JPH0773155B2 - 回路部品の製造方法 - Google Patents

回路部品の製造方法

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JPH0773155B2 JP4126757A JP12675792A JPH0773155B2 JP H0773155 B2 JPH0773155 B2 JP H0773155B2 JP 4126757 A JP4126757 A JP 4126757A JP 12675792 A JP12675792 A JP 12675792A JP H0773155 B2 JPH0773155 B2 JP H0773155B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、射出成形部材に回路パ
ターンを形成した回路部品の製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、高性能エンジニアリングプラスチ
ック等により形成した射出成形回路部品において、その
代表的な回路パターンの形成方法には、主に次の2つの
方法がある。その一つは、ワンショットモールド法で、
図11に示すように、先ず、図(イ)の工程において、
半田付けの高温に耐えられるような高耐熱性の樹脂を原
料として、射出成形により略平板状の基盤30を成形
し、次に、同図(ロ)の工程において、該基盤30の表
面に前処理としてエッチング処理や触媒処理等を施した
後、無電解銅メッキ31を全面に施す。
【0003】そして、更に同図(ハ)の工程において、
マスキングレジストやエッチングレジスト等でマスキン
グ32し、次に同図(ニ)の工程において、全体に電気
メッキをする。その後、不要な部分のレジスト剥離及び
銅エッチング等を施して、基盤30の表面に所定の回路
パターン33を形成する方法である。
【0004】もう一つの回路形成方法は、図12に示す
2ショットモールド法で、先ず同図(イ)の工程で所望
形状の一次側成形部品34を成形し、その後同図(ロ)
の工程において、前処理としてエッチング処理,触媒処
理など35を施す。次に、同図(ハ)の工程において、
この一次側成形部品34を型枠に入れ、この上に二次側
材料を注入し、この二次側材料36で一次側成形部品3
4の所定部分34aのみを露出せしめて被覆した二重構
造に成形した後、同図(ニ)の工程において、メッキ処
理を施し、前記一次側成形部品34の露出した前記所定
部分34aにのみ金属皮膜37を形成する方法である。
【0005】
【発明が解決しようとする問題点】然し乍ら、前記ワン
ショットモールド法によるものは、生産工程が多く、ま
た銅エッチングが必要であるため高価なものとなるこ
と、マスキング工程を含むため、コーナー部のアール取
りが必要で作業性が悪いこと、更にまた成形部品表面の
立上り角度が約60度以内で、且つ段差が約8mm以下で
あること等の諸制約があるために、立体化が困難である
といった問題点がある。
【0006】これに対し、上記2ショットモールド法
は、立体回路の形成には適するが、二重成形法であるた
め、一次側成形部品25の型枠内における位置合せが難
しく作業能率が悪いこと、又無電解メッキが基本となる
ためコスト高となるといった諸問題点がある。
【0007】
【問題点を解決するための手段】本発明は、上記のよう
な従来の問題点を解決するためになされたもので、比較
的に単純な回路を形成する部品に対して、低コストで簡
易に回路パターンを形成できるものを提供することを目
的としたものであり、その要旨は、表面に導電パターン
用の凸部を有しその一部に貫通孔を穿設したメッキ可能
な第1射出成形部材の上面に、凸の部分を切除した前記
第1射出成形部材と断面ほゞ同一形状のメッキ不可能な
第2射出成形部材を嵌合するとゝもに、この嵌合体全体
に無電解メッキ処理を施した後、電気メッキ処理を施し
て前記第1射出成形部材の露出面に導電パターンを形成
するとゝもに、該第1射出成形部材の裏面における前記
貫通孔の周縁部を切除して絶縁部を形成することを特徴
とする回路部品の製造方法にある。
【0008】
【実施例】以下、本発明を図1乃至図9に示す実施例に
基き詳細に説明する。なお、図1は本発明に係る回路部
品の構成部材の分解斜視図、図2は本発明方法によって
形成した回路部品の全体斜視図、図3は同回路部品の部
分拡大斜視図、図4は図3部分の説明図で、(イ)は加
工前の図3におけるIII − III線断面説明図、同図
(ロ)は加工後の同説明図、(ハ)は(ロ)の下面図、
図5は他実施例の図4相当断面説明図で、(イ)は加工
前の平面図、(ロ)は同断面図、(ハ)は加工後の平面
図、(ニ)は同断面図、図6は従来の多極コネクタの斜
視図、図7乃至図9は図6に示す多極コネクタを本発明
方法により形成する説明図、図10は本発明方法の他の
実施例を示す部分斜視図である。
【0009】図において、1はメッキ可能な第1射出成
形部品で、例えばポリエーテルイミド(PEI)等の半
田付けの高温に耐えられるような高耐熱性の樹脂で形成
されており、その基盤2の上面2aには形成する回路パ
ターンと同一形状の凸条3が複数個形成されている。4
は前記凸条3の両端部に穿設した貫通孔で、該貫通孔4
は基盤2の上面2aから裏面2bに貫通している。そし
て、この第1射出成形部品1は、メッキ触媒入り樹脂に
より成形した場合には射出成形したそのまゝの成形部品
を使用し、一般の高耐熱性の樹脂で形成した場合には、
その全面にエッチング処理や触媒処理などのメッキ前処
理が施こされている。
【0010】5は高耐熱性の樹脂、例えばポリフェニレ
ンサルファイド(PPS)等で形成したメッキ不可能な
第2射出成形部品で、その基盤6はメッキ可能な前記第
1射出成形部品1と同一の大きさに形成されているとゝ
もに、図1に示すように、第1射出成形部品1の上面2
aに嵌め合せができるよう断面同一形状に形成されてい
る。そして、この基盤6には、メッキ可能な第1射出成
形部品1に嵌め合わせた時に、第1射出成形部品1の前
記凸条3の表面3aが露出するよう、上下に貫通した貫
通溝7が形成されている。
【0011】而して、図1に示すように、前記構成から
なるメッキ可能な第1射出成形部品1とメッキ不可能な
第2射出成形部品5とを嵌め合わせ、両射出成形部品
1,5を固定して一つの嵌合体Aを形成する。この固定
は、嵌め合せ時の圧入のみでも可能であるが、形状によ
っては部分的に接着剤により接着固定しても良い。
【0012】そして、この嵌合体Aに無電解メッキ処理
を施して薄いメッキ層を形成したのち、電気メッキ処理
を施こすと、第2射出成形部品5の前記貫通溝7から露
出した第1射出成形部品1の前記凸条3の表面3a、前
記貫通孔4の内周面及び裏面2bにメッキ層8a,8
b,8cが夫々形成され、前記凸条3の表面3aに形成
されたメッキ層8aが回路パターンとなる。この場合、
凸条3の表面3aと裏面2bとは貫通孔4により連通し
ているので、前記各部分の電気メッキ処理が可能とな
る。
【0013】次に、図4(イ)に示すように、第1射出
成形部品1の前記凸条3の表面3aに形成されたメッキ
層8aと、裏面2bに形成されたメッキ層8cとは貫通
孔4の内周面に形成されたメッキ層8bにより連続して
いるので、図4(ロ)に示すように、第1射出成形部品
1の基盤2の裏面2b側において貫通孔4周囲の面取り
加工等を行い、同図(ハ)に示すように、絶縁部9aを
形成して回路パターン8aと基板2の裏面2bのメッキ
層8cとを分離し、この基板2の裏面2bのメッキ層8
cをアース部とする。
【0014】図5(イ)(ロ)に示すものは、貫通孔4
が大径孔4aと小径孔4bとの組合せから形成された段
付孔の例であり、この場合には、図5(ハ)(ニ)に示
すように、金型や治工具等により小径孔4b部を打ち抜
き、絶縁部9bを形成して回路パターン8aと基板2の
裏面2bのアース部8cとを分離する。
【0015】図6に示すものは、ノイズ除去フィルター
を設けた従来の多極コネクタ10に本発明を適用した場
合の実施例で、チップコンデンサー11を装着したフィ
ルター付きコネクタにおいて、そのコネクターピン12
とチップコンデンサー11とを接続する導電パターンを
形成するに当たり、本発明を適用することにより簡単に
パターン部を形成することができる。
【0016】すなわち、図7において、13は樹脂性の
シールドケースで、その前面13aには導電パターン部
となる凸部14を形成し、該凸部14の中心部にコネク
タピン12を挿入する貫通孔15を形成するとゝもに、
このシールドケース13の表面にエッチング処理や触媒
処理などのメッキ前処理を施こす。そして、前記凸部1
4と嵌合する貫通孔16aを形成した前記第2射出成形
部品に相当する絶縁枠部材16を嵌め合せる。この際、
絶縁枠部材16の合せ面16bに接着材等を塗布し接着
固定してもよい。
【0017】次に、図8に示すように、絶縁枠部材16
をシールドケース13に一体に固定したのちに、この状
態で全体に無電解メッキ処理を施して薄いメッキ層を形
成する。そして更に、電気メッキ処理をすることによ
り、図9に示すように、絶縁枠部材16で被覆された面
を除くシールドケース13の全面にメッキ層17が形成
される。なお本実施例の場合、コネクタピン12挿入用
の貫通孔15を通して、導電パターン部17aとシール
ド部17cとは貫通孔13のメッキ層17bを介して一
体となるので、メッキ処理後、絶縁枠部材16との嵌合
側とは反対側(シールドケース13の後面13b側)に
おいて、貫通孔15周辺を前記実施例と同様に面取り加
工することにより絶縁部(図示しない)を形成し、導電
パターン部17aとシールド部17c側とを分離する。
【0018】図10に示すものは、前記絶縁部の形成方
法の他の実施例で、絶縁枠部材16の嵌合側とは反対側
において、貫通孔15の周部に環状凸部18を形成し、
該環状凸部18の外側に、これと嵌合する穴19を形成
した絶縁部材20を嵌合により固定した後メッキ処理す
れば、環状凸部18の外周には絶縁部が形成されるので
面取り加工を省略することができる。しかしこの場合、
メッキ処理はすべて無電解メッキ処理となるため、コス
トは増加する。
【0019】
【発明の効果】本発明に係る回路部品の製造方法は、上
記の如く、表面に導電パターン用の凸部を有しその一部
に貫通孔を穿設したメッキ可能な第1射出成形部材の上
面に、凸の部分を切除した前記第1射出成形部材と断面
ほゞ同一形状のメッキ不可能な第2射出成形部材を嵌合
するとゝもに、この嵌合体全体に無電解メッキ処理を施
した後、電気メッキ処理を施して前記第1射出成形部材
の露出面に導電パターンを形成するとゝもに、該第1射
出成形部材の裏面における前記貫通孔の周縁部を切除し
て絶縁部を形成することを特徴とするものであるから、
生産工程が少なくてすみ、且つ電気メッキ処理が可能で
あるため廉価に生産することが出来るとゝもに、立体回
路パターンでも自在に形成できるといった諸効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る回路部品の構成部材の分解斜視図
である。
【図2】本発明方法によって形成した回路部品の全体斜
視図である。
【図3】同回路部品の部分拡大斜視図である。
【図4】図3のIII − III線断面説明図である。
【図5】他実施例の図4相当断面説明図である。
【図6】従来の多極コネクタの斜視図である。
【図7】図6に示す多極コネクタを本発明方法により形
成する第1説明図である。
【図8】図6に示す多極コネクタを本発明方法により形
成する第2説明図である。
【図9】本発明方法により形成した図6に示す多極コネ
クタの斜視図である
【図10】他実施例の部分斜視図である。
【図11】従来のワンショットモールド法の説明図であ
る。
【図12】従来の2ショットモールド法の説明図であ
る。
【符号の説明】
1 第1射出成形部品 2 基板 2a 上面 2b 裏面 3 凸条 3a 同表面 4 貫通孔 5 第2射出成形部品 6 基盤 7 貫通溝 8 メッキ層 9a 絶縁部 9b 絶縁部 10 多極コネクタ 11 チップコンデンサー 12 コネクターピン 13 シールドケース 14 凸部 15 貫通孔 16 絶縁枠部材 17 メッキ層 18 環状凸部 19 嵌合穴 20 絶縁部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 1/02 N 3/42 B 7511−4E // B29L 31:34

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面に導電パターン用の凸部を有しその
    一部に貫通孔を穿設したメッキ可能な第1射出成形部材
    の上面に、凸の部分を切除した前記第1射出成形部材と
    断面ほゞ同一形状のメッキ不可能な第2射出成形部材を
    嵌合するとゝもに、この嵌合体全体に無電解メッキ処理
    を施した後、電気メッキ処理を施して前記第1射出成形
    部材の露出面に導電パターンを形成するとゝもに、該第
    1射出成形部材の裏面における前記貫通孔の周縁部を切
    除して絶縁部を形成することを特徴とする回路部品の製
    造方法。
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