JPH0786851A - 高周波集積回路 - Google Patents

高周波集積回路

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JPH0786851A
JPH0786851A JP5225674A JP22567493A JPH0786851A JP H0786851 A JPH0786851 A JP H0786851A JP 5225674 A JP5225674 A JP 5225674A JP 22567493 A JP22567493 A JP 22567493A JP H0786851 A JPH0786851 A JP H0786851A
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JP
Japan
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high frequency
impedance matching
integrated circuit
variable capacitance
circuit
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JP5225674A
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English (en)
Inventor
Yoshinobu Kadowaki
好伸 門脇
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
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    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
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  • Amplifiers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高周波集積回路のインピーダンス整合を電気
的に調整し、特性「ばらつき」を補償した高性能な高周
波集積回路を得る。 【構成】 能動素子1(FET),および該能動素子1
のインピーダンス整合用の回路7a,7bが形成されて
なる集積回路基板8上に、可変容量素子30a,30b
を形成し、可変容量素子30a,30bに印加する電圧
を調整して容量を可変し、該可変容量素子30a,30
bを高周波集積回路のインピーダンス整合回路7c,7
dに付加することで、インピーダンス整合の調整を実現
する。 【効果】 高周波集積回路の高周波特性の「ばらつき」
の補償と、高周波特性の最適化が可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、高周波集積回路に関
し、特に高周波帯の集積回路のインピーダンス整合回路
の構成の改良を図ったものに関するものである。
【0002】
【従来の技術】以下、高周波集積回路として、例えば1
GHz以上の高周波信号を増幅する、モノリシックマイ
クロ波集積回路増幅器(以下、MMIC増幅器と称す)
を例にとって説明する。図7は例えばGaAs基板上に
形成された従来のMMIC増幅器の回路構成を示す等価
回路図、図8は従来のMMIC増幅器のチップのパター
ンの一例を示す平面図である。
【0003】図7において、1はソースが接地された、
能動素子としての高周波トランジスタ、4は高周波トラ
ンジスタ1によって増幅すべき高周波信号が入力される
入力信号端子、7aは入力信号端子4と高周波トランジ
スタ1のゲートとの間に接続された、高周波トランジス
タ1のインピーダンス整合回路、2aおよび3aは入力
信号端子1とグランドとの間に互いに直列に接続された
インダクタおよびコンデンサ、6aはこのインダクタ2
aとコンデンサ3aとの接続点に接続された高周波トラ
ンジスタ1の直流バイアス印加端子、5はトランジスタ
1によって増幅された高周波信号が出力される出力信号
端子、7bは高周波トランジスタ1のドレインと出力信
号端子5との間に接続された、高周波トランジスタ1の
インピーダンス整合回路、2bおよび3bは出力信号端
子5とグランドとの間に互いに直列に接続されたインダ
クタおよびコンデンサ、6bはこのインダクタ2bとコ
ンデンサ3bとの接続点に接続された高周波トランジス
タ1の直流バイアス印加端子である。
【0004】そして、図8に示すように、上記各素子
1,2a,2b,3a,3b、各信号端子4,5,6
a,6b、および整合回路7a,7bは1つの集積回路
基板8上に形成されており、各回路要素の間を接続する
配線パターンは例えばAu系の配線金属により形成され
ている。
【0005】次に動作について説明する。入力信号端子
4に印加された信号は、高周波トランジスタ1により増
幅され、出力信号端子5より取り出される。ここで、高
周波トランジスタ1を動作させるための直流バイアス
は、直流バイアス印加端子6a,6bより供給される。
コンデンサ3aおよび3b、およびインダクタ2aおよ
び2bは、高周波トランジスタ1の直流バイアス印加回
路として作用し、直流成分のみを通し、高周波信号成分
を阻止する。そして、高周波トランジスタ1の入,出力
インピーダンスを所定の特性インピーダンスに整合させ
るため、インピーダンス整合回路7が用いられる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来のMMIC増幅器
は以上のように構成されているので、インピーダンス整
合回路の特性を調整することが不可能である。このた
め、高周波トランジスタの性能に「ばらつき」があると
所望のインピーダンス整合特性を得ることができず、目
的とするところの利得特性が得られないなどの問題点が
あった。
【0007】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、インピーダンス整合回路の調整
が可能な高周波集積回路を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明に係る高周波集
積回路は、半導体基板上に、能動素子と、この能動素子
のインピーダンス整合を行なう高周波回路と、この高周
波回路のインピーダンス整合の調整を行なうための可変
容量素子とを形成するようにしたものである。
【0009】また、この発明に係る高周波集積回路は、
半導体基板上に、能動素子と、この能動素子のインピー
ダンス整合を行なう高周波回路とを形成し、上記半導体
基板とは別の半導体基板上に、上記高周波回路のインピ
ーダンス整合の調整を行なうための可変容量素子を形成
するようにしたものである。
【0010】さらに、この発明に係る高周波集積回路
は、半導体基板上に、能動素子と、この能動素子のイン
ピーダンス整合を行なう高周波回路と、この高周波回路
のインピーダンス整合の調整を行なうための可変容量素
子と、この可変容量素子と相互に並列に接続された固定
容量素子とを形成するようにしたものである。
【0011】
【作用】この発明においては、能動素子,および該能動
素子のインピーダンス整合用の高周波回路が形成されて
なる集積回路基板上に、可変容量素子を形成し、これを
インピーダンス整合回路と電気的に接続し、インピーダ
ンス整合回路の特性を、可変容量素子の容量値を調整す
ることにより変化,調整するようにしたので、可変容量
素子の容量値を電気的に調整することで、インピーダン
ス整合回路の特性を変化させ、高周波トランジスタの特
性「ばらつき」を補正するから、高周波集積回路の特性
が均一,かつ良好なものとなる。
【0012】また、この発明においては、能動素子,お
よび該能動素子のインピーダンス整合用の高周波回路が
形成されてなる集積回路基板とは別の半導体基板上に、
可変容量素子を形成し、これをインピーダンス整合回路
と電気的に接続し、インピーダンス整合回路の特性を、
可変容量素子の容量値を調整することにより変化,調整
するようにしたので、可変容量素子の容量値を電気的に
調整することで、高周波回路の特性を変化させ、高周波
トランジスタの特性「ばらつき」を補正するから、高周
波集積回路の特性が均一,かつ良好なものとなり、かつ
本来の集積回路基板のサイズが縮小される。
【0013】さらに、この発明においては、能動素子,
および該能動素子のインピーダンス整合用の高周波回路
が形成されてなる集積回路基板上に、可変容量素子およ
びこれに並列に固定容量素子を形成し、これをインピー
ダンス整合回路と電気的に接続し、インピーダンス整合
回路の特性を、可変容量素子の容量値を調整することに
より変化,調整するようにしたので、可変容量素子の容
量値を電気的に調整することで、固定容量素子の容量値
の微調整が可能となり、高周波回路の特性を変化させ、
高周波トランジスタの特性「ばらつき」を補正するか
ら、高周波集積回路の特性が均一,かつ良好なものとな
る。
【0014】
【実施例】実施例1.以下、この発明の一実施例を図に
ついて説明する。図1はこの発明の第1の実施例による
MMIC増幅器の回路構成を示す等価回路図、図2は図
1に示したMMIC増幅器のチップのパターンを示す平
面図である。図1において、図7と同一符号は同一のも
のであり、1はソースが接地された、能動素子としての
高周波トランジスタ、4は高周波トランジスタ1によっ
て増幅すべき高周波信号が入力される入力信号端子、7
aは入力信号端子4と高周波トランジスタ1のゲートと
の間に接続された、高周波トランジスタ1のインピーダ
ンス整合回路、2aおよび3aは入力信号端子1とグラ
ンドとの間に互いに直列に接続されたインダクタおよび
コンデンサ、6aはこのインダクタ2aとコンデンサ3
aとの接続点に接続された高周波トランジスタ1の直流
バイアス印加端子、5はトランジスタ1によって増幅さ
れた高周波信号が出力される出力信号端子、7bは高周
波トランジスタ1のドレインと出力信号端子5との間に
接続された、高周波トランジスタ1のインピーダンス整
合回路、2bおよび3bは出力信号端子5とグランドと
の間に互いに直列に接続されたインダクタおよびコンデ
ンサ、6bはこのインダクタ2bとコンデンサ3bとの
接続点に接続された高周波トランジスタ1の直流バイア
ス印加端子である。また、7c,7dおよび30a,3
0bおよび31a,31bはこの第1の実施例で新たに
設けられた構成要素である。
【0015】7cおよび30aはインピーダンス整合回
路7aと高周波トランジスタ1のゲートとの接続点と、
グランドとの間に相互に直列に接続されたインピーダン
ス整合回路および可変容量素子、31aはインピーダン
ス整合回路7cと可変容量素子30aとの接続点に接続
された電圧供給端子であり、可変容量素子30aは、電
圧供給端子31aによってその印加電圧を可変すること
で、その容量値の調整が可能となっている。
【0016】また、7dおよび30bは高周波トランジ
スタ1のドレインとインピーダンス整合回路7bとの接
続点と、グランドとの間に相互に直列に接続されたイン
ピーダンス整合回路および可変容量素子、31bはイン
ピーダンス整合回路7dと可変容量素子30bとの接続
点に接続された電圧供給端子であり、可変容量素子30
bは、電圧供給端子31bによってその印加電圧を可変
することで、その容量値の調整が可能となっている。
【0017】そして図2に示すように、上記各素子1,
2a,2b,3a,3b,30a,30b、各信号端子
4,5,6a,6b,31a,31b、および整合回路
7a,7b,7c,7dは1つの集積回路基板8上に形
成されており、各回路要素の間を接続する配線パターン
は例えばAu系の配線金属により形成されている。
【0018】次に動作について説明する。入力信号端子
4に印加された信号は、高周波トランジスタ1により増
幅され、出力信号端子5より取り出される。ここで、高
周波トランジスタ1を動作させるための直流バイアス
は、直流バイアス印加端子6a,6bより供給される。
コンデンサ3aおよび3b、およびインダクタ2aおよ
び2bは、高周波トランジスタ1の直流バイアス印加回
路として作用し、直流成分のみを通し、高周波信号成分
を阻止する。高周波トランジスタ1の入,出力インピー
ダンスを所定の特性インピーダンスに整合させるため、
インピーダンス整合回路7a,7bが用いられる。
【0019】以上の動作は従来の装置と同様であるが、
本第1の実施例では、高周波トランジスタ1の性能に
「ばらつき」があり、所望のインピーダンス整合特性が
得られない場合の対策として、高周波トランジスタ1の
入,出力インピーダンスであるところのインダクタ2
a,2bを所定の特性インピーダンスに整合させるため
に、インピーダンス整合回路7c,7dと可変容量素子
30a,30bとを設け、該可変容量素子30a,30
bに印加される電圧を調整することによりインピーダン
ス整合を可変できるようにしている。したがって、高周
波トランジスタ1の特性に「ばらつき」がある場合にお
いても、可変容量素子30a,30bの電圧供給端子3
1a,31bに印加する電圧を調整して、可変容量素子
30a,30bの容量を例えば数十pF変化させること
により、インピーダンス整合を調整して、所望の高周波
特性を得ることができる。
【0020】実施例2.図3はこの発明の第2の実施例
による高周波集積回路を示す等価回路図、図4はそのチ
ップのパターンを示す平面図である。図3において、3
0は可変容量素子であり、この第2の実施例では、図2
と同様のパターンにより形成された、図1の7c,7d
に相当するインピーダンス整合回路7e,7fの他端に
可変容量素子を設けるのではなく、集積回路基板8上に
他の回路要素とは独立にこれを設けるようにしている。
また、70は集積回路基板8とは別の基板上に形成され
た外部インピーダンス整合回路、31はこの外部インピ
ーダンス整合回路70が形成された基板上に設けられた
電圧供給端子、5aは図1の5に相当する出力信号端
子、5bはこの集積回路基板8の出力信号端子5aから
の信号が入力される入力信号端子であり、外部インピー
ダンス整合回路70の一端が接続されている。5cは外
部インピーダンス整合回路70によってインピーダンス
整合がとられた信号が外部に出力される出力信号端子、
9aは可変容量素子30の非グランド側に接続された端
子、9bは外部インピーダンス整合回路70の他端が接
続された端子である。
【0021】次に動作について説明する。入力信号端子
4に印加された信号は、高周波トランジスタ1により増
幅され、出力信号端子5aより外部に取り出され、外部
インピーダンス整合回路70が形成された基板の端子5
b,5cを介して外部に出力される。ここで、高周波ト
ランジスタ1を動作させるための直流バイアスは、直流
バイアス印加端子6a,6bより供給される。コンデン
サ3aおよび3b、およびインダクタ2aおよび2b
は、高周波トランジスタ1の直流バイアス印加回路とし
て作用し、直流成分のみを通し、高周波信号成分を阻止
する。高周波トランジスタ1の入,出力インピーダンス
を所定の特性インピーダンスに整合させるため、インピ
ーダンス整合回路7a,7bが用いられる。
【0022】以上の動作は、従来装置とほぼ同様である
が、本第2の実施例では、高周波トランジスタ1の性能
に「ばらつき」があり、所望のインピーダンス整合特性
が得られない場合の対策として、集積回路基板8上に可
変容量素子30を単独に形成し、これを集積回路基板8
外部のインピーダンス整合回路70と電気的に接続し、
上記第1の実施例と同様に、電圧供給端子31を介して
可変容量素子30に印加される電圧を調整することによ
りインピーダンス整合を可変できるようにしている。し
たがって、高周波トランジスタ1の特性に「ばらつき」
がある場合においても、可変容量素子30の電圧供給端
子31に印加する電圧を調整することにより、可変容量
素子30の容量を例えば数十pF変化させることによ
り、インピーダンス整合を調整して、所望の高周波特性
を得ることができる。
【0023】この第2の実施例による高周波集積回路で
は、外部のインピーダンス整合回路を用いるために、第
1の実施例に比べ半導体基板上に形成されるインピーダ
ンス整合回路の面積を低減することができ、MMICチ
ップの面積の増加を最小限に止めることができ、これに
よるコストダウンを行うことができる効果がある。
【0024】実施例3.図5はこの発明の第3の実施例
による高周波集積回路を示す等価回路図、図6はそのチ
ップのパターンを示す平面図である。図5において、3
c,3dは集積回路基板8上に、可変容量素子30a,
30bと並列に接続されるように形成されたコンデンサ
である。
【0025】この第3の実施例では、コンデンサ3c,
3dと並列に、該半導体基板上にて上記可変容量素子3
0a,30bが接続されており、電圧供給端子31c,
31dを介して可変容量素子30a,30bに印加され
る電圧を調整することにより、調整可能な容量値にコン
デンサ3の容量値を加算できるように構成してある。
【0026】この第3の実施例による高周波集積回路で
は、高周波トランジスタ1の特性「ばらつき」を補正す
る際に必要となる容量値が可変容量素子30a,30b
の変化幅内で達成できない場合に、半導体基板上にこの
可変容量素子30a,30bと並列に接続されるように
形成されたコンデンサ3c,3dの容量値をオフセット
として加えることにより、高周波トランジスタ1の特性
「ばらつき」を必要に応じて補正することができる。
【0027】実施例4.なお、上記図3に示された第3
の実施例においても、可変容量素子30に並列に固定の
コンデンサを接続するようにしてもよい。この場合、高
周波トランジスタ1の特性「ばらつき」を補正する際に
必要となる容量値が可変容量素子30の変化幅内で達成
できない場合に、集積回路基板8上に可変容量素子30
に並列に接続されるように形成された固定のコンデンサ
の容量値をオフセットとして加えることにより、高周波
トランジスタ1の特性「ばらつき」を補正することがで
きるとともに、第1の実施例に比べ半導体基板上に形成
されるインピーダンス整合回路の面積を低減することが
でき、MMICチップの面積の増加を最小限に止めるこ
とができ、これによるコストダウンを行うことができ
る。
【0028】また、上記第1ないし第3の実施例ではモ
ノリシックマイクロ波集積回路増幅器を例にとって説明
したが、マイクロ波帯の高周波発振器やミキサ等にも応
用することができ、上記第1ないし第3の各実施例と同
様の効果を得ることができる。
【0029】
【発明の効果】以上のように、この発明に係る高周波集
積回路によれば、半導体基板上に、能動素子と、この能
動素子のインピーダンス整合を行なう高周波回路と、こ
の高周波回路のインピーダンス整合の調整を行なうため
の可変容量素子とを形成するようにしたので、可変容量
素子によりインピーダンス整合の調整を行うことがで
き、これにより高周波特性の「ばらつき」が少なく、安
定した特性が得られる高周波集積回路を実現できる効果
がある。
【0030】また、この発明に係る高周波集積回路によ
れば、半導体基板上に、能動素子と、この能動素子のイ
ンピーダンス整合を行なう高周波回路とを形成し、上記
半導体基板とは別の半導体基板上に、上記高周波回路の
インピーダンス整合の調整を行なうための可変容量素子
を形成するようにしたので、能動素子が形成された半導
体基板の面積の増加を最小限に抑えつつ可変容量素子に
よりインピーダンス整合の調整を行うことができ、これ
により高周波特性の「ばらつき」が少なく、安定した特
性が得られる高周波集積回路を安価に実現できる効果が
ある。
【0031】さらに、この発明に係る高周波集積回路
は、半導体基板上に、能動素子と、この能動素子のイン
ピーダンス整合を行なう高周波回路と、この高周波回路
のインピーダンス整合の調整を行なうための可変容量素
子と、この可変容量素子と相互に並列に接続された固定
容量素子とを形成するようにしたので、可変容量素子の
みの容量でカバーできない容量値によりインピーダンス
整合の調整を行うことができ、これにより高周波特性の
「ばらつき」が少なく、安定した特性が得られる高周波
集積回路を実現できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施例による高周波集積回路
を示す等価回路図である。
【図2】図1の高周波集積回路のチップのパターンを示
す平面図である。
【図3】この発明の第2の実施例による高周波集積回路
を示す等価回路図である。
【図4】図3の高周波集積回路のチップのパターンを示
す平面図である。
【図5】この発明の第3の実施例による高周波集積回路
を示す等価回路図である。
【図6】図5の高周波集積回路のチップのパターンを示
す平面図である。
【図7】従来の高周波集積回路のチップのパターンを示
す等価回路図である。
【図8】従来の高周波集積回路のチップのパターンを示
す平面図である。
【符号の説明】
1 高周波トランジスタ 2a,2b インダクタ 3a,3b コンデンサ 4 入力信号端子 5 出力信号端子 6 直流バイアス印加端子 7a,7b インピーダンス整合回路 8 集積回路基板 30,30a,30b 可変容量素子 31a,31b 可変容量素子の電圧供給端子 70 外部インピーダンス整合回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/06 H03F 3/195 7436−5J

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高周波集積回路において、 半導体基板上に形成された能動素子と、 上記半導体基板上に形成され、上記能動素子のインピー
    ダンス整合を行なう高周波回路と、 上記半導体基板上に形成され、上記高周波回路のインピ
    ーダンス整合の調整を行なうための可変容量素子とを備
    えたことを特徴とする高周波集積回路。
  2. 【請求項2】 高周波集積回路において、 半導体基板上に形成された能動素子と、 上記半導体基板上に形成され、上記能動素子のインピー
    ダンス整合を行なう高周波回路と、 上記半導体基板とは別の半導体基板上に形成され、上記
    高周波回路のインピーダンス整合の調整を行なうための
    可変容量素子とを備えたことを特徴とする高周波集積回
    路。
  3. 【請求項3】 高周波集積回路において、 半導体基板上に形成された能動素子と、 上記半導体基板上に形成され、上記能動素子のインピー
    ダンス整合を行なう高周波回路と、 上記半導体基板上に形成され、上記高周波回路のインピ
    ーダンス整合の調整を行なうための可変容量素子と、 上記半導体基板上に形成され、上記可変容量素子と相互
    に並列に接続された固定容量素子とを備えたことを特徴
    とする高周波集積回路。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002299901A (ja) * 2001-03-29 2002-10-11 Denso Corp 高周波モジュール
JP2002325021A (ja) * 2001-04-25 2002-11-08 Mitsubishi Electric Corp マイクロ波広帯域増幅器
KR20030096861A (ko) * 2002-06-18 2003-12-31 엘지전자 주식회사 전압제어를 통한 주파수 변경 가능한 고주파 증폭기
JP2006148424A (ja) * 2004-11-18 2006-06-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電力増幅器、電力増幅装置及び歪補償回路
JP2006202987A (ja) * 2005-01-20 2006-08-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
US8405467B2 (en) 2007-11-27 2013-03-26 Qualcomm Incorporated Methods and apparatuses for inductor tuning in radio frequency integrated circuits
JP2013522955A (ja) * 2010-04-07 2013-06-13 ザイリンクス インコーポレイテッド 積層二重インダクタ構造
WO2021206176A1 (ja) * 2020-04-10 2021-10-14 株式会社村田製作所 電力増幅装置

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002299901A (ja) * 2001-03-29 2002-10-11 Denso Corp 高周波モジュール
JP4547823B2 (ja) * 2001-03-29 2010-09-22 株式会社デンソー 高周波モジュール
JP2002325021A (ja) * 2001-04-25 2002-11-08 Mitsubishi Electric Corp マイクロ波広帯域増幅器
KR20030096861A (ko) * 2002-06-18 2003-12-31 엘지전자 주식회사 전압제어를 통한 주파수 변경 가능한 고주파 증폭기
JP2006148424A (ja) * 2004-11-18 2006-06-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電力増幅器、電力増幅装置及び歪補償回路
JP4679883B2 (ja) * 2004-11-18 2011-05-11 パナソニック株式会社 電力増幅器、電力増幅装置及び歪補償回路
JP2006202987A (ja) * 2005-01-20 2006-08-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
US8405467B2 (en) 2007-11-27 2013-03-26 Qualcomm Incorporated Methods and apparatuses for inductor tuning in radio frequency integrated circuits
JP2013522955A (ja) * 2010-04-07 2013-06-13 ザイリンクス インコーポレイテッド 積層二重インダクタ構造
WO2021206176A1 (ja) * 2020-04-10 2021-10-14 株式会社村田製作所 電力増幅装置
US11955931B2 (en) 2020-04-10 2024-04-09 Murata Manufacturing Co., Ltd. Power amplifier unit

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