JPH0794982B2

JPH0794982B2 - 位置決め装置

Info

Publication number: JPH0794982B2
Application number: JP14444489A
Authority: JP
Inventors: 千尋丸茂; 洋一戸井田
Original assignee: Mitutoyo Corp
Current assignee: Mitutoyo Corp
Priority date: 1989-06-07
Filing date: 1989-06-07
Publication date: 1995-10-11
Anticipated expiration: 2010-10-11
Also published as: JPH039209A

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］この発明は位置決め装置、特に回転体の表面粗さを測定
する際に、被測定回転体と表面粗さ測定手段との相対位
置を位置決めする位置決め装置に関する。

［従来の技術］円柱、円筒体、球体といった回転体の回転方向の表面粗
さを測定する際には、表面粗さ（凹凸）検出の方向が被
測定回転体の向心軸方向と一致するように、被測定回転
体と表面粗さ測定手段との相対位置を位置決めすること
が大切である。

被測定回転体と表面粗さ測定手段との相対位置は、従
来、次のようにして行なわれていた。

まず最初に凹凸検出の方向と被測定回転体の向心軸とが
ほぼ一致していると考えられる状態で被測定回転体と表
面粗さ測定手段との相対位置を位置決めする。

次に前記凹凸検出方向と直交する方向に、表面粗さ測定
手段と被測定回転体との相対位置を移動させ、その移動
の際に測定して得られる静止状態の被測定回転体の検出
器に対応する部位の面高さに基づいて、測定手段による
表面粗さ検出の方向と被測定回転体の向心方向とが一致
する、もしくは一致した状態に極めて近い状態を求める
ことによって、被測定回転体と表面粗さ測定手段との相
対位置を決めるのである。

［発明が解決しようとする課題］従来の被測定回転体と表面粗さ測定手段との相対位置の
位置決めでは、基本的に手作業であり、位置決めの施行
に多くの時間や手間がかかり、短時間で簡単に位置決め
状態を得るには熟練を要するという問題がある。又、測
定が接触式の場合では試行が多いと被測定回転体をその
多い分だけ傷つけて、真の被測定表面粗さを得ることが
できなくなる場合があるという問題がある。

この発明は前記従来技術の課題に鑑みなされたものであ
り、その目的は被測定回転体と表面粗さ測定手段との相
対位置の位置決めを熟練を必要とせずに簡便に短時間で
おこない得る位置決め装置を提供することにある。

［課題を解決するための手段］前記目的を達成するために本発明にかかる位置決め装置
は、移動手段と、記憶手段と、演算手段と、制御部とを
備える。

そして、前記移動手段は、被測定回転体の回転軸及び前
記表面粗さ測定手段による凹凸検出方向軸と直交する方
向に前記表面粗さ測定手段を移動させ得る。

まち、記憶手段は、被測定回転体の平均的な半径Ｒと、
その被測定回転体の表面粗さのレンジｄとに基づき、式
により算出される移動距離x₀、 x₀＞（2R・ｄ）^1/2 及び前記表面粗さ測定手段の検出部に対応する被測定回
転体の部位の面高さを記憶する。

演算手段は、その記憶部に記憶されている面高さと表面
粗さ測定手段が測定する被測定回転体の面高さの比較を
おこなう。

制御部は、被測定回転体と表面粗さ測定手段とがある特
定の相対位置に位置決めされてその際の面高さが測定さ
れると、前記特定の相対位置から被測定回転体と表面粗
さ測定手段との相対位置を前記特定距離x₀だけ移動さ
せ、続いてその移動の後の面高さが測定されるとその連
続する二つの相対位置におけるそれぞれの面高さを演算
部が比較し、被測定回転体と表面粗さ測定手段との連続
する二つの相対位置における前ステップの面高さが後ス
テップの面高さよりも高いもしくは等しくなるまで移動
手段及び演算部にそれぞれ繰返して作動をおこなわすた
めの制御信号を出力し、前ステップの面高さが後ステッ
プの面高さよりも高いもしくは等しくなったならば移動
手段の移動距離を前記特定距離より短いものにし且つ移
動方向を反転させて相対位置の移動と面高さの比較を繰
返し、被測定回転体と表面粗さ測定手段との連続する二
つの相対位置において、前後ステップの各面高さの比較
結果に基づき面高さがより高い相対位置をとり得るよう
に、移動手段及び演算手段にそれぞれ制御信号を出力す
る。

尚、被測定回転体と表面粗さ測定手段との相対位置を移
動させる際の特定距離は、被測定回転体の平均的な半径
と表面粗さのレンジとの積を二倍し、その値を二分の一
乗して得られる値より実質的に僅かに大きい値とある
が、実質的に僅かに大きいとは被測定回転体の平均的な
半径と表面粗さのレンジとの積を二倍した値を二分の一
乗して得られる値が不等号のみが成立つ臨界的な値であ
ることを意味する。

［作用］すなわち本発明にかかる位置決め装置は、まず最初に移
動手段を作動させて被測定回転体と表面粗さ測定手段と
の相対位置を特定距離だけづつ相対移動させることによ
って、被測定回転体と表面粗さ測定手段との連続する二
つの相対位置において検出した場合の、前ステップの面
高さが後ステップの面高さよりも高いもしくは等しくな
る状態を得る。

次に、相対移動方向を逆転させて同様の操作を行なう。
この際に、移動距離は前記特定距離よりも短くする。

例えば被測定回転体の表面粗さ測定を行なう場合、一般
に表面粗さは表面粗さ測定装置の検出部の鉛直方向への
振動として把握することができる。従って、検出部の鉛
直方向軸と被測定回転体の向心軸とを一致させるために
は、被測定回転体の最も高い表面位置と検出部の検出位
置とを一致させればよい。

そこで、本発明者らは被測定回転体の最も高い表面位置
を自動的に探索するため、次のような手法を採った。

すなわち、図５に示すように被測定回転体７の鉛直向心
軸（Ｙ軸）を探索するため、まず図中の位置の表面高
さH₁を表面粗さ測定装置自体の検出部にて測定する。次
に、図中左方向に検出部を距離x₀だけ移動させ、の位
置で表面高さH₂を測定する。この際、H₂＞H₁であるか
ら、鉛直向心軸（Ｙ軸）は更に左方向にあることがわか
る。そこで、更に検出位置を左方向に更に距離x₀移動
し、の位置で表面高さH₃を測定する。この際、H₃＜H₂
であるから、鉛直向心軸（Ｙ軸）は通り過ぎてしまって
いる。

そこで、今度は前記距離x₀より小さいx₁だけ右方向に表
面高さ検出位置を移動させ、位置で表面高さH₄を測定
し、前記表面高さH₃との比較を行なう。この後、表面高
さ検出位置の移動方向を右方向、移動距離をx₁として、
前記同様に操作する。

このように、向心軸を通り過ぎる毎に表面高さ検出位置
の移動方向を反転させ、更に徐々に移動距離ｘを小さく
して行くことで、検出部を徐々に鉛直向心軸近傍にもっ
て行くことができる。

ここで、単純に考えれば、例えば表面高さ位置を位置
から連続的に左方向に走査し、その極大高さ位置を求め
ることで、鉛直向心軸と一致するようにも考えられる。
しかしながら、実際には被測定回転体に表面粗さが存在
するため、該表面粗さの凹凸の凸位置を極大値として検
出してしまう場合があるため、このような連続高さ位置
測定に基づく鉛直向心軸探索は現実的でない。

そこで、前述したように本発明においては距離ｘを隔て
て段階的に表面高さ測定位置を移動させている。

ところで、被測定回転体の向心軸に表面粗さ測定装置の
検出方向がより近い位置となるように相対位置の移動を
おこなう際に、移動の距離ｘが大き過ぎて表面粗さ測定
手段の検出方向が被測定回転体の向心軸の位置を越えて
移動前に比べて向心軸からあまり遠い位置となっては移
動そのものが意味を持たないことになるから、移動の距
離は小さいのが望ましい。

ところが移動距離ｘを当初より小さくしすぎると、前述
した表面粗さに基づく凸位置を（最高点）鉛直向心軸位
置と判断してしまうおそれがある。

そこで、本発明者らは更に移動距離ｘの特定に検討を進
めた。

すなわち、第５図に示すように、被測定回転体の鉛直向
心軸と該回転体の表面の交差位置を原点O:座標（0,0）
とし、半径Ｒの被測定回転体の断面図を考えた場合、該
被測定回転体の表面座標（x,y）は、｛x,（R²−x²）^1/2−Ｒ｝で表される。

しかしながら、表面粗さが存在するため、更に第４図に
示すように表面粗さのレンジｄを考慮しなければならな
い。

同図より明らかなように、前記半径Ｒの回転体は平均円
C₁として把握され、表面粗さの凸部を結んだ円は半径が
d/2だけ大きい外周円C₂として、また表面粗さの凹部を
結んだ円は半径がd/2だけ小さい内周円C₃としてそれぞ
れ把握される。

従って、外周円の表面座標位置は、［x,｛（Ｒ＋d/2）^２−x²｝^1/2−Ｒ］また、内周円の表面座標位置は、［x,｛（Ｒ−d/2）^２−x²｝^1/2−Ｒ］としてそれぞれ表現される。

そして、前記特定移動距離x₀が表面粗さに基づく凹凸の
影響を受けない範囲に設定されるためには、次のように
決定される必要がある。

すなわち、第４図に示すように被測定回転体7aの平均半
径がＲであって、且つ表面粗さのレンジがｄであり、加
えて表面粗さの検出方向が上下方向である際に、被測定
回転体7aの回転の中心から最も内側に位置する点Ｐ［x,｛（Ｒ−d/2）^２−x²｝^1/2−Ｒ］から、被測定回転体7aの回転の中心から最も外側に位置
し、しかも被測定回転体7aの上下方向に伸びる向心軸ｙ
に対して点Ｐより遠い位置にある点Ｑ［Ｘ＋x₀,｛（Ｒ＋d/2）^２−（ｘ＋x₀）^２｝^1/2−
Ｒ］を想定する。

そして、点Ｐ及び点Ｑの表面高さを測定した場合に、点
Ｐの方が点Ｑより鉛直向心軸Ｙに近いにもかかわらず、
点Ｐの高さ位置が点Ｑの高さ位置より低くなると、適当
な向心軸探索が行なわれなくなる。

そこで、表面粗さに基づく凹凸にかかわらず点Ｐの高さ
が点Ｑの高さより高くなる特定距離x₀（＞０）を考えて
みる。この関係を、不等式であらわすと、次式が得られ
る。

｛（Ｒ−d/2）^２−x²｝^1/2−Ｒ〉｛（Ｒ＋d/2）^２ −（ｘ＋x₀）^２｝^1/2−Ｒこの不等式を特定距離x₀について解くと、 x₀＞−ｘ＋｛x²＋2R・ｄ｝^1/2（ｘ〉０）が得られる。

ここで、ｆ（ｘ）＝｛2R・ｄ＋x²）^1/2−ｘと定義する
と、次式を得る。

x₀〉ｆ（ｘ）又、ｆ（ｘ）の増減を調べるために両辺を微分して、次
式を得る。

ｆ′（ｘ）＝x/｛2R・ｄ＋x²｝^1/2−１ところで、ｘ〈｛2R・ｄ＋x²｝^1/2であることよりx/｛2
R・ｄ＋x²｝^1/2〈１であり、全てのｘに対してｆ′
（ｘ）は常に負であることよりｆ（ｘ）は減少関数であ
る。よって、点Ｐが少なくとも向心軸ｙ上にある場合ま
でを高低差判定の要請範囲とするならば、ｆ（ｘ）はｘ
＝０の場合に臨界的に最大値をとることになる。従っ
て、求めるx₀の最小値については、次の関係を得る。

x₀〉ｆ（０）＝｛2R・ｄ｝^1/2 つまり、求める距離x₀は、臨界的に｛2R・ｄ｝^1/2をと
るのが妥当となる。

加えて、特定距離x₀は、予め被測定回転体の半径及び表
面粗さのレンジが例えば経験等によって知られている場
合では、その知られている二つの値から適当と考えられ
る値を想定して与えることができる。又、被測定回転体
の表面粗さのレンジの凡その値を上記表面粗さ測定手段
によって、被測定回転体の半径をノギスやマイクロメー
タといった測長機器によってそれぞれ求め、求めた値に
基づいて特定距離を与えることができる。

又、移動距離が特定距離よりも短い値である第二の移動
プロセス以降においては、具体的には、その短い移動距
離の値として特定距離を二分の一ずつ減少させた値であ
って、且つ少なくとも各移動プロセスの最初の移動の方
向が、前段階移動プロセスの最後の移動の方向と逆方向
である移動が挙げられる。つまり、第二の移動プロセス
の最初の移動距離を特定距離の二分の一とし、それ以降
の移動プロセスの移動距離を順次に二分の一ずつ減少さ
せた値とし、しかも移動プロセスが変わるたびに移動の
方向が逆になるのである。

ところで、第一の移動ステップにおける最後の移動及び
最後から二番目の移動によって得られる二つの相対位置
の間に検出方向が向心方向と一致する相対位置があるか
ら、第二の移動ステップの移動によって検出方向が向心
方向により近い状態となる被測定回転体と表面粗さ測定
手段との相対位置をとることができる。

移動手段は、まず最初に被測定回転体と表面粗さ測定装
置との相対位置を特定距離ずつだけ移動することによっ
て、その相対位置に表面粗さ測定装置の検出方向が向心
方向と一致する相対位置を間に挟む連続する二つの相対
位置を取らせ、然る後に前記特定距離よりも短い距離で
相対位置を移動することによって、面高さのより高い相
対位置を取らせる。

［実施例］この発明を、第１〜３図に示す実施例に基づき詳述す
る。しかし、この実施例によって、この発明が限定され
るものではない。

位置決め装置１は第１図に示すように、表面粗さ測定装
置２に組込まれている。

表面粗さ測定装置２は、接触タイプの表面粗さ測定手段
３と、表面粗さ測定手段３を水平前後方向である矢印Ａ
方向に移動させ得る移動手段４と、移動手段４を上下方
向である矢印Ｂ方向にスライドさせ得るスライド手段５
と、表面粗さ測定手段３が検出する値を所定の形に演算
表示する演算表示手段６と、表面粗さ測定手段３に対し
て被測定回転体７の被測定部位が連続的に移動するよう
に被測定回転体である球体７を回転駆動するための回転
駆動手段８と、基台９とを備えて構成されている。

表面粗さ測定手段３は、回転駆動手段８によって回転駆
動されている被測定回転体７がその回転の中心軸にそっ
て揺動する際に、球体７に当接する二つのスキッド（図
示省略）がその揺動に追従するように、表面粗さ測定手
段本体10に対して揺動可能で前記二つのスキッドを保持
するノーズピース11が備えられている。

移動手段４は、出力モータ12と出力モータ12で作動する
ボールネジ13と、ガイド部材14と、ボールネジ13のナッ
ト側に連結され、且つガイド部材14に案内されて矢印Ａ
方向に移動するスライダ15と、スライダ15に一体化し表
面粗さ測定手段３を保持するホルダ16とが備えられてい
る。

スライド手段５は、基台９に垂直上方に立設された支柱
17と、支柱17の上下方向（矢印Ｂ方向）にスライドする
リフト18と、リフト18をスライドさせるための出力モー
タ19及びボールネジ20とを備えて構成されている。

演算表示手段６には、演算部21と、制御部22と、記憶部
23と、液晶表示部24及びプリンタ25が備えられている。
記憶部23には、移動手段４の移動する距離が記憶され
る。演算表示手段６の上面には、操作パネル26が配設さ
れている。

回転駆動手段８は、出力モータ27と、被測定回転体を載
置支持して回転するローラ28,29と、出力モータ27の回
転駆動をローラ28,29に摩擦伝動によって伝える摩擦伝
動手段（図示省略）を備えて構成されている。30は、被
測定回転体が球体である際にその球体を所定位置で回転
させるためのクビレ部である。

以下において、位置決め装置１を用いて、球体７に対す
る表面粗さ測定手段３の相対位置を決める位置決め方法
を説明する。

まず、球体７を、回転駆動手段８のローラ28とローラ29
のクビレ部30に載置する。この状態で球体７を装置した
回転駆動手段８を、ローラ28,29の軸方向と表面粗さ測
定手段３の伸長方向とが直交し、且つ表面粗さ測定手段
３の検出部（図示省略）が球体７のほぼ頂点の上方に位
置するように位置決めする。

次に、操作パネル26を操作して、表面粗さ測定装置２の
作動をスタートさせる。このスタートによって、制御部
22が出力モータ19に出力開始のための制御信号を、移動
手段４に移動方向が矢印Ａ方向後方（第２図において、
矢印Ａ右方向）になるための制御信号をそれぞれ送る。
出力モータ19の出力によってスライド手段５が作動し、
移動手段４に保持されている表面粗さ測定手段３は矢印
Ｂ方向下方にスライドする。スライドして下降して来た
表面粗さ測定手段３の検出部が球体７に接触すると、表
面粗さ測定手段３はこの接触したことを検出信号で演算
部21を介して制御部22に送り、その検出信号を受けた制
御部22は出力モータ19に出力停止の制御信号を送る。制
御信号を受けてスライド手段５が停止すると、測定者は
方面粗さ測定手段３の検出方向が鉛直方向となるように
表面粗さ測定手段３の高さ位置を調整する。ここで、表
面粗さ測定手段３の矢印Ｂ方向の位置は決められた状態
になる。又、この時、表面粗さ測定手段３の検出部は球
体７に接触しているが、表面粗さ測定手段３がこの接触
している球体７の部位の第一の面高さを検出（測定）す
る。

尚、表面粗さ測定手段３が矢印Ｂ方向に位置決めされた
際に、検出結果が表面粗さ測定手段３の検出可能なレン
ジ外にある場合には、制御部22は液晶表示部24にオーバ
ーレンジの表示をするための制御信号を送る。液晶表示
部24にオーバーレンジの表示がでると、制御部22は演算
部21、記憶部23及び移動手段４に作動ストップの制御信
号を送る。一方、測定者はスライド手段５を作動させ、
その後表面粗さ測定手段３と回転駆動手段８との矢印Ａ
方向の相対位置を調節して表面粗さ測定手段３がオーバ
ーレンジとならない位置に位置決めし、表面粗さ測定装
置２を再スタートさせる。

表面粗さ測定手段３が検出した球体７面高さが検出可能
なレンジ内にある場合には、制御部22は、記憶部23が第
一の面高さを記憶するための制御信号を、演算部21及び
記憶部23に出力する。

続いて、制御部22が、表面粗さ測定手段３を矢印Ａ方向
後方（第２図において、矢印Ａ右方向）に第一の特定距
離だけ移動させるための制御信号を、移動手段４の出力
モータ12に送る。尚、第一の特定距離とは、球体７の平
均的な半径と球体７の表面粗さのレンジとの積を二倍
し、その値を二分の一乗して得られる値より実質的に僅
かに大きな値である。

移動手段４が移動すると制御部22は、記憶部23がその移
動の回数、つまり出力モータ12の出力回数を記憶するた
めの制御信号を、記憶部23に送る。

制御信号に基づく移動手段４の作動により表面粗さ測定
手段３が矢印Ａ方向後方に第一の特定距離だけ移動する
と、表面粗さ測定手段３の検出部がこの移動後に接触す
る球体７の部位の第二の面高さを測定し、更に制御部22
の作動によってその測定で得られた第二の面高さは演算
部21に送られる。

ここで、演算部21は第一の面高さと第二の面高さを比較
し、その比較結果を信号で制御部22に送る。

制御部22は、演算部21からの比較結果に基づき、第二の
面高さが第一の面高さより高い場合には検出値が検出可
能なレンジ内にあるか否かを判断するステップ以降を繰
返させるための制御信号を出力する。他方、第一の面高
さが第二の面高さより高いもしくは等しい場合には、表
面粗さ測定手段３の移動方向を反転、つまり矢印Ａ方向
前方（第二図において、矢印Ａ左方向）に移動させるた
めの制御信号を移動手段４に送り、続いて移動手段４の
作動回数を確認するための制御信号を記憶部23に送る。

ここで、移動手段４の作動回数が１であるならば、制御
部22は、検出値が検出可能なレンジ内にあるか否かを判
断するステップ以降を繰返させるための制御信号を、移
動手段４、演算部21及び記憶部23に送る。他方、移動手
段４の作動回数が２以上ならば、表面粗さ測定手段３を
前記特定距離の半分の距離である第二の特定距離だけ移
動させるための制御信号を、移動手段４に送る。

移動手段４が表面粗さ測定手段３を第二の特定距離だけ
移動すると、表面粗さ測定手段３はその状態に対応する
被測定回転体７の面高さを測定し、その値を演算部21に
送る。ここで制御部22は、この送られて来た値と、第二
の特定距離だけ移動する前の被測定回転体７の面高さと
を比較させるための制御信号を、演算部21に送る。

そこで、表面粗さ測定手段３が第二の移動距離だけ移動
した後の面高さが移動する前の面高さより高い場合に
は、検出値が検出可能なレンジ内にあるか否かを判断す
るステップ以降を繰返させるための制御信号を、制御部
22が移動手段４、演算部21及び記憶部23に送る。他方、
表面粗さ測定手段３が第二の移動距離だけ移動する前の
面高さが移動した後の面高さより高い、もしくは等しい
場合には、被測定回転体７と表面粗さ測定手段３との相
対位置の位置決めが終了したことを表示させるための制
御信号を、制御部22が演算表示手段６の液晶表示部24に
送る。

以上の作動によって、表面粗さ測定手段３の検出方向が
球体７の向心軸と一致、もしくは一致していると言って
よいほど近傍となる表面粗さ測定手段３と球体７との相
対位置が得られる。

そうして、この相対位置の位置決めにおいても、熟練を
必要とせず簡便におこなうことができる。又、球体７を
必要以上にトレースすることはなく、元の表面性状をよ
り保つことが可能になっている。

上記の実施例において、表面粗さ測定装置２では表面粗
さ測定手段３が接触タイプのものであるが、この発明は
非接触タイプのものであってもよい。

又、位置決め装置１では、第二の移動プロセス以降は移
動手段４の移動距離を二分の一ずつ減少させる構成にな
っているが、例えば十分の一ずつ減少させるといったよ
うに他の値であってもよい。

加えて、実施例では被測定回転体が球体であるが、他に
円筒、丸棒、円柱といったものであってもよい。

［発明の効果］この発明によれば、検出方向を被測定回転体の向心軸に
一致させる、もしくは一致していると言ってよいほどに
近い位置とさせ得るように被測定回転体と表面粗さ測定
装置との相対位置を移動して位置決めする際に、その相
対位置の移動を特定の距離だけづつおこなわせる構成と
したことにより、熟練を必要とせずに簡便に目的とする
相対位置を得ることができるという効果が得られてい
る。

又、表面粗さ測定手段が接触タイプの場合では、被測定
回転体を必要以上にトレースすることがないから、その
被測定回転体を必要以上に傷つけることがなく測定後に
おいても表面性状をよく保たせるという効果が得られ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の位置決め装置の実施例の一部切り欠
を含む斜視図、第２図はこの実施例の構成説明図、第３図はこの実施例の作動を説明するフローチャート、第４図はこの発明の特定距離の由来を示す構成説明図、第５図はこの発明における向心軸探索機構の説明図であ
る。１……位置決め装置、２……表面粗さ測定装置、３……表面粗さ測定手段、４……移動手段、５……スライド手段、６……演算表示部、７……球体（被測定回転体）８……回転駆動手段、21……演算部、 22……制御部、23……記憶部。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被測定回転体を回転させつつ、その表面粗
さを測定する際に、被測定回転体と表面粗さ測定手段と
の相対位置を位置決めする位置決め装置において、前記被測定回転体の回転軸及び前記表面粗さ測定手段に
よる凹凸検出方向軸と直交する方向に前記表面粗さ測定
手段を移動させ得る移動手段と、被測定回転体の平均的な半径Ｒと、その被測定回転体の
表面粗さのレンジｄとに基づき、式により算出される移
動距離x₀、 x₀＞（2R・ｄ）^1/2 及び前記表面粗さ測定手段の検出部に対応する被測定回
転体の部位の面高さを記憶する記憶手段と、その記憶部に記憶されている面高さと表面粗さ測定手段
が測定する被測定回転体の面高さの比較をおこなう演算
手段と、被測定回転体と表面粗さ測定手段とがある特定の相対位
置に位置決めされてその際の面高さが測定されると、前
記特定の相対位置から被測定回転体と表面粗さ測定手段
との相対位置を前記特定距離x₀だけ移動させ、続いてそ
の移動の後の面高さが測定されるとその連続する二つの
相対位置におけるそれぞれの面高さを演算部が比較し、
被測定回転体と表面粗さ測定手段との連続する二つの相
対位置における前ステップの面高さが後ステップの面高
さよりも高いもしくは等しくなるまで移動手段及び演算
部にそれぞれ繰返して作動をおこなわすための制御信号
を出力し、前ステップの面高さが後ステップの面高さよ
りも高いもしくは等しくなったならば移動手段の移動距
離を前記特定距離より短いものにし且つ移動方向を反転
させて相対位置の移動と面高さの比較を繰返し、被測定
回転体と表面粗さ測定手段との連続する二つの相対位置
において、前後ステップの各面高さの比較結果に基づき
面高さがより高い相対位置をとり得るように、移動手段
及び演算手段にそれぞれ制御信号を出力する制御部を備
えてなる位置決め装置。