JPH075620A - 保護層を含む直接熱像形成材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 保護層を含む直接熱像形成材料を得る。 【構成】 情報に従って電圧を印加する加熱材料によっ
て直接熱像形成に使用するのに好適な感熱記録材料であ
って、前記記録材料が熱による光学濃度の変化を生じる
感熱記録層を含む場合において、前記記録層が１以上の
ビスフエノールから誘導されたポリカーボネート又はコ
ポリカーボネートから実質的に成る保護透明樹脂層で被
覆され、前記ビスフエノールの少なくとも２５ｍｏｌ％
が下記一般式（Ｉ）に相当するビス−（ヒドロキシフエ
ニル）−シクロアルカンから成ることを特徴とする感熱
記録材料： 式中Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 及びＲ⁴ のそれぞれ（同じであっ
ても異なってもよい）は水素等を表わし、Ｘは５〜８員
環の脂環式環を完成するために必要な原子を表わす。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は直接熱像形成に使用する
のに好適な記録材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】熱像形成又はサーモグラフィーは像に従
って変調した熱エネルギーの使用によって像を生じる記
録方法である。

【０００３】サーモグラフィーには下記の二つの方法が
知られている： 1.化学的又は物理的方法によって色又は光学濃度を変化
することを含む記録材料の像に従った加熱による可視像
パターンの直接熱形成。 2.像に従った加熱供与体材料から受容体材料上へ着色種
の転写によって可視像パターンを形成する熱染料転写印
刷。

【０００４】熱染料転写印刷は染料供与体材料を使用す
る記録方法であり、その材料に染料層を設け、その染料
層の染色部分又はそこに混入された染料を電気情報信号
によって正規に制御されたパターンに熱を適用すること
によって接触している受像材料上へ転写するものであ
る。

【０００５】“直接熱”像形成方法の概括は例えば「 I
maging Systems 」（Kurt I. Jacobson - Ralph E.
Jacobson ，The Focal Press - London and New
York（１９７６）、VII 章“７．１ Thermography ”）
に挙げられている。サーモグラフィーは実質的に感光性
でなく感熱性の材料に関するものである。像に従って適
用した熱は感熱性像形成材料における可視の変化をもた
らすのに充分なものである。

【０００６】“直接”サーモグラフ記録材料の大部分は
化学的型式によるものである。ある転換温度に加熱され
るとすぐに、不可逆の化学反応がおこり、着色された像
を生成する。

【０００７】多くの種類の化学的方法が上述の Kurt
I. の文献の１３８頁にいくつかの例として提案されて
おり、そこには銀石けんの酸化還元反応を還元剤で熱的
に引き起こすことによって銀金属画像を生成することが
記載されている。

【０００８】ＵＳ−Ｐ３０８０２５４によれば、典型的
な感熱コピー紙はその感熱層中にエチルセルロースの如
き熱可塑性バインダー、ステアリン酸銀の如き水不溶性
銀塩及び適当な有機還元剤（４−メトキシ−１−ヒドロ
キシ−ジヒドロナフタレンが代表的）を含んでいる。サ
ーモグラフ複写法におけるシートの局部加熱は約９０〜
１５０℃の範囲の好適な転換温度に加熱された金属試験
棒で瞬時に接触するような試験目的において感熱層に可
視の変化を生じさせる。最初の白又は明るい着色層は加
熱領域において褐色外観に黒ずんでくる。さらに中性の
色調を得るためにはフタルアジノンの如き複素環式有機
青味剤が感熱層の組成に加えられる。感熱コピー紙は
“表印刷（ front - printing ）”又は“裏印刷（ bac
k - printing）”に使用されるが、これらの印刷はＵＳ
−Ｐ３０７４８０９の図１及び図２に図示されるような
オリジナルの赤外光吸収画像領域に接触するとき熱に変
換され吸収される赤外線を使用している。

【０００９】“ Handbook of Imaging Materials ”
（ Arthur S. Diamond 編集− Diamond Research
Corporation − Ventura ，California Marcel Dekk
er，Inc. ２７０ Madison Avenue ，New York ，Ne
w York １００１６（１９９１）、４９８〜４９９頁）
に記載されているように、感熱印刷像信号は電気パルス
に変換され、次いで駆動回路を通って感熱プリントヘッ
ドに選択的に移行される。感熱プリントヘッドは顕微鏡
的加熱抵抗体材料から成り、それはジュール効果により
電気エネルギーを熱に変換する。このようにして熱の信
号に変換された電気パルスは感熱紙の表面に移行した熱
によって表わされ、そこで可視像の形成を生じる化学反
応がおこる。

【００１０】最後に述べられた文献（４９９〜５５１頁
参照）によると、過去において幾つかのシステムがロイ
コ染料の商業的使用を見い出すような直接熱像形成のた
めに開発されてきた。前記システムを具体化して得られ
る光学濃度は通常２より高くなく、黒色を生成するため
のロイコ染料化合物の混合物を要求する。

【００１１】ポリビニルアセテート及びポリビニルブチ
ラールの如き熱可塑性バインダー中に実質的な非感光性
有機銀塩及び有機還元剤を有する記録層を含む感熱コピ
ー紙はこれらの記録層が感熱プリントヘッドに粘着しう
るため前記プリントヘッドで操作するサーモグラフ記録
に使用するのにあまり適切ではない。さらに、有機成分
は加熱するとすぐに感熱記録層に残り、通常感熱プリン
トヘッドで使用する３００〜４００℃の範囲の操作温度
（上述の文献“ Handbook of Imaging Materials ”
５０２頁参照）において感熱プリントヘッドを汚す場合
がある。前記成分の望ましくない転写は記録材料との感
熱プリントヘッドの圧力接触によって推進される。可能
な接触圧力は良好な熱転写を保証するため２００〜５０
０ｇ／ｃｍ² であることができる。画素あたりの加熱時
間は１．０ｍｓ未満であることができる。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は直接熱
像形成に使用するのに好適な感熱記録材料において、前
記材料の感熱性像形成層が感度及び解像度の如き像形成
特性において実質的な損失なしに効果的に保護されるも
のを提供することである。

【００１３】本発明の特別な目的は直接熱像形成に使用
するのに好適な感熱記録材料において、前記材料の感熱
像形成層が像に従って電圧を印加する加熱材料と接触す
るとき変形せずかつそれにくっつかず加熱材料の汚れを
防止するものを提供することにある。

【００１４】本発明の他の目的及び利点は下記以降の記
述から明らかになるだろう。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明は、情報に従って
電圧を印加する加熱材料によって直接熱像形成に使用す
るのに好適な感熱記録材料を設け、その記録材料が感熱
側と称せられる支持体の同じ側上に熱作用関係において
熱による光学濃度変化を生じる１以上の物質を含有する
１以上の層を含む場合において、前記記録層の一つが１
以上のビスフエノールから誘導されたポリカーボネート
又はコポリカーボネートから実質的に成る保護透明樹脂
で被覆され、前記ビスフエノールの少なくとも２５ｍｏ
ｌ％が下記一般式（Ｉ）に相当するビス−（ヒドロキシ
フエニル）−シクロアルカンから成ることを特徴とする
感熱記録材料である。

【００１６】

【化５】

【００１７】式中Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、及びＲ⁴ のそれぞ
れ（同じであっても異なってもよい）は水素、ハロゲ
ン、置換されたＣ₁ 〜Ｃ₈ アルキル基を含むＣ₁ 〜Ｃ₈
アルキル基、置換されたＣ₅ 〜Ｃ₆ シクロアルキル基を
含むＣ₅ 〜Ｃ₆ シクロアルキル基、置換されたＣ₆ 〜Ｃ
₁₀アリール基を含むＣ₆ 〜Ｃ₁₀アリール基又は置換され
たＣ₇ 〜Ｃ₁₂アラルキル基を含むＣ₇ 〜Ｃ₁₂アラルキル
基を表わし；Ｘは５〜８員環の脂環式環を完成するため
に必要な原子を表わし、それは少なくとも一つのＣ₁ 〜
Ｃ₆ アルキル基又は少なくとも一つの５又は６員環のシ
クロアルキル基のいずれかを担持するか、又は縮合した
５又は６員環のシクロアルキル基を担持する。

【００１８】本発明はまた直接熱像形成における前記記
録材料の使用を含むものである。

【００１９】“熱作用関係”とはここでは前記物質が同
じ層又は異なった層において存在することができ、そこ
から熱によって互いに反応接触状態になりうることを意
味し、例えば溶融液中での拡散又は混合をいう。光学濃
度変化を起こす層を記録層と称する。

【００２０】一般式（Ｉ）に相当するビス−（ヒドロキ
シフエニル）−シクロアルカンから誘導されるホモポリ
カーボネートは約２６０℃のガラス転移温度を有するこ
とができ、それは約１５０℃のＴｇしか有しないビスフ
エノールＡから誘導されるホモポリカーボネートのＴｇ
より実質的に高いものである。

【００２１】前記一般式（Ｉ）に従ったビスフエノール
以外の他のビスフエノールとの共重縮合によるとＴｇは
例えば１８０〜２４０℃の範囲で変化することができ
る。

【００２２】一般式（Ｉ）に相当するビス−（ヒドロキ
シフエニル）−シクロアルカンから誘導された（コ）ポ
リカーボネートを含有する保護層は良好な熱安定性を示
し、例えば一般的なポリマーの熱可塑性樹脂を含有する
耐熱性層より変形が少ない。

【００２３】前記一般式（Ｉ）に相当するビス−（ヒド
ロキシフエニル）−シクロアルカンから誘導されるホモ
ポリカーボネートはエチルメチルケトン及び酢酸エチル
の如き生態学的に好ましい溶剤に可溶性である。但し、
それはビスフエノールＡから誘導されるポリカーボネー
トの場合でない。

【００２４】前記溶剤における溶解度を増加するために
は、前記一般式（Ｉ）における前記脂環式環の一つ又は
二つの炭素原子がＣ₁ 〜Ｃ₆ アルキル基、例えばメチル
基を担持するのが好ましい。

【００２５】前記一般式（Ｉ）に従ったビスフエノール
化合物は前記脂環式環がそのジフエニル−置換された炭
素原子に対するβ位置において二つのＣ₁ 〜Ｃ₆ アルキ
ル基で置換されていることが好ましい。

【００２６】前記一般式（Ｉ）に相当するビス−（ヒド
ロキシフエニル）−シクロアルカンは本発明に従って適
用されるポリカーボネートを製造するために好ましく使
用されるが、それは下記構造式(II)〜(IV)の一つに相当
する：

【００２７】

【化６】

【化７】

【化８】

【００２８】直接熱記録層上に保護層を被覆するための
ポリカーボネートの製造に使用する特に好ましいビス−
（ヒドロキシフエニル）−シクロアルカンは１，１−ビ
ス−（４−ヒドロキシフエニル）−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサンである（式(II)参照）。

【００２９】一般式（Ｉ）に相当するビス−（ヒドロキ
シフエニル）−シクロアルカンは一般式（Ｖ）に相当す
るフエノールと一般式(VI)に相当するケトンの縮合によ
る公知の方法に従って製造することができる。

【００３０】

【化９】

【化１０】 式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 及びＸは一般式（Ｉ）においてそれら
に与えた定義と同じ意義を有する。

【００３１】一般式（Ｖ）に相当する好適なフエノール
の例としては、フエノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレ
ゾール、２，６−ジメチルフエノール、２−クロロフエ
ノール、３−クロロフエノール、２，６−ジクロロフエ
ノール、２−シクロヘキシルフエノール、ジフエニルフ
エノール、及びｏ−又はｐ−ベンジルフエノールが挙げ
られる。

【００３２】これらのフエノールの大部分は商業的に入
手できるものであり、公知の方法に従って製造すること
ができる（クレゾール及びキシレノールの製造のために
は“Ullmanns Encyklopaedie der technischen Che
mie ”４．neubearbeiteteund erweiterte Auflage，
Band １５、６１〜７７頁、Verlag Chemie - Weinhei
m - New York １９７８．参照、クロロフエノールの製
造のためには“Ullmanns Encyklopaedie der techni
schen Chemie ”４．Auflage ，Band ９、５７３〜５
８２頁、Verlag Chemie １９７５．参照、アルキルフ
エノールの製造のためには“ Ullmanns Encyklopaedie
der technischen Chemie”４．Auflage ，Band １
８、１９１〜２１４頁、Verlag Chemie １９７９．参
照）。

【００３３】一般式(IV)に相当するケトンは例えば Bei
lsteins Handbuch der Organischen Chemie ，７．
Band，４．Auflage ，Springer - Verlag ， Berlin ，
１９２５ and corresponding Ergaenzungsbaende １
〜４； Journal of American Chemical Society ，
Vol.７９（１９５７）、１４８８，１４９０及び１４９
１頁；ＵＳ２６９２２８９；Journal of Chemical S
ociety，１９５４、２１８６及び２１９１頁；Journal
of organic Chemistry ，Vol.３８、No. ２６、１９
７３、４４３１頁；Journal of American Chemical
Society，Vol.８７、１９６５、１３５３頁（特に１３
５５頁）に記載された方法に従って製造される。前記式
(VI)の範囲のケトンを製造するための一般法は Organik
um，１５．Auflage 、１９７７、VEB - Deutscher Ver
lag der Wissenschaften，Berlin、６９８頁に与えら
れている。

【００３４】一般式(VI)に相当する好適なケトンの例と
しては、３，３−ジメチルシクロペンタン、２，２−ジ
メチルシクロヘキサノン、３，３−ジメチルシクロヘキ
サノン、４，４−ジメチルシクロヘキサノン、３−エチ
ル−３−メチルシクロペンタノン、２，３，３−トリメ
チルシクロペンタン、２，４，４−トリ−メチルシクロ
ペンタノン、３，３，４−トリメチルシクロペンタノ
ン、３，３−ジメチル−シクロヘプタノン、４，４−ジ
メチルシクロヘプタノン、３−エチル−３−メチル−シ
クロヘキサノン、４−エチル−４−メチルシクロヘキサ
ノン、２，３，３−トリメチル−シクロヘキサノン、
２，４，４−トリメチルシクロヘキサノン、３，３，４
−トリメチル−シクロヘキサノン、２，５，５−トリメ
チルシクロヘキサノン、３，３，５−トリメチル−シク
ロヘキサノン、３，４，４−トリメチルシクロヘキサノ
ン、２，３，３，４−テトラメチル−シクロペンタノ
ン、２，３，４，４−テトラメチルシクロペンタノン、
３，３，４，４−テトラ−メチルシクロペンタノン、
２，２，５−トリメチルシクロヘプタノン、２，２，６
−トリ−メチルシクロヘプタノン、２，６，６−トリメ
チルシクロヘプタノン、３，３，５−トリ−メチルシク
ロヘプタノン、３，５，５−トリメチルシクロヘプタノ
ン、５−エチル−２，５−ジメチルシクロヘプタノン、
２，３，３，５−テトラメチルシクロヘプタノン、２，
３，５，５−テトラメチルシクロヘプタノン、３，３，
５，５−テトラメチルシクロヘプタノン、４−エチル−
２，３，４−トリメチルシクロヘプタノン、２−イソプ
ロピル−４，４−ジメチル−シクロペンタノン、４−イ
ソプロピル−２，４−ジメチルシクロペンタノン、２−
エチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノン、３
−エチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノン、
３−エチル−４−イソプロピル−３−メチル−シクロペ
ンタノン、４−ｓ−ブチル−３，３−ジメチル−シクロ
ペンタノン、２−イソプロピル−３，３，４−トリメチ
ルシクロペンタノン、３−エチル−４−イソプロピル−
３−メチル−シクロヘキサノン、４−エチル−３−イソ
プロピル−４−メチル−シクロヘキサノン、３−ｓ−ブ
チル−４，４−ジメチルシクロヘキサノン、３−イソプ
ロピル−３，５，５−トリメチルシクロヘキサノン、４
−イソプロピル−３，５，５−トリメチルシクロ−ヘキ
サノン、３，３，５−トリメチル−５−プロピルシクロ
ヘキサノン、３，５，５−トリメチル−５−プロピル−
シクロヘキサノン、２−ブチル−３，３，４−トリメチ
ルシクロペンタノン、２−ブチル−３，３，４−トリメ
チルシクロヘキサノン、４−ブチル−３，３，５−トリ
メチルシクロ−ヘキサノン、３−イソヘキシル−３−メ
チルシクロヘキサノン、５−エチル−２，４−ジイソプ
ロピル−５−メチルシクロヘキサノン、２，２−ジメチ
ルシクロオクタノン、及び３，３，８−トリ−メチルシ
クロ−オクタノンを挙げることができる。

【００３５】好適なケトンの例としては下記のものが挙
げられる：

【化１１】

【化１２】

【００３６】前記一般式（Ｉ）に相当するビス−（ヒド
ロキシフエニル）−シクロアルカンの合成はドイツ特許
３８３２３９６に記載されている。

【００３７】本発明に従って使用する高分子量、熱可塑
性、芳香族コポリカーボネートの製造には、一般式
（Ｉ）に相当するビス−（ヒドロキシフエニル）−シク
ロアルカンを下記一般式に相当する他のビスフエノール
化合物と組み合わせて有意に使用することができる。

【００３８】ＨＯ−Ｚ−ＯＨ (VII) 式中、Ｚは２価の有機基を表わし、前記一般式のＨＯ−
基は同じ芳香族核又は異なった芳香核に結合され、後者
の場合には前記核は一般式（Ｉ）に述べられたＣＸ基と
は異なる２価のラジカル又は基に直接又は介して結合す
ることができ、例えばＺは−Ｏ−、−Ｓ−、カルボニ
ル、スルホキシル、スルホニル又は２価の直鎖又は枝分
れ鎖の脂肪族基又は２価のさらに置換されないシクロ脂
肪族基を表わす。

【００３９】前記一般式(VII) に相当する化合物の例と
しては、ヒドロキノン、レソルシノール、ジヒドロキシ
ジフエニル、ビス−（ヒドロキシ−フエニル）−アルカ
ン、ビス−（ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサン、
ビス−（ヒドロキシ−フエニル）−スルファイド、ビス
−（ヒドロキシフエニル）−エーテル、ビス−（ヒドロ
キシフエニル）−ケトン、ビス−（ヒドロキシフエニ
ル）−スルホン、ビス−（ヒドロキシフエニル）−スル
ホキシド、α，α′−ビス−（ヒドロキシフエニル）−
ジイソプロピルベンゼン、及び芳香族核に少なくとも一
つのアルキル及び／又はハロゲン置換基を担持するかか
る化合物が挙げられる。

【００４０】一般式(VII) に相当するこれらの及び他の
好適な化合物は例えばＵＳ３０２８３６５、ＵＳ２９９
９８３５、ＵＳ３１４８１７２、ＵＳ３２７５６０１、
ＵＳ２９９１２７３、ＵＳ３２７１３６７、ＵＳ３０６
２７８１、ＵＳ２９７０１３１、ＵＳ２９９９８４６、
ＤＥ１５７０７０３、ＤＥ２０６３０５０、ＤＥ２０６
３０５２、ＤＥ２２１１９５６、ＦＲ１５６１５１８、
及び“ Chemistry and Physics of Polycarbonate
s”（ Interscience Publishers ，New York，１９６
４．）に記載されている。

【００４１】前記一般式(VII) に相当する好適な化合物
は例えば、４，４′−ジヒドロキシジフエニル、２，２
−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−プロパン、２，
４−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−２−メチルブ
タン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−シ
クロヘキサン、α，α′−ビス−（４−ヒドロキシフエ
ニル）−ｐ−ジイソプロピル−ベンゼン、２，２−ビス
−（３−メチル−４−ジヒドロキシフエニル）−プロパ
ン、２，２−ビス−（３−クロロ−４−ヒドロキシフエ
ニル）−プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフエニル）−メタン、２，２−ビス−（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）−プロパン、ビ
ス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）−
スルホン、２，４−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシ−フエニル）−２−メチルブタン、１，１−ビ
ス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフエニル）−
シクロヘキサン、α，α′−ビス−（３，５−ジメチル
−４−ヒドロキシフエニル）−ｐ−ジイソプロピルベン
ゼン、２，２−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロ
キシフエニル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−
ジブロモ−４−ヒドロキシフエニル）−プロパン、２，
２−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−プロパン、
２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
エニル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジクロ
ロ−４−ヒドロキシ−フエニル）−プロパン、２，２−
ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフエニル）
−プロパン、及び１，１−ビス−（４−ヒドロキシフエ
ニル）−シクロヘキサンが挙げられる。

【００４２】本発明に従って使用されるポリカーボネー
ト中でのビスフエノールＡの混入はポリカーボネートの
脆性を減ずるが、低いＴｇを犠牲にすることになる。低
い脆性は保護層の掻ききずを低下させる。熱による変形
と掻ききずとの間で妥協点を見つけることができる。

【００４３】上述のコポリカーボネートの製造に一般式
（Ｉ）に相当するビス−（ヒドロキシフエニル）−シク
ロアルカンを一般式(VII) に相当する少なくとも一つの
ビスフエノール化合物とともに使用する場合；前記一般
式（Ｉ）に相当するビス−（ヒドロキシフエニル）−シ
クロアルカンの量はビスフエノール全量に対して少なく
とも２５ｍｏｌ％が好ましく、さらに好ましくは少なく
とも５０ｍｏｌ％である。

【００４４】一般式(VII) に相当する化合物から生じる
単位及びビス−（ヒドロキシフエニル）−シクロアルカ
ン単位は異なるブロック又は異なる単位がランダムに分
布しうるときにコポリカーボネートに存在することがで
きる。

【００４５】本発明に従って使用するための（コ）ポリ
カーボネートの製造において、枝分れ剤をＴｇ及び機械
抵抗をさらに増大するために使用することができる。枝
分れ（コ）ポリカーボネートを得るためには、３以上の
フエノール基を有する特定の化合物中にトリ−又は高官
能化合物を少量、好ましくは０．０５〜２．０ｍｏｌ％
（ビス−（ヒドロキシフエニル）−シクロアルカンにつ
いて）加えることができる。３以上のフエノール基を有
する有用な枝分れ剤としてはフロログルシノール、４，
６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフ
エニル）−ヘプテン、２，４，６−ジメチル−２，４，
６−トリ−（４−ヒドロキシフエニル）−ヘプタン、
１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフエニル）−ベン
ゼン、１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフエニル）
−エタン、トリ−（４−ヒドロキシフエニル）−フエニ
ルメタン、２，２−ビス−（４，４−ビス−（４−ヒド
ロキシフエニル）−シクロヘキシル）−プロパン、２，
４−ビス−（４−ヒドロキシフエニル−イソプロピル）
−フエノール、２，６−ビス−（２−ヒドロキシ−５′
−メチル−ベンジル）−４−メチルフエノール、２−
（４−ヒドロキシフエニル）−２−（２，４−ジヒドロ
キシフエニル）−プロパン、オルトテレフタル酸ヘキサ
−（（４−（４−ヒドロキシフエニル）−イソプロピ
ル）−フエニル）エステル、テトラ−（４−ヒドロキシ
フエニル）−メタン、テトラ−（４−（４−ヒドロキシ
フエニル−イソプロピル）−フエノキシ）−メタン、及
び１，４−ビス−（（４′−４″−ジヒドロキシトリフ
エニル）−メチル）−ベンゼンを挙げることができる。
他の３官能化合物の例としては２，４−ジヒドロキシ−
安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌル、及び３，３−
ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフエニル）−２−
オキソ−ジヒドロインドールが挙げられる。

【００４６】連鎖の伸びを停止しかつ（コ）ポリカーボ
ネートの分子量を制御するためには当業者に知られる単
官能化合物から作ることができる。前記目的のための好
適な化合物は、例えばフエノール、ｔ−ブチルフエノー
ル、及び他のＣ₁ 〜Ｃ₇ −アルキル−置換されたフエノ
ールがある。特に下記一般式(VIII)に相当するフエノー
ルを少量使用するのが有益である。

【００４７】

【化１３】 式中、Ｒは枝分れしたＣ₈ −アルキル基及び枝分れした
Ｃ₉ −アルキル基から選ばれた少なくとも一つの置換基
を表わし、ｎは１，２，３，４、又は５であり、ｎが２
〜５の場合にはＲ基は同じか又は異なった意義を有して
も良い。

【００４８】好ましくはアルキル基ＲにおけるＣＨ₃ 部
分の寄与率は４７〜８９％であり、ＣＨ−及びＣＨ₂ −
部分の寄与率５３〜１１％である。好ましくはアルキル
基はＯＨ−基に関してｏ−及び／又はｐ−位置に位置
し、特にオルト位置はせいぜい２０％である。連鎖の伸
びを停止するために使用される化合物は一般式（Ｉ）に
相当するビス−（ヒドロキシフエニル）−シクロアルカ
ンの含有量に関して０．５〜１０ｍｏｌ％の濃度、好ま
しくは１．５〜８ｍｏｌ％の濃度で一般に使用される。

【００４９】本発明に従って使用される（コ）ポリカー
ボネートは当業者に公知の界面重縮合法によって製造す
ることができる（例えば H. Schnell ，“ Chemistry
andPhysics of Polycarbonates ”，Polymer Review
s，Vol. IX ，３３頁、Interscience Publ. ，１９６
４参照）。この方法によればビスフエノールは水性アル
カリ相中で溶解される。分子量を制御するためには連鎖
の伸びを停止する化合物を加えることができる（例えば
一般式(VIII)に相当する化合物）。縮合反応はホスゲン
を含有する不活性有機相の存在下でおこる。好ましくは
不活性有機相として水不混和性溶液が使用されるが、そ
れは形成される（コ）ポリカーボネートのための溶剤で
ある。反応温度は好ましくは０〜４０℃である。

【００５０】もし枝分れ剤を使用する場合には、それら
をビス−（ヒドロキシフエニル）−シクロアルカン及び
他のジフエノールとともに水性アルカリ相に対して０．
０５〜２ｍｏｌ％加えるか又はそれらをホスゲン化が起
こる前に有機相に加えることができる。

【００５１】ビス−（ヒドロキシフエニル）−シクロア
ルカン及び他のジフエノールに加えてさらにそれらのモ
ノ−及び／又はビス−クロロカーボネートエステルを使
用し、有機溶剤中に溶液の形で加えることができる。連
鎖停止剤及び枝分れ剤の量はビス−（ヒドロキシフエニ
ル）−シクロアルカン及び他のジフエノール構造単位の
量に対して均一である。クロロカーボネートエステルを
使用するとき、ホスゲンの量は当業者に知られているよ
うに減じることができる。

【００５２】連鎖停止剤、枝分れ剤及びクロロカーボネ
ートエステルを溶解するために好適な有機溶剤としては
例えばメチレンクロライド、クロロベンゼン、アセト
ン、アセトニトリル、及びこれらの混合物、特にメチレ
ンクロライド及びクロロベンゼンの混合物を挙げること
ができる。所望により、連鎖停止剤及び枝分れ剤は同じ
溶剤に溶解される。

【００５３】界面縮合のため有機相としては例えばメチ
レンクロライド、クロロベンゼン及びメチレンクロライ
ド及びクロロベンゼンの混合物が使用される。

【００５４】水性アルカリ相としては例えば水酸化ナト
リウム水溶液が使用される。

【００５５】界面重縮合法によるポリカーボネートの製
造は第３アミンの如き触媒、特にトリブチルアミン又は
トリエチルアミンの如き第３脂肪族アミンを加えること
によって当業者に公知のごとく触媒作用を及ぼすことが
できる。触媒はビス−（ヒドロキシフエニル）−シクロ
アルカン及び他のジフエノールの含有量に対して０．０
５〜１０ｍｏｌ％の量で使用される。触媒はホスゲン化
の始まる前、ホスゲン化中、ホスゲン化後、添加するこ
とができる。

【００５６】（コ）ポリカーボネートの単離は当業者に
公知の如く実行される。

【００５７】本発明に従って使用するための（コ）ポリ
カーボネートは公知の方法（いわゆるピリジン法）又は
例えばジフエニルカーボネートをホスゲンの代わりに使
用する溶融エステル交換法による均一相で製造すること
ができる。この場合もまた（コ）ポリカーボネートは当
業者に公知の方法に従って単離される。

【００５８】好ましくは、（コ）ポリカーボネートの分
子量は少なくとも８０００であり、さらに好ましくは８
０００〜２０００００であり、さらに好ましくは１００
００〜８００００である。

【００５９】本発明に従って有意に使用することができ
るポリカーボネートの例としては以下のものを挙げるこ
とができる。

【００６０】ＰＣ１ 下記構造を有するホモポリカー
ボネート

【化１４】 式中、ｎはジクロロメタンにおけるポリマーの０．５ｗ
ｔ％溶液のために決定されるようにポリマーに１．２９
５の粘度比を与える値である。粘度比は同温度（ここで
は２０℃）で測定したポリマー溶液及び純溶媒の粘度の
商で定義される。

【００６１】ＰＣ２ ＰＣ１と同じ構造を有するホモ
ポリカーボネートであるが、２．２の粘度比を与える。

【００６２】ＰＣ３ 下記構造を有するコポリカーボ
ネート

【化１５】 式中、ｘ＝５５ｍｏｌ％、ｙ＝４５ｍｏｌ％であり、
１．２９５の粘度比を与える。

【００６３】二つ以上の異なった（コ）ポリカーボネー
トの混合物は耐熱層において使用することができる。

【００６４】本発明に従った直接熱記録材料の保護層は
前記（コ）ポリカーボネートに加えて通常耐熱層のため
に使用される熱可塑性バインダーを１以上含むことがで
きる。その例としてポリ（スチレン−コ−アクリロニト
リル）、ポリ（ビニルアルコール−コ−ブチラール）、
ポリ（ビニルアルコール−コ−アセタール）、ポリ（ビ
ニルアルコール−コーベンザル）、ポリスチレン、ポリ
（ビニルアセテート）、硝酸セルロース、セルロースア
セテートプロピオネート、セルロースアセテートヒドロ
ジエンフタレート、セルロースアセテート、セルロース
アセテートブチレート、セルローストリアセテート、エ
チルセルロース、ポリ（メチルメタクリレート）、及び
メチルメタクリレートの共重合体を挙げることができ
る。ポリ（スチレン−コ−アクリロ−ニトリル）の添加
が好ましい。

【００６５】本発明に従って適用される保護層は添加剤
を含むことができる。但し、かかる材料がその非粘特性
を阻害しないこと、引掻ききず、腐食、汚染がないこ
と、又はさもなければ感熱プリントヘッドを損傷したり
又は像品質を悪化しないことが条件である。

【００６６】本発明に従った直接熱記録材料の保護層は
液体滑剤のような他の薬剤を少量含むか又は被覆する。

【００６７】好適な滑性を有する材料の例としては、重
合体バインダーを含む又は含まない表面活性剤が挙げら
れる。表面活性剤はカルボン酸、スルホン酸、リン酸、
脂肪族アミン塩、脂肪族四級アンモニウム塩基、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル、ポリエチレングリコー
ル脂肪酸エステル及びフルオロアルキルＣ₂ 〜Ｃ₂₀脂肪
酸の如き極性基と結合する疎水性分子部を有する当業者
に既知の薬剤なら何でも良い。液体滑剤の例としてはシ
リコーンオイル、合成油、飽和炭化水素及びグリコール
が含まれる。

【００６８】好ましくは、トップコート（表面層）を形
成するこれらのシリコーン化合物は耐熱層のポリカーボ
ネートのための非溶剤中における溶液の形で被覆され
る。例えばイソプロパノール又はＣ₆ 〜Ｃ₁₁アルカンの
溶液で被覆される。

【００６９】保護層は好ましくは約０．１〜１５μｍの
厚さを有しており、さらに好ましくは０．５〜５．０μ
ｍである。保護層は薄い層を被覆するための公知の被覆
技術によって感熱記録層上に被覆することができる。

【００７０】本発明に従った保護層は例えばＥＰ１３８
４８３、ＥＰ２２７０９０、ＵＳ−Ｐ４５６７１１３，
４５７２８６０及び４７１７７１１及び公告されたヨー
ロッパ特許出願３１１８４１に記載された最外層のスリ
ップ層（非粘着性層）組成物で任意に被覆される。

【００７１】実施例では好適なスリップ層はバインダー
としてスチレン−アクリロニトリル共重合体又はスチレ
ン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体又はこれら
の混合物を、滑剤としてバインダー０．１〜１０重量％
の量でポリシロキサン−ポリエーテル共重合体又はポリ
テトラフルオロエチレン又はこれらの混合物を含んでい
る。

【００７２】他の好適なスリップ層は被覆手順中に公告
されたヨーロッパ特許出願０５５４５７６に記載された
IV_a 又はIV_b 元素基の酸化物である無機の主鎖を有する
重合体を形成しうる物質と少なくとも一つのシリコン化
合物の溶液を被覆することによって得ることができる。

【００７３】他の好適なスリップ被膜は例えば公告され
たヨーロッパ特許出願（ＥＰ−Ａ）０５０１０７２及び
０４９２４１１に記載されている。

【００７４】スリップ層は約０．２〜５．０μｍの厚さ
を有することができ、好ましくは０．４〜２．０μｍの
範囲である。

【００７５】ここに記載される前記（コ）ポリカーボネ
ート含有層で保護した記録層を有する直接熱記録のため
のサーモグラフ記録材料は当業者に知られている型式の
ものであることができる。

【００７６】２を越える光学濃度を得るためには、水不
溶性樹脂バインダー中で還元剤と混合されて実質的な非
感光性有機銀塩のベース上に形成された記録材料が好ま
しく使用される。

【００７７】還元剤はベヘン酸銀の如き実質的な非感光
性銀塩の熱的に開始される還元によって銀像を生成する
ための公知のサーモグラフ記録材料で使用される型式の
ものであることができる。かかる還元剤はＵＳ−Ｐ３８
８７３７８、そこに述べられている先行技術及びＵＳ−
Ｐ３９９６３９７の再発行であるＲｅ．３０１０７に記
載されている。

【００７８】立体的に封鎖されたヒンダードフエノール
又はビス−フエノール（ＵＳ−Ｐ３５４７６４８参照）
は、ベヘン酸銀の如き非感光性銀塩の還元において加熱
すると反応パートナーとなる補助還元剤として使用する
ことができる。

【００７９】本発明に従った直接熱記録材料の使用に特
に好適な実質的な非感光性有機銀塩は脂肪酸として知ら
れる脂肪族カルボン酸の銀塩であり、その脂肪族炭素鎖
は例えばパルミチン酸銀、ステアリン酸銀及びベヘン酸
銀のような少なくとも１２のＣ原子を有しているが、例
えばＧＢ−Ｐ１１１１４９２に記載されるようなチオエ
ーテル基を有する変性脂肪族カルボン酸も同様に熱的に
現像可能な銀像を生成するために使用できる。

【００８０】銀像濃度は還元剤及び有機銀塩の被覆面積
に左右され、好ましくは１００℃を越える加熱で少なく
とも３の光学濃度を得ることができる必要がある。

【００８１】好ましくは有機銀塩／ｍｏｌあたり少なく
とも０．１０ｍｏｌの還元剤を使用する。特別な組み合
わせでは、脂肪酸銀塩は自由な脂肪酸との組み合わせで
存在する。

【００８２】有機銀塩に対する樹脂バインダーの重量比
は例えば０．２〜６の範囲であり、記録層の厚さは好ま
しくは３〜３０μｍの範囲であり、さらに好ましくは８
〜１６μｍの範囲である。

【００８３】特別な実施例に従うと感熱記録材料は一つ
の層で実質的な非感光性有機銀塩を、別の層で前記銀塩
との熱作用関係においてそのための一つ以上の還元剤を
含んでいる。

【００８４】隣接するバインダー層に還元剤として４−
メトキシ−１−ナフトール及びベヘン酸銀を含む感熱記
録材料がＵＳ−Ｐ３０９４４１７の実施例１に記載され
ている。

【００８５】高い濃度で純黒調を、低い濃度で無彩灰色
を得るために、記録層は前記有機銀塩及び還元剤と混合
してサーモグラフィー又はフォトサーモグラフィーで知
られるいわゆる青味剤を含んでいる。

【００８６】好適な青味剤は既述のＲｅ．３０１０７に
記載される一般式の範囲内のフタルイミド及びフタルア
ジノンである。さらなる参考例はＵＳ−Ｐ３０７４８０
９，３４４６６４８及び３８４４７９７に記載される青
味剤がある。他の有用な青味剤はベンゾオキサジンジオ
ン化合物、例えばＵＳ−Ｐ３９５１６６０に記載される
３，４−ジヒドロ−２，４−ジオキソ−１，３，２Ｈ−
ベンゾオキサジンがある。

【００８７】前記成分に加えて、記録層は帯電防止剤の
如き他の添加剤を含むことができる。他の添加剤として
は、例えば F₃C(CF₂)₆CONH(CH₂CH₂O)-H の如きフルオロ
カーボン基を含む非イオン性帯電防止剤、紫外線吸収化
合物、白色光反射及び／又は紫外線反射顔料、コロイド
シリカ、及び／又は蛍光増白剤がある。

【００８８】前記成分のため結合剤（バインダー）とし
て好ましくは可塑性樹脂が使用されるが、その成分は均
一に分散されるか又はそれとともに固体状態の溶液を形
成することができる。その目的のためにあらゆる種類の
天然物質、変性された天然物質又は合成樹脂を使用する
ことができる。例えばエチルセルロース、セルロースエ
ステル、カルボキシメチルセルロース、スターチエーテ
ル、ガラクトマンナンの如きセルロース誘導体、ポリ塩
化ビニルの如きα，β−エチレンの不飽和化合物から誘
導された重合体、塩化ビニル及び酢酸ビニルの共重合
体、ポリ酢酸ビニル及び部分的に加水分解した酢酸ポリ
ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール
の如きポリビニルアセタール、アクリロニトリル及びア
クリルアミドの共重合体、ポリアクリル酸エステル、ポ
リメタクリル酸エステル及びポリエチレンを挙げること
ができる。特に好適な生態学的に重要な（ハロゲンのな
い）バインダーはポリビニルブチラールである。

【００８９】サーモグラフ記録層でバインダーを形成す
る上述のポリマー又はそれらの混合物は高温でレドック
ス反応の反応速度を改良する感熱溶剤である“加熱溶剤
（ heat solvents ）”又はワックスとともに使用する
ことができる。

【００９０】本発明において“加熱溶剤”という言葉は
非加水分解性の有機材料が５０℃未満の温度において記
録層中で固体状態であるが、６０℃を越える温度におい
て例えば有機銀塩のための還元剤の如き少なくとも一つ
のレドックス反応体のための液体溶剤になることを意味
する。その目的のために有用なものとしてはＵＳ−Ｐ３
３４７６７５に記載される１５００〜２００００の範囲
の平均分子量を有するポリエチレングリコールがある。
さらにＵＳ−Ｐ３６６７９５９に記載された加熱溶剤で
あるウレア、メチル、スルホンアミド及びエチレンカー
ボネート、及びResearch Disclosure 、１２月１９７
６年、（ item １５０２７）２６〜２８頁に加熱溶剤と
して記載されたテトラヒドロ−チオフエン−１，１−ジ
オキサイド、メチルアニセート及び１，１０−デカンジ
オールの如き化合物を挙げることができる。さらに加熱
溶剤の他の例はＵＳ−Ｐ３４３８７７６及び４７４０４
４６、及び公告されたＥＰ−Ａ０１１９６１５及び０１
２２５１２及びＤＥ−Ａ３３３９８１０に記載されてい
る。

【００９１】感熱記録材料のための支持体は好ましくは
薄い可撓性の支持体であり、例えば紙、ポリエチレン被
覆紙又はセルロースエステル（例：セルローストリアセ
テート）、ポリプロピレン、ポリカーボネート又はポリ
エステル（例：ポリエチレンテレフタレート）から作ら
れた透明樹脂フィルムから作られる。支持体はシート、
リボン又はウエブであることができ、その上に被覆され
る感熱記録層に対する付着性を改良するために下塗りす
ることができる。

【００９２】記録層組成物の被覆は被覆成分のための溶
剤又は溶剤混合物を使う公知のあらゆる被覆技術によっ
て実行できる。一般的な被覆技術は例えば Modern Coa
tingand Drying Technology （ Edward D. Cohen 及
び Edgar B. Gutoff 編集、（１９９２） VCH Publis
hers Inc. ２２０ East ２３rd Street、Suite９０
９ New York ，NY １００１０、米国）に記載されて
いる。

【００９３】好適な被覆技術はスクリーン印刷、グラビ
ア、正転及び逆転ロールコートがある。スクリーン印
刷、スプレーコート及びグラビアコートは他の技術で達
成しうるよりも正確に非常に薄い被覆を適用するための
精密な方法として使用される。

【００９４】本発明に従った直接熱記録材料は電気的に
電圧を印加する感熱プリントヘッドとともに特に好適に
使用される。

【００９５】記録中、感熱プリントヘッドは直接熱記録
材料の保護被覆と接触させられる。感熱プリントヘッド
は小さな選択的に電圧を印加する抵抗体を含み、それは
汚れないものでかつ摩耗に対して保護されなければなら
ない。

【００９６】プリントヘッドの要求条件の概括は既述の
Handbook of Imaging Materials ，II章、５１０〜
５１４頁に記載されている。商業的に利用しうる感熱プ
リントヘッドは例えば富士通感熱ヘッド（ＦＴＰ−０４
０ ＭＣＳ００１）、ＴＤＫ感熱ヘッド（Ｆ４１５ Ｈ
Ｈ７−１０８９）、及びローム感熱ヘッド（ＫＥ２００
８−Ｆ３）がある。

【００９７】情報に従った加熱は抵抗体リボンによって
同様に進行することができ、電流は小さなプリントヘッ
ド電極（突起）を通って前記電極の反対側を連続電極で
（例えば真空蒸着アルミニウム層の形で）被覆した抵抗
体層（表面抵抗５００〜９００オーム／平方）を流れ
る。前記プリントヘッド電極のわきで抵抗体層と接触し
ている大きな接地板電極はジュール熱を接地電流として
最小にすることを保証する（既述の文献“ Progress i
n Basic Principles of Imaging Systems− Proce
edings of the International Congress of Phot
ographic Science Koeln（ Cologne）”、（１９８
６）抵抗体リボン印刷技術の実施例として扱われている
６２２頁の図６参照）。

【００９８】抵抗体リボンを使用する場合に抵抗体リボ
ンに直接熱が発生し、走行するリボンのみ（プリントヘ
ッドではない）が加熱されるという事実は印刷スピード
において本質的な利点を与えるものである。感熱プリン
トヘッド技術を適用する場合には、感熱プリントヘッド
の種々の材料は加熱されるためヘッドが漏話なしに次の
位置で印刷できる前に冷却されなければならない。

【００９９】非衝撃性印刷（抵抗体リボン）のためのポ
リカーボネートリボンの製造及び組成物は例えばＵＳ−
Ｐ４１０３０６６に記載されている。

【０１００】前記感熱プリントヘッド又は抵抗体リボン
で熱エネルギーに変換される電気エネルギーを変調する
ための像信号は例えば光電子スキャン装置から又は中間
記憶装置（例：磁気ディスク又はテープ又は光学ディス
ク記憶媒体、場合によってはデジタル像ワークステーシ
ョンに連結される）から直接得られる。そこで像情報を
特別なニーズに満足するように処理することができる。

【０１０１】さらに他の感熱記録の具体例によると本記
録材料は、例えばＵＳ−Ｐ４９０８６３１に記載される
ような超音波画素プリンター又は情報に従って変調され
るレーザービームとともに使用される。

【０１０２】直接熱像形成は乳白色光反射バックグラウ
ンドを有する反射型プリント及び透明ポジ（ transpare
ncies ）の両方に使用することができる。

【０１０３】ハードコピーの分野では白色不透明基材
（例えば紙基材）上に記録材料が使用される。前記基材
及び／又は記録層間の層は白色光反射顔料を含むことが
できる。

【０１０４】黒白透明ポジはライトボックスで操作する
検査技術における医療診断分野で広く使用されている。

【０１０５】本発明を下記実施例により説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。百分率（％）
及び比率は特に断りのない限り重量による。

【０１０６】

【実施例】

実施例 １ １００μｍの厚さを有する下塗りされたポリエチレンテ
レフタレート支持体をドクターブレードコートして下記
を含む記録層を乾燥後その上に得た。 ベヘン酸銀 4.47g/m² ポリビニルブチラール 2.24g/m² 還元剤Ｓ（後述する） 0.85g/m² 3,4 −ジヒドロ−2,4 −ジオキソ−1,3,2Hベンゾオキサジン 0.32g/m² シリコーンオイル 0.02g/m² 還元剤Ｓはポリヒドロキシ スピロ−ビス−インダン、
すなわち３，３，３′，３′−テトラメチル−５，６，
５′，６′−テトラヒドロキシ−スピロ−ビス−インダ
ンである。

【０１０７】前記記録層を乾燥後、保護層を形成するた
めの下記組成物を２２℃で３０μｍの未乾燥塗膜厚で被
覆した。 メチルエチルケトン ９０ｇ ビスフエノール(II)45mol%及びビスフエノールＡ55mol% から誘導されたポリカーボネート １０ｇ

【０１０８】このようにして被覆した層を５０℃の空気
流で１０分間乾燥し、それによって保護耐スクラッチ層
を得た。

【０１０９】前記保護層上にスリップ層を形成するため
の下記被覆組成物を２２℃で３０μｍの未乾燥塗膜厚で
被覆した。 ＴＥＧＯＧＬＩＤＥ４１０（商標名）滑剤 ９９．５ｇ イソプロパノール ０．５０ｇ

【０１１０】前記層を保護層に記載されると同様に乾燥
した。得られた直接熱像形成材料は感熱プリンター三菱
ＣＰ１００（商標名）による感熱プリントに使用した。
印刷中、プリントヘッドはスリップ層と接触した状態に
保ったが、表面変形の兆候はまったく見られなかった。

【０１１１】像形成及び非像形成領域の光学濃度はオル
トフィルター（約５００ｎｍにおける最大透過率）を設
けた濃度計 MACBETH TD９０４（商標名）における透過
率で測定した。測定された最小光学濃度（Ｄ_min ）は
０．０８であり、最大光学濃度（Ｄ_max ）は３．３であ
った。

【０１１２】実施例 ２ 保護層組成物においてビスフエノール(II)４５ｍｏｌ％
及びビスフエノールＡ５５ｍｏｌ％から誘導されたポリ
カーボネートをビスフエノール(II)１００ｍｏｌ％から
誘導されたポリカーボネートに代替した以外は実施例１
と同様に繰り返した。

【０１１３】このようにして得られた記録材料を実施例
１に記載されたように感熱プリンターに使用したとこ
ろ、同様の良好な結果が得られた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジール・デフュー ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 情報に従って電圧を印加する加熱材料に
   よって直接熱像形成に使用するのに好適な感熱記録材料
   であって、その記録材料が感熱側と称せられる支持体の
   同じ側上に熱による光学濃度変化を生じる１以上の物質
   を熱作用関係において含有する１以上の層を含む場合に
   おいて、前記層の一つが１以上のビスフエノールから誘
   導されたポリカーボネート又はコポリカーボネートから
   実質的に成る保護透明樹脂で被覆され、前記ビスフエノ
   ールの少なくとも２５ｍｏｌ％が下記一般式（Ｉ）に相
   当するビス−（ヒドロキシフエニル）−シクロアルカン
   から成ることを特徴とする感熱記録材料。 【化１】 式中Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、及びＲ⁴ のそれぞれ（同じであ
   っても異なってもよい）は水素、ハロゲン、Ｃ₁ 〜Ｃ₈
   アルキル基、置換されたＣ₁ 〜Ｃ₈ アルキル基、Ｃ₅ 〜
   Ｃ₆ シクロアルキル基、置換されたＣ₅ 〜Ｃ₆ シクロア
   ルキル基、Ｃ₆〜Ｃ₁₀アリール基、置換されたＣ₆ 〜Ｃ
   ₁₀アリール基、Ｃ₇ 〜Ｃ₁₂アラルキル基、又は置換され
   たＣ₇ 〜Ｃ₁₂アラルキル基を表わし；Ｘは５〜８員環の
   脂環式環を完成するために必要な原子を表わし、それは
   少なくとも一つのＣ₁ 〜Ｃ₆ アルキル基又は少なくとも
   一つの５又は６員環のシクロアルキル基のいずれかを担
   持するか、又は縮合した５又は６員環のシクロアルキル
   基を担持する。
2. 【請求項２】 前記一般式（Ｉ）において前記脂環式環
   の一つ又は二つの炭素原子がＣ₁ 〜Ｃ₆ アルキル基を担
   持する請求項１記載の感熱記録材料。
3. 【請求項３】 前記脂環式環がジフエニル置換炭素原子
   に対するβ位置において二つのＣ₁ 〜Ｃ₆ アルキル基で
   置換される請求項１記載の感熱記録材料。
4. 【請求項４】 前記一般式（Ｉ）に従ったビス−（ヒド
   ロキシフエニル）−シクロアルカンが下記式(II)〜(IV)
   の一つに相当する請求項１記載の感熱記録材料。 【化２】 【化３】 【化４】
5. 【請求項５】 コポリカーボネートが前記一般式（Ｉ）
   に従ったビスフエノール及び下記一般式(VII) に相当す
   るビスフエノールから誘導される請求項１〜４のいずれ
   か記載の感熱記録材料。 ＨＯ−Ｚ−ＯＨ (VII) 式中、Ｚは２価の有機基を表わし、前記一般式のＨＯ−
   基は同じ芳香族核又は異なった芳香族核に結合され、後
   者の場合には前記核は−Ｏ−、−Ｓ−、カルボニル、ス
   ルホキシル、スルホニルから成る基又は２価の直鎖又は
   枝分れ鎖の脂肪族基又は２価のさらに置換されない脂環
   式基から選択される２価のラジカル又は基を介して又は
   直接に結合することができる。
6. 【請求項６】 一般式(VII) に従った前記ビスフエノー
   ルが２，２−ビス−（４−ヒドロキシフエニル）−プロ
   パンである請求項５記載の感熱記録材料。
7. 【請求項７】 前記保護層が液体滑剤を含む請求項１〜
   ６いずれか記載の感熱記録材料。
8. 【請求項８】 感熱記録層である前記層の一つが実質的
   に非感光性有機銀塩をそのための還元剤と混合して含む
   請求項１〜７のいずれか記載の感熱記録材料。
9. 【請求項９】 前記層の一つが実質的な非感光性有機銀
   塩を含み、別の層が前記銀塩との熱作用関係において１
   以上のそのための還元剤を含む請求項１〜７のいずれか
   記載の感熱記録材料。
10. 【請求項１０】 前記銀塩が脂肪族カルボン酸の銀塩で
    あり、その脂肪族炭素鎖が少なくとも１２のＣ−原子を
    含む請求項８又は９記載の感熱記録材料。
11. 【請求項１１】 像に従って電気的に電圧を印加する加
    熱材料とともに請求項１〜１０のいずれか記載の感熱記
    録材料を使用する直接熱像形成方法において、前記方法
    が前記加熱材料に接触している間前記保護層を通して前
    記記録材料の記録層を像に従って加熱する工程を含むこ
    とを特徴とする直接熱像形成方法。