JPH0789895A - 含フッ素ベンゾフェノン誘導体およびその用途 - Google Patents

含フッ素ベンゾフェノン誘導体およびその用途

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JPH0789895A
JPH0789895A JP5337237A JP33723793A JPH0789895A JP H0789895 A JPH0789895 A JP H0789895A JP 5337237 A JP5337237 A JP 5337237A JP 33723793 A JP33723793 A JP 33723793A JP H0789895 A JPH0789895 A JP H0789895A
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Ryoko Osawa
良子 大澤
Takashige Maekawa
隆茂 前川
Takashi Kamata
俊 鎌田
Tatsuo Momii
達夫 籾井
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Abstract

(57)【要約】 【目的】紫外線吸収剤として有用であり、耐熱性、耐候
性に優れ、特にフッ素樹脂との相溶性に優れる新規な含
フッ素ベンゾフェノン誘導体を提供する。 【構成】2−ヒドロキシベンゾフェノン骨格とポリフル
オロ炭化水素基を有する含フッ素ベンゾフェノン誘導
体。ただし、ポリフルオロ炭化水素基は、炭素原子を2
〜22個有する1〜2価の基である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な含フッ素ベンゾ
フェノン誘導体および紫外線吸収剤としての用途に関す
る。
【0002】
【従来の技術】屋外、屋内で日常用いられている高分子
樹脂材料は、太陽光もしくは蛍光灯の光等のさまざまな
光に曝露されている。このなかで、200〜400nm
付近の光は材料にとって有害な紫外線であり、光分解に
よる材料の着色、変色、あるいは強度低下等の劣化を引
き起こす。さらに、該樹脂材料を基材の被覆用に用いた
場合には、樹脂側に紫外線吸収能がないために、保護す
べき基材にまでも悪影響を及ぼす。
【0003】従来より、材料あるいは材料で被覆された
基材を紫外線から保護するために、ベンゾフェノン、ベ
ンゾトリアゾール等の化合物で代表される紫外線吸収
剤、あるいは吸収する光源の波長に応じた各種の色素が
樹脂に添加されている。これらの化合物は、紫外線領域
に吸収を持っているために紫外線で励起されるが、分子
内において励起状態のエネルギーを材料にとって無害な
熱エネルギーに変換することにより、材料の劣化を防ぐ
ことが知られている。
【0004】これらの紫外線吸収剤は、材料表面に塗布
されたり、あるいは、樹脂成形時に材料本体に練り込む
ことによって、樹脂に紫外線吸収能を付与する。しか
し、樹脂に練り込んで使用する場合には、樹脂成形温度
での耐熱性が低いこと、あるいは、長期間過酷な環境下
で使用する場合に、化合物が樹脂本体から徐々にブリー
ドアウトする問題があった。このような問題を解決する
目的で、紫外線吸収剤の骨格中にメチル基、オクチル
基、t−ブチル基等のアルキル基を導入して紫外線吸収
剤自体の蒸気圧を高めたり、アクリル基、メタクリル
基、ビニル基などの重合部位を導入してポリマー化する
ことが行われてきた。
【0005】しかし、樹脂材料の使用される環境、成形
時の加熱温度等を考慮すると、さらに耐熱性が高く、成
形体とした場合にも低ブリードアウト性を有する高性能
な紫外線吸収剤が要求されていた。
【0006】一方、各種基材の保護材料として、耐候性
に優れかつ透明性の高いフッ素樹脂が注目を集めてい
る。フッ素樹脂は、一般に、高い耐薬品性、耐候性を有
するが、200〜400nm付近の紫外線領域に吸収が
ない。したがって、透明なフッ素樹脂をフィルムにして
各種基材の表面保護材に用いた場合には、紫外線の透過
により、下地の基材が劣化してしまう問題があった。そ
こで、フッ素樹脂に紫外線吸収性を付与する目的で、従
来の紫外線吸収剤の添加を試みたが、フッ素樹脂の一般
的な成形温度(約200℃以上)では、紫外線吸収剤の
耐熱性が低く、ブリードアウトも認められ、また、フッ
素樹脂との相溶性が低いために、フッ素樹脂の透明性を
低下させてしまう現象(白化現象)が認められた。
【0007】そこで、ブリードアウトを防ぐために紫外
線吸収剤の高分子量化を試みたが、フッ素樹脂との相溶
性が低いためにフィルムの白化現象が認められ、紫外線
のみを有効にカットすることはできなかった。また、分
子中にフッ素を含有する単量体と紫外線吸収能を有する
単量体からなる共重合体を紫外線吸収剤として用いた場
合にも、フッ素樹脂との相溶性を改善することはできな
かった。
【0008】また、USP3387035には、2’−
トリフルオロメチル−2−ヒドロキシ−4−メトキシベ
ンゾフェノン類が、USP3346612には4位に−
OSO2 −を介してパーフルオロオクチル基を有する2
−ヒドロキシベンゾフェノンが報告されている。しか
し、前者はフッ素の含有量が少なく、耐熱性、相溶性に
劣り、後者は耐候性に劣るという欠点があった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来から公
知の紫外線吸収剤に比べて高い耐熱性および低ブリード
アウト性を有し、一般樹脂のみならず、従来より紫外線
吸収能の付与が困難であったフッ素樹脂およびその成形
体に対しても添加が可能であり、特に透明性の高いフッ
素樹脂に対しても、光線透過性を損なわずに添加できる
紫外線吸収剤を得ることを目的としてなされた。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者は、従来から知
られている各種ベンゾフェノン系紫外線吸収化合物の耐
熱性、ブリードアウト性、一般樹脂との相溶性、さらに
透明性の高いフッ素樹脂との相溶性について詳細な検討
を行った。その結果、ベンゾフェノン骨格にポリフルオ
ロ炭化水素基を結合させることによって得られる化合物
が、耐熱性が高く、樹脂の高温成形時においてもブリー
ドアウトがほとんど見られず、さらに、従来より紫外線
吸収化合物の添加が困難であったフッ素樹脂に対して
も、透明性を損なわずに紫外線吸収能を付与できる化合
物であることを見いだした。さらに本発明の化合物を添
加した樹脂成形体は、良好な耐候性をも有していること
を見いだした。
【0011】本発明は、新規な含フッ素ベンゾフェノン
誘導体およびその用途を提供する下記発明である。
【0012】すなわち、本発明は一般式(1)、
(2)、または(3)で表される含フッ素ベンゾフェノ
ン誘導体を提供する。
【0013】 Φ1 (−X1 −Q1 −Rf 1n ・・・(1) Φ2 −X2 −Q2 −Rf 2−Q3 −X3 −Φ3 ・・・(2) Φ4 −X4 −Qf −X5 −Φ5 ・・・(3)
【0014】ただし、Φ1 は、化3で表される2−ヒド
ロキシベンゾフェノン骨格(ただし、Yは水素原子また
は水酸基を示す。kとmは結合部位の数を示し、kは0
〜3の整数、mは0〜3の整数を示し、1≦(k+m)
≦4である。)を示す。
【0015】
【化3】
【0016】nは、(k+m)と同じであり、1〜4の
整数を示す。Φ2 、Φ3 、Φ4 、およびΦ5 は、それぞ
れ、化3における(k+m)が1である2−ヒドロキシ
ベンゾフェノン骨格を示す。X1 、X2 、X3 、X4
およびX5 は、それぞれ、単結合または酸素原子を示
す。Q1 は、単結合またはX1 と炭素原子で単結合して
いる2価の連結基を示す。Q2 およびQ3 は、それぞ
れ、単結合または2価の連結基を示す。
【0017】Rf 1は、炭素数が2〜22個で、炭素原子
の一部がエーテル性酸素原子で置換はされていてもよい
1価のポリフルオロ炭化水素基を示す。Rf 2は、炭素数
が2〜22個で、炭素原子の一部がエーテル性酸素原子
で置換されていてもよい2価のポリフルオロ炭化水素基
を示す。Qf は、Q4 −Rf 1を1個以上有する2価の連
結基を示す(ただし、Q4 は2価の連結基を示し、Rf 1
は上記と同じである。)。
【0018】一般式(1)のΦ1 は、前記化3に示され
る2−ヒドロキシベンゾフェノン骨格を表す。該2−ヒ
ドロキシベンゾフェノン骨格の2個のベンゼン環の1個
の2位に相当する炭素原子には、水酸基が結合してお
り、他の1個のベンゼン環の2位には、水酸基または水
素原子が結合しているが、水素原子が結合している場合
が好ましい。化3のkとmは、結合部位の数を示す。k
とmは、それぞれ、0〜3の整数を示し、1≦(k+
m)≦4であるが、(k+m)が1の場合が好ましい。
【0019】nは、k+mと同じであり、1〜4の整数
である。
【0020】一般式(2)および(3)のΦ2 、Φ3
Φ4 、およびΦ5 は、それぞれ、化3における(k+
m)が1である2−ヒドロキシベンゾフェノン骨格を示
す。Yは水素原子または水酸基であるが、水素原子が好
ましい。また、Φ2 とΦ3 、Φ4 とΦ5 は、同一であっ
ても異なっていてもよいが、同一の場合が好ましい。ま
た、kが1、mが0の場合の2−ヒドロキシベンゾフェ
ノン骨格が好ましい。
【0021】Φ2 、Φ3 、Φ4 、およびΦ5 としては、
それぞれ、化4に示される1価の2−ヒドロキシベンゾ
フェノン骨格が好ましい。
【0022】
【化4】
【0023】一般式(1)、(2)、および(3)にお
いて、X1 、X2 、X3 、X4 、およびX5 は、それぞ
れ、単結合または酸素原子を示すが、酸素原子が好まし
い。また、X2 とX3 、X4 とX5 は同一であっても異
なっていてもよいが、同一の場合が好ましい。
【0024】Q1 は、単結合またはX1 と炭素原子で単
結合している2価の連結基を示すが、2価の連結基が好
ましい。Q1 とX1 の両者が単結合である場合、Rf 1
Φ1は、直接連結していることを意味する。Q1 が単結
合である場合には、X1 は酸素原子であることが好まし
い。
【0025】Q2 およびQ3 は、それぞれ、単結合また
は2価の連結基を示す。Q2 とQ3が2価の連結基であ
る場合としては特に限定されず、X2 およびX3 と、炭
素原子、窒素原子、硫黄原子等で単結合している2価の
連結基を挙げることができるが、炭素原子で単結合して
いる場合が好ましい。また、Q2 とX2 の両者が単結合
である場合、Φ2 とRf 2は直接連結していることを意味
する。同様に、Q3 とX4 の両者が単結合である場合、
f 2とΦ3 は、直接連結していることを意味する。Q2
が単結合である場合、X2 は酸素原子が好ましい。同様
にQ3 が単結合である場合、X3 は酸素原子が好まし
い。Q2 とQ3 は、同一であっても異なっていてもよい
が、同一である場合が好ましく、特に、Q2 とQ3 のい
ずれもが、同一の2価の連結基である場合が好ましい。
【0026】Q1 、Q2 、およびQ3 が2価の連結基で
ある場合、好ましい例としては、−(CH2p −、−
(CH2g −CH(OR1 )−(CH2q −、−
(CH 2r −N(R2 )SO2 −、−C(O)−(C
2s −、−(CH2a −COO−(CH2b
−、−(CH2c −COO−(CH2d −N(R
3 )SO2 −、または−(CH2e −OCO−(CH
2f −N(R4 )SO2 −(ここで、pは1〜11の
整数、g、qおよびsは、0〜11の整数、rは2〜1
1の整数、aおよびcは、0〜8の整数、b、d、e、
およびfは、それぞれ1〜8の整数、R1 は、水素原
子、炭素数が1〜5個のアルキル基、またはアシル基、
2 、R3 、およびR4 は、それぞれ、炭素数が1〜1
0個のアルキル基を示す。)等が挙げられる。
【0027】これらのうち、Q1 、Q2 、およびQ3
しては、−(CH2p −、−(CH2g −CH(O
1 )−(CH2q −、−(CH2a −COO−
(CH2b −、−(CH2c −COO−(CH2
d −N(R3 )SO2 −、または−(CH2e −OC
O−(CH2f −N(R4 )SO2 −(ここで、pは
2〜8の整数、gは0〜8の整数、qは1〜8の整数、
aおよびcは、0〜6の整数、b、d、g、およびf
は、1〜8の整数が好ましく、R1 は水素原子またはア
シル基、R3 およびR4 は、炭素数が1〜3個のアルキ
ル基が好ましい。)が好ましい。
【0028】特に、Q1 、Q2 、およびQ3 としては、
gが1〜3の整数、qが1〜6の整数、R1 が水素であ
る場合の−(CH2g −CH(OR1 )−(CH2
q −、aが0〜3の整数、bが1〜4の整数である場合
の−(CH2a −COO−(CH2b −、cが1〜
3の整数、dが2〜4の整数、R3 が炭素数が1〜3の
アルキル基である場合の−(CH2c −COO−(C
2d −N(R3 )SO2 −、およびeが1〜3の整
数、fが2〜4の整数、R4 が炭素数が1〜3のアルキ
ル基である場合の−(CH2e −OCO−(CH2
f −N(R4 )SO2 −が好ましい。
【0029】一般式(1)のRf 1は、1価のポリフルオ
ロ炭化水素基である。Rf 1の炭素数は2〜22個、好ま
しくは4〜18個、さらに好ましくは6〜14個がよ
い。R f 1中のフッ素原子の数は、未置換炭化水素基の水
素原子の数に対する置換フッ素原子の数の割合が50%
以上、好ましくは60%以上がよい。さらに、置換され
ていない水素原子の一部あるいは全部が、塩素原子で置
換されていてもよい。また、Rf 1は、直鎖あるいは分岐
のいずれの構造であってもよいが、好ましくは直鎖がよ
い。分岐の構造である場合には、分岐部分の炭素数が1
〜4個程度の短鎖であることが好ましい。
【0030】好ましいRf 1の構造としては、CF3 (C
2z −(ここでzは5〜13の整数である)で表さ
れるパーフルオロ炭化水素基、あるいは、Rf 1の末端部
分がパーフルオロ炭化水素基である構造が好ましい。
【0031】Rf 1としては、炭素−炭素不飽和二重結合
などの不飽和部分を1以上有する基であってもよい。特
に、X1 が酸素原子、Q1 が単結合である場合には、合
成しやすさの点から、不飽和部分を1以上有する基が好
ましい。またRf 1は、Rf 1の炭素原子の一部がエーテル
性酸素原子で置換されたポリフルオロオキシ炭化水素基
であってもよい。
【0032】Rf 1が炭素−炭素不飽和二重結合などの不
飽和部分を1以上有する基である場合には、不飽和部分
を1〜2個有する基が好ましく、特に不飽和部分を1個
有するポリフルオロアルケニル基が好ましい。該ポリフ
ルオロアルケニル基としては、炭素原子に結合する水素
原子のすべてがフッ素原子に置換されたパーフルオロア
ルケニル基が好ましい。不飽和部分のうちの1個は、R
f 1のベンゾフェノン骨格に近い部分に存在することが好
ましい。
【0033】また、ポリフルオロオキシ炭化水素基とし
ては、ポリフルオロオキシメチレン、ポリフルオロオキ
シエチレン、ポリフルオロオキシプロピレンの単位を1
以上含む基が好ましく、特にポリフルオロオキシプロピ
レンの単位を1以上含む基が好ましく、さらにポリフル
オロオキシプロピレンの単位を1以上と、末端部分にパ
ーフルオロ炭化水素基を含む基が好ましい。
【0034】Rf 1の具体例としては、CF3 (CF2
7 −、CF3 (CF29 −、CF3 (CF211−、
(CF32 CF(CF25 −、HCF2 (CF2
7 −、ClCF2 (CF29 −、CF3 (CF23
(CH2 CF27 −、C817(CH2 CF2v
(ここで、vは1〜4の整数を示す。)、CF3 CF2
(CH2 CF27 −、C613(CH2 CF23
−、CF3 (CF23(CFClCF27 −、CF3
(CF23 (CFHCF27 −、(CF32 CF
(CF24 −、(CF32 CFCF=C(CF3
−、(CF32 C=C(C25 )−、CF3 CF2
C(C25 )(CF3 )−C(CF3)=C(CF
3 )−、CF3 CF=CFCF2 CF=CF−、(C3
7 )(CF3 )C=C{CF(CF32 }−、CF
2 ClCFClCF2 CF2 {OCF(CF3 )CF
2W OCF(CF3 )−(ここで、wは1〜4の整数
を示す。)、C37 −{OCF(CF3 )CF2j
−O(CF22 −(ここで、jは1〜4の整数を示
す。)、および具体的な化合物中の例等が挙げられる。
【0035】一般式(2)のRf 2は、2価のポリフルオ
ロ炭化水素基である。Rf 2の構造としては、前記のRf 1
と同様の構造であり、Rf 1の末端原子の1つが単結合に
代わった構造である。Rf 2の炭素数は2〜22個である
が、4〜10個の場合が好ましい。Rf 2としては、ポリ
フルオロアルキレン基、炭素−炭素不飽和二重結合を1
個以上有するポリフルオロアルキレン基、ポリフルオロ
オキシアルキレン基等である。
【0036】Rf 2の具体例としては、−(CF28
−、−(CF24 −、−(CF2 CH22 (CF
22 (CH2 CF22 −、−(CF2 CHCl)2
(CF22 (CHClCF22 −、−(CF2 O)h
(C24 O)i −、−(CF22 O−{CF2
F(CF3 )O}t (CF22 {OCF(CF3 )C
2u −O(CF22 −(ここで、h、i、t、お
よびuは1〜4の整数であり、(3t+3u)≦16で
ある。)、−(CF2 CH22612(CH2CF2
2 −、−C24 O{CF2 CF(CF3 )O}2
CF2 CF2 {OCF(CF3 )CF22 OC24
−、および具体的な化合物中の例等が挙げられる。
【0037】一般式(3)のQf は、Q4 −Rf 1を1個
以上有する2価の連結基であるが、Qf としては、Q4
−Rf 1を1個有する基が好ましい。ここでQ4 は、2価
の連結基であり、前記Q2 およびQ3 が2価の連結基で
ある場合と同じ意味である。また、Rf 1は、前記と同じ
意味である。
【0038】Qf からQ4 −Rf 1を除いた(2+A)価
の残基(ここで、AはQf 中に含まれるQ4 −Rf 1の個
数を示す)としては、炭化水素基、水酸基を1個以上含
む炭化水素基、またはエステル結合を1個以上含む炭化
水素基が好ましい。例えば、Qf がQ4 −Rf 1を1個有
する場合、Q4 −Rf 1を除いた残基としては3価の炭化
水素基、水酸基を1個以上含む3価の炭化水素基、また
はエステル結合1個以上を含む3価の炭化水素基が好ま
しい。
【0039】Q4 −Rf 1が1個の場合のQ4 −Rf 1を除
いた残基が3価の炭化水素基である場合の炭素数は、3
〜5個が好ましく、炭素数が3個の炭化水素基が好まし
い。水酸基を1個以上含む3価の炭化水素基である場合
は、水酸基を2個含むものが好ましい。エステル結合を
1個以上含む3価の炭化水素基である場合は、エステル
結合を2個含むものが好ましい。
【0040】Q4 −Rf 1を1個有する場合のQf として
は、一般式(4)で表される2価の連結基が好ましい。
【0041】
【化5】
【0042】一般式(4)のRf 1およびQ4 は、前記の
2 およびQ3 と同じ意味を示し、2価の連結基である
場合が好ましい。Q4 としては、pが2〜8である場合
の−(CH2p −、Rf 1としては、zが5〜13の整
数である場合のCF3 (CF2z −が好ましい。
【0043】また、Q5 およびQ6 は、前記のQ2 およ
びQ3 が2価の連結基である場合と同様の2価の連結基
を示し、2価の炭化水素基、水酸基を2個含む2価の炭
化水素基、エステル結合を2個含む2価の炭化水素基が
好ましい。Q5 およびQ6 は同一であっても異なってい
てもよいが、同一の場合が好ましい。Q5 およびQ6
しては、pが1である場合の−(CH2p −、gが0
〜1の整数、qが1〜2の整数、R1 が水素原子である
場合の−(CH2g −CH(OR1 )−(CH2q
−、aが0〜1の整数、bが1〜6の整数である場合の
−(CH2a−COO−(CH2b −が好ましく、
特にaが0、bが1〜4の整数である場合の−(CH
2a −COO−(CH2b −が好ましい。
【0044】一般式(4)の具体例を以下に挙げるが、
これらに限定されない。
【0045】
【化6】
【0046】
【化7】
【0047】
【化8】
【0048】以下に本発明の含フッ素ベンソフェノン誘
導体の化合物例を示すが、これに限定されるものではな
い。
【0049】
【化9】
【0050】
【化10】
【0051】
【化11】
【0052】
【化12】
【0053】
【化13】
【0054】
【化14】
【0055】本発明の含フッ素ベンゾフェノン誘導体
は、通常の有機合成手法を用いて合成できる。例えば、
水酸基を含有するベンゾフェノン類と、Rf 1−Q1 −Z
1 、Z2 −Q2 −Rf 2−Q3 −Z3 、またはZ4 −Q5
−Qf −Q6 −Z5 (ここでZ1 〜Z5 は、それぞれ、
ヨウ素、臭素、または塩素原子を示す。Q1 、Q2 、Q
3 、Q5 、Q6 、Rf 1、Rf 2、およびQf は前記と同じ
意味である。)とを反応させることにより合成できる。
また、3位にRf 1が結合した3−置換−1,2−エポキ
シプロパンと水酸基を含有するベンゾフェノン類を反応
させることにより、Q1 が−CH2 CH(OH)−CH
2 −である含フッ素ベンゾフェノン誘導体を合成でき
る。また、炭素−炭素不飽和二重結合の炭素原子に少な
くとも1個のフッ素原子が結合しているポリフルオロア
ルケンと水酸基を含有するベンゾフェノン類とを反応さ
せることにより、X1 が酸素原子、Q1 が単結合、Rf 1
が炭素−炭素不飽和二重結合を1個含有するポリフルオ
ロアルケニル基である含フッ素ベンゾフェノン誘導体を
合成できる。
【0056】上記反応は有機溶媒中で塩基性条件下に反
応させることにより実施できる。
【0057】有機溶媒としては、極性溶媒が好ましく、
エーテル系、アルコール系、エステル系等の溶媒を用い
ることができる。例えば、エチレングリコール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、テトラヒドロフラン、酢酸エチル等である。
【0058】塩基としては、通常の場合、アルカリ金属
の炭酸塩、水酸化物等を使用できる。例えば、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等である。
【0059】反応条件は、原料となる化合物、溶媒、塩
基の種類あるいは量等によて適宜変更され得るが、通常
の場合、反応温度は、0〜200℃程度、反応時間は
0.5〜50時間程度である。
【0060】本発明の含フッ素ベンゾフェノン誘導体
は、300nm以下に吸収を有していることから紫外線
吸収剤として用いることができる。また分子中にポリフ
ルオロ炭化水素基を有するために、分解点または昇華点
が200℃以上の高温であることから、従来の化合物よ
りも高い耐熱性を有する優れた紫外線吸収剤である。し
たがって、本発明の含フッ素ベンゾフェノン誘導体は紫
外線吸収剤として多くの用途に使用できる。
【0061】本発明の含フッ素ベンゾフェノン誘導体
は、樹脂に紫外線吸収能を付与するために、種々の樹脂
に配合して使用することができる。特に、本発明の含フ
ッ素ベンゾフェノン誘導体を樹脂成形時に練り込むこと
により、紫外線吸収能が付与された樹脂成形体とするこ
とができる。この場合の樹脂としては特に限定されず、
さまざまな樹脂に適用可能である。特に、本発明の含フ
ッ素ベンゾフェノン誘導体は、高い耐熱性を有すること
から、熱可塑性樹脂に配合できる。該熱可塑性樹脂とし
ては、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、
ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート等が挙げ
られる。
【0062】さらに、本発明の含フッ素ベンゾフェノン
誘導体は、分子中にポリフルオロ炭化水素を有すること
からフッ素樹脂との相溶性にすぐれている。したがっ
て、従来の紫外線吸収化合物では困難であったフッ素樹
脂への配合が可能でありかつ高い耐熱性を有することか
ら、特にフッ素樹脂の成形時に練り込みによる配合が可
能である。
【0063】フッ素樹脂としては、テトラフルオロエチ
レン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレ
ン、フッ化ビニル、ポリフルオロアルキルエチレン、ポ
リフルオロアルキルビニルエーテル等のフッ素含有単量
体の単独重合体あるいは2種以上を重合させた共重合体
等が挙げられる。また、フッ素含有単量体の1種あるい
は2種以上と、他の重合し得る単量体の1種あるいは2
種との共重合体、あるいは環状パーフルオロポリマー等
であってもよい。他の重合し得る単量体としては、特に
限定されず、公知の重合し得る単量体が採用できる。例
えば、エチレン、プロピレン、ブタジエン、アルキルビ
ニルエステル、アルキルビニルエーテル等が好ましい。
これらのフッ素樹脂は、結晶性あるいは非晶性のいずれ
であってもよい。
【0064】本発明の含フッ素ベンゾフェノン誘導体の
樹脂に対する配合量は、通常の場合0.001〜20重
量%程度、好ましくは0.01〜10重量%程度がよ
い。
【0065】本発明の含フッ素ベンゾフェノン誘導体が
添加された樹脂成形体としては、特に限定されず、さま
ざまな成形体が可能である。特に本発明の含フッ素ベン
ゾフェノン誘導体は耐熱性に優れるため、高温成形を必
要とするフッ素樹脂に添加して紫外線吸収能が付与され
たフッ素樹脂成形体とすることもできる。該フッ素樹脂
成形体としては、送信用ケーブル被覆用チューブ、フィ
ルター、シート、液晶用紫外線カットフィルムやマーキ
ングフィルム用保護膜等の紫外線遮蔽性能を要する種々
の表面保護膜が挙げられる。特に、フッ素樹脂に添加し
て透明フィルムとした場合には、樹脂の透明性を損なう
ことなしに紫外線吸収能を付与することができる利点が
ある。
【0066】また、本発明の含フッ素ベンゾフェノン誘
導体を含有する樹脂成形体は、樹脂表面部分に存在する
ポリフルオロ炭化水素基の効果により、耐候性にも優れ
た成形体である。
【0067】
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れらに限定されない。
【0068】[実施例1]2,4−ジヒドロキシベンゾ
フェノンの3g、n−C102148 Iの10、炭酸
水素ナトリウムの1.4gを50mlのメチルセロソル
ブに溶解し、徐々に昇温して120℃で3時間加熱し
た。反応終了後、反応溶液を室温まで冷却し多量の水中
に注入した。生成した沈殿を濾別し、水洗、乾燥するこ
とによって粗結晶を得た。得られた粗結晶を1,1,2
−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(以
下、R−113と記す。)を用いて再結晶し、2−ヒド
ロキシ−4−(4−パーフルオロデシルブトキシ)−ベ
ンゾフェノンの白色結晶を得た。収量3.4g、収率2
9.8%であった。
【0069】1H-NMR(TMS,CDCl3) δ(ppm):1.2 〜2.6(6
H,m),4.1(2H,t),6.3 〜7.9(8H,m).
【0070】19F-NMR(CFCl3,CDCl3) δ(ppm):-81.4(3
F,t),-115.8(2F,s), -122.0〜-124.5(14F,m),-126.4(2
F,s).
【0071】得られた白色結晶をクロロホルムに溶解
(濃度5×10-5モル/リットル)し、分光光度計(島
津製作所製 UV−2200)により、吸収波長および
強度を測定した。その結果、最大吸収波長(以下、λ
max と記す。)は287nm、モル吸光係数(以下、ε
と記す。)は1.6×104 であった。さらに得られた
化合物の熱重量測定を行った。測定は、試料を室温から
10℃/分で昇温して、試料の質量が10%減少した温
度を測定した。10%減量温度(以下、Td と記す。)
は270℃であった。
【0072】[実施例2〜9]実施例1のn−C1021
48 Iの代わりに表1に示す原料を用いること以外
は、実施例1と同様の方法で含フッ素ベンゾフェノン誘
導体を合成した。精製後の収率、λmax 、ε、およびT
d を表1に示す。
【0073】なお、表1中実施例2でエポキシ基含有化
合物と2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンとの反応で
合成した化合物を化15に示す。化15の化合物の1H-N
MRおよび19F-NMR 法による測定結果は下記の通りであっ
た。
【0074】1H-NMR(TMS,CDCl3) δ(ppm):2.6(2H,t),4.
2(2H,s),4.5(1H,m),6.3 〜7.9(8H,m).
【0075】19F-NMR(CFCl3,CDCl3) δ(ppm):-81.2(3
F,t),-115.6(2F,s), -122.0〜-124.4(14F,m),-126.3(2
F,s).
【0076】
【化15】
【0077】また、表1中実施例5でエポキシ基含有化
合物と2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンとの反応で
合成した化合物を化16に示す。
【0078】
【化16】
【0079】また、表1中実施例6で合成した化合物の
1H-NMRおよび19F-NMR 法による測定結果は下記の通りで
あった。
【0080】1H-NMR(TMS,CDCl3) δ(ppm):1.4 〜3.2(12
H,m),4.1(2H,s),6.3〜7.8(8H,m).
【0081】19F-NMR(CFCl3,CDCl3) δ(ppm):-81.3(3
F,t),-88.6(2F,s),-90.8(2F,s),-95.0(2F,s),-112.8(2
F,s), -122.0〜−139.9(10F,m),−12
6.6(2F,s).
【0082】[実施例10]マロン酸ジエチルの3.2
gをテトラヒドロフラン(以下、THFと記す。)の1
00mlに溶解させ、NaHの0.6gを加えた後、n
−C102148Iの14gを加えた。温度を室温か
ら60℃に上げ、1時間撹拌した後に、生成した沈殿物
を濾別、洗浄して2−(4−パーフルオロデシルブチ
ル)−マロン酸ジエチルの12gを得た。これを水素化
リチウムアルミニウムの1.2gで還元した後、塩化チ
オニルの6.8gと反応させて、1,3−ジクロロ−2
−(4−パーフルオロデシルブチル)−プロパンの4g
を得た。
【0083】1,3−ジクロロ−2−(4−パーフルオ
ロデシルブチル)−プロパンと2,4−ジヒドロキシベ
ンゾフェノンの2.73gを2−メトキシエタノールの
30ml中に溶解させ、炭酸ナトリウムの1.2g、炭
酸水素ナトリウムの1.0g、およびヨウ化カリウムの
0.5gを加えて、120℃で20時間反応させた。反
応溶液を水/エタノール(容量比)=1/1の200m
lに注入し、析出した沈殿を濾別、精製して、1,3−
ビス−(4−ベンゾイル−3−ヒドロキシフェノキシ)
−2−(4−パーフルオロデシルブチル)−プロパンを
得た。精製後の収率、λmax 、ε、およびTd を表1に
示す。
【0084】[実施例11]実施例10のn−C1021
48 Iの代わりにn−C817(CH2 CF23
48 Iを用いること以外は、実施例10と同様の方
法で含フッ素ベンゾフェノン誘導体を合成した。精製後
の収率、λmax 、εおよびTd を表1に示す。
【0085】
【表1】
【0086】[実施例12]水分離器を装着した500
ccの3つ口フラスコにC1021(CH22 OHの1
02g、Cl(CH23 COOHの24g、パラトル
エンスルホン酸の3.5g、トルエンの100ccを加
え、120℃で5時間還流後、水を共沸分離した。トル
エンを減圧回収後、エステルの114.3g(収率は9
5%。)を得た。得られたエステルの114.3gと
2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンの224.7gを
100gのジグライムに溶解し、触媒として炭酸水素ナ
トリウムの28.9g、ヨウ化カリウムの4.3gを加
え120℃で4時間反応を行った。反応溶液を400c
cの水中に注入し固体を回収、エタノールで洗浄して化
17に示す化合物の117.9gを得た。精製後の収
率、λmax 、ε、およびTdを表2に示す。また、化1
7の化合物の1H-NMRおよび19F-NMR 法による測定結果は
下記の通りであった。
【0087】1H-NMR(TMS,CDCl3) δ(ppm):2.3 (2H,m),
2.6(4H,m),4.1(2H,t),4.5(2H,t),6.5〜7.5(8H,m).
【0088】19F-NMR(CFCl3,CDCl3) δ(ppm):-81.3(3
F,t),-114.0(2F,m), -122.3〜-124.1(10F,m),-126.6(2
F,s).
【0089】
【化17】
【0090】[実施例13]実施例12のC1021(C
22 OHをC817(CH22 OHにかえる以外
は実施例12と同様の方法で化18に示す化合物を得
た。精製後の収率、λmax 、ε、およびTd を表2に示
す。
【0091】
【化18】
【0092】[実施例14]実施例12のC1021(C
22 OHをC817SO2 N(CH3 )(CH2
2 OHにかえる以外は実施例12と同様の方法で化19
に示す化合物を得た。精製後の収率、λmax 、ε、およ
びTd を表2に示す。
【0093】
【化19】
【0094】[実施例15]還流器を装着した100c
cの3つ口フラスコに2−ヒドロキシ−4−(2−ヒド
ロキシエトキシ)−ベンゾフェノンの3g、THFの1
0ccを加え、撹拌しながらC715COF 5.4g
(1.1当量)を滴下した。室温で2時間反応の後、水
を加えR113を用いて抽出した。R113層を回収、
溶媒を留去して化20に示す化合物を得た。精製後の収
率、λmax 、ε、およびTd を表2に示す。
【0095】
【化20】
【0096】[実施例16]実施例15のC715CO
FのかわりにF(CO)CF(CF3 )OC48OC
F(CF3 )COFの6.2gを用いて同様に2−ヒド
ロキシ−4−(2−ヒドロキシエトキシ)−ベンゾフェ
ノンの5.8gと反応させた。R113を留去後、化2
1に示す化合物を粘稠液体として得た。精製後の収率、
λmax 、ε、およびTd を表2に示す。
【0097】
【化21】
【0098】[実施例17]滴下ロートと還流器を装着
した500ccの3つ口フラスコにマロン酸ジエチルの
33.6g、THFの50gを入れ、氷浴で冷却し、こ
こへナトリウムメトキシドの12.4gを徐々に加え
た。室温で1時間撹拌した後、C817(CH22
の114.8gをTHFの100gに溶かした溶液を滴
下ロートから一気に加えた。その後65℃へ昇温し、1
時間還流を行った。反応物を室温まで冷却後固体を濾
別、除去し、さらにTHFを留去した。得られた組成物
をR113に溶かし、シリカゲルカラムにより精製を行
って透明な液体を得た。減圧下で低沸物を除去しジエス
テル82gを得た。純度は90%であった。
【0099】200ccの3つ口フラスコにジエステル
の82g、2−ヒドロキシ−4−エトキシルベンゾフェ
ノンの59.4g、パラトルエンスルホン酸の4.3g
を入れ、120℃で10mmHgの条件下に撹拌しなが
ら20時間反応させた。その後40℃まで冷却しR11
3を300g加え、水洗した。R113層を冷却し析出
した固体を濾別し、この固体をエタノールで洗浄後乾燥
して化22に示す化合物の55.8gを得た。精製後の
収率、λmax 、ε、およびTd を表2に示す。また、化
22の化合物の1H-NMRおよび19F-NMR 法による測定結果
は下記の通りであった。
【0100】1H-NMR(TMS,CDCl3) δ(ppm):1.7 〜2.6(4
H,m),3.5(1H,m),4.2(4H,m),4.5(4H,m),6.5 〜7.5(16H,
m).
【0101】19F-NMR(CFCl3,CDCl3) δ(ppm):-81.3(3
F,t),-114.9(2F,m), -122.2〜-123.6(10F,m),-126.6(2
F,s).
【0102】
【化22】
【0103】[実施例18]実施例5においてC817
(CH22 IをC1021(CH24 Iにかえる以外
は同様の方法で化23に示す化合物を得た。精製後の収
率、λmax 、ε、およびTd を表2に示す。
【0104】
【化23】
【0105】
【表2】
【0106】[比較例1]2−ヒドロキシ−4−(2’
−ビニロキシエトキシ)−ベンゾフェノンのTdを測定
したところ、157℃で分解した。
【0107】[実施例19]実施例1で合成した含フッ
素ベンゾフェノン誘導体の結晶の1.6gを、50ml
のTHFに溶解し、これにフッ素樹脂樹脂パウダー(テ
トラフルオロエチレンとエチレンの共重合体)20gを
懸濁させた。THFを留去した後、フッ素樹脂粉末を回
収した。このフッ素樹脂粉末をフローテスター(島津製
作所製フローテスター/FT−300)中で250℃、
5分間保持し、混合物を押し出した。この操作を3回繰
り返すことにより、フッ素樹脂と含フッ素ベンゾフェノ
ン誘導体の組成物を得た。さらに250℃、200気圧
で5分間プレスすることによって厚さ50μmのフィル
ムを成形した。
【0108】成形したフィルムの外観は透明であり、4
00nm以上の可視光透過率は80%以上であり、35
0nm以下の紫外光は完全に遮光した。成形したフィル
ムの光の波長に対する光線透過率を示すグラフを図1に
示す。
【0109】[実施例20〜34]含フッ素ベンゾフェ
ノン誘導体を実施例2〜10、12〜15、17および
18で合成した化合物にかえること以外は実施例11と
同様の方法でフッ素樹脂フィルムを作成した。フィルム
の350nm、400nm、および600nmにおける
光線透過率を表3に示す。
【0110】
【表3】
【0111】[比較例2]実施例11の含フッ素ベンゾ
フェノン誘導体の代わりに4−オクチルオキシ−2−ヒ
ドロキシベンゾフェノンを用いること以外は、実施例1
1と同様の方法でフッ素樹脂フィルムを作成した。フィ
ルムは白濁し、不均一であった。
【0112】[比較例3]実施例11の含フッ素ベンゾ
フェノン誘導体の代わりにC818CH2 CH2−OC
OCH=CH2 とベンゾフェノンメタクリルモノマー
(旭電化社製「アデカスタブ LA−22」)の1/1
(mol)の共重合体を用いること以外は、実施例11
と同様の方法でフッ素樹脂フィルムを作成した。フィル
ムは白濁し、不均一であった。
【0113】[実施例35〜38]実施例20、23、
29、および34で作成したフィルムを用いて、サンシ
ャイン・ウエザオメーターによる促進耐候性試験を行っ
た。促進耐候性試験には、JIS−B−7753に記さ
れるスガ試験機(株)製サンシャイン・ウエザオメータ
ーを用いた。促進耐候性試験は、JIS−K−5400
に記される条件に従い、ブラックパネル温度を60±3
℃に保ち、1回が120分サイクル(うち、18分は降
雨)の促進耐候性試験を1000時間実施し、試験前後
のフィルムの紫外線吸収能を測定した。結果を表4に示
す。
【0114】
【表4】
【0115】
【発明の効果】本発明の含フッ素ベンゾフェノン誘導体
は、分子中にポリフルオロ炭化水素基を有するため、従
来の紫外線吸収剤よりも、耐熱性に優れ、高温成形を有
する樹脂に配合することができる。また、耐候性にも優
れることから長期の性能を持続できる。
【0116】また、本発明の含フッ素ベンゾフェノン誘
導体は、通常の樹脂だけでなく、フッ素樹脂との相溶性
にも優れるため、従来は困難であったフッ素樹脂にも白
化現象を起こすことなく配合可能であり、樹脂の透明性
を損なうことなしに紫外線吸収能を付与できる。
【0117】さらに、本発明の含フッ素ベンゾフェノン
誘導体を樹脂に添加してフィルムとした場合には、優れ
た透明フィルムとすることができる。該フィルムは、紫
外線領域の光線をほとんど完全に吸収する優れた材料で
あり、かつ耐候性にも優れている。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例19のフィルムの光の波長に対する光線
透過率を示すグラフ。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年1月28日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0088
【補正方法】変更
【補正内容】
【0088】19F-NMR(CFCl3,CDCl3) δ(ppm):-81.3(3
F,t),-114.0(2F,m), -122.3〜−124.1(14F,
m),−126.6(2F,s).
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0100
【補正方法】変更
【補正内容】
【0100】H−NMR(TMS,CDCl) δ
(ppm):1.7 〜2.6(4H,m),3.5(1H,m),4.2(4H,m),4.5(4H,
m),6.3 〜7.5(16H,m).
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 311/24 7419−4H C08J 5/18 CEW 9267−4F C08K 5/07 C08L 27/12 KGV C09K 3/00 104 A (72)発明者 籾井 達夫 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(1)、(2)、または(3)で表
    される含フッ素ベンゾフェノン誘導体。 Φ1 (−X1 −Q1 −Rf 1n ・・・(1) Φ2 −X2 −Q2 −Rf 2−Q3 −X3 −Φ3 ・・・(2) Φ4 −X4 −Qf −X5 −Φ5 ・・・(3) ただし、Φ1 は、化1で表される2−ヒドロキシベンゾ
    フェノン骨格(ただし、Yは水素原子または水酸基を示
    す。kとmは結合部位の数を示し、kは0〜3の整数、
    mは0〜3の整数を示し、1≦(k+m)≦4であ
    る。)を示す。 【化1】 nは、(k+m)と同じであり、1〜4の整数を示す。
    Φ2 、Φ3 、Φ4 、およびΦ5 は、それぞれ、化1にお
    ける(k+m)が1である2−ヒドロキシベンゾフェノ
    ン骨格を示す。X1 、X2 、X3 、X4 、およびX5
    は、それぞれ、単結合または酸素原子を示す。Q1 は、
    単結合またはX1 と炭素原子で単結合している2価の連
    結基を示す。Q2 およびQ3 は、それぞれ、単結合また
    は2価の連結基を示す。Rf 1は、炭素数が2〜22個
    で、炭素原子の一部がエーテル性酸素原子で置換されて
    いてもよい1価のポリフルオロ炭化水素基を示す。Rf 2
    は、炭素数が2〜22個で、炭素原子の一部がエーテル
    性酸素原子で置換されていてもよい2価のポリフルオロ
    炭化水素基を示す。Qf は、Q4 −Rf 1を1個以上有す
    る2価の連結基を示す(ただし、Q4 は2価の連結基を
    示し、Rf 1は上記と同じ意味を示す。)。
  2. 【請求項2】一般式(1)において、Rf 1が炭素数6〜
    14の1価のポリフルオロ炭化水素基、X1 が酸素原
    子、nが1、Q1 が−(CH2p −、−(CH2g
    −CH(OR1 )−(CH2q −、−(CH2a
    COO−(CH2b −、−(CH2c −COO−
    (CH2d −N(R3 )SO2 −、または−(CH
    2e −OCO−(CH2f −N(R4 )SO2
    (ここで、pは2〜8の整数、gは0〜8の整数、qは
    1〜8の整数、aおよびcは、0〜6の整数、b、d、
    g、およびfは、1〜8の整数を示し、R1 は水素原子
    またはアシル基、R3 およびR4 は、炭素数が1〜3個
    のアルキル基を示す。)を示す請求項1の含フッ素ベン
    ゾフェノン誘導体。
  3. 【請求項3】一般式(1)において、Rf 1が炭素−炭素
    不飽和二重結合を有する炭素数6〜14の1価のポリフ
    ルオロ炭化水素基、X1 が酸素原子、nが1、Q1 が単
    結合である請求項1の含フッ素ベンゾフェノン誘導体。
  4. 【請求項4】一般式(3)において、X4 およびX5
    酸素原子、Qf が一般式(4)で表される2価の連結基
    である請求項1の含フッ素ベンゾフェノン誘導体。 【化2】 ただし、一般式(4)のQ4 、Q5 およびQ6 は、2価
    の連結基を示す。Rf 1は炭素数が2〜22個で、炭素原
    子の一部がエーテル性酸素原子で置換されていてもよい
    1価のポリフルオロ炭化水素基を示す。
  5. 【請求項5】一般式(4)において、Q4 が2価の連結
    基、Rf 1は炭素数が2〜22個で、炭素原子の一部がエ
    ーテル性酸素原子で置換されていてもよい1価のポリフ
    ルオロ炭化水素基、Q5 およびQ6 が、−(CH2p
    −、−(CH2g −CH(OR1 )−(CH2q
    −、または−(CH2a −COO−(CH2b
    (ここで、pは1、gは0〜1の整数、qは1〜2の整
    数、aは0〜1の整数、bは1〜6の整数、R1 は水素
    原子を示す。)である請求項4の含フッ素ベンゾフェノ
    ン誘導体。
  6. 【請求項6】請求項1〜5のいずれか1項の含フッ素ベ
    ンゾフェノン誘導体からなる紫外線吸収剤。
  7. 【請求項7】請求項1〜5のいずれか1項の含フッ素ベ
    ンゾフェノン誘導体の有効量を含有する紫外線吸収能を
    有する樹脂組成物。
  8. 【請求項8】樹脂がフッ素樹脂である請求項7の樹脂組
    成物。
  9. 【請求項9】請求項7または8の樹脂組成物の成形体。
  10. 【請求項10】成形体が透明フィルムである請求項9の
    成形体。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004175983A (ja) * 2002-11-28 2004-06-24 Mitsubishi Plastics Ind Ltd 剥離性フィルム
CN109265941A (zh) * 2018-08-09 2019-01-25 丹阳东润保鲜用品实业有限公司 一种半透明耐热聚乳酸复合材料及其制备方法

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU3208097A (en) * 1996-05-20 1997-12-09 First Chemical Corporation Photoactive compounds for use with narrow wavelength band ultraviolet (uv) curing systems
ES2192688T3 (es) 1996-07-18 2003-10-16 Ciba Sc Holding Ag Derivados de benzofenona polioxialquilen sustituidos y puenteados como absorbedores de uv.
US6479706B1 (en) 1997-02-04 2002-11-12 Albemarle Corporation Aminobenzophenones and photopolymerizable compositions including the same
US6059991A (en) * 1997-12-12 2000-05-09 Troy Technology Corporation, Inc. Stabilized composition containing halopropynyl compounds
US5938825A (en) * 1998-05-21 1999-08-17 Troy Technology Corporation Inc. Stabilized antimicrobial compositions containing halopropynyl compounds
US6472424B1 (en) 2000-06-07 2002-10-29 Troy Technology Corporation, Inc. Stabilized antimicrobial compositions containing halopropynyl compounds and benzylidene camphors
CN1481392A (zh) * 2000-12-13 2004-03-10 �������⻯ѧƷ�ع����޹�˾ 表面活性光引发剂
EP1630600A3 (en) * 2004-07-29 2006-03-22 Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. Hot melt composition and method involving forming a masking pattern
EP3722384A1 (en) * 2012-06-29 2020-10-14 Agc Inc. Powder coating composition, process for producing cured film and coated article
US9365476B2 (en) 2012-11-14 2016-06-14 E I Du Pont De Nemours And Company Aryl compounds modified with perfluorovinyl ethers
US9145356B2 (en) 2012-11-14 2015-09-29 E I Du Pont De Nemours And Company Perfluoropolyvinyl modified aryl intermediates and monomers
US8962879B2 (en) 2012-11-14 2015-02-24 E I Du Pont De Nemours And Company Perfluoropolyvinyl modified aryl intermediates/monomers
US9193702B2 (en) 2013-10-31 2015-11-24 E I Du Pont De Nemours And Company Fluorinated aryl epoxide compounds

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2976259A (en) * 1956-09-05 1961-03-21 American Cyanamid Co 2, 2'-dihydroxy-4-alkoxybenzophenones as ultraviolet light absorbers for resins
US3086988A (en) * 1961-07-12 1963-04-23 Dow Chemical Co 2-hydroxy-4-(2-hydroxyalkoxy) benzophenones and their lower alkanoic acid esters
US3291837A (en) * 1963-01-04 1966-12-13 Nat Starch Chem Corp Novel benzophenone ethers
US3387035A (en) * 1963-11-04 1968-06-04 Air Force Usa Fluorine substituted benzophenone ultraveiolet absorbers
US3346612A (en) * 1964-07-02 1967-10-10 Minnesota Mining & Mfg Perfluoroalkane sulfonate esters
US3387635A (en) * 1965-04-28 1968-06-11 Tennessee Valley Authority Fluid metering and dispensing apparatus
CH528101A (de) * 1970-03-11 1972-09-15 Ciba Geigy Ag Verwendung von 2-Hydroxybenzophenonen als Stabilisierungsmittel gegen Ultraviolettstrahlung in farbphotographischem Material
DE2058823A1 (de) * 1970-11-30 1972-05-31 Dynamit Nobel Ag Stabilisierung fluorhaltiger Vinylpolymerisate
DE2350180A1 (de) * 1973-10-05 1975-04-24 Chemicke Z Juraja Dimitrova 2-hydroxybenzophenonderivate, verfahren zur herstellung derselben und deren verwendung
NL7704101A (nl) * 1976-04-17 1977-10-19 Bayer Ag Werkwijze voor het bereiden van hydroxyketonen.
US5030701A (en) * 1987-12-31 1991-07-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fluorine- and chromophore-containing polymer
US5202359A (en) * 1990-05-17 1993-04-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photoinitiators that are soluble in highly fluorinated monomers
EP0616617B1 (en) * 1991-12-11 1997-02-19 AlliedSignal Inc. Uv curing of fluorinated monomers

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004175983A (ja) * 2002-11-28 2004-06-24 Mitsubishi Plastics Ind Ltd 剥離性フィルム
CN109265941A (zh) * 2018-08-09 2019-01-25 丹阳东润保鲜用品实业有限公司 一种半透明耐热聚乳酸复合材料及其制备方法
CN109265941B (zh) * 2018-08-09 2021-07-23 束建军 一种半透明耐热聚乳酸复合材料及其制备方法

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EP0610861B1 (en) 1997-05-28
CA2115001A1 (en) 1994-08-10
DE69403353T2 (de) 1997-09-25

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