JPH08136235A - パターン検出方法 - Google Patents

パターン検出方法

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JPH08136235A
JPH08136235A JP6273875A JP27387594A JPH08136235A JP H08136235 A JPH08136235 A JP H08136235A JP 6273875 A JP6273875 A JP 6273875A JP 27387594 A JP27387594 A JP 27387594A JP H08136235 A JPH08136235 A JP H08136235A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 画像に傾きが在っても高速処理が可能で、ノ
イズに強く、認識対象物の画像の位置検出と同時に画像
の傾きも検出できるパターン検出方法の提供。 【構成】 画像データP(X、Y)上に、対象物の画像
の長さより小さなステップで等間隔に演算基準点C
S (Xm 、Yn )を設け、対象物の画像より小さく、演
算基準点CS (Xm 、Yn )に一致させる位置基準点を
備えたテンプレートT(xi 、yi )を設定し、テンプ
レートT(xi 、yi )と画像データP(X、Y)とに
ついて、式(1)の演算を行い、 【数12】 M(Xm 、Yn )が基準値Maより大きくなる演算基準
点が所定数連続して存在して形成する輪郭形状に基づい
て対象物の画像位置を検出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子部品実装装置にお
いて、電子部品の位置や実装位置の検出を行うパターン
検出方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、認識対象物の位置検出には、
下記の方法がある。
【0003】(1)テンプレートマッチング方法 認識対象物の画像形状の全体、又は、特徴的な部分を、
予めテンプレートに教示し、このテンプレートがマッチ
ングする位置を、認識対象物の画像位置として検出す
る。
【0004】(2)マッチドフイルター方法 認識対象物の画像の輪郭形状に合わせたマッチドフイル
ターを使用して画像データを走査する方法で、マッチド
フイルター内外にウインドウを設けて、マッチドフイル
ター内外の輝度を検出し、検出した内側の輝度の総和と
検出した外側の輝度の総和との差が最も大きな位置を、
対象物の画像位置として検出する。
【0005】(3)エッジ検出方法 処理領域内を複数のラインウインドウで、それぞれ一定
方向に走査し、各走査において、輝度が大きく変化する
エッジ点を検出し、各走査のエッジ点を連結して成形し
た輪郭エッジ線の位置を、認識対象物の画像位置として
検出する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来例
の方法は、 1.テンプレートマッチング方法とマッチドフイルター
方法では、テンプレートマッチング方法のテンプレート
とマッチドフイルター方法のマッチドフイルターとが、
いづれも、認識対象物の画像と同じ形状をしているの
で、認識対象物の画像が傾いている場合には、位置検出
が困難になり、又、位置検出誤差が大きくなるという問
題点がある。更に、検出内容から認識対象物の画像の傾
きを判断できないので、画像位置を正確に検出するに
は、テンプレートやマッチドフイルターの傾きを少しず
つ変えて何度も走査する必要があり、時間がかかるとい
う問題点がある。
【0007】2.エッジ検出方法では、輝度変化の検出
は、点状または線状のノイズと、認識対象物の画像の輪
郭線との判別が困難で、ノイズの影響を受け易く、ノイ
ズによる誤認識が発生することがあるという問題点があ
る。
【0008】本発明は、上記の問題点を解決し、画像に
傾きが在っても高速処理が可能で、ノイズに強く、且
つ、認識対象物の画像の位置検出と同時に画像の傾きも
検出できるパターン検出方法の提供を課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本願第1発明のパターン
検出方法は、上記の課題を解決するために、対象物を撮
像手段で撮像し、得られた映像信号をデジタル化して画
像データP(X、Y)に変換する画像データ作成工程
と、前記画像データP(X、Y)上に、前記対象物の画
像のX、Y方向の夫々の長さより小さな夫々のステップ
で等間隔に演算基準点CS (Xm 、Yn )を設ける演算
基準点設定工程と、前記対象物の画像より小さく、各構
成画素が所定の値を有し、且つ、前記演算基準点C
S (Xm 、Yn)に一致させる位置基準点を備えたテン
プレートT(xi 、yi )を設定するテンプレート設定
工程と、前記テンプレートT(xi 、yi )の前記位置
基準点を、前記演算基準点CS (Xm 、Yn )の各点に
順次一致させながら、前記テンプレートT(xi
i )と前記画像データP(X、Y)とについて、式
(1)の演算を行い、
【0010】
【数2】
【0011】式(1)のM(Xm 、Yn )が基準値Ma
より大きくなる演算基準点を候補点として検出する候補
点検出工程と、隣接して検出された複数の候補点が形成
する各候補点グループの輪郭形状について、前記対象物
の画像に対する相似性を比較し、前記対象物の画像に最
も相似している輪郭形状を有する候補点グループの位置
を、前記対象物の画像位置として検出する画像位置検出
工程とを有することを特徴とする。
【0012】本願第2発明のパターン検出方法は、上記
の課題を解決するために、本願第1発明のパターン検出
方法において、対象物の画像に最も相似している輪郭形
状を有する候補点グループの中心に基づいて対象物の画
像位置を検出する中心検出工程を付加することを特徴と
する。
【0013】本願第3発明のパターン検出方法は、上記
の課題を解決するために、本願第2発明のパターン検出
方法において、対象物の画像に最も相似している輪郭形
状を有する複数の候補点グループの中心の位置から対象
物の画像の傾きを検出する傾き検出工程を付加すること
を特徴とする。
【0014】本願第4発明のパターン検出方法は、上記
の課題を解決するために、本願第3発明のパターン検出
方法において、対象物の画像に最も相似している輪郭形
状を有する候補点グループの位置に、X方向とY方向の
ラインウインドウを、傾き検出工程で検出された傾きに
合わせて設け、対象物の画像のエッジ点を検出して位置
を判定する精密位置検出工程を付加することを特徴とす
る。
【0015】本願第1、第2、第3、第4発明は、上記
の課題を解決するために、演算基準点CS (Xm
n )のステップの大きさと、テンプレートT(xi
i )の形状・大きさとを、対象物の画像の形状・大き
さと必要な検出精度と検出速度とに基づいて変化させる
ことが好適である。
【0016】
【作用】本願第1発明のパターン検出方法の各工程は、
下記の作用を有する。
【0017】(1)画像データ作成工程は、対象物を撮
像手段で撮像し、得られた映像信号をデジタル化して画
像データP(X、Y)に変換する工程で、従来例と異な
らない。
【0018】(2)演算基準点設定工程で、前記画像デ
ータP(X、Y)上に、前記対象物の画像のX、Y方向
の夫々の長さより小さな夫々のステップで等間隔に演算
基準点CS (Xm 、Yn )を設ける。従来技術では、こ
の演算基準点CS (Xm 、Yn )に相当するものを、単
に、テンプレートやマッチドフイルターに対する走査位
置の設定にのみ使用しているが、本願第1発明では、後
述のようにして、これらの演算基準点CS (Xm
n )を、テンプレートに対する走査位置の設定だけで
はなく、認識対象物の画像の形状を近似する候補点グル
ープの形成に使用する。
【0019】そして、認識対象物の画像が、電子部品の
電極や回路基板の電極の画像のように、輝度に多少の不
均一性があっても、背景の輝度とレベル差がある場合に
は、演算基準点CS (Xm 、Yn )のステップを、前記
対象物の画像のX、Y方向の夫々の長さより充分に小さ
くしておけば、後述のように、前記候補点グループの外
郭形状が、認識対象物の外郭形状に近似したものにな
り、隣接して検出された複数の候補点が形成する各候補
点グループの輪郭形状について、前記対象物の画像に対
する相似性を比較し、前記対象物の画像に最も相似して
いる輪郭形状を有する候補点グループの位置を、前記対
象物の画像位置として検出することができる。
【0020】(3)テンプレート設定工程で、対象物の
画像より小さく、各構成画素が所定の値を有し、且つ、
前記演算基準点CS (Xm 、Yn )に一致させる位置基
準点を備えたテンプレートT(xi 、yi )を設定す
る。即ち、本発明のテンプレートは、対象物の画像の形
状に合わせる従来の形状テンプレートではなく、対象物
の画像の輝度レベルを検出する輝度テンプレートであ
る。従って、従来技術のテンプレートやマッチドフイル
ターは、認識対象物の画像の全体、又は、その一部と同
形なので、認識対象物の画像が傾いている場合には適正
に機能できないが、本願第1発明のテンプレートT(x
i 、yi )は、対称物の画像より小さく、各構成画素に
所定の値を与えて、式(1)によって、対象物の画像の
輝度レベルを検出するものであり、認識対象物の形状と
関係が無いので、認識対象物の画像の傾きに関係なく機
能し、前記の演算基準点CS (Xm 、Yn )と組み合わ
されて、傾いた画像でも、後述の候補点グループによっ
て正しく形状近似できる。
【0021】そして、演算基準点CS (Xm 、Yn )の
ステップと、テンプレートT(xi、yi )の大きさと
を、認識対象物の画像の大きさに対して適正に小さく設
定すれば、必要な検出精度と検出速度とに適合したパタ
ーン位置検出が可能になる。
【0022】尚、前記の各画素の所定の値は、認識対象
物の画像が、電子部品の電極や回路基板の電極の画像の
ように、輝度に多少の不均一性があっても、背景の輝度
とレベルが異なる場合には、テンプレートT(xi 、y
i )を構成する各画素が同じ値であっても、各画素が異
なる値であっても、いずれでも良いが、同じ値を使用す
るのが簡単である。
【0023】(4)候補点検出工程は、前記テンプレー
トT(xi 、yi )の前記位置基準点を、前記演算基準
点CS (Xm 、Yn )の各点に順次一致させながら、前
記テンプレートT(xi 、yi )と前記画像データP
(X、Y)とについて、式(1)の演算を行い、
【0024】
【数3】
【0025】式(1)のM(Xm 、Yn )が基準値Ma
より大きくなる演算基準点を候補点として検出する。
【0026】この場合、式(1)の演算は高速処理が可
能で、迅速に対象物の画像位置を検出できる。
【0027】(5)画像位置検出工程は、隣接して検出
された複数の候補点が形成する各候補点グループの輪郭
形状について、前記対象物の画像に対する相似性を比較
し、前記対象物の画像に最も相似している輪郭形状を有
する候補点グループの位置を、前記対象物の画像位置と
して検出する。
【0028】認識対象物の画像の形状・大きさに対し
て、演算基準点CS (Xm 、Yn )のステップと、テン
プレートT(xi 、yi )の大きさとが適正に設定され
ていれば、前記の隣接して検出された複数の候補点が形
成する各候補点グループの輪郭形状は、認識対象物の画
像の形状・大きさに充分に近似したものになる。
【0029】本願第2発明のパターン検出方法の工程
は、下記の作用を有する。
【0030】中心検出工程は、対象物の画像に最も相似
している輪郭形状を有する候補点グループの中心に基づ
いて対象物の画像位置を検出する。これによって、認識
対象物の画像の中心位置を検出できる。
【0031】本願第3発明のパターン検出方法の工程
は、下記の作用を有する。
【0032】傾き検出工程は、対象物の画像に最も相似
している輪郭形状を有する複数の候補点グループの中心
の位置から対象物の画像の傾きを検出する。この場合、
前述のように、前記テンプレートT(xi 、yi )は、
認識対象物の画像の傾きに影響されずに機能するので、
一回の走査で、前記傾きを正確に検出できる。
【0033】本願第4発明のパターン検出方法の工程
は、下記の作用を有する。
【0034】精密位置検出工程は、対象物の画像に最も
相似している輪郭形状を有する候補点グループの位置
に、X方向とY方向のラインウインドウを、傾き検出工
程で検出された傾きに合わせて設け、対象物の画像のエ
ッジ点を検出して位置を判定する。この場合、本願第3
発明の傾き検出工程で検出した画像の傾きを補正済みな
ので、精密に、位置を検出できる。
【0035】本願第1、第2、第3、又は、第4発明の
パターン検出方法は、演算基準点CS (Xm 、Yn )の
ステップの大きさと、テンプレートT(xi 、yi )の
形状・大きさとを、対象物の画像の形状・大きさと必要
な検出精度と検出速度とに基づいて設定することによ
り、所要の検出速度と検出精度が得られる。
【0036】
【実施例】本発明の一実施例を図1〜図21に基づいて
説明する。図1は本実施例方法のフローチャート、図2
は本実施例方法を使用するパターン検出装置のブロック
図、図3〜図21は認識対象物の画像、テンプレートT
(xi 、yi )、演算基準点CS (Xm 、Yn )、中心
の検出、エッジ点の検出を示す図である。
【0037】図1の画像データP(X、Y)作成工程1
において、図2のXYロボット22のノズル10に吸着
された電子部品11を、照明手段12、12で照明しな
がら、撮像手段13で撮像し、得られた映像信号をデジ
タル化手段14でデジタル化して画像データP(X、
Y)を得、この画像データP(X、Y)を画像データア
クセス手段15を介して画像データP(X、Y)記憶手
段16に格納する。格納した画像データP(X、Y)は
ビデオモニタ17でモニタできる。
【0038】図1の演算基準点CS (Xm 、Yn )設定
工程2において、図2の中央処理部18にある演算基準
点設定手段23が、画像データアクセス手段15を介し
て前記の画像データP(X、Y)記憶手段16に格納さ
れている画像データP(X、Y)上に、前記対象物の画
像のX、Y方向の夫々の長さより小さな夫々のステップ
で等間隔に演算基準点CS (Xm 、Yn )を設ける。
【0039】図1のテンプレートT(xi 、yi )設定
工程3において、図2のメインコントローラ20が、電
子部品情報記憶手段21が格納した電子部品11の電極
サイズ情報に基づいて、電子部品11の電極の画像より
小さく、各構成画素が所定の値を有し、且つ、前記演算
基準点CS (Xm 、Yn )に一致させる位置基準点を備
えたテンプレートT(xi 、yi )を設定し、このテン
プレートT(xi 、yi )をテンプレートT(xi 、y
i )記憶手段19に格納する。
【0040】図2のメインコントローラ20は、電子部
品11を回路基板に実装する電子部品実装装置を制御す
るコントローラで、電子部品11を吸着するノズル10
を保持するXYロボット22の動作をコントロールして
おり、電子部品情報記憶手段21と電子部品位置記憶手
段30とを備えている。
【0041】図1の候補点検出工程4において、先ず、
図2のM(Xm 、Yn )算出手段24が、画像データア
クセス手段15を介して、画像データP(X、Y)記憶
手段16に格納されている画像データP(X、Y)に対
して、前記テンプレートT(xi 、yi )の前記位置基
準点を、前記演算基準点CS (Xm 、Yn )の各点に順
次一致させながら、順次移動させ、前記テンプレートT
(xi 、yi )と前記画像データP(X、Y)とについ
て、下記の式(1)の演算を行う。
【0042】
【数4】
【0043】次いで、候補点検出手段25が、前記式
(1)のM(Xm 、Yn )の演算結果が基準値Maより
大きくなる演算基準点を候補点として検出する。
【0044】図1の画像位置検出工程5において、図2
の候補点グループ化手段26が、隣接して検出された複
数の候補点が形成する各候補点グループの輪郭形状につ
いて、前記対象物の画像に対する相似性を比較し、前記
対象物の画像に最も相似している輪郭形状を有する候補
点グループの位置を、前記対象物の画像位置として検出
する。相似性を比較する方法は、候補点グループの候補
点の数、対象物の画像と候補点グループの輪郭形状との
X方向とY方向の長さの比較等、自由に選択できる。こ
の検出結果が、電子部品位置記憶手段30に格納されて
メインコントローラ20に渡され、XYロボット22の
位置決めに当たっての位置補正に使用される。
【0045】以上で、対象物画像の概略位置の検出が終
了するが、本実施例では、以下により、対象物画像位置
の検出精度を向上している。
【0046】図1の中心検出工程6において、図2の中
心検出手段27が、隣接して検出された複数の候補点が
形成する各候補点グループの輪郭形状について、前記対
象物の画像に対する相似性を比較し、前記対象物の画像
に最も相似している輪郭形状を有する候補点グループの
中心を演算し、演算結果に基づいて対象物の画像位置を
検出する。電子部品11の電極を認識対象物とした場合
に、電極の数が複数あると、これらの電極画像の中心か
ら、電子部品11の画像の中心を求めることができ、電
子部品11を実装する場合の位置補正が的確にできる。
【0047】図1の傾き検出工程7において、図2の傾
き検出手段28が、複数の候補点グループの中心の位置
から対象物の画像の傾きを検出する。これによって、電
子部品11の電極を認識対象物とした場合に、電極の数
が複数あると、これらの電極画像の中心から、電子部品
11の画像の傾きを求めることができ、電子部品11を
実装する場合の位置補正を的確に行える。
【0048】図1の精密位置検出工程8において、図2
のエッジ点検出手段29が、隣接して検出された複数の
候補点が形成する各候補点グループの輪郭形状につい
て、前記対象物の画像に対する相似性を比較し、前記対
象物の画像に最も相似している輪郭形状を有する候補点
グループの位置に、X方向とY方向のラインウインドウ
を、傾き検出工程7で検出された傾きに合わせて設け、
対象物の画像のエッジ点を検出して位置を判定する。こ
れによって、傾きを含めて、位置検出精度が向上する。
【0049】以下に、図3〜図21に基づいて、本実施
例を更に詳細に説明する。
【0050】先ず、テンプレートT(xi 、yi )を図
3〜図10に基づいて説明する。
【0051】演算基準点CS (Xm 、Yn )のステップ
の大きさと、テンプレートT(xi、yi )の形状・大
きさとは、認識対象物の画像の形状・大きさと必要な検
出精度と検出速度とに基づいて設定することが望まし
い。
【0052】図3に、画像データP(X、Y)記憶手段
16に記憶されている画像データP(X、Y)31を示
す。32は電子部品で、33、33は認識対象物の電極
である。
【0053】図4に、テンプレートT(xi 、yi )3
4を示す。即ち、テンプレートT(xi 、yi )34
は、認識対象物の電極33、33より充分に小さく、認
識対象物の電極33、33内に、複数個入るようにす
る。入る数が多い程、検出時間は長くなるが、検出精度
が向上する。従って、対象物の画像の形状・大きさと必
要な検出精度と検出速度とに基づいて適正な大きさに設
定する。
【0054】図5、図6に、対象物の画像の輝度レベル
を検出する輝度テンプレートであるテンプレートT(x
i 、yi )34の一般的な構成を示す。電子部品の電極
が認識対象物である場合、認識対象物の画像の輝度が、
背景の輝度とレベル差があるので、テンプレートT(x
i 、yi )34の大きさが前記によって決まると、テン
プレートT(xi 、yi )34を構成する画素T
(xi 、yi )に与える所定の値、即ち、式(1)の演
算時の重みGi と、画素T(xi 、yi )のオフセット
アドレス:xi 、yi とは、図5、図6に示すように、
ランダムに設定しても良い。
【0055】図7、図8は、5×5画素のテンプレート
T(xi 、yi )35を示す。
【0056】図9は、9×9画素のテンプレートT(x
i 、yi )36を示す。
【0057】図10は、3×3画素のテンプレートT
(xi 、yi )36を示す。
【0058】尚、テンプレートT(xi 、yi )の位置
基準点は、図5〜図10に示す構成画素の何れかに設定
すればよい。
【0059】次いで、演算基準点CS (Xm 、Yn )を
図11に基づいて説明する。
【0060】図11に、演算基準点CS (Xm 、Yn
の一般的な構成を示す。即ち、画像データP(X、Y)
31上に、認識対象物の画像のX、Y方向の夫々の長さ
より小さな夫々のステップで等間隔に演算基準点C
S (Xm 、Yn )を設ける。この場合、演算基準点CS
(Xm 、Yn )のステップの大きさと、テンプレートT
(xi 、yi )の形状・大きさとは、認識対象物の画像
の形状・大きさと必要な検出精度と検出速度とに基づい
て設定することが望ましいので、図11に示すもので
は、ステップが大きすぎ、実際に使用する演算基準点C
S (Xm 、Yn )のステップは図11より小さく、図1
5〜図17に示すようなステップを用いる。
【0061】次いで、候補点検出工程4を図12〜図1
5に基づいて説明する。
【0062】図12において、テンプレートT(xi
i )34の位置基準点T(0、0)を、順次、画像デ
ータP(X、Y)31上に設定された演算基準点C
S (Xm、Yn )38、38・・・・・に位置決めす
る。
【0063】そして、図12の各演算基準点C
S (Xm 、Yn )38毎に、図13に基づいて、式
(1)の演算を行い、
【0064】
【数5】
【0065】式(1)のM(Xm 、Yn )が基準値Ma
より大きくなる演算基準点を図12の候補点39として
検出する。
【0066】図14において、画像データP(X、Y)
31上に、電子部品の画像32とその電極の画像33、
33とがあり、39、39、39、39が検出された候
補点である。実際には、もっと小さなステップを使用す
るので、図15に示すように、認識対象物の電極の画像
33、33内に、多数の候補点39が検出される。
【0067】次いで、画像位置検出工程5を図16、図
17に基づいて説明する。
【0068】隣接して検出された複数の候補点39で構
成される各候補点グループの輪郭形状について、前記対
象物の画像、この場合には、電極の画像33、33の形
状に対する相似性を比較し、前記電極の画像33、33
の形状に最も相似している輪郭形状を有する候補点グル
ープの位置を、前記電極の画像33、33の画像位置と
して検出する。
【0069】図16において、画像に傾きが無い場合に
は、認識対象物の電極の画像33内に、候補点が8個入
るので、傾きを考慮して、候補点39が7個〜9個ある
候補点グループの位置40、41を、認識対象物の画像
位置として検出する。
【0070】図17において、又、画像の傾きを考慮す
ると、認識対象物の画像33内に入る候補点のX方向と
Y方向の並び数が、2〜3と4とになるので、X方向と
Y方向の並び数が、所定数である2〜3と4とに適合す
る候補点グループの位置42、43を認識対象物の画像
位置として検出する。
【0071】尚、図16は画像の傾きを補正しない場
合、図17は画像の傾きを補正した場合を示す。
【0072】次いで、中心検出工程6と傾き検出工程7
とを図16、図18に基づいて説明する。
【0073】図16、図18において、候補点39が7
個〜9個ある候補点グループの位置40、41につい
て、下記によって中心位置座標44、45と傾きとが求
められる。即ち、中心位置座標は、(Sx/N、Sy/
N) 傾きは、(1/2)tan-1(S1/S2)となる。但
し、 S1=2(N×Sxy−Sx×Sy)・・・・・・・・・・・・・・(2) S2=(N×Sxx−Sx×Sy)−(N×Syy−Sx×Sy)・(3)
【0074】
【数6】
【0075】
【数7】
【0076】
【数8】
【0077】
【数9】
【0078】
【数10】
【0079】
【数11】
【0080】である。勿論、計算方法は、上記に限ら
ず、自由に設定できる。
【0081】次いで、精密位置検出工程8を図19に基
づいて説明する。
【0082】図19において、候補点の数、又は、候補
点のX方向とY方向の並び数が所定数に適合する候補点
グループの位置40、41に、X方向とY方向のライン
ウインドウ48、48、49、49を、傾き検出工程7
で検出された傾きに合わせて設け、認識対象物の画像、
即ち、電極のエッジ点を検出して位置を精密に判定す
る。
【0083】この場合、ラインウインドウ48、48、
49、49は、それぞれ一定方向に走査し、各走査にお
いて、輝度が大きく変化するエッジ点を検出するものを
使用しても良いが、本実施例では、ラインウインドウ4
8、48、49、49を投影用のラインウインドウにし
ている。
【0084】候補点グループの位置41のY方向ライン
ウインドウ48の投影を50に示す。投影結果を外側か
ら走査して、2つのエッジ点51、51を求め、更に、
エッジ点51、51の中点52を求める。
【0085】候補点グループの位置41のX方向ライン
ウインドウ49の投影を53に示す。投影結果を外側か
ら走査してエッジ点54を求める。
【0086】エッジ点52とエッジ点54とから、右側
電極の電極端点47が得られる。
【0087】左側電極についても同様にして、左側電極
の電極端点49が得られる。
【0088】そして、右側電極の電極端点47と左側電
極の電極端点49とにより、認識対象物の位置を精密に
検出できる。
【0089】尚、右側電極の電極端点47と左側電極の
電極端点49との中点が電子部品の中心Gになり、右側
電極の電極端点47と左側電極の電極端点49とを結ぶ
直線の傾きが、認識対象物の傾きになる。
【0090】又、3端子電子部品の場合を図20、図2
1に基づいて説明する。
【0091】図20は、画像データP(X、Y)55に
おいて、候補点検出工程4まで終了した結果を示す。3
端子に対して、それぞれ候補点56のグループが検出さ
れている。
【0092】図21は、画像データP(X、Y)55に
おいて、画像位置検出工程5と中心検出工程6と傾き検
出工程7とが終了した結果を示す。3端子に対して、そ
れぞれの候補点グループの位置57、58、59と、中
心60、61、62と、中心60と61との中点63
と、中心62と中点63との中点である電子部品の中心
Gとが求められる。
【0093】このような処理は、端子数が4以上の端子
についても可能である。その理由は、複数の端子を有す
る電子部品は、一般に、複数の端子が対称的に配置され
ているからである。対称性が無い場合には、非対称性を
カバーする補正が必要である。
【0094】
【発明の効果】本願第1発明のパターン検出方法は、画
像データP(X、Y)上に、演算基準点CS (Xm 、Y
n )を設け、演算基準点CS (Xm 、Yn )のステップ
を認識対象物の画像のX、Y方向の夫々の長さより充分
に小さくしておくことにより、これらの演算基準点CS
(Xm 、Yn)を、テンプレートの走査の測定位置設定
に使用するだけではなく、認識対象物の画像の形状を近
似する候補点グループの形成に使用できることと、使用
するテンプレートT(xi 、yi )が、認識対象物の画
像より小さく、且つ、認識対象物の画像との形状の相似
性が無いので、認識対象物の画像に傾きがあっても、テ
ンプレートT(xi 、yi )が傾きに影響されずに機能
することとにより、画像に傾きが在っても高速処理が可
能で、ノイズに強く、且つ、認識対象物の画像の位置検
出と同時に画像の傾きも検出できるという効果を奏す
る。
【0095】本願第2発明のパターン検出方法は、中心
検出工程で、対象物の画像に最も相似している輪郭形状
を有する候補点グループの中心に基づいて対象物の画像
位置を検出する。これによって、認識対象物の画像位置
を、本願第1発明よりも精密に検出できるという効果を
奏する。
【0096】本願第3発明のパターン検出方法は、傾き
検出工程で、複数の候補点グループの中心の位置から対
象物の画像の傾きを検出するので、一回の走査で、画像
の傾きを迅速・正確に検出できるという効果を奏する。
【0097】本願第4発明のパターン検出方法は、精密
位置検出工程で、対象物の画像に最も相似している輪郭
形状を有する候補点グループの位置に、X方向とY方向
のラインウインドウを、傾き検出工程で検出された傾き
に合わせて設け、対象物の画像のエッジ点を検出して位
置を判定するので、本願第1、第2、第3発明よりも更
に精密な位置検出ができるという効果を奏する。
【0098】本願第1、第2、第3、又は、第4発明の
パターン検出方法は、演算基準点CS (Xm 、Yn )の
ステップの大きさと、テンプレートT(xi 、yi )の
形状・大きさとを、対象物の画像の形状・大きさと必要
な検出精度と検出速度とに基づいて設定することによ
り、所要の検出速度と検出精度が得られるという効果を
奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のパターン検出方法の一実施例のフロー
チャートである。
【図2】本発明のパターン検出方法を使用するパターン
検出装置の一実施例のブロック図である。
【図3】本発明の画像データP(X、Y)を示す図であ
る。
【図4】本発明のテンプレートT(Xi 、Yi )の一般
例の構成を示す図である。
【図5】本発明のテンプレートT(Xi 、Yi )の第1
例の構成を示す図である。
【図6】本発明のテンプレートT(Xi 、Yi )の第1
例の構成を示す図である。
【図7】本発明のテンプレートT(Xi 、Yi )の第2
例の構成を示す図である。
【図8】本発明のテンプレートT(Xi 、Yi )の第2
例の構成を示す図である。
【図9】本発明のテンプレートT(Xi 、Yi )の第3
例の構成を示す図である。
【図10】本発明のテンプレートT(Xi 、Yi )の第
4例の構成を示す図である。
【図11】本発明の演算基準点CS (Xm 、Yn )を示
す図である。
【図12】本発明の式(1)の演算を示す図である。
【図13】本発明の式(1)の演算を示す図である。
【図14】本発明の候補点を示す図である。
【図15】本発明の候補点のグループを示す図である。
【図16】本発明の候補点のグループによる位置検出を
示す図である。
【図17】本発明の候補点のグループによる位置検出を
示す図である。
【図18】本発明の認識対象物の画像の中心と傾きの検
出を示す図である。
【図19】本発明の精密位置検出を示す図である。
【図20】本発明の3端子電子部品の場合の候補点のグ
ループを示す図である。
【図21】本発明の3端子電子部品の場合の中心と傾き
の検出を示す図である。
【符号の説明】
11 電子部品 13 撮像手段 14 デジタル化手段 16 画像データP(X、Y)記憶手段 19 テンプレートT(Xi 、Yi )記憶手段 23 演算基準点設定手段 24 M(Xm 、Yn )算出手段 25 候補点検出手段 26 候補点グループ化手段 27 重心検出手段 28 傾き検出手段 29 エッジ点検出手段 31 画像データP(X、Y) 32 電子部品 33 電極(認識対象物) 34 テンプレートT(Xi 、Yi ) 35 テンプレートT(Xi 、Yi ) 36 テンプレートT(Xi 、Yi ) 37 テンプレートT(Xi 、Yi ) 38 演算基準点CS (Xm 、Yn ) 39 候補点 40 候補点グループの位置 41 候補点グループの位置 42 候補点グループの位置 43 候補点グループの位置 44 中心 45 中心 46 電極端点 47 電極端点 48 ラインウインドウ 49 ラインウインドウ 50 投影 51 エッジ点 52 中点 53 投影 54 エッジ点 55 画像データP(X、Y) 56 候補点 57 候補点グループの位置 58 候補点グループの位置 59 候補点グループの位置 60 中心 61 中心 62 中心 63 中点 G 中心

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 対象物を撮像手段で撮像し、得られた映
    像信号をデジタル化して画像データP(X、Y)に変換
    する画像データ作成工程と、前記画像データP(X、
    Y)上に、前記対象物の画像のX、Y方向の夫々の長さ
    より小さな夫々のステップで等間隔に演算基準点C
    S (Xm 、Yn )を設ける演算基準点設定工程と、前記
    対象物の画像より小さく、各構成画素が所定の値を有
    し、且つ、前記演算基準点CS (Xm 、Yn )に一致さ
    せる位置基準点を備えたテンプレートT(xi 、yi
    を設定するテンプレート設定工程と、前記テンプレート
    T(xi、yi )の前記位置基準点を、前記演算基準点
    S (Xm 、Yn )の各点に順次一致させながら、前記
    テンプレートT(xi 、yi )と前記画像データP
    (X、Y)とについて、式(1)の演算を行い、 【数1】 式(1)のM(Xm 、Yn )が基準値Maより大きくな
    る演算基準点を候補点として検出する候補点検出工程
    と、隣接して検出された複数の候補点が形成する各候補
    点グループの輪郭形状について、前記対象物の画像に対
    する相似性を比較し、前記対象物の画像に最も相似して
    いる輪郭形状を有する候補点グループの位置を、前記対
    象物の画像位置として検出する画像位置検出工程とを有
    することを特徴とするパターン検出方法。
  2. 【請求項2】 対象物の画像に最も相似している輪郭形
    状を有する候補点グループの中心に基づいて対象物の画
    像位置を検出する中心検出工程を付加することを特徴と
    する請求項1に記載のパターン検出方法。
  3. 【請求項3】 対象物の画像に最も相似している輪郭形
    状を有する複数の候補点グループの中心の位置から対象
    物の画像の傾きを検出する傾き検出工程を付加すること
    を特徴とする請求項2に記載のパターン検出方法。
  4. 【請求項4】 対象物の画像に最も相似している輪郭形
    状を有する候補点グループの位置に、X方向とY方向の
    ラインウインドウを、傾き検出工程で検出された傾きに
    合わせて設け、対象物の画像のエッジ点を検出して位置
    を判定する精密位置検出工程を付加することを特徴とす
    る請求項3に記載のパターン検出方法。
  5. 【請求項5】 演算基準点CS (Xm 、Yn )のステッ
    プの大きさと、テンプレートT(xi 、yi )の形状・
    大きさとを、対象物の画像の形状・大きさと必要な検出
    精度と検出速度とに基づいて変化させる請求項1、2、
    3又は4に記載のパターン検出方法。
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