JPH07506117A - シクロブタンベンゼン誘導体 - Google Patents

シクロブタンベンゼン誘導体

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JPH07506117A JP6512686A JP51268694A JPH07506117A JP H07506117 A JPH07506117 A JP H07506117A JP 6512686 A JP6512686 A JP 6512686A JP 51268694 A JP51268694 A JP 51268694A JP H07506117 A JPH07506117 A JP H07506117A
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メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 シクロブタンベンゼン誘導体 本発明は式(I)のシクロブタンベンゼン誘導体に関し、 式中 R1は1ないし16個の炭素原子を有するアルキルあるいはアルケニルであり、 そのなかでさらに1以上のCH,基が一〇−で置換されていてもよ(、あるいは 式中R2は1ないし16個の炭素原子を有するアルキルあるいはアルケニルであ り、 0はOまたは1であり、 ■およびWはそれぞれCH,あるいはCHt CHzであり、■がCH2CH, であるときには、mは1.2あるいは3およびWはCH2であり、 A1は出現する各々のの場合には、互いに独立であって、置換してないあるいは 1ないし2個の弗素原子で置換されている1、4−)ユニしンであり、更にその 中で1あるいは2個のCH基が窒素で置換されていてもよく、あるいは置換され てないあるいはシアノ基で置換されていてもよい1.4−シクロヘキシレン、更 にその中の1あるいは2個のCH,基が酸素あるいは硫黄原子で置換されていて も良く、あるいはチアジアゾール2.5−ジイル、1.4−ビシクロ[2,2゜ 2]−オクチレンあるいは式 %式% 式中rとSはそれぞれ○、1.2あるいは3であり、LlとL2はそれぞれ互い に独立に水素あるいは弗素であり、 Z’は−CO−0−5−〇−CO−1−CH20−1−OCH,−1−CH,C H2−1−C=C−あるいは単結合であり、 YはNC3、ハロゲンあるいは少なくとも1個の弗素原子および/または塩素原 子で置換されている炭素原子lないし8個を有するアルキル、アルコキシ、アル ケニルあるいはアルケニルオキシであり、かつmが1.2あるいは3であるとき には、CNあるいは16個までの炭素原子を有するアルキルあるいはアルケニル であり、かつ1以上のCHa基が一〇−と反応していてもよく、 mは0、l、2あるいは3であり、 nは0、lまたは2である。
本発明は液晶性の媒体の外分としてのこれらの化合物の使用に関し、かつ本発明 による液晶性の媒体を含有する液晶および電気光学ディスプレイ素子に関する。
式Iの化合物は液晶性媒体の成分として、特に高度にツイストした変形、例えば STNあるいはSBEを包含するツイストしたセルの原理に基づくディスプレイ 用に、ゲスト−ホスト効果、配向相の変形効果あるいは動的散乱効果に基ずくデ ィスプレイ用に使用することができる。
本発明を強調する目的は液晶性の媒体として妥当な、かつ特に比較的に低い粘性 をもち、かつ中程度の誘電異方性を有する新規な、安定な、液晶性のあるいはメ ソーゲン性の化合物を発見することである。
式(I)の化合物が液晶性相の成分として理想的に適していることを見出された 。特にこれらの化合物は低い粘性を有している。これらの化合物は広いメゾ相範 囲および光学的および誘電異方性に好ましい値を有する安定な液晶性相を得るた めに使用することが可能であり、しかも同時に比抵抗および低い粘性には極めて 好ましい値を持っている点でも顕著である。これらによって、特にアクチブマト リックスディスプレイあるいはスーパーツイストディスプレイ用の媒体中で明確 な長所に達することが可能である。
日本の公開出願JP 02 085 243は式GB21 55 946は式I のシクロブタン誘導体を包含しているが、しかしシクロブタンカルボン酸エステ ルを記載しているに過ぎない。これらエステルはしかしながらアクチブマトリッ クスディスプレイには適していない。
その他の類似のシクロブタン誘導体は以下に記載されている。
DE−A 37 18 484 DE−A 39 29 524 WO91108184の一般式は基 を有するベンゼン誘導体を記載している。しかしながら、そこにはシクロブタン 誘導体は記載されてない。
さらに先行技術に記載されている化合物はその光学的異方性のみが記載されてお り、他方本発明による化合物は顕著に低い光学的異方性および粘性を有している のである。
本発明の主題 全く一般的な意味で、さらに式■の化合物を提供することは種々の性能に関する 考え方に従っても液晶性混合物の製造に妥当な液晶性物質の範囲を拡張したこと を意味している。
式Iの化合物は広い応用範囲を持っている。置換基の選択によって変化するが、 これらの化合物は基本材料として使用することが可能であり、液晶性相が圧倒的 にこれらから成り立っている。しかしながら、例えばこれら誘電体の誘電および /または光学異方性に影響を与えるために、および/またはその閾値電圧および /または粘性を最適化するために、式Iの化合物を他のクラスの化合物からの基 本材料に添加することも可能である。
式■の化合物は純粋状態では無色であり、電気光学的な使用に好ましい温度範囲 では液晶性メゾ相を形成している。また化学的 熱的に安定であり、光にたいし ても安定である。
したがって本発明は式1の化合物に関する6本発明の好ましい実施態様は以下の 通りa)mが0である誘導体、 b)L’およびR2が同一であって、かつ弗素である誘導体、 C)式■1の誘導体 式中のR1、AI 、ZlおよびYは上述の意味を持つている d)式■2の誘導体 式中のR1およびAIは上述の意味を持っているe)式13の誘導体 式中のR2,A’、Z’、V、W、L’、R2、m、nおよびYは上述の意味を 持っている。
本発明はさらに液晶性の媒体の成分としてのこれらの化合物の使用に関する。本 発明はさらに少なくとも1種の化合物を含有する液晶性の媒体に関し、かつ液晶 ディスプレイ素子、特にこのような媒体、特にマトリックス液晶ディスプレイを 含有する電気光学ディスプレイ素子に関する。
好ましい実施態様 簡単のために、以下のCbuは式 の基であり、A3は式 の基である。
Cycは1.4−シクロヘキシレン基であり、Cheは1.4−シクロヘキシレ ン基であり、Dioは1.3−ジオキサン−2,5−ジイル基であり、 Diti′i1.3−ジチアン−2,5−ジイル基でありP h eは1.4− フェニレン基であり、PheFは弗素でモノあるいはジ置換した1、4−フェニ レン基であり、 Pydはピリジン−2,5−ジイル基であり、Pyrはピリミジン−2,5−ジ イル基であり、B1はビシクロ−[222]オクチレン基でありたたしCycお よび/またはPheは置換されてなくあるいは弗素あるいはCNでモノあるいは ジ置換されていでもよい。
式Iの化合物は従って2個の環を含有する化合物、従属式Iaの化合物をも包含 している、 R’−Cbu−A コ − Y Ic 3個の環を含有する化合物、従属式IbないしIgのの化合物を包含している R’−Cbu−A”−A3−Y より R”−Cbu−A”−Zl−A3−Y 工CR’−Cyc−Cbu−A’−Y  工dR’−Dio−Cbu−A’−Y IeR2−Cyc−CFI、CH2−C bu−A’−Y 工fR’−Dio−CH2CH,−Cbu−A3−Y 工qか つ4個の環を含有する化合物、従属式IhないしIqのの化合物を包含している R1−Cbu−A’−A’−A3−Y 工hR”−Cbu−A’−Z”−A’− A’−Y X1R2−Dio−Cbu−A”−A’−Y 工mこれらの化合物の 内では従属式1a、Ib、Ic、Id、Ie、If、Ig、IiおよびIfが特 に好まし従属式Iaの好ましい化合物は従属式IaaおよびIabの化合物を包 含する R’−Cbu−Phe−Y 工aa R”−Cbu−Phe−F−Y 工abこれらの化合物の内では式1abの化合 物が 特に好ましい。
従属式Ibの好ましい化合物は従属式1baなLALIbfの化合物を包含する 。
R’−Cbu−Phe−Phe−Y よりaR’ −Cbu−Phe−PheF −Y よりbR’−Cbu−Cyc−Phe−Y よりCR1−Cbu−Cyc −PheF−Y IbdR’ −Cbu−PheF−Phe−Y よりeR’− Cbu−PheF−PheF−Y よりf従属式1cの好ましい化合物は従属式 1caなl/)シIchの化合物を包含する。
R’−Cbu−Phe−Zl−Phe−Y ICaR’−Cbu−Phe−Z” −PheF−Y IcbR”−Cbu−Cyc−Z’−Phe−Y IccR’ −Cbu−Cyc−Z”−PheF−Y madRl−Cbu−Dio−Z’− Phe−Y 工CeR’−Cbu−Dio−Z”−PheF−Y IcfRl− Cbu−Pyd−Z’−A3−Y ICqR’−Cbu−Pyr−Z’−A3− Y IChこれらの化合物の内では1式Ica、IcbおよびIccの化合物が 特に好ましい。
従属式1dの好ましい化合物は従属式Idaおよび工dbの化合物を包含する: R2−Cyc−Cbu−Phe−Y 工daR2−Cyc−Cbu−PheF− Y 工db従属式1eの好ましい化合物は従属式IeaおよびIebの化合物を 包含する R’−Dio−Cbu−Phe−Y 工eaR2−Dio−Cbu−PheF− Y 工eb以上および以下の式の化合物においては、LlおよびB2は同一であ っても互いに異なっていてもよく、好ましくは同一であって、かつ弗素である。
末端基R1−Cbuは好ましくは式lないし7の基でこれらのなかでは基Cbu ”およびCbu’は特に好ましい。
A1は好ましくはPhe、Cyc、PyrおよびDiOである。式Iの化合物は 好ましくは基B1、Pyd、Pyr、DioあるいはDitを1個以上含有して いない。
式Iの化合物およびA1および/またはA3が弗素でモノ置換あるいはジ置換さ れた1、4−フェニレンである全ての従属式の化合物も好ましい、特に、これら は2−フロロ−1,4−フェニレン、3−フロロ−1,4−フェニレン、2.3 −ジクロロ−1,4−フエニレン、2.6−ジクロロユニ、4−フ二二レン、3 .5−ジフロロー1.4−フエニL/ンである。
式■の特に好ましい化合物はA3が弗素でモノ置換あるいはジi17換された1 、4−フェニレンである化合物である。
基A3−Yは好ましくは以下のとおりである二式中アルキルは炭素原子1ないし 16個を有するアルキルである。
好ましい基A3はそのなかのリガントL1およびR2の少なくとも1個が弗素で ある、特にLlおよびR2が弗素である基である。
z′は好マシくハ単結合、−CO−O−1−O−CO−および−C82CH2− であり、その次に好ましくは−CI−120−および−〇 CH□−である。
R1あるいはYがアルキル基であるならば、この基は直鎖であっても、技別れし ていてもよい。好ましくは直鎖であって、2.3.4.5または6個の炭素原子 を持っており、従って好ましくはエチル、プロピル、ブチル、ペンチルあるいは ヘキシルである。
R′あるいはYがアルケニル基であるならば、この基は直鎖であっても、枝別れ していてもよい。好ましくは技別れしており、2.3.4,5または6個の炭素 原子を持っており、従ってビニル、アリル、プロブ−1−エニル、ブドー1−( 2−あるいは3−)エニル、ペン1−−1−(2−13−あるいは4−)エニル 、あるいはへキス−1−(2−13−14−または5−)エニルである。
Yがアルコキシ基であるならば、この基は直鎖あるいは枝別れしていてもよい。
好ましくは直鎖であって、従って好ましくはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、 ブトキシ、ペンデルオキシあるいはへフ“チルオキシである。
LlおよびR2は好ましくは同一であって、弗素または水素であって、特に弗素 である。
式1およびその従属式の全ての化合物の中では、含まれている少なくとも1個の 基が上述の好ましい意味の一つを有している化合物が好ましい。
式Iの化合物のなかでは、環Cycおよびピペリジンがトランス−1,4−二置 換体である立体異性体が好ましい、1個以上の基Pyd、Pyr、Ditおよび /またはDioをそれぞれの場合に含有する上記の式の化合物は2種の2.5− 位置異性体を包含している式1の基を含有する式■の特に好ましい化合物は従属 式11aおよびIlpの化合物である。
R’−Cbu”−Phe−F 工1a R’−Cbu”−PheF−F 工1bR”−Cbu’−Phe−NC5工IC R”−Cbu’−PheF−NC5工1dR’−Cbu’−Phe−OCF 工 1eR’−Cbu”−PheF−OCF 工1fR”−Cbu”−Phe−OC F2H工1qR’ −Cbu”−PheF−OCF、H工1hR’−Cbu”− Cyc−Phe−F 工1iR’−Cbu’−Cyc−PheF−F 工1jR ’−Cbu’−Cyc−PheF−NC5工1kR’−Cbu’−Cyc−Ph e−NC5工11R1−Cbu1−Cyc−Phe−OCF、 工1mR’−C bu’−Cyc−Phe−OCF、H工1nR’−Cbu’−Cyc−PheF −○CF、 工1゜R”−Cbu’−Cyc−PheF−OCF、H工1p式2 の基を含有する式Iの特に好ましい化合物は従属式+2aおよび12xの化合物 である。
R’−Cbu’−Phe−F 工2a R’−Cbu’−PheF−F 工2bR’−Cbu’−Phe−NC5工2C R’−Cbu2−PheF−NC6工2dR’−Cbu2−Phe−OCF 工 2eR’−Cbu2−PheF−OCF、 l2fR’−Cbu’−Phe−○ CF、HI2gR”−Cbu’−PheF−OCF2Hl2hR1−Cbu2− Cyc−Phe−F [5icl 工2iR”−Cbu’−Cyc−PheF− F 工2jR’−Cbu2−Cyc−PheF−NC5工2kR’−Cbu’− Cyc−Phe−NCS 工21R’−Cbu’−Cyc−Phe−○CF、  I2mR’−Cbu2−Cyc−Phe−OCF2H工2nR’−Cbu2−C yc−PheF−OCF、HI2゜R’−Cbu’−Cyc−PheF−OCF 3I2pR’−Cbu’−Phe−alkyl l2qR’−Cbu’−Phe −Oalkyl l2rR’−Cbu’−Cyc−Phe−alkyl 工2S R’−Cbu’−Cyc−Phe−Oalkyl l2tR’−Cbu’−Ph e−CN 工2uR’−Cbu2−PheF−CN l2vR’−Cbu2−C ycPhe−CN 工2wR’−Cbu’−Cyc−PheF−CN I2x式 3の基を含有する式Iの特に好ましい化合物は従属式I3aおよび13pの化合 物である。
R”−Cbu’−Phe−F l3a R1−Cbu’−PheF−F 工3bR”−Cbu’−Phe−NC5l3c R”−Cbu’−PheF−NC5工3dR’−Cbu’−Phe−OCF 工 3eR”−Cbu’−PheF−OCF 工3fR”−Cbu3−Phe−OC F、Hl3sR1−Cbu3−PheF−OCF、H工3hR’−Cbu’−C yc−Phe−F 工3iR’−Cbu’−Cyc−PheF−F I3うR’ −Cbu”−Cyc−PheF−NCS 工3kR’−Cbu3−Cyc−Ph e−NCS 工31R’−Cbu3−Cyc−Phe−OCF1 工3mR’− Cbu’−Cyc−Phe−OCF2H工3nR’−Cbu’−Cyc−Phe F−OCF、H工30R’ −Cbu’−Cyc−PheF−OCF、 工3p 弐Sの基を含有する式1の特に好ましい化合物は従属式15aおよび15xの化 合物である。
R’−Cbu5−Phe−F 工5a R’−Cbu5−PheF−F 工5bR’−Cbu5−Phe−NC9工5c R’−Cbu5−PheF−NC3工5dR2−Cbu5−Phe−OCF 工 5eR’−Cbu’−PheF−OCF 工5fR’−Cbu’−Cyc−Ph e−F 工51R’−Cbu’−Cyc−PheF−F 工5JR’−Cbu5 −Cyc−Phe−NCS 工5kR2−Cbu5−Cyc−PheF−NC3 工51R2−Cbu’−Cyc−Phe−OCF、−工5mR2−Cbu’−C yc−PheF−OCF、−工5nR2−Cbu5−Cyc−Phe−OCF、 H工50R2−CbuS−Cyc−PheF−OCF、H工5pR’−Cbu5 −Phe−CN l5qR’−Cbu’−PheF−CN l5rR2−Cbu 5−CycPhe−CN l5sR2−Cbu5−Cyc−PheF−CN 工 5tR2−Cbu5−Cyc−Phe−Oalkyl l5uR’−Cbu5− Cyc−Phe−alkyl 工5vR2−Cbu5−Phe−Oalkyl  工5WR”−Cbu5−Phe−alkyl 工5x1.4−シクロヘキセニレ ン基は好ましくは次の構造式Iの化合物はそれ自身公知の方法で、文献に記載さ れているように(例えばホウベン−ワイル著、有機化学の方法、ゲオルクーテイ ーメ(Georg−Thieme)出版社、シュツットガルト(Stuttga rt)のような榎阜的な著作の中で)公知であってかつ上記の反応に適した反応 条(キ下て合成することができる。本論中ではそれ自身公知である変法を使用す ることも可能であるか、ここでは詳細には取り上げないこととする。
mが0である式Iの化合物を例えばドビーア−(D。
bier)などの化合物に類似して(アメリカ化学会雑誌、J、Am、Chem 、Sac、107.(12)3626−31 (+985))、スチレン誘導体 とアレンの環化付加反応によってさらにその後の水素添加によって合成してもよ い(様式l参照)。
さらに式1の化合物は対応する3−置換サイクロブタノンからメタン誘導体との 縮合によってバートン(Burton)など、テトラヘドロン レター(Tet rahedron Lett、)25.4329 (1984)に従って、フォ スフイン存在下にかつその後の水素添加によって合成することができる(例えば 様式2ないし5)。
様式2 (A) 様式3 様式5 (C) 様式7 さらに式■の化合物は水素原子のかわりにlこ以上のJコ元可能な基および/ま たはC−C結合を含むことを1;♀いては式■に対応する化合物を還元すること によって合成することも可能である。
好ましい妥当な還元可能な基はカルボニル基であり、Qにケト基であり、さらに 例えば、遊離のあるいはハイドロキシル化した基、芳香族構造に結合したハロゲ ン原子である0式■に相当する、しかしながらシクロヘキサン環の代わりに還元 のための妥当な素材はシクロヘキセン環、シクロヘキサノン環を含有していても よく、および/または−Ct(zcHz−基の代わりに−CH=CH−基を含有 していてもよく、および/または−CH1−の代わりに一〇〇−を含有していて もよく、および/または水素原子の代わりに遊離であるあるいは官能的に修飾し ている(例えばバラトルエンスルフォネートの形態で)OH基を含有していても よい。
還元は例えば約O℃と約200℃との間の温度で、かつ例えば約1バールと約2 00バールとの間の気圧で不活性溶媒中で、例えばメタノール、エタノールある いはイソプロパツールのようなアルコール類、テトラヒドロフラン(THF)あ るいはジオキサンのようなエーテル類、エチルアセテートのようなエステル類、 酢酸のようなカルボン酸あるいはシクロヘキサンのような炭化水素で触媒水素添 加によって実施することができる。適当な触媒は白金あるいはパラジウムのよう な貴金属であって、これらは酸化物の形態(例えば、PtO,、Pd0)で担体 上(例えば、炭素、炭酸カルシウムあるいは炭酸ストロンチウム上のPd)ある いは微粉末状で使用することができる。
ケトンもクレメンゼン法(亜鉛、亜鉛アマルガムあるいは錫アマルガムと塩酸を 使用して、有利なことには水−アルコール溶液中で、あるい;1約80−120 ℃の温度で水/トルエンを使用した不均一相中で)あるいはウォルフーキシュナ ー法(ヒドラジン、ジエチレングリコールあるいはトリエチレングリコールのよ うな高沸点溶媒中で約100と200℃との間の温度でKOHあるいはNaOH の塩基の存在中に)還元して、アルキル基および/または−CH,C)(、−架 橋を含有する式Iの化合物に対応する化合物にすることも可能である。
水素化錯体による還元も可能である1例えば、LiAIH,を使用して還元的に アリールスルフォニルオキシ基を除去することができ、しかも特にバラトルエン スルフォニルオキシメチル基をメチル基に、有利なことにはジエチルエーテルあ るいはTHFのような不活性溶媒中で約O℃と100℃との間の温度で還元する ことが出来る。二重結合をN a B H、あるいはトリブチル錫水素化物を使 ってメタノール中で水素添加することができる。
1.4−フェニレン基の代わりに、1.4−シクロヘキセニレン基を有すること だけが異なっている式Iに対応する式Iの化合物を例えばDDQ (ジクロロジ シアノベンゾキノン)を使用して適当な溶媒中で酸化することが可能である。
式Iのエステルは対応するカルボン酸、特に式IVのエステル化反応によって、 アルコールあるいはフェノールを使用して(あるいはその反応性のある誘導体) を使用して、特に式■のエステル化反応によっであるいはDCC法(DCC=C Cニジシクロルカルボジイミド)によつて行なうことができる。
対応するカルボン酸とアルコールあるいはフェノールは公知でありあるいは公知 の方法に類似して合成することも可能である。
上記のカルボン酸の特に適当な反応性のある誘導体は酸ハライド、特に塩化物お よび臭化物であり、例えば混合無水物、アジドあるいはエステル、特にアルキル 基中に1−4個の炭素原子を有するアルキルエステルを含む酸無水物である。
上記のアルコールおよびフェノール類の特に適当な反応性のある誘導体は好まし くはナトリウムあるいはカリウムのようなアルカリ金属の、対応する金属アルコ レートあるいはフェルレートである。
エステル化反応は有利なことには不活性溶媒の存在下に実施される。特に適当な そのような溶媒はジエチルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、T IHF、ジ オキサンあるいはアニソールのようなエーテル類、アセトン、ブタノン、シクロ ヘキサノンのようなケトン、DMF、燐酸ヘキサメチルトリアマイトのようなア マイド、ベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水素、四塩化炭素、ジクロ ロメタン、テトラクロロエチレンのようなハロゲン化炭化水素およびジメチルス ルフォオキサイドあるいはスルフオランのようなスルフォキサイドである。
式■のニトリルの合成には、対応する酸アミド、例えばCN基の代わりにC0N Hz基を有する化合物を脱水することが可能である。アミドは例えば対応するエ ステルあるいは酸ハライドからアンモニアとの反応で得ることができる。適当な 脱水剤の例は5OCII、P Cl s 、 P C1s 、 P OCl 3  、 S Oz C1z 、 COCl xであり、さらにP20s 、P2  SS 、AlCl5 (例えばNaCLとの二重化合物として)、芳香族スルフ ォン酸、スルフォニルハライドでもある。この方法は温度O℃と150℃との間 の温度で不活性溶媒の存在下あるいは無い場合に行なうことができる。
その適当な溶媒の例はとリジンあるいはトリエチルアミンのような塩基、ベンゼ ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素あるいはDMFのようなアミド である。
式Iの上記のニトリルの合成には、対応する酸パライト、好ましくは酸クロライ ドをスルファマイト、有利なことには不活性溶媒、例えばテトラメチレンスルフ ォン中で80℃と150℃との開の温度で、好ましくは120℃で反応させるこ とが可能である0通常の加工処理作業の後に、ニトリルを直接分離することがで きる。
式lのエーテルは対応するヒドロキシ化合物、特に式VIあるいはVll、好ま しくは対応するフェノールのエーテル化反応によって得ることができる。ヒドロ キシ化合物を例えばN a H、N a N Hz 、N a OH。
KOH,Na、Co、あるいはに冨COsで処理することによって先ず適当な金 属の誘導体に転換し、すなわち対応するアルカリ金属アルコレートあるいはフエ ノラートに転換する。その後にこれを対応するアルキルハライドアルギルスルフ ォネートあるいはジアルキルサルフェートと、有利なことにはアセトン、1.2 −ジメトキシエタン、DMFあるいはジメチルスルフォキサイドあるいはその他 のような不活性溶媒中で約20℃と100℃との間の温度でNaOHあるいはK OHの水溶液、あるいは水−アルコール性溶液の過剰の中で反応させることも出 来る。
式■のニトリルの合成には式Iの対応する塩素、臭素、ヨウ素化合物をシアナイ ド、好ましくはNaCN、KCNあるいはCut (CN)2のような金属シア ナイドと、例えばDMFあるいはN−メチルピロリドンのような不活性溶媒に溶 解させたピリジン中で20℃と200℃との間の温度で反応させることも可能で ある。
AIが少なくとも1個の弗素原子および/または1個のCN基で置換されている 式Iの化合物をジアゾニウム基を弗素原子あるいはCN基で交換することによっ て対応するジアゾニウム塩から例えばジーマンあるいはザントマイアー法によっ て得ることも出来る。
式■のジオキサンあるいはジチアン誘導体は有利なことには対応するアルデヒド (あるいはその反応性のある誘導体の−)を対応する1、3−ジオール(あるい はその反応性のある誘導体の−)あるいは対応する1、3−ジチオールと好まし くはベンゼンあるいはトルエンのような不活性溶媒および/または触媒、硫酸、 ベンゼンスルフォン酸、p−t−ルエンスルフォン酸のような強酸、の存在下で 、約20℃と150’Cとの間の温度で、好ましくは80℃と120℃との間の 温度で反応させることによって製造することができる。適当な出発物質の主な反 応性のある誘導体はアセタールである。
上記のアルデヒド、1.3−ジオールあるいは1.3−ジチオールおよびその反 応性のある誘導体は一部には公知であり、しかしその他の場合には文献公知の化 合物から有機化学の標準的な方法に従って、困難無く合成することができる1例 えば、アルデヒドは対応するアルコールの酸化によって、あるいはニトリルある いは対応するカルボン酸あるいはその誘導体の還元によって、得ることができる 、ジオールな対応するジエステルの還元によって、ジチオールを対応するシバラ イドのtJ a S Hを使った反応によって得ることができる。
本発明による液晶性の媒体は好ましくは本発明にょる1種以上の化合物に加えて 、2ないしさらに40ffI、特に4ないし30種の成分を含有している。これ らの媒体は本発明による1種以上の化合物4に加えて、極めて特別な好ましい場 合にはフないし25種の成分を含有している。これらの追加の成分は好ましくは ネマチックあるいはネマトケン性(モノトロピーあるいは等方性)物質であり、 特にアゾギシベンゼン、ベンジリデンアニリン、ビフェニール、ターフェニール 、フェニールあるいはシクロへキシルベンゾエート、フェニールあるいはシクロ へキシルシクロヘキサンカルボキシレート、フェニルあるいはシクロへキシルシ クロへキシルベンゾエート、フェニルあるいはシクロへキシルシクロへキシルシ クロヘキサンカーボキシレート、シクロへキシルフェニールベンゾエート、シク ロへキシルフェニールシクロヘキサンカーボキシレート、シクロへキシルフェニ ールシクロへキシルシクロヘキサンカーボキシレート、フェニールシクロヘキサ ン、シクロ八、キシルビフェニール ルシクロヘキサン、シクロへキシルシクロヘキサン、シクロへキシルシクロヘキ セン、シクロへキシルシクロへキシルシクロヘキセン、1.4−ビス−シクロヘ キシルベンゼン、4.4°−ビス−シクロヘキシルビフェニール、フェニール− あるいはシクロへキシルピリミジン、フェニール−あるいはシクロへキシルピリ ジン、フェニール−あるいはシクロへキシルジオキサン、フェニール−あるいは シクロへキシル−1,3−ジチアン、1.2−ジフェニルエタン、1.2−ジシ クロヘキシルエタン、1−フェニール−2−シクロヘキシルエタン、1−シクロ へキシル−2−(4−フェニールシクロヘキシル)エタン、l−シクロへキシル −2−ビフェニエタン、l−フェニール−2−シクロへキシルフェニエタン、場 合によってはハロゲン化したスチルベン、ベンジルフェニールエーテル、トラン 類、置換したケイ皮酸、かう選択される.これらの化合物中の1.4−フェニレ ン基は弗素化していてもよい。
本発明による媒体のその他の成分として妥当な最も重要な化合物は式l、2、3 、4および5の特徴を有しR’ −L−Coo−E−R” 2 R’ −L−00C−E−R” 3 R’−L−CH2CH□−E−R” 4R’ −L−C:C−E−R” 5 これらの式l、2、3、4および5においては、LおよびEは同一であっても異 なっていてもよく、互いに独立にそれぞれ−Phe−2−Cyc−1−Phe− Phe−1−Phe−Cyc−1Cyc−Cyc−1−Pyr−1−Dio−1 −G−Phe−およびG−Cyc−およびその鏡像体からなるグループからの2 価の基であり、ただしこのなかでPheは置換されてないあるいは弗素で置換さ れた1、4−フェニレン、Cycはトランス−1,4−シクロヘキシレンあるい は1.4−シクロヘキセニレン、Pyrはピリミジン−2,5−ジイル、ピリジ ン−2,5−ジイル、DiQは1.3−ジオキサン−2,5−ジイルでありGは 2−(トランス−1,4−シクロヘキシル)エチル。
ピリミジン−2,5−ジイル、ピリジン−2,5−ジイルあるいは1.3−ジオ キサン−2,5−ジイルである。
好ましくは、基りおよびEの一つはCy(:、PheあるいはPyrである。E は好ましくはCyc、PheあるいはPhe−Cycである0本発明による媒体 は好ましくは式1.2.3.4および5の化合物から選択された1ff1以上の 成分を含有しており、このなかで、LおよびEはCyc、PheおよびPyrの グループから選択され、同時に式1.2.3.4および5の化合物から選択され た1種以上の成分を含有しており、このなかで基りおよびEの−はCyc;、P heあるいはpyrであり、他の基は−Phe−Phe−1−Phe−Cyc− 、Cyc−Cyc−1−G−Phe−およびG−Cyc−から選択され、希望す るならば、基りおよびEが−Phe−Phe−1−Phe−Cyc−1Cyc− Cyc−1−G−Phe−およびG−Cyc−から選択される式l、2.3.4 および5の式の化合物から選択される1種以上の成分を含有している。
従属式1a、2a、3a、4aおよび5aの化合物では、RoおよびRoは互い に独立にそれぞれの場合に8個迄の炭素原子を有するアルキル、アルケニル、ア ルコキシ、アルケニルオキシあるいはアルカノイルオキシである。多くのこれら の化合物にあっては、R。
およびRo互いに異なっており、これらの基の−は通常はアルキルまたはアルケ ニルである。従属式1b。
2b、3b、4bおよび5bの化合物では、R”は−CN、 CF s 、OC F s 、OCHF 2 、 F 、 C1、−NCSである。この場合R°は 従属式1aないし5aの化合物の場合に記載した意味を有しており、好ましくは アルキルあるいはアルケニルである1式12.3.4および5の化合物の中で想 定した置換基のその他の変更物も使用することも可能である。これらの多くの物 質またはそれらの混合物も市販されている、すべてのこれらの物質は文献から公 知の方法であるいは類似の方法で入手することも出来る。
本発明による媒体は好ましくは化合物1a、2a、3a、4aおよび5a(グル ープ1)のグループからの成分に加えて、化合物1b、2b、3b、4bおよび 5b(グループ2)のグループからの成分を含有してしており、その比率は好ま しくは以下の通りである。
グループl: 20ないし90%、特許30すl/Xし90% グループ2: 10ないし80%、特に10なし1し50% 本発明による化合物およびグループ1および2カ)らの化合物の割合を合計する と、100%になる。
本発明による媒体は好ましくは本発明(こよる化合1勿を1ないし40%、特に 好ましくは5なし)し30%含有している0本発明による化合物40%以上、特 (こ45ないし90%含有している媒体が特に好ましl、1.媒体は好ましくは 本発明の化合物を3.4またCよ5種含有している。
本発明による媒体はそれ自身公知の方法で製造出来る、一般的には、有利なこと には温度を上げると、成分は互いに溶解する。適当な添加剤によって、本発明に よる液晶性の相を改質することが可能であって、その結果いままでに開示された 全てのタイプの液晶ディスプレイ素子の中で使用することが出来る。
この種の添加剤は当業者には公知であり、文献(H。
ケルカー(Kelker)/R,ハツツ(Hatz)著、液晶のハンドブック  化学出版社、ワインノ\イム(We 1nhe im)) に詳細に記載されて uS 7;+ 、例えば色付きのゲスト−ホストシステムを製造するために、多 色性染料を添加することができるあるし1はネマチック相の誘電異方性、粘性お よび/または配向を変化するための物質を添加するすることも出来る。
これ以上のコメントがなくても、当業者は今迄の記載事項を最も広い意味に利用 することができると考えられる。好ましい実施態様は従りて、説明を目的とする 開示と考えるべきであって、決して如何なる制限を行なうものと考えてはならな い。
上記および下記の全ての出願、特許、出版物および1992年11月21日出願 の対応する出願P4239169の完全な開示内容は本件出願の参考に引用これ までおよびこれ以降において、百分率はffi量百量率分率る。全ての温度表示 は℃表示であり、慣用の加工処理とは水を加え、混合物をメチレンクロライドで 抽出し、相を分離し、有機相を乾燥し、蒸発によって濃縮し、生成品を再結晶お よび/またはクロマトグラフィーによって精製することを意味している。
その他の定義 C固体の結晶相 S スメクチック相(記号は相タイプを示す)N ネマチック相 ch コレステリック相 l 等方性相 2記号間の数値は℃表示による転移温度を示す。
DAST ジエチルアミノサルファー トリフルオライド DCCジシクロへキシルカルボジイミドDDQ ジクロロジシアノベンゾキノン D I BALHジイソブチルアルミニウム ハイドライド HMTAP ヘキサメチルトリアミノフォスフインPOT t−ブタル−トカリ ウム PCCピリジン りロロクロメート THF テトラヒドロフラン TPP トリフェニールフォスフイン pTSOHp−トルエンスルフォン 実施例1 3− (3.4.5−1リフルオロフエニール)−1−メチルシクロブタンの合 成 A) 3.4.5−1−リフルオロビニルベンゼン3、4.5−トリフルオロブ ロモベンゼン1モルとTHF3 1の混合物をBuLi1モルと一70℃で混合 する.その後にTHFIIに臭化亜鉛0.5モルを加えた混合物をこの反応混合 物に添加し、この混合物を一65℃で30分間攪拌する.その後にビニルブロマ イド1モルと塩化ニッケル(I I)/TPP0.022モルを添加する。
この混合物を室温で16時間攪拌し、その後に通常の方法で加工処理する.得ら れたスチレン誘導体を精製することなくさらに処理する。
B) 3−(3.4.5−1−リフルオロフェニール)−2.2−ジクロロシク ロブタノン IAの試料0.25モル、亜鉛−ffl(m 3%)230gおよびジエチルエ ーテル800mlの混合物をトリクロロアセチルクロライド0.25mlと15 分間混合し、その混合物をその後にリフラックスしながら8時間攪拌する.通常 の加工処理の後に、生成品が得られ、これを精製することなくさらに処理する。
C) 3−(3.4.5−トリフルオロフェニール)ージクロロシクロブタノン 1Bの試料0.144モル、亜鉛粉末0.53モルおよび氷酢酸880m lの 混合物を17時間室温で攪拌する.通常の加工処理の後に、生成品が得られ、こ れをn製することなくさらに処理する。
D) 3−(3.4.5−1−リフルオロフェニール)−1−メチレンシクロブ タノン トリフェニールメチレンフォスフイン0.15モル、テトラグライムIQOml およびlC試料0.13モルを添加し、16時間室温で攪拌する.通常の加工処 理とエタノール/エチルアセテート100mlからの蒸留の後に、純粋な生成品 が得られる。
E) IDの試料0.1モル、pct/c(10%)1ミリモルおよびトルエン 1 00m lを室温で飽和するまで水素添加する.通常の加工処理とクロマト グラフィーの後に、純粋な生成品が得られる。
同様にして以下の化合物が得られる。
3− (3.4−ジフルオロフェニール)−メチルシクロブタン 3−(4−トリフルオロメトキシフェニール)−メチルシクロブタン 3− (3.5−ジフルオロ−4−ジフルオロメトキシフェニール)−1−メチ ルシクロブタン3− (3.4.5−1−リフルオロフェニール)−エチルシク ロブタン 3− (3.4.5−1−リフルオロフェニール)−プロピルシクロブタン 3− (3.4.5−!ーリフルオロフェニール)−ブチルシクロブタン 3− (3,4.5−トリフルオロフェニール)−ペンチルシクロブタン 3− (3,4,5−トリフルオロフェニール)−へキシルシクロブタン 3− (3,4,5−1−リフルオロフェニール)−へブチルシクロブタン 3− (3,4−ジフルオロフェニール)−エチルシクロブタン 3− (3,4−ジフルオロフェニール)−プロピルシクロブタン 3− (3,4−ジフルオロフェニール)−ブチルシクロブタン 3−(3,4−ジフルオロフェニール)−ペンチルシクロブタン 3−(3,4−ジフルオロフェニール)−へキシルシ3−[−1−ランス−4− (3,4,5−1−リフルオロフェニール)シクロヘキシル]−1−メチルシク ロブタン 3−[−1−ランス−4−(3,4,5−トリフルオロフェニール)シクロヘキ シル]−1−エチルシクロブタン 実施例IBに従ってIDの試料0.1モルとトリクロ3−[−1−ランス−4− (3,4,5−トリフルオロフェニール)シクロへキシル]−1−プロとルシク ロブタン 3−[−トランス−4−(3,4,5−1−リフルオロフェニール)シクロヘキ シル]−1−ブチルシクロブタン 3−[−トランス−4−(3,4,5−トリフルオロフェニール)シクロヘキシ ル]−1−ペンチルシクロブタン 3−(−トランス−4−(3,4゜5−トリフルオロフェニール)シクロヘキシ ル]−1−へキシルシクロブタン 3−[−1ランス−4−(3,4,5−トリフルオロフェニール)シクロヘキシ ル]−1−ヘプチルシクロブタン 実施例2 6− (3,4,5−トリフルオロフェニール)−1−メチルスビロ[33]へ ブタン 2A) 7− (3,4,5−トリフルオロフェニール)−1,1−ジクロロス ピロ[33]へブタン−2−オン 6−(3,4−ジフルオロフェニール)−2−メチルロアセチルクロライド0. 1モルとを反応させる0通常の加工処理の後に、生成品が得られ、これを精製す ることなくさらに処理する。
λJ 6− (3,4,5−トリフルオロフェニール)スピロ[3,3]へブタ ン−2−オン2Aの試料0075モルと亜鉛粉末0.25モルとを実施例1Cに 従って反応させる。
l5l 6− (3,4,5−1−リフルオロフェニール)−2−メチレンスピ ロ[3,3]へブタン実施例り上に従って旦の試料0.05モルとトリフェニル フォスフイン0.06モルとを反応させる1通常の加工処理およびクロマトグラ フィーによる精製の後に、生成品が得られる。
2LL 2Cの試料0.02モルを実施例IEに従って水素添加する。
同様にして以下の化合物が得られる。
スピロ[33]へブタン 6− (4−1−リフルオロメトキシフェニール)−2−メチルスピロ[3,3 ]へブタン 6−(3,5−ジフルオロ−4−ジフルオロメトキシフェニール)−2−メチル スピロ[3,3]へブタン6− (3,4,5−トリフルオロフェニール)−2 −エチルスピロ[3,3]へブタン 6− (3,4,5−トリフルオロフェニール)−2−プロピルスピロ[3,3 ]へブタン 6− (3,4,5−1リフルオロフエニール)−2−ブチルスピロ[3,3] へブタン 6− (3,4,5−1リフルオロフエニール)−2−ペンチルスピロ[3,3 ]へブタン 1l1 6− (3,4,5−トリフルオロフェニール)−2−へキシルスピロ[3,3 ]へブタン 6−(3,4,5−トリフルオロフェニール)−2−へブチルスピロ[3,3] へブタン 6− (3,4−ジフルオロフェニール)−2−エチルスピロ[3,3]へブタ ン 6− (3,4−ジフルオロフェニール)−2−プロビ6− (3,4−ジフル オロフェニール)−2−ブチル6− (3,4−ジフルオロフェニール)−2− ペンチルスピロ[33]へブタン 6−(3,4−ジフルオロフェニール)−2−へキシルスピロ[3,3]へブタ ン 6− (3,4−ジフルオロフェニール)−2−ヘプチルスピロ[3,3]へブ タン 6−〔トランス−4−(3,4,5−トリフルオロフェニール)シクロへキシル ]−2−メチルスピロ[33]ヘプタン 6−[トランス−4−(3,4,5−1−リフルオロフェニール)シクロヘキシ ル]−2−エチルスピロ[36−[トランス−4−(3,4,5−トリフルオロ フェニール)シクロヘキシル]−2−プロとルスビロ[33]へブタン C47N (44,7)I 6−[トランス−4−(3,4,5−1−リフルオロフェニール)シクロへキシ ル]−2−ブチルスピロ[36−(4−二トキシフェニール)−2−プロピルス ピロ−[トランス−4−(3,4,5−)−リフルオロフェニール)シクロへキ シル]−2−ペンチルスピロ[3,3]へブタン C55N (41,5)T 6−[トランス−4−(3,4,5−1−リフルオロフェニール)シクロへキシ ル]−2−ヘキシルスピロ[3,3]ヘプタン 6−しトランス−4−(3゜4.5−1−リフルオロフェニール)シクロヘキシ ル]−2−へブチルスピロ[3,3]ヘプタン 6− (3,4,5−1−リフルオロビフェニール−4゜−イル)−2−メチル スピロ[3,3]へブタン6− (3,4,5−1−リフルオロビフェニール− 4゜−イル)−2−二チルスビロ[3,3]へブタン6− (3,4,5−トリ フルオロビフェニール−4゜−イル)−2−プロピルスピロ[3,3]へブタン C27N (12,1)1 8− [(3,4,5−トリフルオロフェニール)シクロヘキシル]−2−プロ ビルジスピロ[3,1,1゜富施4f11 3 0[3,3]へブタン スピロ[3,5]ノナン 7−(3,4−ジフルオロフェニール)−2−プロピルスピロ[3,5]ノナン 7− (3,4−ジフルオロフェニール)−2−ペンチルスピロ[3,5]ノナ ン 7−(3,4,5−ジフルオロフェニール)−2−ペンチルスピロ[3,5]ノ ナン 7−[トランス−4−(3,4,5−ジフルオロフェニール)シクロヘキシル] −2−メチルスピロ[3゜5]ノナン 7−[トランス−4−(3,4,5−ジフルオロフェニール)シクロヘキシル] −2−プロピルスピロ[35]ノナン 7−[トランス−4−(3,4,5−ジフルオロフェニール)シクロヘキシル] −2−ペンチルスピロ[35]ノナン 実施例4 6− (3,4,5−ジフルオロフェニール)−2−(トランス−4−プロピル シクロヘキシル)−スピロ[33]ヘプタン ■の試料35ミリモルを実施例IBに類似してトリ±A13−(トランス−4− プロピルシクロヘキシル)−2,2−ジクロロシクロブタノントランス−4−プ ロピル−1−とニル−シクロヘキサン(Wo 88102357に従って合成す る)0゜25モルおよびジエチルエーテル800m1の混合物を実施例IBに従 ってトリクロロアセチルクロライドと反応させる。
土旦工3− (トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロブタノン 4Aの試料0.1モルを実施例1cに類似して亜鉛粉末04モルと反応させる。
% 3− (トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−1−メチレンシクロブ タン ±1の試料0.05モルを実施例10に類似してトリフェニルフォスフイン0. 07モルと反応させる。
±JJ−2−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−5,5−ジクロロス ピロ[3,3]−へブタン−6−オン トルエンスルホン酸0.5gの混合物を10時間水分クロロアセチルクロライド と反応させる。
離器上で加熱する0通常の加工処理の後に、生成品が得られ、精製することなく さらに使用する。
ェニール) −2−(1−ランス−4−プロピルシクロヘキシル)スピロ[33 ]ヘプタン C43N (77,5)1 6−(4−シアノフェニール)−2−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル )スピロ[3,3]へブタC113N (162)I 6−(4−エトキシフェニール) −2−(1−ランス−4−プロピルシクロヘ キシル)スピロ[3,3]ヘプタン 実施例5 下記の化合物から成る基礎混合物に 10.0 % C5H,、$F 8−0 % C6H1:l$F 6−0% 苧、5ωXφF 8−0% C−5(矢Cべ州美F3 L2.O% G:、l−1y+OCF:19.0% C4)九%べ公OCI”3 9−0% C5H1、%べ公OCF。
100%CsHo!誉F 5−0 % c、+、すx僚cH2c+−+2()ocF。
5.0% C3H1lΩX吟CH,CH2舎OCF。
下記の化合物のそれぞれ10添加する。
読取ることができる・ 表 ■ 透明点 Δ6 Δ□ 粘性 (oC) (mm2°5−1) B 91 +5.2 0.094 15−OB + (al 71 n、m、  0.0E15 15.8B + (b) 86 5.5 0.092 14.8 B + (cl 69 5.0 0.0B4 14.2B + (d) 6B  5.2 0.0B4 13.9B + (e) 87 5.4 0.092 1 5.6B +(f) 83 5.8 0.097 14.9B÷(g) 83  5.5 0.091 L5.OB + (h) 90 5.2 Q、094 1 4.4B + (i) 9B 6.2 0.102 17.7B + (jl  80 4.5 0.092 14.2B + (k) 84 5.4 0.09 1 15.4本発明による化合物は一般的に低い光学異方性、低しA透明点およ び低い粘性を達成している。
、、、、、、、、、、、、、Ak、、、、、、−、=、 PCT/EP 931 03112AN)−4ANG ANFJEX ANl’JEXE:フロントペー ジの続き (51) Int、 C1,’ 識別記号 庁内整理番号C07C43/20  C7419−4H43/225 C7419−4H 69/753 Z 9279−4H 69/757 Z 9279−4H 69/76 A 9279−4H 69/773 9279−4H 69/92 9279−4H 331108 7106−4H CO7D 213155 9164−4C239/26 8615−4C 3191069454−4C CO9K 19/30 9279−4H19/32 9279−4H GO2F 1/13 500 (72)発明者 マイアー、フォルカードイツ連邦共和国、64846 グロー スーツイマーン、ゼムダー プファート 23I (72)発明者 フィンケンツェラー、ウルリヒドイツ連邦共和国、68723  ブランクシュタット、ヴアルトプファート 74 (72)発明者 リーガー、ペルンハルトドイツ連邦共和国、64839 ミュ ンスター、ハウプトシュトラーセ 31 アー

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式(I) ▲数式、化学式、表等があります▼(I)[式中 R1は1ないし16個の炭素原子を有するアルキルあるしはアルケニルであり、 さらにそれらの中の1以上のCH2基が−O−で置換されていてもよく、あるい は式R2▲数式、化学式、表等があります▼の基であり、式中R2は1ないし1 6個の炭素原子を有するアルキルあるいはアルケニルであり、 ▲数式、化学式、表等があります▼は▲数式、化学式、表等があります▼、▲数 式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、 化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、 化学式、表等があります▼Oは0または1であり、 VおよびWはそれぞれCH2あるいはCH2CH2であり、VがCH2CH2で あるときには、mは1、2、あるいは3およびWはCH2であり、 A1は出現する各々の場合には、互いに独立であって非置換あるいは1ないし2 個の弗素原子で置換されている1,4−フェニレンであり、更にその中で1ある いは2個のCH基が窒素で置換されていてもよく、あるいは非置換あるいはシア ノ基で置換されていている1,4−シクロヘキシレンであり、更にその中の1あ るいは2個のCH2基が酸素あるいは硫黄原子で置換されていてもよく、あるい はチアジアゾール2,5−ジイル、1,4−ヒシクロ[2,2,2]−オクチレ ンあるいは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中rとsはそれぞれ0、1、2あるいは3である]、 の基であり、 L1とL2はそれぞれ互いに独立に水素あるいは弗素であり、 Z1は−CO−O−、−O−CO−、−CH2O−、−OCH2−、−CH2C H2−、−C≡C−あるいは単結合であり、 YはNCS、ハロゲンあるいは少なくとも1個の弗素原子および/または塩素原 子で置換されている炭素原子1ないし8個を有するアルキル、アルコキシ、アル ケニルあるいはアルケニルオキシであり、かつmが1、2あるいは3であるとき には、CNあるいは16個までの炭素原子を有するアルキルあるいはアルケニル であり、その中の1以上のCH2基が−O−と反応していてもよく、 mは0、1、2あるいは3であり、 nは0、1または2である] のシクロブタンベンセン誘導体。 2 mが0である請求項1による誘導体。 3 L1およびL2が弗素である請求項1または2による誘導体。 4 VがCH2である請求項1ないし3による誘導体。 5 式I1 ▲数式、化学式、表等があります▼(I1)[式中R1、A1、Z1およびYは 請求項1に示した意味を有する] の請求項4による誘導体。 6 式I2 ▲数式、化学式、表等があります▼(I2)[式中R1およびA1は請求項1に 示した意味を有する] の請求項5による誘導体。 7式I3 ▲数式、化学式、表等があります▼(I3)の請求項1ないし6による誘導体。 8 式I3a ▲数式、化学式、表等があります▼(I3a)[式中R2、Y、L1およびL2 は請求項1に示した意味を有する] [式中R2、A1、Z1、V、W、m、L1、L2およびYは請求項1に示した 意味を有する]の請求項7による誘導体。 9 液晶性媒体が少なくとも1種の式Iの化合物を含有することを特徴とする少 なくとも2種の液晶性成分を含有する液晶性媒体。 10 請求項8による液晶性の媒体を含有する電気光学ディスプレイ。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000109840A (ja) * 1998-09-29 2000-04-18 Merck Patent Gmbh 液晶化合物及び液晶媒体
JP2009508823A (ja) * 2005-09-19 2009-03-05 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング シクロブタンおよびスピロ[3.3]ヘプタン化合物類
JP2009515825A (ja) * 2005-10-19 2009-04-16 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング スピロ[3.3]ヘプチル−ジオキサン誘導体類および液晶媒体中におけるそれらの使用

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5880141A (en) * 1995-06-07 1999-03-09 Sugen, Inc. Benzylidene-Z-indoline compounds for the treatment of disease
US6068055A (en) 1998-06-30 2000-05-30 Halliburton Energy Services, Inc. Well sealing compositions and methods
WO2004026991A1 (de) * 2002-08-20 2004-04-01 Merck Patent Gmbh Flüssigkristallines medium
ATE356182T1 (de) * 2002-12-02 2007-03-15 Merck Patent Gmbh Cyclobutanderivate
ATE508180T1 (de) * 2006-04-07 2011-05-15 Merck Patent Gmbh Flüssigkristallines medium und flüssigkristallanzeige
CN103275735B (zh) * 2013-05-13 2015-04-08 石家庄诚志永华显示材料有限公司 一种介电正性液晶组合物
CN103242855B (zh) * 2013-05-15 2015-06-17 石家庄诚志永华显示材料有限公司 含有环丁基及二氟亚甲氧基的液晶化合物
CN103305229B (zh) * 2013-06-06 2015-09-02 石家庄诚志永华显示材料有限公司 一种环丁苯二氟甲氧类快速响应液晶组合物
CN103305231B (zh) * 2013-06-13 2015-04-08 石家庄诚志永华显示材料有限公司 一种含有二氟甲氧桥类极性单体化合物的液晶组合物
US10588907B2 (en) 2015-06-04 2020-03-17 Kura Oncology, Inc. Methods and compositions for inhibiting the interaction of menin with MLL proteins
EP4219449A3 (en) 2016-03-16 2023-10-11 Kura Oncology, Inc. Substituted indole derivatives and methods of preparation thereof
CN109640987B (zh) 2016-03-16 2022-12-02 库拉肿瘤学公司 Menin-mll的桥联双环抑制剂及使用方法
US11944627B2 (en) 2017-03-24 2024-04-02 Kura Oncology, Inc. Methods for treating hematological malignancies and Ewing's sarcoma
US11542248B2 (en) 2017-06-08 2023-01-03 Kura Oncology, Inc. Methods and compositions for inhibiting the interaction of menin with MLL proteins
WO2019060365A1 (en) * 2017-09-20 2019-03-28 Kura Oncology, Inc. SUBSTITUTED MÉNINE-MLL INHIBITORS AND METHODS OF USE

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8406689D0 (en) * 1984-03-14 1984-04-18 Secr Defence Compounds
DE3717484A1 (de) * 1987-05-23 1988-12-01 Merck Patent Gmbh Cyclobutanderivate
JPH0285243A (ja) * 1988-09-22 1990-03-26 Sankyo Kagaku Kk 3−アルキルシクロブチル基とシアノ基を1,4‐位に有するベンゼンおよび4,4’‐位に有するビフェニル化合物ならびに該化合物よりなる液晶添加剤
EP0441940B1 (de) * 1989-09-05 1994-08-03 MERCK PATENT GmbH Phenylcyclohexane und flüssigkristallines medium
BR9007097A (pt) * 1989-12-06 1992-02-18 Merck Patent Gmbh Compostos de 2,6-difluorbenzeno 1,4-dissubstituidos e meio cristalino liquido
EP0449015B1 (de) * 1990-03-24 1998-07-01 MERCK PATENT GmbH Difluormethylverbindungen und flüssigkristallines Medium
EP0576450A1 (de) * 1991-03-16 1994-01-05 MERCK PATENT GmbH Methylencyclobutanderivate

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000109840A (ja) * 1998-09-29 2000-04-18 Merck Patent Gmbh 液晶化合物及び液晶媒体
JP2009508823A (ja) * 2005-09-19 2009-03-05 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング シクロブタンおよびスピロ[3.3]ヘプタン化合物類
JP2009515825A (ja) * 2005-10-19 2009-04-16 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング スピロ[3.3]ヘプチル−ジオキサン誘導体類および液晶媒体中におけるそれらの使用

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US5445764A (en) 1995-08-29
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