JPH0776544A - 多官能ビニルエーテル化合物 - Google Patents
多官能ビニルエーテル化合物Info
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- JPH0776544A JPH0776544A JP22090493A JP22090493A JPH0776544A JP H0776544 A JPH0776544 A JP H0776544A JP 22090493 A JP22090493 A JP 22090493A JP 22090493 A JP22090493 A JP 22090493A JP H0776544 A JPH0776544 A JP H0776544A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】速硬化性を有し、酸素による重合阻害を回避し
良好な表面硬化特性を有し、さらに、分子中のフェノー
ル性水酸基とビニルオキシアルキルオキシ基のバランス
を調整することにより、希アルカリ水への溶解性をも付
与し得る（このことは特にネガティブ型フォトレジスト
に使用する場合必要である）多官能ビニルエーテル化合
物を提供すること。 【構成】一般式（Ｉ） 【化１】 〔Ｒ1 はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、或いは、シ
クロアルキル基を示し、かつＲ1 は同一環内でまたは異
なる環内で複数存在する場合は互いに同一であっても異
なっていてもよい。Ｑは、それぞれ独立に、−ＯＨまた
は、一般式（ＩＩ）−ＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2（式中、Ｒ
は、１ないし１２の炭素原子を含むアルキレン基を示
す。）で表される基を示し、（−ＯＨ）／（−ＯＲＯＣ
Ｈ＝ＣＨ2 ）＝０／１００〜９０／１０（モル比）であ
る。ｎは０〜４の整数を示す。〕で表される多官能ビニ
ルエーテル化合物。
良好な表面硬化特性を有し、さらに、分子中のフェノー
ル性水酸基とビニルオキシアルキルオキシ基のバランス
を調整することにより、希アルカリ水への溶解性をも付
与し得る（このことは特にネガティブ型フォトレジスト
に使用する場合必要である）多官能ビニルエーテル化合
物を提供すること。 【構成】一般式（Ｉ） 【化１】 〔Ｒ1 はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、或いは、シ
クロアルキル基を示し、かつＲ1 は同一環内でまたは異
なる環内で複数存在する場合は互いに同一であっても異
なっていてもよい。Ｑは、それぞれ独立に、−ＯＨまた
は、一般式（ＩＩ）−ＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2（式中、Ｒ
は、１ないし１２の炭素原子を含むアルキレン基を示
す。）で表される基を示し、（−ＯＨ）／（−ＯＲＯＣ
Ｈ＝ＣＨ2 ）＝０／１００〜９０／１０（モル比）であ
る。ｎは０〜４の整数を示す。〕で表される多官能ビニ
ルエーテル化合物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な多官能ビニルエ
ーテル化合物に関するものである。本化合物は、ルイス
酸、プロトン酸等の光カチオン重合開始剤の添加により
光硬化が可能であり、産業上の利用分野としては、例え
ばネガティブ型フォトレジスト、塗料、インキ等の感光
性樹脂としての利用があげられる。
ーテル化合物に関するものである。本化合物は、ルイス
酸、プロトン酸等の光カチオン重合開始剤の添加により
光硬化が可能であり、産業上の利用分野としては、例え
ばネガティブ型フォトレジスト、塗料、インキ等の感光
性樹脂としての利用があげられる。
【０００２】
【従来の技術】光硬化性樹脂として、実用化されている
化合物としては、エポキシアクリレート、ウレタンアク
リレート等に代表されるアクリレート樹脂が公知であ
る。
化合物としては、エポキシアクリレート、ウレタンアク
リレート等に代表されるアクリレート樹脂が公知であ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これら従来の
アクリレート樹脂は、硬化時に酸素による重合阻害が避
けられず、硬化膜表面の硬化性が著しく悪いこと、ま
た、酸素による重合阻害の見られないエポキシ基の光カ
チオン重合を硬化反応に利用した感光性樹脂について
は、硬化速度が非常に遅いという別の問題点を有してお
り、いずれも感光性樹脂としての要求特性は十分に満足
されていない。本発明の目的は、従来のアクリレート樹
脂に見られる上記の欠点を改良した、すなわち、速硬化
性を有し、酸素による重合阻害を回避し良好な表面硬化
特性を有し、さらに、分子中のフェノール性水酸基とビ
ニルオキシアルキルオキシ基のバランスを調整すること
により、希アルカリ水への溶解性をも付与し得る多官能
ビニルエーテル化合物を提供することである。希アルカ
リ水への溶解性をもつことは、特にネガティブ型フォト
レジストに使用する場合必要である。
アクリレート樹脂は、硬化時に酸素による重合阻害が避
けられず、硬化膜表面の硬化性が著しく悪いこと、ま
た、酸素による重合阻害の見られないエポキシ基の光カ
チオン重合を硬化反応に利用した感光性樹脂について
は、硬化速度が非常に遅いという別の問題点を有してお
り、いずれも感光性樹脂としての要求特性は十分に満足
されていない。本発明の目的は、従来のアクリレート樹
脂に見られる上記の欠点を改良した、すなわち、速硬化
性を有し、酸素による重合阻害を回避し良好な表面硬化
特性を有し、さらに、分子中のフェノール性水酸基とビ
ニルオキシアルキルオキシ基のバランスを調整すること
により、希アルカリ水への溶解性をも付与し得る多官能
ビニルエーテル化合物を提供することである。希アルカ
リ水への溶解性をもつことは、特にネガティブ型フォト
レジストに使用する場合必要である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、特定の構造を有す
る化合物が、上記目的を満足することを見いだし、本発
明を完成させるに至った。すなわち、本発明は次のとお
りである。 一般式（Ｉ）
を解決するために鋭意検討した結果、特定の構造を有す
る化合物が、上記目的を満足することを見いだし、本発
明を完成させるに至った。すなわち、本発明は次のとお
りである。 一般式（Ｉ）
【０００５】
【化２】 〔Ｒ1 はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、或いは、シ
クロアルキル基を示し、かつＲ1 は同一環内でまたは異
なる環内で複数存在する場合は互いに同一であっても異
なっていてもよい。Ｑは、それぞれ独立に、−ＯＨまた
は、一般式（ＩＩ）−ＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2（式中、Ｒ
は、１ないし１２の炭素原子を含むアルキレン基を示
す。）で表される基を示し、（−ＯＨ）／（−ＯＲＯＣ
Ｈ＝ＣＨ2 ）＝０／１００〜９０／１０（モル比）であ
る。ｎは０〜４の整数を示す。〕で表される多官能ビニ
ルエーテル化合物。
ルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、或いは、シ
クロアルキル基を示し、かつＲ1 は同一環内でまたは異
なる環内で複数存在する場合は互いに同一であっても異
なっていてもよい。Ｑは、それぞれ独立に、−ＯＨまた
は、一般式（ＩＩ）−ＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2（式中、Ｒ
は、１ないし１２の炭素原子を含むアルキレン基を示
す。）で表される基を示し、（−ＯＨ）／（−ＯＲＯＣ
Ｈ＝ＣＨ2 ）＝０／１００〜９０／１０（モル比）であ
る。ｎは０〜４の整数を示す。〕で表される多官能ビニ
ルエーテル化合物。
【０００６】以下に本発明を詳細に説明する。一般式
（Ｉ）において、置換基Ｒ1 としては、フッ素、塩素及
び臭素等のハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
ノニル基及びデシル基等の炭素数１０以下の直鎖または
分岐鎖のアルキル基；フェニル基、トリル基及びナフチ
ル基等の炭素数１５以下のアリール基；ベンジル基、フ
ェネチル基及びベンズヒドリル基等のアラルキル基；メ
トキシ基、エトキシ基及びプロポキシ基等のアルコキシ
基；フェノキシ基、ナフトエ基及びアンスロキシ基等の
アリーロキシ基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基
等の炭素数１０以下のシクロアルキル基等が例示され
る。
（Ｉ）において、置換基Ｒ1 としては、フッ素、塩素及
び臭素等のハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
ノニル基及びデシル基等の炭素数１０以下の直鎖または
分岐鎖のアルキル基；フェニル基、トリル基及びナフチ
ル基等の炭素数１５以下のアリール基；ベンジル基、フ
ェネチル基及びベンズヒドリル基等のアラルキル基；メ
トキシ基、エトキシ基及びプロポキシ基等のアルコキシ
基；フェノキシ基、ナフトエ基及びアンスロキシ基等の
アリーロキシ基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基
等の炭素数１０以下のシクロアルキル基等が例示され
る。
【０００７】Ｑは、それぞれ独立に、水酸基または一般
式（ＩＩ）で表されるビニルオキシアルキルオキシ基で
あり、同式中のアルキレン基Ｒとしては、メチレン、ジ
メチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ヘキサメチ
レン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメチレ
ン、デカメチレン、ドデカメチレンまたはこれらの分岐
を有する異性体等が例示される。水酸基／ビニルオキシ
アルキルオキシ基の比は、分子全体の平均値として０／
１００〜９０／１０（モル比）の範囲で任意に設定でき
る。一般式（Ｉ）で表される化合物の一般的な合成方法
としては、一般式（ＩＩＩ）
式（ＩＩ）で表されるビニルオキシアルキルオキシ基で
あり、同式中のアルキレン基Ｒとしては、メチレン、ジ
メチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ヘキサメチ
レン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメチレ
ン、デカメチレン、ドデカメチレンまたはこれらの分岐
を有する異性体等が例示される。水酸基／ビニルオキシ
アルキルオキシ基の比は、分子全体の平均値として０／
１００〜９０／１０（モル比）の範囲で任意に設定でき
る。一般式（Ｉ）で表される化合物の一般的な合成方法
としては、一般式（ＩＩＩ）
【０００８】
【化３】 （式中、Ｒ1 及びｎの定義は、一般式（Ｉ）のそれと同
じである。）で表される多価フェノール化合物（Ｓ）
と、一般式：ＸＲＯＣＨ＝ＣＨ2 （式中、Ｘはハロゲン
原子、Ｒは１ないし１２の炭素原子を含むアルキレン基
を示す。）で表されるハロアルキルビニルエーテル
（Ｔ）を接触させて得ることができる。
じである。）で表される多価フェノール化合物（Ｓ）
と、一般式：ＸＲＯＣＨ＝ＣＨ2 （式中、Ｘはハロゲン
原子、Ｒは１ないし１２の炭素原子を含むアルキレン基
を示す。）で表されるハロアルキルビニルエーテル
（Ｔ）を接触させて得ることができる。
【０００９】一般式（ＩＩＩ）で表される多価フェノー
ル化合物（Ｓ）は、フェノール類と、グリオキザールと
の酸触媒による脱水縮合反応により得ることができる。
フェノール類の例としては、フェノールまたは、クレゾ
ール、エチルフェノール、ｎ−プロピルフェノール、イ
ソプロピルフェノール、ｎ−ブチルフェノール、イソブ
チルフェノール、ｔ−ブチルフェノール、オクチルフェ
ノール、ノニルフェノール、キシレノール、メチルブチ
ルフェノール、ジ−ｔ−ブチルフェノール、ジ−ｔ−ア
ミルフェノール等を代表とするアルキルフェノールの各
種ｏ−、ｍ−、ｐ−異性体、または、メトキシフェノー
ル、エトキシフェノール、プロポキシフェノール等を代
表とするアルコキシフェノールの各種ｏ−、ｍ−、ｐ−
異性体、または、シクロぺンチルフェノール、シクロヘ
キシルフェノール、シクロヘキシルクレゾール等を代表
とするシクロアルキルフェノール、または、クロロフェ
ノール、ジクロロフェノール、ブロモフェノール、ジブ
ロモフェノールに代表されるハロゲン置換フェノール、
あるいはアリールフェノール、アラルキルフェノール等
の置換フェノールが挙げられる。これらのフェノール類
は、単独のみならず二種類以上の混合使用も可能であ
る。
ル化合物（Ｓ）は、フェノール類と、グリオキザールと
の酸触媒による脱水縮合反応により得ることができる。
フェノール類の例としては、フェノールまたは、クレゾ
ール、エチルフェノール、ｎ−プロピルフェノール、イ
ソプロピルフェノール、ｎ−ブチルフェノール、イソブ
チルフェノール、ｔ−ブチルフェノール、オクチルフェ
ノール、ノニルフェノール、キシレノール、メチルブチ
ルフェノール、ジ−ｔ−ブチルフェノール、ジ−ｔ−ア
ミルフェノール等を代表とするアルキルフェノールの各
種ｏ−、ｍ−、ｐ−異性体、または、メトキシフェノー
ル、エトキシフェノール、プロポキシフェノール等を代
表とするアルコキシフェノールの各種ｏ−、ｍ−、ｐ−
異性体、または、シクロぺンチルフェノール、シクロヘ
キシルフェノール、シクロヘキシルクレゾール等を代表
とするシクロアルキルフェノール、または、クロロフェ
ノール、ジクロロフェノール、ブロモフェノール、ジブ
ロモフェノールに代表されるハロゲン置換フェノール、
あるいはアリールフェノール、アラルキルフェノール等
の置換フェノールが挙げられる。これらのフェノール類
は、単独のみならず二種類以上の混合使用も可能であ
る。
【００１０】多価フェノール化合物（Ｓ）とハロアルキ
ルビニルエーテル（Ｔ）との縮合反応に際しては、適当
な縮合促進剤、例えば，水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水素化ナトリウム等のアルカリ金属化合物；金属
ナトリウム；ナトリウムメチラート等のアルカリ金属ア
ルコラート；トリエチルベンジルアンモニウムクロライ
ド、テトラエチルアンモニウムクロライド、トリブチル
ベンジルアンモニウムクロライド等の四級アンモニウム
塩；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の金属塩等を添加
して反応を促進させることができる。
ルビニルエーテル（Ｔ）との縮合反応に際しては、適当
な縮合促進剤、例えば，水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水素化ナトリウム等のアルカリ金属化合物；金属
ナトリウム；ナトリウムメチラート等のアルカリ金属ア
ルコラート；トリエチルベンジルアンモニウムクロライ
ド、テトラエチルアンモニウムクロライド、トリブチル
ベンジルアンモニウムクロライド等の四級アンモニウム
塩；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の金属塩等を添加
して反応を促進させることができる。
【００１１】これらの縮合促進剤を使用する場合、塩基
の仕込比としては、化合物（Ｓ）のＯＨ基１．０モル当
量に対し、縮合促進剤を０．１〜１０．０モルの範囲、
好ましくは０．３〜２．０モルの範囲にすることで高い
反応促進効果が得られる。
の仕込比としては、化合物（Ｓ）のＯＨ基１．０モル当
量に対し、縮合促進剤を０．１〜１０．０モルの範囲、
好ましくは０．３〜２．０モルの範囲にすることで高い
反応促進効果が得られる。
【００１２】反応は、不活性溶媒、例えばエチルセロソ
ルブ、ジメチルスルホキシド、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジメチルアセトアミドの様な溶媒中で
行なうことができる。また、反応温度に制限はないが、
室温から１００℃の範囲が好ましい。
ルブ、ジメチルスルホキシド、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジメチルアセトアミドの様な溶媒中で
行なうことができる。また、反応温度に制限はないが、
室温から１００℃の範囲が好ましい。
【００１３】前記反応終了後の目的物の単離精製法は、
公知の方法を採用できる。例えば、反応液を室温まで冷
却後、トルエン或いはメチルイソブチルケトンで有機層
を抽出し数回水洗することで、未反応化合物（Ｓ）、
（Ｔ）、無機塩等を除き、有機層を無水硫酸ナトリウム
等の乾燥剤で乾燥した後、減圧濃縮することにより目的
物を取得する方法等があげられるが、この方法に限定さ
れるものではない。本発明により得られた多官能ビニル
エーテル化合物は、感光性樹脂として種々の用途があ
る。
公知の方法を採用できる。例えば、反応液を室温まで冷
却後、トルエン或いはメチルイソブチルケトンで有機層
を抽出し数回水洗することで、未反応化合物（Ｓ）、
（Ｔ）、無機塩等を除き、有機層を無水硫酸ナトリウム
等の乾燥剤で乾燥した後、減圧濃縮することにより目的
物を取得する方法等があげられるが、この方法に限定さ
れるものではない。本発明により得られた多官能ビニル
エーテル化合物は、感光性樹脂として種々の用途があ
る。
【００１４】
【発明の効果】本発明の多官能ビニルエーテル化合物
は、それを感光性樹脂組成物に使用する場合、従来のア
クリレート樹脂を使用した感光性樹脂と同等の速硬化性
や硬化物物性を維持しつつ、酸素による重合阻害の全く
無い良好な表面硬化性を付与することができる。更に、
化合物中のフェノール性水酸基とビニルオキシアルキル
オキシ基のバランスの最適化により、それをネガティブ
型フォトレジストとして使用する場合に必要な性質であ
る希アルカリ水への溶解性（現像特性）を付与できると
いった非常に優れた感光性樹脂特性を発現できる。
は、それを感光性樹脂組成物に使用する場合、従来のア
クリレート樹脂を使用した感光性樹脂と同等の速硬化性
や硬化物物性を維持しつつ、酸素による重合阻害の全く
無い良好な表面硬化性を付与することができる。更に、
化合物中のフェノール性水酸基とビニルオキシアルキル
オキシ基のバランスの最適化により、それをネガティブ
型フォトレジストとして使用する場合に必要な性質であ
る希アルカリ水への溶解性（現像特性）を付与できると
いった非常に優れた感光性樹脂特性を発現できる。
【００１５】
【実施例】以下に本発明を実施例によって更に詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
【００１６】実施例１ フェノールとグリオキザールの縮合反応により得た４官
能フェノール（ＯＨ当量：１００）４９．８ｇ、ジメチ
ルスルホキシド１２８ｇを還流冷却器、温度計、撹拌
器、及び窒素導入装置を付した反応器に仕込み溶解せし
めた後、粉末状水酸化ナトリウム２５．０ｇを加え、６
０℃で３０分撹拌する。次に２−クロルエチルビニルエ
ーテル６４．０ｇを反応器内温度を６０℃に保持したま
ま３０分で滴下し、更に、７０℃で６時間保温すること
により反応を完結させた。
能フェノール（ＯＨ当量：１００）４９．８ｇ、ジメチ
ルスルホキシド１２８ｇを還流冷却器、温度計、撹拌
器、及び窒素導入装置を付した反応器に仕込み溶解せし
めた後、粉末状水酸化ナトリウム２５．０ｇを加え、６
０℃で３０分撹拌する。次に２−クロルエチルビニルエ
ーテル６４．０ｇを反応器内温度を６０℃に保持したま
ま３０分で滴下し、更に、７０℃で６時間保温すること
により反応を完結させた。
【００１７】８５％リン酸水溶液１０．９ｇで過剰の水
酸化ナトリウムを中和した後、メチルイソブチルケトン
２５０ｇ、水４００ｇを加え、有機層への目的物の抽出
及び無機塩の水層への溶解を行なった。この後、水４０
０ｇによる水洗を５回繰り返し、無水硫酸ナトリウムに
より有機層を乾燥、濾過、更に、メチルイソブチルケト
ンを減圧留去することにより目的物を６９．９ｇを得
た。
酸化ナトリウムを中和した後、メチルイソブチルケトン
２５０ｇ、水４００ｇを加え、有機層への目的物の抽出
及び無機塩の水層への溶解を行なった。この後、水４０
０ｇによる水洗を５回繰り返し、無水硫酸ナトリウムに
より有機層を乾燥、濾過、更に、メチルイソブチルケト
ンを減圧留去することにより目的物を６９．９ｇを得
た。
【００１８】その赤外吸収スペクトルから、１６１０ｃ
ｍ-1と９７５ｃｍ-1にビニル基による吸収、１２００ｃ
ｍ-1にエーテル結合に基づく吸収が認められた。また、
３４００ｃｍ-1付近の水酸基による吸収が完全に消失
し、フェノール性水酸基の水素原子が完全にビニルオキ
シエチル基に置換されたことを確認した。得られた化合
物は、次式で表される多官能ビニルエーテル化合物〔以
下、化合物（１）という〕である。
ｍ-1と９７５ｃｍ-1にビニル基による吸収、１２００ｃ
ｍ-1にエーテル結合に基づく吸収が認められた。また、
３４００ｃｍ-1付近の水酸基による吸収が完全に消失
し、フェノール性水酸基の水素原子が完全にビニルオキ
シエチル基に置換されたことを確認した。得られた化合
物は、次式で表される多官能ビニルエーテル化合物〔以
下、化合物（１）という〕である。
【００１９】
【化４】 （式中、Ｑは全て−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ＝ＣＨ2 であ
る。）
る。）
【００２０】実施例２ フェノールとグリオキザールの縮合反応により得た４官
能フェノール（ＯＨ当量：１００）４９．８ｇ、ジメチ
ルスルホキシド１２８ｇを還流冷却器、温度計、撹拌
器、及び窒素導入装置を付した反応器に仕込み溶解せし
めた後、粉末状水酸化ナトリウム１０．４ｇを加え、６
０℃で３０分撹拌する。次に２−クロルエチルビニルエ
ーテル３２．０ｇを反応器内温度を６０℃に保持したま
ま３０分で滴下し、更に、７０℃で６時間保温すること
により反応を完結させた。
能フェノール（ＯＨ当量：１００）４９．８ｇ、ジメチ
ルスルホキシド１２８ｇを還流冷却器、温度計、撹拌
器、及び窒素導入装置を付した反応器に仕込み溶解せし
めた後、粉末状水酸化ナトリウム１０．４ｇを加え、６
０℃で３０分撹拌する。次に２−クロルエチルビニルエ
ーテル３２．０ｇを反応器内温度を６０℃に保持したま
ま３０分で滴下し、更に、７０℃で６時間保温すること
により反応を完結させた。
【００２１】８５％リン酸水溶液３．５ｇで過剰の水酸
化ナトリウムを中和した後、メチルイソブチルケトン２
５０ｇ、水４５０ｇを加え、有機層への目的物の抽出及
び無機塩の水層への溶解を行なった。この後、水４５０
ｇによる水洗を５回繰り返し、無水硫酸ナトリウムによ
り有機層を乾燥、濾過、更に、メチルイソブチルケトン
を減圧留去することにより目的物５６．７ｇを得た。
化ナトリウムを中和した後、メチルイソブチルケトン２
５０ｇ、水４５０ｇを加え、有機層への目的物の抽出及
び無機塩の水層への溶解を行なった。この後、水４５０
ｇによる水洗を５回繰り返し、無水硫酸ナトリウムによ
り有機層を乾燥、濾過、更に、メチルイソブチルケトン
を減圧留去することにより目的物５６．７ｇを得た。
【００２２】その赤外吸収スペクトルから、１６１０ｃ
ｍ-1と９７５ｃｍ-1にビニル基による吸収、１２００ｃ
ｍ-1にエーテル結合に基づく吸収が認められた。また、
中和滴定法により残存フェノール性水酸基を定量し、ビ
ニルオキシエチル基置換率を算出した結果、置換率は５
０％であった。得られた化合物は、次式で表される多官
能ビニルエーテル化合物〔以下、化合物（２）という〕
である。
ｍ-1と９７５ｃｍ-1にビニル基による吸収、１２００ｃ
ｍ-1にエーテル結合に基づく吸収が認められた。また、
中和滴定法により残存フェノール性水酸基を定量し、ビ
ニルオキシエチル基置換率を算出した結果、置換率は５
０％であった。得られた化合物は、次式で表される多官
能ビニルエーテル化合物〔以下、化合物（２）という〕
である。
【００２３】
【化５】 （式中、Ｑは−ＯＨまたは−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ＝Ｃ
Ｈ2 であり、両者のモル比は５０／５０である。）
Ｈ2 であり、両者のモル比は５０／５０である。）
【００２４】参考例１ 実施例１によって得た、化合物（１）を下記のような配
合により、感光性樹脂組成物とした。
合により、感光性樹脂組成物とした。
【００２５】
【表１】 本感光性樹脂組成物を、ガラス基盤上に１．２μｍ厚で
スピンコートし、６０℃、３０分プリベーク後、ＫＡＳ
ＰＥＲ ２００１Ｃ露光機（ＫＡＳＰＥＲ社製）を用い
大気中でパターニング露光を実施した結果、光量５０ｍ
Ｊ／ｃｍ2 でタック（ベタつき）の無い硬化フィルムを
得た。これは酸素による重合阻害が無いことを示してい
る。更に、ブチルセロソルブにて現像したところ、解像
度１０μｍの良好なパターンを得た。「解像度」は数本
の線が線幅に等しい間隔で並んでいる図形（ｌｉｎｅ
＆ｓｐａｃｅ）を用い測定する。線幅を少しずつ変えた
ｌｉｎｅ ＆ ｓｐａｃｅの組をマスクとし、そのパタ
ーンを基板上に焼き付け、その解像限界を示したもので
ある。
スピンコートし、６０℃、３０分プリベーク後、ＫＡＳ
ＰＥＲ ２００１Ｃ露光機（ＫＡＳＰＥＲ社製）を用い
大気中でパターニング露光を実施した結果、光量５０ｍ
Ｊ／ｃｍ2 でタック（ベタつき）の無い硬化フィルムを
得た。これは酸素による重合阻害が無いことを示してい
る。更に、ブチルセロソルブにて現像したところ、解像
度１０μｍの良好なパターンを得た。「解像度」は数本
の線が線幅に等しい間隔で並んでいる図形（ｌｉｎｅ
＆ｓｐａｃｅ）を用い測定する。線幅を少しずつ変えた
ｌｉｎｅ ＆ ｓｐａｃｅの組をマスクとし、そのパタ
ーンを基板上に焼き付け、その解像限界を示したもので
ある。
【００２６】参考例２ 実施例２によって得た、化合物（２）を下記のような配
合により、感光性樹脂組成物とした。
合により、感光性樹脂組成物とした。
【００２７】
【表２】 本感光性樹脂組成物を、ガラス基盤上に１．２μｍ厚で
スピンコートし、６０℃、５分プリべーク後、ＫＡＳＰ
ＥＲ ２００１Ｃ露光機（ＫＡＳＰＥＲ社製）を用い大
気中でパターニング露光を実施した結果、光量１００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 でタックの無い硬化フィルムを得た。更に、
３％水酸化ナトリウム水溶液にて現像したところ、解像
度１０μｍの良好なパターンを得た。
スピンコートし、６０℃、５分プリべーク後、ＫＡＳＰ
ＥＲ ２００１Ｃ露光機（ＫＡＳＰＥＲ社製）を用い大
気中でパターニング露光を実施した結果、光量１００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 でタックの無い硬化フィルムを得た。更に、
３％水酸化ナトリウム水溶液にて現像したところ、解像
度１０μｍの良好なパターンを得た。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 〔Ｒ1 はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、或いは、シ
クロアルキル基を示し、かつＲ1 は同一環内でまたは異
なる環内で複数存在する場合は互いに同一であっても異
なっていてもよい。Ｑは、それぞれ独立に、−ＯＨまた
は、一般式（ＩＩ）−ＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2（式中、Ｒ
は、１ないし１２の炭素原子を含むアルキレン基を示
す。）で表される基を示し、（−ＯＨ）／（−ＯＲＯＣ
Ｈ＝ＣＨ2 ）＝０／１００〜９０／１０（モル比）であ
る。ｎは０〜４の整数を示す。〕で表される多官能ビニ
ルエーテル化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22090493A JPH0776544A (ja) | 1993-09-06 | 1993-09-06 | 多官能ビニルエーテル化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22090493A JPH0776544A (ja) | 1993-09-06 | 1993-09-06 | 多官能ビニルエーテル化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0776544A true JPH0776544A (ja) | 1995-03-20 |
Family
ID=16758360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22090493A Pending JPH0776544A (ja) | 1993-09-06 | 1993-09-06 | 多官能ビニルエーテル化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0776544A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1528088A1 (en) * | 2003-10-28 | 2005-05-04 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Inkjet ink |
| JP2015108840A (ja) * | 2009-06-12 | 2015-06-11 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーＲｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ | 上塗りフォトレジストと共に使用するのに好適なコーティング組成物 |
-
1993
- 1993-09-06 JP JP22090493A patent/JPH0776544A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1528088A1 (en) * | 2003-10-28 | 2005-05-04 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Inkjet ink |
| JP2015108840A (ja) * | 2009-06-12 | 2015-06-11 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーＲｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ | 上塗りフォトレジストと共に使用するのに好適なコーティング組成物 |
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