JPH08172034A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
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- JPH08172034A JPH08172034A JP32622193A JP32622193A JPH08172034A JP H08172034 A JPH08172034 A JP H08172034A JP 32622193 A JP32622193 A JP 32622193A JP 32622193 A JP32622193 A JP 32622193A JP H08172034 A JPH08172034 A JP H08172034A
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- vacuum processing
- vacuum
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- chambers
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 真空処理室や容器載置室の配置のレイアウト
の自由度を向上させるとともに、装置のメンテナンス効
率を向上させる真空処理装置を提供する。 【構成】 減圧雰囲気とされる気密構造の搬送室2と、
この搬送室2に搬出入口を介して気密に接続された予備
真空室3A,3Bと、搬送室2に搬出入口を介して気密
に接続された複数の真空処理室4A〜4Cと、搬送室2
内に設けられると共に各々独立して水平方向に回動され
る少なくとも3本の搬送アームを備え、予備真空室3
A,3B及び真空処理室4A〜4C間で被処理体Wを搬
送するための搬送手段5とを備えた真空処理装置であっ
て、この真空処理装置は、クリーンルーム内に配置さ
れ、真空処理装置が配置される最もクリーン度の高い筐
体面側に設けられた、真空処理装置を制御する制御板等
を具備する。
の自由度を向上させるとともに、装置のメンテナンス効
率を向上させる真空処理装置を提供する。 【構成】 減圧雰囲気とされる気密構造の搬送室2と、
この搬送室2に搬出入口を介して気密に接続された予備
真空室3A,3Bと、搬送室2に搬出入口を介して気密
に接続された複数の真空処理室4A〜4Cと、搬送室2
内に設けられると共に各々独立して水平方向に回動され
る少なくとも3本の搬送アームを備え、予備真空室3
A,3B及び真空処理室4A〜4C間で被処理体Wを搬
送するための搬送手段5とを備えた真空処理装置であっ
て、この真空処理装置は、クリーンルーム内に配置さ
れ、真空処理装置が配置される最もクリーン度の高い筐
体面側に設けられた、真空処理装置を制御する制御板等
を具備する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空処理装置に関す
る。
る。
【0002】
【従来の技術】半導体を製造するための真空処理装置の
中には、エッチング、成膜処理、アッシング、及びスパ
ッタリングなど種々の装置があり、また装置のタイプと
しても枚葉式及びバッチ式のものがある。この種の半導
体製造装置は、半導体の高集積化、高スループット化に
対応するため種々の工夫、改良がなされ、例えば枚葉式
の真空処理装置については、複数の真空処理室を共通の
搬送室に接続し、共通の入出力ポートから各真空処理室
に搬送する装置も知られている。
中には、エッチング、成膜処理、アッシング、及びスパ
ッタリングなど種々の装置があり、また装置のタイプと
しても枚葉式及びバッチ式のものがある。この種の半導
体製造装置は、半導体の高集積化、高スループット化に
対応するため種々の工夫、改良がなされ、例えば枚葉式
の真空処理装置については、複数の真空処理室を共通の
搬送室に接続し、共通の入出力ポートから各真空処理室
に搬送する装置も知られている。
【0003】図7はこのような装置を示す図であり、進
退自在及び回転自在な搬送アーム101を備えた搬送室
102に複数の真空処理室103及びカセット室104
を、搬送アーム101の回転中心に対して放射状に接続
して真空処理装置が構成され、被処理体、例えば半導体
ウエハ(以下ウエハという)を例えば25枚収納したウ
エハカセット100をカセット室104内に搬入し、こ
の中を減圧した後搬送アーム101によりウエハカセッ
ト100内のウエハを順次真空処理室103内に搬送
し、例えば各真空処理室103内で並行してウエハの処
理を行うようにしている。
退自在及び回転自在な搬送アーム101を備えた搬送室
102に複数の真空処理室103及びカセット室104
を、搬送アーム101の回転中心に対して放射状に接続
して真空処理装置が構成され、被処理体、例えば半導体
ウエハ(以下ウエハという)を例えば25枚収納したウ
エハカセット100をカセット室104内に搬入し、こ
の中を減圧した後搬送アーム101によりウエハカセッ
ト100内のウエハを順次真空処理室103内に搬送
し、例えば各真空処理室103内で並行してウエハの処
理を行うようにしている。
【0004】このような装置では、真空処理室103と
ロードロック室102とを1対1で接続する場合に比べ
て、複数の真空処理室103に対して搬送アームを共通
化しているので構成上有利であり、また各真空処理室1
03で異なる処理を行うように構成し、1枚のウエハに
ついて連続処理を行って、スループットの向上を図って
いた。また、図8に示すように、各真空処理室103等
を制御する制御装置105は例えば真空処理室103や
ロードロック室102を載置する基台106内に配置さ
れており、制御装置105内には、装置全体を制御する
演算処理部、例えばCPU107と、このCPU107
を駆動するためのプログラムを記録した記録媒体、例え
ばROM108によって基本部が構成されている。そし
て、ROM108とCPU107は、データバス及びア
ドレスバス等の信号線109にて接続されている。
ロードロック室102とを1対1で接続する場合に比べ
て、複数の真空処理室103に対して搬送アームを共通
化しているので構成上有利であり、また各真空処理室1
03で異なる処理を行うように構成し、1枚のウエハに
ついて連続処理を行って、スループットの向上を図って
いた。また、図8に示すように、各真空処理室103等
を制御する制御装置105は例えば真空処理室103や
ロードロック室102を載置する基台106内に配置さ
れており、制御装置105内には、装置全体を制御する
演算処理部、例えばCPU107と、このCPU107
を駆動するためのプログラムを記録した記録媒体、例え
ばROM108によって基本部が構成されている。そし
て、ROM108とCPU107は、データバス及びア
ドレスバス等の信号線109にて接続されている。
【0005】また、その装置は、カセット室104内に
カセット103を搬入又は搬出する搬入出口をクリール
ーム内に配置されたパネル110に嵌合して設けられて
おり、クリーンルームの環境は、そのパネル110を挟
んで装置側111のクリーン度よりカセット室104の
搬入出口側112の方がクリーン度が高くなっており、
一般に狭義で総称すると装置側111をメンテナンスル
ーム、搬入出口側112を作業側クリーンルームと言わ
れている。そして、パネル110には、その装置を駆動
するための制御板として操作パネル113が設けられ、
この操作パネル113は、信号線114を介してCPU
107と接続されている。
カセット103を搬入又は搬出する搬入出口をクリール
ーム内に配置されたパネル110に嵌合して設けられて
おり、クリーンルームの環境は、そのパネル110を挟
んで装置側111のクリーン度よりカセット室104の
搬入出口側112の方がクリーン度が高くなっており、
一般に狭義で総称すると装置側111をメンテナンスル
ーム、搬入出口側112を作業側クリーンルームと言わ
れている。そして、パネル110には、その装置を駆動
するための制御板として操作パネル113が設けられ、
この操作パネル113は、信号線114を介してCPU
107と接続されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
装置では搬送アームが直線に沿って進退する構成である
ため、各真空処理室及びカセット室を搬送アームの回転
中心に対して放射状に配列しなければならないが、周方
向に配列される各室間にはスペースがあるといっても、
このスペースは現実にはデッドスペースであって、他の
装置を配置することはできず、従って装置全体の実際上
の占有空間は非常に広いものであり、高価なクリーンル
ーム内で使用することからすれば、搬送アームの共通化
を図っている割にはスペース的にはあまり大きなメリッ
トがなかった。
装置では搬送アームが直線に沿って進退する構成である
ため、各真空処理室及びカセット室を搬送アームの回転
中心に対して放射状に配列しなければならないが、周方
向に配列される各室間にはスペースがあるといっても、
このスペースは現実にはデッドスペースであって、他の
装置を配置することはできず、従って装置全体の実際上
の占有空間は非常に広いものであり、高価なクリーンル
ーム内で使用することからすれば、搬送アームの共通化
を図っている割にはスペース的にはあまり大きなメリッ
トがなかった。
【0007】また、CPUを駆動するプログラムを記録
する記録媒体が装置側に配置されているので、装置を駆
動するプログラムのバージョンアップ,変更,機能追加
等に伴って、その記録媒体を交換する際、通常作業員は
作業側クリーンルーム内にて作業しているので、メンテ
ナンスルーム側に、一旦移動し、ROMを交換すること
になる。そのような、記録媒体の交換のため何度かクリ
ーンルームとメンテナンスルームを行き来すると、メン
テナンスルームのパーティクルがクリーンルーム内に侵
入し、このパーティクルの侵入に伴って、クリーンルー
ム内に置かれている被処理体、例えば半導体ウエハの表
面に付着してしまい、被処理体の歩留りを低下させてし
まうという問題が生じていた。また、記録媒体の交換の
ため何度かクリーンルームとメンテナンスルームを行き
来しなくてはならないので、媒体交換作業の作業時間の
スループットの効率が悪かった。
する記録媒体が装置側に配置されているので、装置を駆
動するプログラムのバージョンアップ,変更,機能追加
等に伴って、その記録媒体を交換する際、通常作業員は
作業側クリーンルーム内にて作業しているので、メンテ
ナンスルーム側に、一旦移動し、ROMを交換すること
になる。そのような、記録媒体の交換のため何度かクリ
ーンルームとメンテナンスルームを行き来すると、メン
テナンスルームのパーティクルがクリーンルーム内に侵
入し、このパーティクルの侵入に伴って、クリーンルー
ム内に置かれている被処理体、例えば半導体ウエハの表
面に付着してしまい、被処理体の歩留りを低下させてし
まうという問題が生じていた。また、記録媒体の交換の
ため何度かクリーンルームとメンテナンスルームを行き
来しなくてはならないので、媒体交換作業の作業時間の
スループットの効率が悪かった。
【0008】また、装置が大型化、複合化に伴って、装
置内のどの箇所で、現在被処理体がどういう処理を行な
われているのか、又は如何なる箇所に半導体ウエハが移
動しているのか等の表示がされておらず、例えば装置内
でトラブル、例えば搬送装置が暴走し、半導体ウエハを
破損した際、どこで破損したか分からないために、それ
ぞれの部屋を大気開放して、対処していた。このような
対処をすると、半導体ウエハが破損していない部屋まで
開けるので大気開放に係るメンテナンス時間のスループ
ットが低下してしまい、さらに処理室等に不要なクリー
ンルーム中のパーティクルが付着し、処理室内等の洗浄
する時期を伸ばすことができないという問題があった。
置内のどの箇所で、現在被処理体がどういう処理を行な
われているのか、又は如何なる箇所に半導体ウエハが移
動しているのか等の表示がされておらず、例えば装置内
でトラブル、例えば搬送装置が暴走し、半導体ウエハを
破損した際、どこで破損したか分からないために、それ
ぞれの部屋を大気開放して、対処していた。このような
対処をすると、半導体ウエハが破損していない部屋まで
開けるので大気開放に係るメンテナンス時間のスループ
ットが低下してしまい、さらに処理室等に不要なクリー
ンルーム中のパーティクルが付着し、処理室内等の洗浄
する時期を伸ばすことができないという問題があった。
【0009】本発明の目的は、真空処理室や容器載置室
の配置のレイアウトの自由度を向上させるとともに、装
置のメンテナンス効率を向上させる真空処理装置を提供
することにある。
の配置のレイアウトの自由度を向上させるとともに、装
置のメンテナンス効率を向上させる真空処理装置を提供
することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、減圧
雰囲気とされる気密構造の搬送室と、この搬送室に搬出
入口を介して気密に接続された予備真空室と、前記搬送
室に搬出入口を介して気密に接続された複数の真空処理
室と、前記搬送室内に設けられると共に各々独立して水
平方向に回動される少なくとも3本の搬送アームを備
え、前記予備真空室及び真空処理室間で被処理体を搬送
するための搬送手段とを備えた真空処理装置であって、
この真空処理装置は、クリーンルーム内に配置され、前
記真空処理装置が配置される最もクリーン度の高い筐体
面側に設けられた、前記真空処理装置を制御する制御板
と、この制御板に設けられ、ICカードの情報を読み込
むための読込媒体器と、前記制御板側に設けられた演算
処理部とを具備し、前記ICカードに蓄積されたプログ
ラムにより、前記演算処理部を駆動して前記真空処理装
置を制御することを特徴とする。
雰囲気とされる気密構造の搬送室と、この搬送室に搬出
入口を介して気密に接続された予備真空室と、前記搬送
室に搬出入口を介して気密に接続された複数の真空処理
室と、前記搬送室内に設けられると共に各々独立して水
平方向に回動される少なくとも3本の搬送アームを備
え、前記予備真空室及び真空処理室間で被処理体を搬送
するための搬送手段とを備えた真空処理装置であって、
この真空処理装置は、クリーンルーム内に配置され、前
記真空処理装置が配置される最もクリーン度の高い筐体
面側に設けられた、前記真空処理装置を制御する制御板
と、この制御板に設けられ、ICカードの情報を読み込
むための読込媒体器と、前記制御板側に設けられた演算
処理部とを具備し、前記ICカードに蓄積されたプログ
ラムにより、前記演算処理部を駆動して前記真空処理装
置を制御することを特徴とする。
【0011】請求項2の発明は、請求項1の発明におい
て、前記複数の真空処理室には、少なくともプラズマを
生起させ、磁場を作用して前記被処理体をエッチング処
理する処理室を含むことを特徴とする。
て、前記複数の真空処理室には、少なくともプラズマを
生起させ、磁場を作用して前記被処理体をエッチング処
理する処理室を含むことを特徴とする。
【0012】請求項3の発明は、請求項1の発明におい
て、制御板には、被処理体の処理のリアルタイム情報を
表示する表示板が設けられたことを特徴とする。
て、制御板には、被処理体の処理のリアルタイム情報を
表示する表示板が設けられたことを特徴とする。
【0013】請求項4の発明は、静求項3の発明におい
て、リアルタイム情報は、搬送アームの移動位置情報又
は/及び磁場の駆動情報であることを特徴とする。
て、リアルタイム情報は、搬送アームの移動位置情報又
は/及び磁場の駆動情報であることを特徴とする。
【0014】請求項5の発明は、請求項2の発明におい
て、磁場は、永久磁石を回転させて発生することを特徴
とする。
て、磁場は、永久磁石を回転させて発生することを特徴
とする。
【0015】
【作用】本発明によれば、搬送アームによる被処理体の
搬送経路をアームのストローク範囲であれば自由に選択
できる。従って真空処理室の搬出入口や予備真空室例え
ば容器載置室の搬出入口の向きと搬送アームとの位置関
係の自由度が大きいので、例えば搬送室の一辺に沿って
真空処理室の搬出入口を横に並べることもでき、スペー
ス効率を高めることができる。そして、装置が配置され
る最もクリーン度の高い筐体面側に設けられた、制御板
にICカードの情報をリード又は/及びライトするため
の読込媒体器が具備されているので、この読込媒体に対
してクリーン度の高いクリーンルーム側からICカード
を挿入し、このICカードに蓄積されたプログラムによ
って演算処理部を駆動し、装置を全体を制御するので、
プログラムの変更等に係るメンテナンス時にメンテナン
スルーム側に移動することないので、メンテナンス効率
を向上することができる。
搬送経路をアームのストローク範囲であれば自由に選択
できる。従って真空処理室の搬出入口や予備真空室例え
ば容器載置室の搬出入口の向きと搬送アームとの位置関
係の自由度が大きいので、例えば搬送室の一辺に沿って
真空処理室の搬出入口を横に並べることもでき、スペー
ス効率を高めることができる。そして、装置が配置され
る最もクリーン度の高い筐体面側に設けられた、制御板
にICカードの情報をリード又は/及びライトするため
の読込媒体器が具備されているので、この読込媒体に対
してクリーン度の高いクリーンルーム側からICカード
を挿入し、このICカードに蓄積されたプログラムによ
って演算処理部を駆動し、装置を全体を制御するので、
プログラムの変更等に係るメンテナンス時にメンテナン
スルーム側に移動することないので、メンテナンス効率
を向上することができる。
【0016】
【実施例】図1及び図2は、夫々本発明の実施例の全体
構成を示す一部破断斜視図及び平面図である。図中2は
搬送室であり、この搬送室2は、直方体形状に形成され
た気密構造のチャンバよりなる。この搬送室2には、一
方の長辺に沿って設けられた、被処理体、例えばウエハ
Wを搬入出する2個のの搬出入口31、31が側壁に形
成されており、ウエハカセットCが載置される気密構造
の2個のカセット室3A、3Bが夫々前記搬出入口3
1、31を介して搬送室2に気密に接続されている。
構成を示す一部破断斜視図及び平面図である。図中2は
搬送室であり、この搬送室2は、直方体形状に形成され
た気密構造のチャンバよりなる。この搬送室2には、一
方の長辺に沿って設けられた、被処理体、例えばウエハ
Wを搬入出する2個のの搬出入口31、31が側壁に形
成されており、ウエハカセットCが載置される気密構造
の2個のカセット室3A、3Bが夫々前記搬出入口3
1、31を介して搬送室2に気密に接続されている。
【0017】前記ウエハカセット(以下単にカセットと
いう。)Cは、25枚のウエハWを収納する容器であ
り、カセット室3A、3Bは、この実施例では容器載置
部に相当する。カセット室3A、3Bの上部には、カセ
ットCを取り入れ、取り出しできるように前後に開閉自
在な蓋部32が形成されると共に、内部には図3に示す
ように、カセットCを間欠的に昇降させるための昇降機
構33が設けられ、また底部には排気管34が接続され
ている。この排気管34はバルブV1を介して真空ポン
プ34a例えばドライポンプに接続されている。
いう。)Cは、25枚のウエハWを収納する容器であ
り、カセット室3A、3Bは、この実施例では容器載置
部に相当する。カセット室3A、3Bの上部には、カセ
ットCを取り入れ、取り出しできるように前後に開閉自
在な蓋部32が形成されると共に、内部には図3に示す
ように、カセットCを間欠的に昇降させるための昇降機
構33が設けられ、また底部には排気管34が接続され
ている。この排気管34はバルブV1を介して真空ポン
プ34a例えばドライポンプに接続されている。
【0018】更に前記搬送室2には、他方の長辺に沿っ
て2個のウエハの搬出入口41、41が側壁に形成され
ており、これら搬出入口41、41を介して2個の真空
処理室、例えばマグネットを用いたプラズマエッチング
を行うための真空処理室4A、4Bが搬送室2に気密に
接続されている。またこの例では、搬送室2の短辺側に
も真空処理室4Cが搬出入口41を介して気密に接続さ
れている。なおカセット室3A、3Bの各搬出入口3
1、及び真空処理室4A〜4Cの各搬出入口には、ゲー
トバルブG(符号共通)が設けられている。
て2個のウエハの搬出入口41、41が側壁に形成され
ており、これら搬出入口41、41を介して2個の真空
処理室、例えばマグネットを用いたプラズマエッチング
を行うための真空処理室4A、4Bが搬送室2に気密に
接続されている。またこの例では、搬送室2の短辺側に
も真空処理室4Cが搬出入口41を介して気密に接続さ
れている。なおカセット室3A、3Bの各搬出入口3
1、及び真空処理室4A〜4Cの各搬出入口には、ゲー
トバルブG(符号共通)が設けられている。
【0019】前記真空処理室4A(4B、4C)には、
図3に示すようにサセプタを兼用する下部電極42、上
部電極43が設けられると共に処理ガス供給管44及び
排気管45が接続されている。上部電極43の上方に
は、マグネット収納用の磁場漏洩防止用の筐体46が真
空処理室とは分割されて設けられており、この中には真
空処理室4A(4B、4C)内に磁場を形成するマグネ
ット47及びこのマグネット47の上方に磁場極性が互
いに反するように設けられた、前記マグネット47から
の磁場、特に上方及び側方に磁場の漏洩を防止するため
の磁場漏洩防止用のマグネット48とがモータ49で同
期して回転されるように配設されている。
図3に示すようにサセプタを兼用する下部電極42、上
部電極43が設けられると共に処理ガス供給管44及び
排気管45が接続されている。上部電極43の上方に
は、マグネット収納用の磁場漏洩防止用の筐体46が真
空処理室とは分割されて設けられており、この中には真
空処理室4A(4B、4C)内に磁場を形成するマグネ
ット47及びこのマグネット47の上方に磁場極性が互
いに反するように設けられた、前記マグネット47から
の磁場、特に上方及び側方に磁場の漏洩を防止するため
の磁場漏洩防止用のマグネット48とがモータ49で同
期して回転されるように配設されている。
【0020】前記搬送室2内には、前記カセット室3
A、3B及び真空処理室4A〜4C間でウエハWを搬送
するための搬送手段5が設けられている。前記搬送手段
5は、各々独立して水平方向に回動される3本の搬送ア
ーム51、52、53を備えた多関節アームよりなり、
下段の搬送アーム51は、図3に示すように搬送室の下
部に設けられた駆動部6によって回転可能にされてお
り、この駆動部6は、気密構造の円筒状のケース部65
が取り付けられ、ケース部65内の空間は大気側と気密
に区画されている。
A、3B及び真空処理室4A〜4C間でウエハWを搬送
するための搬送手段5が設けられている。前記搬送手段
5は、各々独立して水平方向に回動される3本の搬送ア
ーム51、52、53を備えた多関節アームよりなり、
下段の搬送アーム51は、図3に示すように搬送室の下
部に設けられた駆動部6によって回転可能にされてお
り、この駆動部6は、気密構造の円筒状のケース部65
が取り付けられ、ケース部65内の空間は大気側と気密
に区画されている。
【0021】そして、前記ケース部65には、排気管3
6が接続され、この排気管36は、バルブV2を介して
前記真空ポンプ35例えばターボ分子ポンプに接続され
ている。従ってバルブV2を開くと、ケース部65の内
部空間が真空排気され、前記搬送室2内も駆動部6の軸
受け部(図示せず)を介して排気されるように構成さ
れ、前記3本の搬送アーム51〜53の軸受け部等で発
生したパーティクルがケース部65の内部空間を介して
排気管36内に排出されるように構成されている。ま
た、前記駆動部6は、前記3本の搬送アーム51〜53
に対応して3個の駆動モータ(図示せず)を備えてお
り、駆動部6の駆動により上段及び中段の搬送アーム5
2、53が独立して駆動されるように構成されている。
6が接続され、この排気管36は、バルブV2を介して
前記真空ポンプ35例えばターボ分子ポンプに接続され
ている。従ってバルブV2を開くと、ケース部65の内
部空間が真空排気され、前記搬送室2内も駆動部6の軸
受け部(図示せず)を介して排気されるように構成さ
れ、前記3本の搬送アーム51〜53の軸受け部等で発
生したパーティクルがケース部65の内部空間を介して
排気管36内に排出されるように構成されている。ま
た、前記駆動部6は、前記3本の搬送アーム51〜53
に対応して3個の駆動モータ(図示せず)を備えてお
り、駆動部6の駆動により上段及び中段の搬送アーム5
2、53が独立して駆動されるように構成されている。
【0022】また、前記上段の搬送アーム53のウエハ
保持部には、例えばウエハを安定して保持できる3個所
の位置に、摩擦によりパーティクルの発生しにくい材質
例えばフッ素樹脂よりなる突起部55が設けられてお
り、このように構成すればウエハを搬送アーム53に保
持したときにウエハの位置ずれを防止でき、ウエハ自身
のダメージもない。
保持部には、例えばウエハを安定して保持できる3個所
の位置に、摩擦によりパーティクルの発生しにくい材質
例えばフッ素樹脂よりなる突起部55が設けられてお
り、このように構成すればウエハを搬送アーム53に保
持したときにウエハの位置ずれを防止でき、ウエハ自身
のダメージもない。
【0023】前記搬送室2には排気管21が接続されて
おり、この排気管21はバルブV3を介して前記真空ポ
ンプ35に接続されている。また前記搬送室2内には、
ウエハWを一時的に載置するための昇降自在なバッファ
ステージ22と、ウエハのオリエンテーションフラット
(以下「オリフラ」という。)の向き及び中心位置を合
わせるための位置合わせ機構7とが配置されている(図
1及び図2参照)。この位置合わせ機構7は、X、Y、
Z及びθ方向に移動可能な回転ステージ71、及びウエ
ハの周縁部を光学的に検出する発受光部72などを備え
ている。
おり、この排気管21はバルブV3を介して前記真空ポ
ンプ35に接続されている。また前記搬送室2内には、
ウエハWを一時的に載置するための昇降自在なバッファ
ステージ22と、ウエハのオリエンテーションフラット
(以下「オリフラ」という。)の向き及び中心位置を合
わせるための位置合わせ機構7とが配置されている(図
1及び図2参照)。この位置合わせ機構7は、X、Y、
Z及びθ方向に移動可能な回転ステージ71、及びウエ
ハの周縁部を光学的に検出する発受光部72などを備え
ている。
【0024】また前記搬送室2内には、図1及び図2に
示すように不活性ガス例えば窒素ガスを供給するための
不活性ガス供給管23が前記下段の搬送アーム51の回
動中心付近の上方位置まで延び出して配管されており、
この不活性ガス供給管23の先端部には,例えば焼結金
属よりなる不活性ガス供給部24が形成されており、前
記不活性ガス供給管23の基端側は例えば窒素ガス供給
源25に接続されている。
示すように不活性ガス例えば窒素ガスを供給するための
不活性ガス供給管23が前記下段の搬送アーム51の回
動中心付近の上方位置まで延び出して配管されており、
この不活性ガス供給管23の先端部には,例えば焼結金
属よりなる不活性ガス供給部24が形成されており、前
記不活性ガス供給管23の基端側は例えば窒素ガス供給
源25に接続されている。
【0025】そして、前記搬送室2,真空処理室4A〜
4C及びカセット室3A,3B等の室は、図4に示す、
筐体80に覆われており、この筐体80はクリーンルー
ム内に配置されている。そして、この筐体80の殆ど
は、装置の保守を行なうためのクリーン度の低いメンテ
ナンスルームに配置されており、このメンテナンスルー
ムとクリーンルームの最もクリーン度の高い側、つま
り、作業者が処理すべきウエハWを配置する側としての
作業用クリーンルームとは、パネル81で仕切られてい
る。そして、その作業用クリーンルーム側の筐体80面
側には、前記カセット室3A,3Bにカセットを搬入出
するための蓋部32が配置するようにされている、そし
てその蓋部32を覆って、メンテナンスルームと作業用
クリーンルームとを遮断するための板体、例えばアクリ
ル板82が筐体80に脱着可能に設けられている。ま
た、このアクリル板82の側方には、装置を駆動するた
めの制御板として操作パネル83が設けられており、こ
の操作パネル83には、装置状態を表示するための表示
装置、例えば液晶ディスプレイ84,処理条件等を入力
するためのキーボード85,記録媒体、例えばICカー
ドを挿入するための読込媒体器としての記録媒体挿入部
86とが設けられている。また、操作パネル83の下方
には、緊急時に装置を停止するためのEMG(エマージ
ェンシー)スイッチ87が設けられている。
4C及びカセット室3A,3B等の室は、図4に示す、
筐体80に覆われており、この筐体80はクリーンルー
ム内に配置されている。そして、この筐体80の殆ど
は、装置の保守を行なうためのクリーン度の低いメンテ
ナンスルームに配置されており、このメンテナンスルー
ムとクリーンルームの最もクリーン度の高い側、つま
り、作業者が処理すべきウエハWを配置する側としての
作業用クリーンルームとは、パネル81で仕切られてい
る。そして、その作業用クリーンルーム側の筐体80面
側には、前記カセット室3A,3Bにカセットを搬入出
するための蓋部32が配置するようにされている、そし
てその蓋部32を覆って、メンテナンスルームと作業用
クリーンルームとを遮断するための板体、例えばアクリ
ル板82が筐体80に脱着可能に設けられている。ま
た、このアクリル板82の側方には、装置を駆動するた
めの制御板として操作パネル83が設けられており、こ
の操作パネル83には、装置状態を表示するための表示
装置、例えば液晶ディスプレイ84,処理条件等を入力
するためのキーボード85,記録媒体、例えばICカー
ドを挿入するための読込媒体器としての記録媒体挿入部
86とが設けられている。また、操作パネル83の下方
には、緊急時に装置を停止するためのEMG(エマージ
ェンシー)スイッチ87が設けられている。
【0026】前記記録媒体挿入部86は、図5に示すよ
うに、制御板としての操作パネル83には、ICカード
90の記録素子、例えばROM91に記憶されている装
置の制御プログラムを読込む読込媒体器本体92の記憶
媒体挿入部としてのICカード挿入部86が設けてあ
り、その読込媒体器本体92は、前記操作パネル83に
読込媒体器本体92の取り付け金具93をネジ94で締
めつけて取り付けられている。そして、ICカード90
の制御プログラムは、一旦読込媒体器本体92を経由
し、CPU97に制御されたEEPROM98に接続ケ
ーブル96を介して読み込まれる。更に、CPU97が
このEEPROMに読み込まれた制御プログラムに依
り、装置全体の制御を行なう。
うに、制御板としての操作パネル83には、ICカード
90の記録素子、例えばROM91に記憶されている装
置の制御プログラムを読込む読込媒体器本体92の記憶
媒体挿入部としてのICカード挿入部86が設けてあ
り、その読込媒体器本体92は、前記操作パネル83に
読込媒体器本体92の取り付け金具93をネジ94で締
めつけて取り付けられている。そして、ICカード90
の制御プログラムは、一旦読込媒体器本体92を経由
し、CPU97に制御されたEEPROM98に接続ケ
ーブル96を介して読み込まれる。更に、CPU97が
このEEPROMに読み込まれた制御プログラムに依
り、装置全体の制御を行なう。
【0027】次に上述実施例の作用について述べる。先
ずゲートバルブGを閉じて搬送室2及び真空処理室4A
〜4C内を夫々真空排気する。搬送室2内の真空排気初
期時(粗引き時)には、バルブV2を開いて真空ポンプ
35により排気管36を介してケース部65内を真空排
気すると共に、不活性ガス供給管23より不活性ガス供
給部24を介して不活性ガス例えば窒素ガスを搬送室2
内に供給する。これにより搬送室2内の気体が排気管2
1からの経路に加えて、回転軸61の軸受け部→ケース
部65→排気管36の経路で排気される。そして搬送室
2内がある程度減圧された後バルブV2を閉じ、その後
は排気管21を通じて例えば50〜900mTorrの
真空度まで減圧する。
ずゲートバルブGを閉じて搬送室2及び真空処理室4A
〜4C内を夫々真空排気する。搬送室2内の真空排気初
期時(粗引き時)には、バルブV2を開いて真空ポンプ
35により排気管36を介してケース部65内を真空排
気すると共に、不活性ガス供給管23より不活性ガス供
給部24を介して不活性ガス例えば窒素ガスを搬送室2
内に供給する。これにより搬送室2内の気体が排気管2
1からの経路に加えて、回転軸61の軸受け部→ケース
部65→排気管36の経路で排気される。そして搬送室
2内がある程度減圧された後バルブV2を閉じ、その後
は排気管21を通じて例えば50〜900mTorrの
真空度まで減圧する。
【0028】一方作業クリーンルーム側からカセット室
3A、3Bの蓋32を開き、被処理体であるウエハWを
25枚収納した容器としてのカセットCをウエハWが水
平になる姿勢で例えば一方のカセット室3A(搬入用カ
セット室3A)内の昇降機構33上に例えばオペレータ
(作業員又はAGV等のロボット)により載置すると共
に、他方のカセット室3B(搬出用カセット室3B)内
に空のカセットCを載置し、蓋32を閉じてカセット室
3A、3B内を搬送室2内と同じ程度の真空度まで真空
排気した後、カセット室3A、3BのゲートバルブGを
開く。次いで搬送手段5の搬送アーム51が搬出入口3
1を介してカセット室3AのカセットC内に進入し、ウ
エハWを受け取る。この場合、昇降機構33を間欠的に
降下させてカセットCから1枚づつウエハWから搬出さ
れ、ウエハWは、搬送アーム53の先端部の保持部の3
つの突起部54により保持される。
3A、3Bの蓋32を開き、被処理体であるウエハWを
25枚収納した容器としてのカセットCをウエハWが水
平になる姿勢で例えば一方のカセット室3A(搬入用カ
セット室3A)内の昇降機構33上に例えばオペレータ
(作業員又はAGV等のロボット)により載置すると共
に、他方のカセット室3B(搬出用カセット室3B)内
に空のカセットCを載置し、蓋32を閉じてカセット室
3A、3B内を搬送室2内と同じ程度の真空度まで真空
排気した後、カセット室3A、3BのゲートバルブGを
開く。次いで搬送手段5の搬送アーム51が搬出入口3
1を介してカセット室3AのカセットC内に進入し、ウ
エハWを受け取る。この場合、昇降機構33を間欠的に
降下させてカセットCから1枚づつウエハWから搬出さ
れ、ウエハWは、搬送アーム53の先端部の保持部の3
つの突起部54により保持される。
【0029】次に、搬送アーム53はカセットCから受
け取ったウエハWを位置合わせ機構7の回転ステージ7
1上に載置して、例えば発受光部72によりウエハWの
周縁を検出し、その結果にもとづき回転ステージ71を
動かしてウエハWのオリフラの向き及び中心の位置合わ
せを行う。続いてこのウエハWを搬送手段5により搬出
入口41を介して例えば真空処理室4A内に搬入する。
真空処理室4A内では、サセプタ42に組み合わされた
図示しない昇降ピンの昇降動作を介してウエハWがサセ
プタ42上に載置され、サセプタ42及び上部電極43
間の高周波電力とマグネット47の磁場とのエネルギー
により得られたプラズマによってエッチングされる。
け取ったウエハWを位置合わせ機構7の回転ステージ7
1上に載置して、例えば発受光部72によりウエハWの
周縁を検出し、その結果にもとづき回転ステージ71を
動かしてウエハWのオリフラの向き及び中心の位置合わ
せを行う。続いてこのウエハWを搬送手段5により搬出
入口41を介して例えば真空処理室4A内に搬入する。
真空処理室4A内では、サセプタ42に組み合わされた
図示しない昇降ピンの昇降動作を介してウエハWがサセ
プタ42上に載置され、サセプタ42及び上部電極43
間の高周波電力とマグネット47の磁場とのエネルギー
により得られたプラズマによってエッチングされる。
【0030】カセットC内のウエハWは、上述のような
搬送工程により例えば各真空処理室3A〜3Cに分配さ
れ、並行して真空処理、例えばプラズマエッチングが行
われる。処理済みのウエハWは搬送手段5により例えば
他方のカセット室3BのカセットC内に受け渡される
が、次に処理されるべきウエハWは、真空処理室3A〜
3Cで処理が行われている間に位置合わせを行ってバッ
ファステージ22上で待機している。
搬送工程により例えば各真空処理室3A〜3Cに分配さ
れ、並行して真空処理、例えばプラズマエッチングが行
われる。処理済みのウエハWは搬送手段5により例えば
他方のカセット室3BのカセットC内に受け渡される
が、次に処理されるべきウエハWは、真空処理室3A〜
3Cで処理が行われている間に位置合わせを行ってバッ
ファステージ22上で待機している。
【0031】そして搬送手段5が駆動されている間はバ
ルブV2を開いてケース部65内を真空排気して既述の
ように軸受け部より吸引すると共に不活性ガス供給部2
4より例えば窒素ガスを搬送室2内に供給する。この不
活性ガス供給部24は搬送手段5の回転軸61の上方付
近にあるため、前記窒素ガスは主として軸受け部より既
述の経路でケース部65内に流れ込む。
ルブV2を開いてケース部65内を真空排気して既述の
ように軸受け部より吸引すると共に不活性ガス供給部2
4より例えば窒素ガスを搬送室2内に供給する。この不
活性ガス供給部24は搬送手段5の回転軸61の上方付
近にあるため、前記窒素ガスは主として軸受け部より既
述の経路でケース部65内に流れ込む。
【0032】また、前述の装置のステータス情報は、図
6に示すように、表示装置84に表示されており、搬送
装置5のアーム51,52,53の情報は、図中の20
0で示すように表示されている。さらに、そのアーム5
1,52,53でウエハWを保持しているか、或いはウ
エハWをいかなる位置に移動中であるか等の情報をリア
ルタイムで表示している。つまり、アーム51,52,
53が実際に移動していれば、アームの表示200もそ
の移動に伴って、表示も変化する。また、それぞれの室
間に配置したゲートバルブGの開閉状態も図中の201
(開放状態)及び202(閉じた状態)等も表示され
る。さらに、処理室4A〜4Cのマグネット47(図中
の203)の回転も図中204のマーカーで回転中或い
は停止しているのかを明確に判断できるよう表示されて
いる。さらに、それぞれの処理室4A〜4CでウエハW
をどのレシピーのいかなるステップで処理中であるかも
表示(図中205)されている。これによって、作業側
クリーンルームにいるオペレータは、メンテナンスルー
ムに行かなくても、一目で装置の処理状態を明確に確認
できることになる。
6に示すように、表示装置84に表示されており、搬送
装置5のアーム51,52,53の情報は、図中の20
0で示すように表示されている。さらに、そのアーム5
1,52,53でウエハWを保持しているか、或いはウ
エハWをいかなる位置に移動中であるか等の情報をリア
ルタイムで表示している。つまり、アーム51,52,
53が実際に移動していれば、アームの表示200もそ
の移動に伴って、表示も変化する。また、それぞれの室
間に配置したゲートバルブGの開閉状態も図中の201
(開放状態)及び202(閉じた状態)等も表示され
る。さらに、処理室4A〜4Cのマグネット47(図中
の203)の回転も図中204のマーカーで回転中或い
は停止しているのかを明確に判断できるよう表示されて
いる。さらに、それぞれの処理室4A〜4CでウエハW
をどのレシピーのいかなるステップで処理中であるかも
表示(図中205)されている。これによって、作業側
クリーンルームにいるオペレータは、メンテナンスルー
ムに行かなくても、一目で装置の処理状態を明確に確認
できることになる。
【0033】また、前述の装置を駆動するプログラムの
バージョンアップ,変更,機能追加等に伴って、そのプ
ログラムの交換は、作業員が作業側クリーンルーム内か
ら図5に示すように、ICカード90を読込媒体本体9
2の記録媒体挿入部86に差し込んで、その後、装置を
リセット、例えばCPU97をリセットしたり、電源リ
セットし、差し込んだICカード90のプログラムによ
って、CPU97を駆動することによって、プログラム
の変更を行なう。
バージョンアップ,変更,機能追加等に伴って、そのプ
ログラムの交換は、作業員が作業側クリーンルーム内か
ら図5に示すように、ICカード90を読込媒体本体9
2の記録媒体挿入部86に差し込んで、その後、装置を
リセット、例えばCPU97をリセットしたり、電源リ
セットし、差し込んだICカード90のプログラムによ
って、CPU97を駆動することによって、プログラム
の変更を行なう。
【0034】上述の実施例によれば、搬送室2内に、各
々独立して水平に移動自在な3本の搬送アーム51〜5
3を備えた多関節アームよりなる搬送手段5を設けてい
るため、搬送手段5の水平姿勢のとり得る自由度が大き
く、搬送アーム51〜53によるウエハの搬送経路をア
ームのストローク範囲内であれば自由に選択できる。従
って真空処理室4A〜4Cの夫々の搬出入口41及びカ
セット室3A、3Bの夫々の搬出入口31の向きと搬送
手段5との位置関係の自由度が大きいので、搬送室2を
直方体形状に形成し、その一辺に沿って真空処理室4
A、4Bの搬出入口41、41を並べると共に、カセッ
ト室3A、3Bの搬出入口31、31を並べることがで
きる。このことは換言すれば、搬送室2の形状、真空処
理室4A〜4C及びカセット室3A、3Bの配置のレイ
アウトの自由度が大きいことであり、四角形の搬送室2
の周りに上述のように真空処理室4A〜4C及びカセッ
ト室3A、3Bを配置することにより、搬送手段の回転
中心に対して放射状に真空処理室やカセット室を放射状
に並べていた場合に比べて、装置の配置スペースが狭く
て済み、複数の真空処理室を組み合わせた装置を高価な
クリーンルーム内に設置するにあたって非常に有効であ
る。更に各室の配置のレイアウトの自由度が大きいこと
から搬送距離を短くすることもできるため、スループッ
トの向上が図れる。
々独立して水平に移動自在な3本の搬送アーム51〜5
3を備えた多関節アームよりなる搬送手段5を設けてい
るため、搬送手段5の水平姿勢のとり得る自由度が大き
く、搬送アーム51〜53によるウエハの搬送経路をア
ームのストローク範囲内であれば自由に選択できる。従
って真空処理室4A〜4Cの夫々の搬出入口41及びカ
セット室3A、3Bの夫々の搬出入口31の向きと搬送
手段5との位置関係の自由度が大きいので、搬送室2を
直方体形状に形成し、その一辺に沿って真空処理室4
A、4Bの搬出入口41、41を並べると共に、カセッ
ト室3A、3Bの搬出入口31、31を並べることがで
きる。このことは換言すれば、搬送室2の形状、真空処
理室4A〜4C及びカセット室3A、3Bの配置のレイ
アウトの自由度が大きいことであり、四角形の搬送室2
の周りに上述のように真空処理室4A〜4C及びカセッ
ト室3A、3Bを配置することにより、搬送手段の回転
中心に対して放射状に真空処理室やカセット室を放射状
に並べていた場合に比べて、装置の配置スペースが狭く
て済み、複数の真空処理室を組み合わせた装置を高価な
クリーンルーム内に設置するにあたって非常に有効であ
る。更に各室の配置のレイアウトの自由度が大きいこと
から搬送距離を短くすることもできるため、スループッ
トの向上が図れる。
【0035】また、前述の装置を駆動するプログラムの
バージョンアップ,変更,機能追加等に伴うプログラム
の交換は、作業員が作業側クリーンルーム内からICカ
ードを読込媒体本体92の記録媒体挿入部86に差し込
んで、その後、装置をリセット、例えばCPU97をリ
セットしたり、電源リセットし、差し込んだICカード
90のプログラムによって、CPU97を駆動すること
によって、プログラムの変更を行なうことができるの
で、作業員はメンテナンスルーム側に、いちいち移動し
なくてもよいので、クリーンルームとメンテナンスルー
ムを行き来する際の、メンテナンスルームからのパーテ
ィクルがクリーンルーム内に侵入するのを抑制できる。
そして、このパーティクルの侵入を抑制することができ
るので、パーティクルがクリーンルーム内に置かれてい
る被処理体、例えば半導体ウエハの表面に付着するのを
抑制することができる。また、媒体交換作業の作業時間
のスループットの効率も向上することができる。
バージョンアップ,変更,機能追加等に伴うプログラム
の交換は、作業員が作業側クリーンルーム内からICカ
ードを読込媒体本体92の記録媒体挿入部86に差し込
んで、その後、装置をリセット、例えばCPU97をリ
セットしたり、電源リセットし、差し込んだICカード
90のプログラムによって、CPU97を駆動すること
によって、プログラムの変更を行なうことができるの
で、作業員はメンテナンスルーム側に、いちいち移動し
なくてもよいので、クリーンルームとメンテナンスルー
ムを行き来する際の、メンテナンスルームからのパーテ
ィクルがクリーンルーム内に侵入するのを抑制できる。
そして、このパーティクルの侵入を抑制することができ
るので、パーティクルがクリーンルーム内に置かれてい
る被処理体、例えば半導体ウエハの表面に付着するのを
抑制することができる。また、媒体交換作業の作業時間
のスループットの効率も向上することができる。
【0036】また、装置が大型化、複合化しても、装置
内のどの箇所で、現在被処理体がどういう処理を行なわ
れているのか、又は如何なる箇所に半導体ウエハWが移
動しているのか等の表示が、図6に示す、表示装置84
の画面にリアルタイムで表示されるので、例えば装置内
でトラブル、例えば搬送装置が暴走し、半導体ウエハを
破損した際、明確に作業員が確認することができるの
で、処理の確認の明確化の向上及びトラブル等に対する
メンテナンス時間のスループットを向上することができ
る。
内のどの箇所で、現在被処理体がどういう処理を行なわ
れているのか、又は如何なる箇所に半導体ウエハWが移
動しているのか等の表示が、図6に示す、表示装置84
の画面にリアルタイムで表示されるので、例えば装置内
でトラブル、例えば搬送装置が暴走し、半導体ウエハを
破損した際、明確に作業員が確認することができるの
で、処理の確認の明確化の向上及びトラブル等に対する
メンテナンス時間のスループットを向上することができ
る。
【0037】以上において上述の実施例ではカセット室
3A、3Bが請求項1の発明の予備真空室に相当するも
のであるが、この予備真空室としてはカセット室に限ら
ず、1枚だけのウエハを載置するためのロードロック室
や、搬送手段を備えた別の搬送室であってもよい。そし
て真空処理室としてはマグネットを用いたエッチングを
行う処理室に限らず、プラズマCVD、熱CVD、アッ
シング、スパッタリングなどを行う真空処理室であって
もよいし、各真空処理室にて別々の真空処理を行うよう
にしてもよい。なお被処理体としてはウエハに限らずL
CD基板などであってもよい。また、ICカードの制御
プログラムを、EEPROMに一旦読み込んだが、直
接、演算処理部としてのCPUに接続してもよいことは
言うまでもない。
3A、3Bが請求項1の発明の予備真空室に相当するも
のであるが、この予備真空室としてはカセット室に限ら
ず、1枚だけのウエハを載置するためのロードロック室
や、搬送手段を備えた別の搬送室であってもよい。そし
て真空処理室としてはマグネットを用いたエッチングを
行う処理室に限らず、プラズマCVD、熱CVD、アッ
シング、スパッタリングなどを行う真空処理室であって
もよいし、各真空処理室にて別々の真空処理を行うよう
にしてもよい。なお被処理体としてはウエハに限らずL
CD基板などであってもよい。また、ICカードの制御
プログラムを、EEPROMに一旦読み込んだが、直
接、演算処理部としてのCPUに接続してもよいことは
言うまでもない。
【0038】
【発明の効果】本発明によれば、真空処理室の搬出入口
や予備真空室例えば容器載置室の搬出入口の向きと搬送
アームとの位置関係の自由度が大きいので、例えば搬送
室の一辺に沿って真空処理室の搬出入口を横に並べるこ
ともでき、クリーンルーム内でのスペース効率を高める
ことができ、被処理体の生産効率を向上することができ
る。そして、プログラムの変更等に係るメンテナンス時
にメンテナンスルーム側に移動することないので、メン
テナンス効率を向上することができるので、被処理体の
生産効率を向上することができる。
や予備真空室例えば容器載置室の搬出入口の向きと搬送
アームとの位置関係の自由度が大きいので、例えば搬送
室の一辺に沿って真空処理室の搬出入口を横に並べるこ
ともでき、クリーンルーム内でのスペース効率を高める
ことができ、被処理体の生産効率を向上することができ
る。そして、プログラムの変更等に係るメンテナンス時
にメンテナンスルーム側に移動することないので、メン
テナンス効率を向上することができるので、被処理体の
生産効率を向上することができる。
【0039】
【図1】本発明の実施例の全体構成を示す一部破断斜視
図である。
図である。
【図2】図1の全体構成を示す平面図である。
【図3】図1の全体構成を示す断面図である。
【図4】図1の作業用クリーンルームからみた装置の正
面図である。
面図である。
【図5】図1の制御板の部分破断斜視図である。
【図6】図1の表示装置の表示画面を説明する図であ
る。
る。
【図7】従来の真空処理装置を示す平面図である。
【図8】従来の真空処理装置を示す断面図である。
W 半導体ウエハ(被処理体) 2 搬送室 24 不活性ガス供給部 3A、3B カセット室 31、41 搬出入口 35 真空ポンプ 4A〜4C 真空処理室 5 搬送手段 51〜53 搬送アーム 6 駆動部 65 ケース部 80 筐体 83 操作パネル(制御板) 84 表示装置 90 ICカード 92 読込媒体器 97 CPU(演算処理部) 98 EEPROM
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/68 A (72)発明者 高添 克彦 山梨県韮崎市藤井町北下条2381番地―1 東京エレクトロン山梨株式会社内
Claims (5)
- 【請求項1】 減圧雰囲気とされる気密構造の搬送室
と、この搬送室に搬出入口を介して気密に接続された予
備真空室と、前記搬送室に搬出入口を介して気密に接続
された複数の真空処理室と、前記搬送室内に設けられる
と共に各々独立して水平方向に回動される少なくとも3
本の搬送アームを備え、前記予備真空室及び真空処理室
間で被処理体を搬送するための搬送手段とを備えた真空
処理装置であって、この真空処理装置は、クリーンルー
ム内に配置され、前記真空処理装置が配置される最もク
リーン度の高い筐体面側に設けられた、前記真空処理装
置を制御する制御板と、この制御板に設けられ、ICカ
ードの情報を読み込むための読込媒体器と、前記制御板
側に設けられた演算処理部とを具備し、前記ICカード
に蓄積されたプログラムにより、前記演算処理部を駆動
して前記真空処理装置を制御することを特徴とする真空
処理装置。 - 【請求項2】 前記複数の真空処理室には、少なくとも
プラズマを生起させ、磁場を作用して前記被処理体をエ
ッチング処理する処理室を含むことを特徴とする請求項
1の真空処理装置。 - 【請求項3】 前記制御板には、被処理体の処理のリア
ルタイム情報を表示する表示板が設けられたことを特徴
とする請求項1の真空処理装置。 - 【請求項4】 前記リアルタイム情報は、搬送アームの
移動位置情報又は/及び磁場の駆動情報であることを特
徴とする請求項3の真空処理装置。 - 【請求項5】 前記磁場は、永久磁石を回転させて発生
することを特徴とする請求項2の真空処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32622193A JP3236724B2 (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32622193A JP3236724B2 (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | 真空処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08172034A true JPH08172034A (ja) | 1996-07-02 |
JP3236724B2 JP3236724B2 (ja) | 2001-12-10 |
Family
ID=18185346
Family Applications (1)
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