JPH0763947A - 光導波路デバイス及び光ファイバ接続方法 - Google Patents
光導波路デバイス及び光ファイバ接続方法Info
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- JPH0763947A JPH0763947A JP5212672A JP21267293A JPH0763947A JP H0763947 A JPH0763947 A JP H0763947A JP 5212672 A JP5212672 A JP 5212672A JP 21267293 A JP21267293 A JP 21267293A JP H0763947 A JPH0763947 A JP H0763947A
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- JP
- Japan
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- optical waveguide
- optical
- optical fiber
- substrate
- groove
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- Light Guides In General And Applications Therefor (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Mechanical Coupling Of Light Guides (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高性能・高信頼性が要求される、光通信・光
計測の分野に十分対応できること、高精度に光導波路と
光ファイバとを位置合わせすることができること、位置
合わせが終了後に位置ずれがおこし難こと。 【構成】 基板１１は、光導波路１２の近傍に光ファイ
バ１３を前記光導波路１２に誘導する溝１４を有してい
る。前記溝１４を、フォトリソグラフィ及び又はエッチ
ング加工により形成する。前記溝１４に沿って前記光フ
ァイバを誘導しつつ前記光導波路１２に前記光ファイバ
１３を接続する。
計測の分野に十分対応できること、高精度に光導波路と
光ファイバとを位置合わせすることができること、位置
合わせが終了後に位置ずれがおこし難こと。 【構成】 基板１１は、光導波路１２の近傍に光ファイ
バ１３を前記光導波路１２に誘導する溝１４を有してい
る。前記溝１４を、フォトリソグラフィ及び又はエッチ
ング加工により形成する。前記溝１４に沿って前記光フ
ァイバを誘導しつつ前記光導波路１２に前記光ファイバ
１３を接続する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光導波路デバイスと光フ
ァイバとを光学的に接続する光導波路デバイス及び光フ
ァイバ接続方法に関する。
ァイバとを光学的に接続する光導波路デバイス及び光フ
ァイバ接続方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光通信、光計測の技術分野において、主
幹技術となりつつある光導波路デバイスは、基板上ある
いは基板内に光導波路を形成させるもので、光導波路中
に光を能率良く閉じこめることが出来る。基板として
は、誘電体及び／又は半導体が使用されている。このよ
うな光導波路デバイスを光通信や光計測に適用する場合
には、光導波路デバイスと光ファイバとを光学的に接続
する必要がある。
幹技術となりつつある光導波路デバイスは、基板上ある
いは基板内に光導波路を形成させるもので、光導波路中
に光を能率良く閉じこめることが出来る。基板として
は、誘電体及び／又は半導体が使用されている。このよ
うな光導波路デバイスを光通信や光計測に適用する場合
には、光導波路デバイスと光ファイバとを光学的に接続
する必要がある。
【０００３】従来から、光導波路デバイスと光ファイバ
とを接続するための種々の方法が提案されている。
とを接続するための種々の方法が提案されている。
【０００４】図４は、従来の光導波路デバイスと光ファ
イバとを接続した状態の一例を示している。光導波路デ
バイス３０は、基板３１と、この基板３１の表面に形成
されている２本の光導波路３２とを含む。図４では、光
導波路デバイス３０と２本の光ファイバ３３とが光学的
に接続されている。
イバとを接続した状態の一例を示している。光導波路デ
バイス３０は、基板３１と、この基板３１の表面に形成
されている２本の光導波路３２とを含む。図４では、光
導波路デバイス３０と２本の光ファイバ３３とが光学的
に接続されている。
【０００５】図４に示す例において、基板３１はＬｉＮ
ｂＯ3 の誘電体を使用している。また、光導波路３２
は、基板３１の表面にＴｉ拡散することにより作製され
る。光導波路デバイス３０と光ファイバ３３とを光学的
に接続するには、光導波路３２の入／出射端と光ファイ
バ３３の出／入射端とを互いに対向させた状態で、光導
波路３２の光軸と光ファイバ３３の光軸とを実質的に一
致させる必要がある。
ｂＯ3 の誘電体を使用している。また、光導波路３２
は、基板３１の表面にＴｉ拡散することにより作製され
る。光導波路デバイス３０と光ファイバ３３とを光学的
に接続するには、光導波路３２の入／出射端と光ファイ
バ３３の出／入射端とを互いに対向させた状態で、光導
波路３２の光軸と光ファイバ３３の光軸とを実質的に一
致させる必要がある。
【０００６】ここで、光導波路デバイス３０と光ファイ
バ３３とを接続する場合には、接続の際の光損失をでき
るだけ少なくするために、光導波路３２の入／出射端と
光ファイバ３３の出／入射端との間に隙間がないように
接続することが好ましい。但し、光損失があまり問題に
ならないような場合には、隙間があってもかまわない。
いずれにしても、光導波路３２の光軸と光ファイバ３３
の光軸とを実質的に一致させることが必要である。
バ３３とを接続する場合には、接続の際の光損失をでき
るだけ少なくするために、光導波路３２の入／出射端と
光ファイバ３３の出／入射端との間に隙間がないように
接続することが好ましい。但し、光損失があまり問題に
ならないような場合には、隙間があってもかまわない。
いずれにしても、光導波路３２の光軸と光ファイバ３３
の光軸とを実質的に一致させることが必要である。
【０００７】図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示すように、
光導波路デバイス３０上の光導波路３２の光軸方向をＸ
軸、このＸ軸と直交する導波路デバイス３０の基板３１
の幅方向をＹ軸、Ｘ軸およびＹ軸に直交する基板の厚さ
方向をＺ軸とする。また、光導波路３２の光軸と光導波
路３３の光軸との水平方向及び垂直方向のずれ角度を、
それぞれ、θおよびφとする。
光導波路デバイス３０上の光導波路３２の光軸方向をＸ
軸、このＸ軸と直交する導波路デバイス３０の基板３１
の幅方向をＹ軸、Ｘ軸およびＹ軸に直交する基板の厚さ
方向をＺ軸とする。また、光導波路３２の光軸と光導波
路３３の光軸との水平方向及び垂直方向のずれ角度を、
それぞれ、θおよびφとする。
【０００８】光導波路デバイス３０と光ファイバ３３と
を直接接続する方法においては、光導波路３２と光ファ
イバ３３との光軸の調整を、Ｘ，Ｙ，Ｚ，θおよびφの
５軸に対して行う。さらに、この直接接続方法において
は、このような光軸調整を光導波路３２と光ファイバ３
３との対の数だけ行なう。また、光導波路３２と光ファ
イバ３３とは、一般に、ともに１０μｍ以下の径のコア
をもつ。
を直接接続する方法においては、光導波路３２と光ファ
イバ３３との光軸の調整を、Ｘ，Ｙ，Ｚ，θおよびφの
５軸に対して行う。さらに、この直接接続方法において
は、このような光軸調整を光導波路３２と光ファイバ３
３との対の数だけ行なう。また、光導波路３２と光ファ
イバ３３とは、一般に、ともに１０μｍ以下の径のコア
をもつ。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上述した光導波路デバ
イス３０と光ファイバ３３との接続においては、光導波
路３２と光ファイバ３３との光軸の調整を、Ｘ，Ｙ，
Ｚ，θ、及びφの５軸に対して行う必要がある。さら
に、光軸調整を光導波路３２と光ファイバ３３との対の
数だけ行なわなければならないという問題がある。
イス３０と光ファイバ３３との接続においては、光導波
路３２と光ファイバ３３との光軸の調整を、Ｘ，Ｙ，
Ｚ，θ、及びφの５軸に対して行う必要がある。さら
に、光軸調整を光導波路３２と光ファイバ３３との対の
数だけ行なわなければならないという問題がある。
【００１０】また、光導波路３２と光ファイバ３３と
は、光軸の調整に、±０．５μｍ程度の精度が要求さ
れ、接続方法では、光軸合わせが非常に困難であるとい
う問題がある。
は、光軸の調整に、±０．５μｍ程度の精度が要求さ
れ、接続方法では、光軸合わせが非常に困難であるとい
う問題がある。
【００１１】ようするに、上述した従来の光導波路デバ
イス３０と光ファイバ３３との接続方法では、より高性
能、高信頼性を押し進めるにあたって、以下にのべるよ
うな欠点がある。
イス３０と光ファイバ３３との接続方法では、より高性
能、高信頼性を押し進めるにあたって、以下にのべるよ
うな欠点がある。
【００１２】光導波路３２と光ファイバ３３との位置
合わせ精度が不十分で、仮に位置合わせが終了しても、
終了後に位置ずれをおこしてしまい、最適位置での接続
が非常に困難である。
合わせ精度が不十分で、仮に位置合わせが終了しても、
終了後に位置ずれをおこしてしまい、最適位置での接続
が非常に困難である。
【００１３】光導波路３２と光ファイバ３３との位置
合わせに非常に膨大な時間を要する。
合わせに非常に膨大な時間を要する。
【００１４】それ故に、本発明の技術的課題は、高性能
・高信頼性が要求される、光通信・光計測の分野に十分
対応できる光導波路デバイスと、さらに光導波路デバイ
スと光ファイバとの接続方法を提供することにある。
・高信頼性が要求される、光通信・光計測の分野に十分
対応できる光導波路デバイスと、さらに光導波路デバイ
スと光ファイバとの接続方法を提供することにある。
【００１５】本発明の他の技術的課題は、高精度に光導
波路と光ファイバとを位置合わせすることができる光導
波路デバイスと、さらに光導波路デバイスと光ファイバ
との接続方法を提供することにある。
波路と光ファイバとを位置合わせすることができる光導
波路デバイスと、さらに光導波路デバイスと光ファイバ
との接続方法を提供することにある。
【００１６】本発明のさらに他の技術的課題は、位置合
わせが終了後に位置ずれがおこし難い、光導波路デバイ
スと、さらに光導波路デバイスと光ファイバとの接続方
法を提供することにある。
わせが終了後に位置ずれがおこし難い、光導波路デバイ
スと、さらに光導波路デバイスと光ファイバとの接続方
法を提供することにある。
【００１７】本発明のさらに他の技術的課題は、光導波
路と光ファイバとの位置合わせを、非常に簡単に行うこ
とができる光導波路デバイスと、さらに光導波路デバイ
スと光ファイバとの接続方法を提供することにある。
路と光ファイバとの位置合わせを、非常に簡単に行うこ
とができる光導波路デバイスと、さらに光導波路デバイ
スと光ファイバとの接続方法を提供することにある。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、誘電体
及び／又は半導体からなる基板と、該基板上もしくは該
基板内に形成した光導波路とを含み、該光導波路に光フ
ァイバを接続する光導波路デバイスにおいて、前記基板
は、前記光導波路の近傍に前記光ファイバを前記光導波
路に誘導する溝を有していることを特徴とする光導波路
デバイスが得られる。
及び／又は半導体からなる基板と、該基板上もしくは該
基板内に形成した光導波路とを含み、該光導波路に光フ
ァイバを接続する光導波路デバイスにおいて、前記基板
は、前記光導波路の近傍に前記光ファイバを前記光導波
路に誘導する溝を有していることを特徴とする光導波路
デバイスが得られる。
【００１９】また、本発明によれば、誘電体及び／又は
半導体を基板とし、該基板上もしくは該基板内に光を閉
じ込める光導波路を形成し、該光導波路に光ファイバを
接続する光導波路デバイスの製造方法において、前記基
板には、前記光導波路の近傍に前記光ファイバを前記光
導波路に誘導する溝を、フォトリソグラフィ及び又はエ
ッチング加工により形成することを特徴とする光導波路
デバイスの製造方法が得られる。
半導体を基板とし、該基板上もしくは該基板内に光を閉
じ込める光導波路を形成し、該光導波路に光ファイバを
接続する光導波路デバイスの製造方法において、前記基
板には、前記光導波路の近傍に前記光ファイバを前記光
導波路に誘導する溝を、フォトリソグラフィ及び又はエ
ッチング加工により形成することを特徴とする光導波路
デバイスの製造方法が得られる。
【００２０】また、本発明によれば、誘電体及び／又は
半導体を基板とし、該基板上もしくは該基板内に光を閉
じ込める光導波路を形成し、前記基板には、前記光導波
路の近傍に溝を形成し、該溝に沿って前記光ファイバを
誘導しつつ前記光導波路に前記光ファイバを接続するこ
とを特徴とする光導波路デバイスの光ファイバ接続方法
が得られる。
半導体を基板とし、該基板上もしくは該基板内に光を閉
じ込める光導波路を形成し、前記基板には、前記光導波
路の近傍に溝を形成し、該溝に沿って前記光ファイバを
誘導しつつ前記光導波路に前記光ファイバを接続するこ
とを特徴とする光導波路デバイスの光ファイバ接続方法
が得られる。
【００２１】
【作用】本発明では、光導波路デバイスの基板上の光導
波路近傍に光ファイバを前記光導波路に誘導するような
形状を有する溝を形成する。この溝によって光導波路の
光軸と光ファイバの光軸とが実質的に一致するように、
光導波路と光ファイバとの位置合わせが極めて容易に行
うことができる。
波路近傍に光ファイバを前記光導波路に誘導するような
形状を有する溝を形成する。この溝によって光導波路の
光軸と光ファイバの光軸とが実質的に一致するように、
光導波路と光ファイバとの位置合わせが極めて容易に行
うことができる。
【００２２】溝がフォトリソグラフィ及びエッチング技
術の微細加工技術により高精度に形成される。このよう
にして、溝を形成すれば、サブミクロンオーダーの位置
合わせが容易に可能となる。
術の微細加工技術により高精度に形成される。このよう
にして、溝を形成すれば、サブミクロンオーダーの位置
合わせが容易に可能となる。
【００２３】したがって、本発明による光導波路デバイ
スと光ファイバとの接続方法によって光学的に接続され
た光導波路デバイスと光ファイバとを含む光学システム
は、光通信・光計測の分野において、高性能、高信頼性
とを備えたシステムを提供できる。
スと光ファイバとの接続方法によって光学的に接続され
た光導波路デバイスと光ファイバとを含む光学システム
は、光通信・光計測の分野において、高性能、高信頼性
とを備えたシステムを提供できる。
【００２４】
【実施例】以下に、本発明の光導波路デバイス及びその
光ファイバ接続方法の一実施例を図面を参照して説明す
る。
光ファイバ接続方法の一実施例を図面を参照して説明す
る。
【００２５】図１を参照して、光導波路デバイス１０
は、誘電体及び／又は半導体によって形成されている基
板１１と、この基板１１の表面に形成されている光導波
路１２とを含む。
は、誘電体及び／又は半導体によって形成されている基
板１１と、この基板１１の表面に形成されている光導波
路１２とを含む。
【００２６】図１に示す例において、基板１１はＬｉＮ
ｂＯ3 の誘電体を使用している。光導波路１２は、基板
１１の表面にＴｉ拡散することにより作製される。光導
波路デバイス１０と光ファイバ１３とを光学的に接続す
るには、光導波路１２の入／出射端と光ファイバ１３の
出／入射端とを互いに対向させた状態で、光導波路１２
の光軸と光ファイバ１３の光軸とを実質的に一致させ
る。
ｂＯ3 の誘電体を使用している。光導波路１２は、基板
１１の表面にＴｉ拡散することにより作製される。光導
波路デバイス１０と光ファイバ１３とを光学的に接続す
るには、光導波路１２の入／出射端と光ファイバ１３の
出／入射端とを互いに対向させた状態で、光導波路１２
の光軸と光ファイバ１３の光軸とを実質的に一致させ
る。
【００２７】ここで、光導波路デバイス１０と光ファイ
バ１３とを接続する場合には、接続の際の光損失をでき
るだけ少なくするために、光導波路１２の入／出射端と
光ファイバ１３の出／入射端との間に隙間がないように
接続することが好ましい。但し、光損失があまり問題に
ならないような場合には、隙間があってもかまわない。
いずれにしても、光導波路１２の光軸と光ファイバ１３
の光軸とを実質的に一致させることが必要である。
バ１３とを接続する場合には、接続の際の光損失をでき
るだけ少なくするために、光導波路１２の入／出射端と
光ファイバ１３の出／入射端との間に隙間がないように
接続することが好ましい。但し、光損失があまり問題に
ならないような場合には、隙間があってもかまわない。
いずれにしても、光導波路１２の光軸と光ファイバ１３
の光軸とを実質的に一致させることが必要である。
【００２８】光導波路１２の入／出射端の近傍には、図
２（Ａ）及び図２（Ｂ）にも示すように、光ファイバ１
３を光導波路１２に誘導するための光ファイバ誘導用の
溝１４が形成されている。溝１４は、基板１１の表面よ
りも少し低い底面を有している。基板１１には、溝１４
が基板１１の端面側で幅広に形成され、光導波路１２の
入／出射端側に次第に狭められている。この溝１４は、
フォトリソグラフィ及びエッチング技術の微細加工技術
により高精度に形成されている。
２（Ａ）及び図２（Ｂ）にも示すように、光ファイバ１
３を光導波路１２に誘導するための光ファイバ誘導用の
溝１４が形成されている。溝１４は、基板１１の表面よ
りも少し低い底面を有している。基板１１には、溝１４
が基板１１の端面側で幅広に形成され、光導波路１２の
入／出射端側に次第に狭められている。この溝１４は、
フォトリソグラフィ及びエッチング技術の微細加工技術
により高精度に形成されている。
【００２９】ここで、図１、図２（Ｂ）により明らかな
ように、光導波路デバイス１０上の光導波路１２の光軸
方向をＸ軸、このＸ軸と直交する導波路デバイス１０の
基板１１の幅方向をＹ軸、Ｘ軸およびＹ軸に直交する基
板１１の厚さ方向をＺ軸とする。また、光導波路１２の
光軸と光ファイバ１３の光軸との水平方向及び垂直方向
のずれ角度を、それぞれ、θおよびφとする。
ように、光導波路デバイス１０上の光導波路１２の光軸
方向をＸ軸、このＸ軸と直交する導波路デバイス１０の
基板１１の幅方向をＹ軸、Ｘ軸およびＹ軸に直交する基
板１１の厚さ方向をＺ軸とする。また、光導波路１２の
光軸と光ファイバ１３の光軸との水平方向及び垂直方向
のずれ角度を、それぞれ、θおよびφとする。
【００３０】溝１４は、光導波路１２の入／出射端に接
しており、光ファイバ１３を簡単なＹ軸、Ｚ軸方向の位
置合わせを施して、溝１４に沿って誘導しつつ挿入すれ
ば、光導波路デバイス１０と光ファイバ１３との光学的
接続が可能である。
しており、光ファイバ１３を簡単なＹ軸、Ｚ軸方向の位
置合わせを施して、溝１４に沿って誘導しつつ挿入すれ
ば、光導波路デバイス１０と光ファイバ１３との光学的
接続が可能である。
【００３１】即ち、複雑なＺ，θ，φ軸の３軸調整をは
ぶいて、容易にかつ、短時間で光導波路デバイス１０上
の光導波路１１と光ファイバ１３の光軸を一致した光学
的を可能にできる。
ぶいて、容易にかつ、短時間で光導波路デバイス１０上
の光導波路１１と光ファイバ１３の光軸を一致した光学
的を可能にできる。
【００３２】したがって、本実施例の光導波路デバイス
あるいは、光導波路デバイス１０と光ファイバ１３の接
続方法を用いれば、高精度の位置合わせが、位置ずれを
防止しつつ、短時間で可能となる。
あるいは、光導波路デバイス１０と光ファイバ１３の接
続方法を用いれば、高精度の位置合わせが、位置ずれを
防止しつつ、短時間で可能となる。
【００３３】さらに、溝１４をフォトリソグラフ及びエ
ッチングの微細加工を用いて形成すれば、容易にサブミ
クロンオーダーの精度を確保でき、サブミクロンオーダ
ーの超高精度の位置合わせが短時間で可能となる。
ッチングの微細加工を用いて形成すれば、容易にサブミ
クロンオーダーの精度を確保でき、サブミクロンオーダ
ーの超高精度の位置合わせが短時間で可能となる。
【００３４】図３（Ａ）及び図３（Ｂ）は、光導波路デ
バイス１０の他の実施例を示している。図３（Ａ）及び
図３（Ｂ）に示す溝１４は、基板１１の表面よりも少し
低い傾斜底面を有しているとともに基板１１の端面側が
幅広に形成され、光導波路１２の入／出射端に次第に狭
められている。
バイス１０の他の実施例を示している。図３（Ａ）及び
図３（Ｂ）に示す溝１４は、基板１１の表面よりも少し
低い傾斜底面を有しているとともに基板１１の端面側が
幅広に形成され、光導波路１２の入／出射端に次第に狭
められている。
【００３５】なお、溝１４の形状は、光ファイバ１３を
光導波路１２に誘導する形状であればよく上述した実施
例の溝１４に限定されるものではない。また、溝１４は
微細加工はもちろん、その他のどの様な方法、たとえば
機械加工等の方法を用いても、本発明の構成による効果
については何等かわることがない。
光導波路１２に誘導する形状であればよく上述した実施
例の溝１４に限定されるものではない。また、溝１４は
微細加工はもちろん、その他のどの様な方法、たとえば
機械加工等の方法を用いても、本発明の構成による効果
については何等かわることがない。
【００３６】
【発明の効果】上述したように、これまで非常に困難と
言われていた光導波路デバイスと光ファイバとの接続が
基板に形成した溝によって非常に容易に、かつ高精度、
さらに軸ずれが防止できることから、従来の技術の欠点
を十分に防止して工業的経済性を十分に高めることがで
き、光通信・光計測という高性能、高信頼性の分野に十
分対応できる。
言われていた光導波路デバイスと光ファイバとの接続が
基板に形成した溝によって非常に容易に、かつ高精度、
さらに軸ずれが防止できることから、従来の技術の欠点
を十分に防止して工業的経済性を十分に高めることがで
き、光通信・光計測という高性能、高信頼性の分野に十
分対応できる。
【００３７】また、高性能、高信頼性の光導波路デバイ
スの光ファイバ接続方法を提供でき、工業的に益すると
ころは極めて大であるといえる。
スの光ファイバ接続方法を提供でき、工業的に益すると
ころは極めて大であるといえる。
【００３８】さらに、再現性の良い位置合わせが可能な
光導波路デバイスが得られる。
光導波路デバイスが得られる。
【図１】本発明の光導波路デバイスの一実施例を示す斜
視図である。
視図である。
【図２】（Ａ）は図１のII−II断面図、（Ｂ）は図１の
III −III 断面である。
III −III 断面である。
【図３】（Ａ）は本発明の光導波路デバイスの他の実施
例を示す正面図、（Ｂ）は（Ａ）の側面図である。
例を示す正面図、（Ｂ）は（Ａ）の側面図である。
【図４】従来の光導波路デバイスの一例を示す斜視図で
ある。
ある。
【図５】（Ａ）は図４のIV−IV断面図、（Ｂ）は図４の
V −V 断面図である。
V −V 断面図である。
１０，３０ 光導波路デバイス １１，３１ 基板 １２，３２ 光導波路 １３，３３ 光ファイバ １４ 光ファイバ誘導用の溝
Claims (3)
- 【請求項１】 誘電体及び／又は半導体からなる基板
と、該基板上もしくは該基板内に形成した光導波路とを
含み、該光導波路に光ファイバを接続する光導波路デバ
イスにおいて、前記基板は、前記光導波路の近傍に前記
光ファイバを前記光導波路に誘導する溝を有しているこ
とを特徴とする光導波路デバイス。 - 【請求項２】 誘電体及び／又は半導体を基板とし、該
基板上もしくは該基板内に光を閉じ込める光導波路を形
成し、該光導波路に光ファイバを接続する光導波路デバ
イスの製造方法において、前記基板には、前記光導波路
の近傍に前記光ファイバを前記光導波路に誘導する溝
を、フォトリソグラフィ及び又はエッチング加工により
形成することを特徴とする光導波路デバイスの製造方
法。 - 【請求項３】 誘電体及び／又は半導体を基板とし、該
基板上もしくは該基板内に光を閉じ込める光導波路を形
成し、前記基板には、前記光導波路の近傍に溝を形成
し、該溝に沿って前記光ファイバを誘導しつつ前記光導
波路に前記光ファイバを接続することを特徴とする光導
波路デバイスの光ファイバ接続方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5212672A JPH0763947A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 光導波路デバイス及び光ファイバ接続方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5212672A JPH0763947A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 光導波路デバイス及び光ファイバ接続方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0763947A true JPH0763947A (ja) | 1995-03-10 |
Family
ID=16626492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5212672A Withdrawn JPH0763947A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 光導波路デバイス及び光ファイバ接続方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0763947A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6277195B1 (en) | 1997-09-25 | 2001-08-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Rotation transmission apparatus and apparatus for forming surface film of panel for cathode-ray tubes using the same |
| WO2002037154A1 (fr) * | 2000-11-06 | 2002-05-10 | Mitsubishi Chemical Corporation | Structure pour regler la position d'une fibre optique et module laser semi-conducteur |
-
1993
- 1993-08-27 JP JP5212672A patent/JPH0763947A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6277195B1 (en) | 1997-09-25 | 2001-08-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Rotation transmission apparatus and apparatus for forming surface film of panel for cathode-ray tubes using the same |
| WO2002037154A1 (fr) * | 2000-11-06 | 2002-05-10 | Mitsubishi Chemical Corporation | Structure pour regler la position d'une fibre optique et module laser semi-conducteur |
| GB2375832A (en) * | 2000-11-06 | 2002-11-27 | Mitsubishi Chem Corp | Structure for adjusting position of optical fiber and semiconductor laser module |
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