 | Assist Kk | 半導体用クリーンボックス |
| JPH11251422A (ja) * | 1998-03-03 | 1999-09-17 | Shinko Electric Co Ltd | ウェーハ収納容器 |
| JP2000124300A (ja) * | 1998-10-14 | 2000-04-28 | Nec Kansai Ltd | ウェーハキャリア |
| JP2001500669A (ja) * | 1996-09-13 | 2001-01-16 | セミファブ | 分子状汚染制御システム |
| JP2001053477A (ja) * | 1999-08-06 | 2001-02-23 | Dainippon Printing Co Ltd | ケース開閉装置 |
| JP2004349619A (ja) * | 2003-05-26 | 2004-12-09 | Tdk Corp | インターフェースシール |
| JP2004345715A (ja) * | 2003-05-26 | 2004-12-09 | Tdk Corp | 製品収容容器用パージシステム |
| JP2006049683A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-02-16 | Renesas Technology Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| JP2007005599A (ja) * | 2005-06-24 | 2007-01-11 | Kondo Kogyo Kk | シャッター付きブレスフィルター装置および該装置に使用するシャッター押上げロッド並びにシャッター押上げロッド付きノズル |
| JP2007005604A (ja) * | 2005-06-24 | 2007-01-11 | Tdk Corp | 製品収容容器用パージシステム及び該パージシステムに供せられる台 |
| JP2007273697A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Sumika Chemical Analysis Service Ltd | 基板搬送容器および基板搬送容器内空間のガス置換方法 |
| CN100363241C (zh) * | 2004-04-29 | 2008-01-23 | 家登精密工业股份有限公司 | 传送盒的填充装置 |
| JP2009523325A (ja) * | 2006-01-11 | 2009-06-18 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 基板キャリヤをパージするための方法及び装置 |
| JP2009206156A (ja) * | 2008-02-26 | 2009-09-10 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 基板収納容器の排出用ポート |
| JP2009541998A (ja) * | 2006-06-19 | 2009-11-26 | インテグリス・インコーポレーテッド | レチクル保管庫をパージするためのシステム |
| US7918122B2 (en) * | 2006-12-22 | 2011-04-05 | Muratec Automation Co., Ltd. | Container transport system and measurement container |
| JP2011114319A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-06-09 | Dan Takuma:Kk | 気体置換装置および気体置換方法 |
| US8061738B2 (en) | 2006-02-20 | 2011-11-22 | Tdk Corporation | Gas replacement system |
| WO2016076111A1 (ja) * | 2014-11-12 | 2016-05-19 | ミライアル株式会社 | ガスパージ用フィルタ |
| JP2018505546A (ja) * | 2014-12-01 | 2018-02-22 | インテグリス・インコーポレーテッド | 基板収納容器の弁アセンブリ |
| WO2019187982A1 (ja) * | 2018-03-28 | 2019-10-03 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器 |
-
1995
- 1995-01-24 JP JP2865495A patent/JP3617681B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001500669A (ja) * | 1996-09-13 | 2001-01-16 | セミファブ | 分子状汚染制御システム |
| JPH10112496A (ja) * | 1996-10-03 | 1998-04-28 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | 半導体ウエハの保存方法および収容装置 |
| JPH11121602A (ja) * | 1997-10-13 | 1999-04-30 | Tdk Corp | クリーンボックス、クリーン搬送方法及び装置 |
| JPH11191587A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-07-13 | Assist Kk | 半導体用クリーンボックス |
| JPH11251422A (ja) * | 1998-03-03 | 1999-09-17 | Shinko Electric Co Ltd | ウェーハ収納容器 |
| JP2000124300A (ja) * | 1998-10-14 | 2000-04-28 | Nec Kansai Ltd | ウェーハキャリア |
| JP2001053477A (ja) * | 1999-08-06 | 2001-02-23 | Dainippon Printing Co Ltd | ケース開閉装置 |
| JP2004345715A (ja) * | 2003-05-26 | 2004-12-09 | Tdk Corp | 製品収容容器用パージシステム |
| JP2004349619A (ja) * | 2003-05-26 | 2004-12-09 | Tdk Corp | インターフェースシール |
| CN100363241C (zh) * | 2004-04-29 | 2008-01-23 | 家登精密工业股份有限公司 | 传送盒的填充装置 |
| JP2006049683A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-02-16 | Renesas Technology Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| JP2007005599A (ja) * | 2005-06-24 | 2007-01-11 | Kondo Kogyo Kk | シャッター付きブレスフィルター装置および該装置に使用するシャッター押上げロッド並びにシャッター押上げロッド付きノズル |
| JP2007005604A (ja) * | 2005-06-24 | 2007-01-11 | Tdk Corp | 製品収容容器用パージシステム及び該パージシステムに供せられる台 |
| JP4558594B2 (ja) * | 2005-06-24 | 2010-10-06 | 近藤工業株式会社 | シャッター付きブレスフィルター装置および該装置に使用するシャッター押上げロッド並びにシャッター押上げロッド付きノズル |
| JP2009523325A (ja) * | 2006-01-11 | 2009-06-18 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 基板キャリヤをパージするための方法及び装置 |
| US8689812B2 (en) | 2006-01-11 | 2014-04-08 | Applied Materials, Inc. | Methods and loadport for purging a substrate carrier |
| US8601975B2 (en) | 2006-01-11 | 2013-12-10 | Applied Materials, Inc. | Methods and loadport apparatus for purging a substrate carrier |
| US8061738B2 (en) | 2006-02-20 | 2011-11-22 | Tdk Corporation | Gas replacement system |
| JP2007273697A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Sumika Chemical Analysis Service Ltd | 基板搬送容器および基板搬送容器内空間のガス置換方法 |
| JP2009541998A (ja) * | 2006-06-19 | 2009-11-26 | インテグリス・インコーポレーテッド | レチクル保管庫をパージするためのシステム |
| US7918122B2 (en) * | 2006-12-22 | 2011-04-05 | Muratec Automation Co., Ltd. | Container transport system and measurement container |
| JP2009206156A (ja) * | 2008-02-26 | 2009-09-10 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 基板収納容器の排出用ポート |
| JP2011114319A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-06-09 | Dan Takuma:Kk | 気体置換装置および気体置換方法 |
| US10453723B2 (en) | 2014-11-12 | 2019-10-22 | Miraial Co., Ltd. | Gas purge filter |
| WO2016076111A1 (ja) * | 2014-11-12 | 2016-05-19 | ミライアル株式会社 | ガスパージ用フィルタ |
| JP2016096184A (ja) * | 2014-11-12 | 2016-05-26 | ミライアル株式会社 | ガスパージ用フィルタ |
| JP2021010024A (ja) * | 2014-12-01 | 2021-01-28 | インテグリス・インコーポレーテッド | 基板収納容器の弁アセンブリ |
| JP2018505546A (ja) * | 2014-12-01 | 2018-02-22 | インテグリス・インコーポレーテッド | 基板収納容器の弁アセンブリ |
| US11869787B2 (en) | 2014-12-01 | 2024-01-09 | Entegris, Inc. | Substrate container valve assemblies |
| JP2019175973A (ja) * | 2018-03-28 | 2019-10-10 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器 |
| WO2019187982A1 (ja) * | 2018-03-28 | 2019-10-03 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器 |
| US11230427B2 (en) | 2018-03-28 | 2022-01-25 | Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. | Substrate storage container with umbrella-shaped seal lip |
| TWI776029B (zh) * | 2018-03-28 | 2022-09-01 | 日商信越聚合物股份有限公司 | 基板收納容器 |
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| Publication number | Publication date |
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