JPH0744110B2 - 高飽和磁束密度軟磁性膜及び磁気ヘッド - Google Patents
高飽和磁束密度軟磁性膜及び磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0744110B2 JPH0744110B2 JP63220935A JP22093588A JPH0744110B2 JP H0744110 B2 JPH0744110 B2 JP H0744110B2 JP 63220935 A JP63220935 A JP 63220935A JP 22093588 A JP22093588 A JP 22093588A JP H0744110 B2 JPH0744110 B2 JP H0744110B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- flux density
- thin film
- high saturation
- soft magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
- H01F10/16—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing cobalt
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/26—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by the substrate or intermediate layers
- H01F10/265—Magnetic multilayers non exchange-coupled
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/922—Static electricity metal bleed-off metallic stock
- Y10S428/9265—Special properties
- Y10S428/928—Magnetic property
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/11—Magnetic recording head
- Y10T428/115—Magnetic layer composition
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12465—All metal or with adjacent metals having magnetic properties, or preformed fiber orientation coordinate with shape
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12931—Co-, Fe-, or Ni-base components, alternative to each other
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高密度磁気記録再生用の磁気ヘッドに用いる高
磁束密度軟質磁性膜及びこれを用いた磁気ヘッド(薄膜
磁気ヘッドを含む)に関するものである。
磁束密度軟質磁性膜及びこれを用いた磁気ヘッド(薄膜
磁気ヘッドを含む)に関するものである。
従来の技術 高密度の磁気記録に要求される大きな抗磁力(Hc)の記
録媒体に対して磁気記録ヘッド用材料には高い飽和磁束
密度(Bs)が必要とされているが、従来の高Bs値を有す
るヘッド用軟質磁性材料としては、Fe系及びCo系非晶質
合金やセンダスト合金等の限られた種類のものしかなか
った。
録媒体に対して磁気記録ヘッド用材料には高い飽和磁束
密度(Bs)が必要とされているが、従来の高Bs値を有す
るヘッド用軟質磁性材料としては、Fe系及びCo系非晶質
合金やセンダスト合金等の限られた種類のものしかなか
った。
これ等の合金は各々、高飽和磁束密度と同時に抵抗磁力
(Hc)、高透磁率(μi)をも兼ね備えた材料として実
用レベルとして10000Gauss前後のものが知られてきた。
(Hc)、高透磁率(μi)をも兼ね備えた材料として実
用レベルとして10000Gauss前後のものが知られてきた。
発明が解決しようとする課題 上記の従来の材料に対して、より磁気記録再生効率の向
上をはかるため、さらに大きなBs値をもつ材料を得るに
はFe系非晶質膜では十分に小さな磁歪を得ることが困難
であり、熱処理に対する軟磁気特性の安定性に大きな問
題があった。
上をはかるため、さらに大きなBs値をもつ材料を得るに
はFe系非晶質膜では十分に小さな磁歪を得ることが困難
であり、熱処理に対する軟磁気特性の安定性に大きな問
題があった。
Co系の非晶質材料においては低磁歪が実現でき、また熱
安定性についても良好なものが実用化されているが、Bs
値の上限は14000Gauss前後が限度であり、このBs値の大
きさの材料ではやはり実用上の熱安定性に問題があっ
た。さらにまた、センダクト合金薄膜においては熱安定
性の問題点は比較的小さいが、軟磁気特性については十
分とはいえなく、Bs値の上限は実用値として11000Gauss
〜12000Gaussまでであった。
安定性についても良好なものが実用化されているが、Bs
値の上限は14000Gauss前後が限度であり、このBs値の大
きさの材料ではやはり実用上の熱安定性に問題があっ
た。さらにまた、センダクト合金薄膜においては熱安定
性の問題点は比較的小さいが、軟磁気特性については十
分とはいえなく、Bs値の上限は実用値として11000Gauss
〜12000Gaussまでであった。
上記のような従来の軟磁性薄膜のもつ問題点に対して、
およそ15000Gauss以上のBs値を有し、なお且つ良好な軟
磁気特性(低抗磁力(Hc),高い初透磁率(μi),低
い磁歪(λs)を有する熱的にも安定なヘッド用材料が
実用上必要である。
およそ15000Gauss以上のBs値を有し、なお且つ良好な軟
磁気特性(低抗磁力(Hc),高い初透磁率(μi),低
い磁歪(λs)を有する熱的にも安定なヘッド用材料が
実用上必要である。
従来、Fe−Co−Ni 3元系合金に関しては『パーミンバ
ー合金』として、そのいくつかの磁気特性に関する報告
が知られているが、これ等はバルク材料(固体)のみに
限られ、軟磁気特性に限っても同組成であっても一般に
面配向の著しい薄膜材料についてはほとんど知られてい
なかった。
ー合金』として、そのいくつかの磁気特性に関する報告
が知られているが、これ等はバルク材料(固体)のみに
限られ、軟磁気特性に限っても同組成であっても一般に
面配向の著しい薄膜材料についてはほとんど知られてい
なかった。
蒸着法、又は電着法による製法の面心立方格子のFe,Co,
Niを主成分とする薄膜においては、例えば図1に示すよ
うに、およそNiの原子(at%)に主として依存した飽和
磁束密度の値を有し、 Ni<70at%で従来の軟磁性薄膜にない Bs<12000Gaussを得ることができる。しかし、Ni20at
%では室温における。面心立方格子構造の安定性はな
く、体心立方格子構造が安定となるため、薄膜の軟磁気
特性へ大きな悪影響を及ぼす。また、同様なことが図2
からFe75at%についても言える(即ち20<Ni<70
〔%〕,Fe<75%が必要)。
Niを主成分とする薄膜においては、例えば図1に示すよ
うに、およそNiの原子(at%)に主として依存した飽和
磁束密度の値を有し、 Ni<70at%で従来の軟磁性薄膜にない Bs<12000Gaussを得ることができる。しかし、Ni20at
%では室温における。面心立方格子構造の安定性はな
く、体心立方格子構造が安定となるため、薄膜の軟磁気
特性へ大きな悪影響を及ぼす。また、同様なことが図2
からFe75at%についても言える(即ち20<Ni<70
〔%〕,Fe<75%が必要)。
通常結晶磁気異方性定数及び磁歪定数が軟磁気特性に大
きく影響を及ぼすが、両者は各合金元素成分組成に依存
するだけでなく、各結晶面内における値によって大きさ
符号とも、大きく相違するため、一般に薄膜材料の面配
向性、結晶粒径の大きさ、形状によって大きく左右され
るため、バルク材料として知られている従来のデータと
は同組成であっても異なっている。
きく影響を及ぼすが、両者は各合金元素成分組成に依存
するだけでなく、各結晶面内における値によって大きさ
符号とも、大きく相違するため、一般に薄膜材料の面配
向性、結晶粒径の大きさ、形状によって大きく左右され
るため、バルク材料として知られている従来のデータと
は同組成であっても異なっている。
課題を解決するための手段 上記の要求を満たすため本発明は、Fe,Co,Niの3成分を
主成分とし、各成分組成が原子%で20%<Fe<75%、且
つ5%<Co<45%、且つ20%<Ni<70%である合金薄膜
であって、薄膜面として面心立方格子構造の(220)面
または(111)面を優先的に面配向させたことを特徴と
する。
主成分とし、各成分組成が原子%で20%<Fe<75%、且
つ5%<Co<45%、且つ20%<Ni<70%である合金薄膜
であって、薄膜面として面心立方格子構造の(220)面
または(111)面を優先的に面配向させたことを特徴と
する。
作 用 スパッタ蒸着法、電子ビーム蒸着法、或いは電着法等の
薄膜作製方法によれば、Fe,Co,Niの3成分を主成分とす
る合金薄膜において、面心立方構造の(220)面又は(1
11)面を作成条件を選ぶことによって薄膜面として優先
的に面配向させることが可能である。これ等の面配向を
もつ膜の薄膜面内の軟磁気特性に良好な特性を確認し
た。しかし、これ等の面配向をもつ薄膜面内の良好な軟
磁気特性を得るためには組成的には Ni<20at%に加えて、Fe>20at%,且つ Co<45at%が必要であることがわかった。
薄膜作製方法によれば、Fe,Co,Niの3成分を主成分とす
る合金薄膜において、面心立方構造の(220)面又は(1
11)面を作成条件を選ぶことによって薄膜面として優先
的に面配向させることが可能である。これ等の面配向を
もつ膜の薄膜面内の軟磁気特性に良好な特性を確認し
た。しかし、これ等の面配向をもつ薄膜面内の良好な軟
磁気特性を得るためには組成的には Ni<20at%に加えて、Fe>20at%,且つ Co<45at%が必要であることがわかった。
この組成領域内のものを選べば薄膜の作成条件や熱処理
条件を適当に選ぶことにより面配向、結晶粒径や形状を
制御することで初透磁率μi>300,Hc<3Oeのものを得
ることができる。一方、Co5at%の薄膜についてはパ
ーマロイ合金をはじめとしたNi−Fe系合金2元系薄膜と
して従来から知られている材料とほぼ同様な薄膜といえ
る。
条件を適当に選ぶことにより面配向、結晶粒径や形状を
制御することで初透磁率μi>300,Hc<3Oeのものを得
ることができる。一方、Co5at%の薄膜についてはパ
ーマロイ合金をはじめとしたNi−Fe系合金2元系薄膜と
して従来から知られている材料とほぼ同様な薄膜といえ
る。
上記のFe Co Ni3成分を主成分とする合金の軟磁気特性
は例えば実施例に示したように耐食性向上のためのCr結
晶粒径を制御するTi,Zr,Hf等の微量(5%未満)の添加
によって、配向性に対する大きな影響を及ぼさない限
り、ほぼ同等かそれ以上(第4元素の無添加)の軟磁気
特性が期待できることは言うまでもない。この場合でも
Bs値の大きな低下はない。
は例えば実施例に示したように耐食性向上のためのCr結
晶粒径を制御するTi,Zr,Hf等の微量(5%未満)の添加
によって、配向性に対する大きな影響を及ぼさない限
り、ほぼ同等かそれ以上(第4元素の無添加)の軟磁気
特性が期待できることは言うまでもない。この場合でも
Bs値の大きな低下はない。
実施例 第1図は本発明の第1実施例におけるFe,Co,Niを主成分
とする高飽和磁束密度軟磁性膜の飽和磁束密度の組成依
存性を示した(at%)。
とする高飽和磁束密度軟磁性膜の飽和磁束密度の組成依
存性を示した(at%)。
第1図の特性は、いずれもスパッタ蒸着法による製法に
よるものである。
よるものである。
第2図には、第1図の試料と同じ試料について、熱処理
前の蒸着膜の結晶構造を調べた結果である。表1は第2
図の結果によって確かめられた各結晶構造のものについ
て、薄膜の面配向性と対比させながら各合金組成におけ
る初透磁率(μi)、抗磁力(Hc)等の特性を700℃0.5
Hr,又は500℃0.5Hrの熱処理膜についてまとめたもので
ある。ここで、冷却は全て空冷をとった。
前の蒸着膜の結晶構造を調べた結果である。表1は第2
図の結果によって確かめられた各結晶構造のものについ
て、薄膜の面配向性と対比させながら各合金組成におけ
る初透磁率(μi)、抗磁力(Hc)等の特性を700℃0.5
Hr,又は500℃0.5Hrの熱処理膜についてまとめたもので
ある。ここで、冷却は全て空冷をとった。
本発明の第2実施例におけるFe Co Niを主成分とする高
飽和磁束密度を有るるスパッタ蒸着膜について、第3図
に示すような積層型ビデオヘッドコア材料として使用
し、良好な磁気記録再生特性を得た。同図のヘッドは、
磁気コア層1を非磁性基板2,3により挾んだ積層体2個
を、ギャップ4を形成して突き合わせた構造である。5
は巻線窓である。
飽和磁束密度を有るるスパッタ蒸着膜について、第3図
に示すような積層型ビデオヘッドコア材料として使用
し、良好な磁気記録再生特性を得た。同図のヘッドは、
磁気コア層1を非磁性基板2,3により挾んだ積層体2個
を、ギャップ4を形成して突き合わせた構造である。5
は巻線窓である。
本発明の第3実施例におけるFe Co Niを主成分とする高
飽和磁束密度を有する電着軟磁性膜(一軸磁界中電着)
について、第4図に示すような薄膜磁気ヘッド用ヨーク
材料(下部磁性層及び上部磁性層)として使用し、良好
な磁気記録再生特性を得た。同図において、1は基板で
あり、その上には絶縁層2を介して下部磁性層3が形成
されている。更にギャップ層4を介して、絶縁層5とコ
イル層7が積層され、その上部に上部磁性層6が形成さ
れている。ただし、先端部分においては下部磁性層3と
上部磁性層6とはギャップ層4のみを介して対向してい
る。8は保護層である。
飽和磁束密度を有する電着軟磁性膜(一軸磁界中電着)
について、第4図に示すような薄膜磁気ヘッド用ヨーク
材料(下部磁性層及び上部磁性層)として使用し、良好
な磁気記録再生特性を得た。同図において、1は基板で
あり、その上には絶縁層2を介して下部磁性層3が形成
されている。更にギャップ層4を介して、絶縁層5とコ
イル層7が積層され、その上部に上部磁性層6が形成さ
れている。ただし、先端部分においては下部磁性層3と
上部磁性層6とはギャップ層4のみを介して対向してい
る。8は保護層である。
発明の効果 本発明の高飽和磁束密度を有する軟磁性膜を得ることが
でき、又この軟磁性膜を用いて、より磁気記録再生効率
の向上した各種の磁気ヘッドを実現することができる。
でき、又この軟磁性膜を用いて、より磁気記録再生効率
の向上した各種の磁気ヘッドを実現することができる。
第1図は本発明の第1実施例における高飽和磁束密度軟
磁性膜の主成分Fe Co Niの各組成に対する飽和磁束密度
依存性を示すグラフ、第2図はその各スパッタ蒸着膜の
未然処理時の室温における結晶構造を示すグラフ、第3
図は本発明の第2実施例における積層型ビデオヘッドの
概略斜視図及びその磁気ギャップ部分の拡大図、第4図
は本発明の第3実施例における薄膜磁気ヘッドの平面図
及びX−Y断面図である。
磁性膜の主成分Fe Co Niの各組成に対する飽和磁束密度
依存性を示すグラフ、第2図はその各スパッタ蒸着膜の
未然処理時の室温における結晶構造を示すグラフ、第3
図は本発明の第2実施例における積層型ビデオヘッドの
概略斜視図及びその磁気ギャップ部分の拡大図、第4図
は本発明の第3実施例における薄膜磁気ヘッドの平面図
及びX−Y断面図である。
Claims (5)
- 【請求項1】Fe,Co,Niの3成分を主成分とし、各成分組
成が原子%で20%<Fe<75%且つ 5%<Co<45%且つ 20%<Ni<70% である合金薄膜であって、薄膜面として面心立方格子構
造の(220)面または(111)面を優先的に面配向させた
ことを特徴とする高飽和磁束密度軟磁性膜。 - 【請求項2】Fe,Co,Niの3成分を主成分とする薄膜合金
を蒸着法によって作成したことを特徴とする請求項1記
載の高飽和磁束密度軟磁性膜。 - 【請求項3】Fe,Co,Niの3成分を主成分とする薄膜合金
を電着法(電解メッキ法)によって作成したことを特徴
とする請求項1記載の高飽和磁束密度軟磁性膜。 - 【請求項4】Fe,Co,Niの3成分を主成分とする薄膜合金
に対し5at%未満のCr,Ti,Zr,Hfを添加したことを特徴と
する請求項1記載の高飽和磁束密度軟磁性膜。 - 【請求項5】請求項1記載の高飽和磁束密度軟磁性膜を
用いた磁気ヘッド。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63220935A JPH0744110B2 (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | 高飽和磁束密度軟磁性膜及び磁気ヘッド |
US07/400,921 US5091266A (en) | 1988-09-02 | 1989-08-30 | Soft-magnetic film having saturation magnetic-flux density and magnetic head utilizing the same |
EP89116184A EP0360055B1 (en) | 1988-09-02 | 1989-09-01 | Soft-magnetic film having high saturation magnetic-flux density and magnetic head utilizing the same |
DE89116184T DE68911082T2 (de) | 1988-09-02 | 1989-09-01 | Weichmagnetischer Film mit hoher magnetischer Flussdichte sowie Magnetkopf. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63220935A JPH0744110B2 (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | 高飽和磁束密度軟磁性膜及び磁気ヘッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0268906A JPH0268906A (ja) | 1990-03-08 |
JPH0744110B2 true JPH0744110B2 (ja) | 1995-05-15 |
Family
ID=16758864
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63220935A Expired - Lifetime JPH0744110B2 (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | 高飽和磁束密度軟磁性膜及び磁気ヘッド |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5091266A (ja) |
EP (1) | EP0360055B1 (ja) |
JP (1) | JPH0744110B2 (ja) |
DE (1) | DE68911082T2 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2574901B2 (ja) * | 1988-10-14 | 1997-01-22 | 株式会社日立製作所 | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
US5135818A (en) * | 1989-03-28 | 1992-08-04 | Hitachi Maxell, Ltd. | Thin soft magnetic film and method of manufacturing the same |
US5287239A (en) * | 1989-07-05 | 1994-02-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic head using high saturated magnetic flux density film and manufacturing method thereof |
US5614329A (en) * | 1991-03-05 | 1997-03-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Soft-magnetic thin film |
DE4306655C2 (de) * | 1992-03-04 | 1997-04-30 | Toshiba Kawasaki Kk | Verfahren zum Herstellen eines planaren Induktionselements |
US5570251A (en) * | 1993-07-07 | 1996-10-29 | Tdk Corporation | Thin film magnetic device with plural valves of magnetostriction |
US5891586A (en) * | 1995-01-27 | 1999-04-06 | Alps Electric Co., Ltd. | Multilayer thin-film for magnetoresistive device |
JPH08212512A (ja) | 1995-02-03 | 1996-08-20 | Hitachi Ltd | 磁気記憶装置及びそれに用いる薄膜磁気ヘッドとその製造方法 |
US6592811B1 (en) | 1999-10-06 | 2003-07-15 | Nec Corporation | Magnetic material having a high saturation magnetic flux density and a low coercive force |
US6342311B1 (en) | 1999-10-08 | 2002-01-29 | Seagate Technology, Inc. | High magnetic moment seed layer materials for writer pole tips |
JP3708856B2 (ja) | 2001-09-07 | 2005-10-19 | アルプス電気株式会社 | 軟磁性膜と前記軟磁性膜を用いた薄膜磁気ヘッド、および前記軟磁性膜の製造方法と前記薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
AU2003211604A1 (en) * | 2003-02-20 | 2004-09-09 | Fujitsu Limited | Vertical magnetic recording medium |
EP1594163A1 (en) | 2004-05-03 | 2005-11-09 | Commissariat A L'energie Atomique | A screened electrical device and a process for manufacturing the same |
CN1315641C (zh) * | 2004-11-30 | 2007-05-16 | 北京科技大学 | 一种镍铁薄膜及其制备方法 |
US20070253103A1 (en) * | 2006-04-27 | 2007-11-01 | Heraeus, Inc. | Soft magnetic underlayer in magnetic media and soft magnetic alloy based sputter target |
JP5605787B2 (ja) * | 2008-07-14 | 2014-10-15 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金を成膜するためのスパッタリングターゲット材とその製造方法 |
US20110238177A1 (en) * | 2010-03-25 | 2011-09-29 | Joseph Anthony Farco | Biomechatronic Device |
CN112301255B (zh) * | 2020-10-27 | 2021-07-30 | 上海交通大学 | 一种模具用高导热高强Co-Fe-Ni合金及其增材制造方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4917325A (ja) * | 1972-06-10 | 1974-02-15 | ||
JPS5758226A (en) * | 1980-09-22 | 1982-04-07 | Toshiba Corp | Magnetic recording medium |
JPS59219448A (ja) * | 1983-05-30 | 1984-12-10 | Tohoku Tokushuko Kk | 蒸着テ−プ用記録磁性体合金 |
JPS6025014A (ja) * | 1983-07-21 | 1985-02-07 | Hitachi Ltd | 磁気記録再生装置 |
JPS6176642A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-19 | Hitachi Ltd | Co―Ni―Fe合金の電気めっき浴及び電気めっき方法 |
JPS61126618A (ja) * | 1984-11-22 | 1986-06-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 磁気抵抗効果薄膜ヘツド |
JPS61158017A (ja) * | 1984-12-28 | 1986-07-17 | Nec Corp | 薄膜磁気ヘツド |
JPH0772928B2 (ja) * | 1985-03-29 | 1995-08-02 | 株式会社日立製作所 | 磁気ヘッド |
JPS6237914A (ja) * | 1985-08-13 | 1987-02-18 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 薄膜形成雰囲気変動に対し磁気特性の安定した軟磁性薄膜 |
JPS62202307A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-07 | Sharp Corp | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
JPS62204504A (ja) * | 1986-03-04 | 1987-09-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | アモルフアス軟磁性膜及びその製造方法 |
JPS6358807A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-14 | Nec Home Electronics Ltd | 磁気ヘツド用鉄薄膜 |
JPH0834154B2 (ja) * | 1986-11-06 | 1996-03-29 | ソニー株式会社 | 軟磁性薄膜 |
-
1988
- 1988-09-02 JP JP63220935A patent/JPH0744110B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-08-30 US US07/400,921 patent/US5091266A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-01 DE DE89116184T patent/DE68911082T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-01 EP EP89116184A patent/EP0360055B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0360055B1 (en) | 1993-12-01 |
JPH0268906A (ja) | 1990-03-08 |
EP0360055A1 (en) | 1990-03-28 |
DE68911082T2 (de) | 1994-04-07 |
US5091266A (en) | 1992-02-25 |
DE68911082D1 (de) | 1994-01-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2821456B1 (ja) | コバルト・鉄・ニッケル磁性薄膜とその製造方法,及びそれを用いた複合型薄膜磁気ヘッドと磁気記憶装置 | |
JPH0744110B2 (ja) | 高飽和磁束密度軟磁性膜及び磁気ヘッド | |
US4935311A (en) | Magnetic multilayered film and magnetic head using the same | |
JP2963003B2 (ja) | 軟磁性合金薄膜及びその製造方法 | |
EP0234879B1 (en) | Ferromagnetic thin film and magnetic head using it | |
JP4759455B2 (ja) | 磁気シールド及びその製造方法、薄膜磁気ヘッド | |
JP2698814B2 (ja) | 軟磁性薄膜 | |
US4707417A (en) | Magnetic composite film | |
JPH06318516A (ja) | 軟磁性多層膜およびこれを用いた磁気ヘッド | |
JP2508489B2 (ja) | 軟磁性薄膜 | |
JPH0217846B2 (ja) | ||
JP3127075B2 (ja) | 軟磁性合金膜と磁気ヘッドおよび軟磁性合金膜の熱膨張係数の調整方法 | |
JPS60132305A (ja) | 鉄−窒素系積層磁性体膜およびそれを用いた磁気ヘツド | |
JP2710453B2 (ja) | 軟磁性合金膜 | |
JP2925257B2 (ja) | 強磁性膜、その製造方法及び磁気ヘッド | |
JPS63106916A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH0827908B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
JP3232592B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
JP2893706B2 (ja) | 鉄系軟磁性膜 | |
JP2639719B2 (ja) | 磁気ヘッド用磁性体膜 | |
JP2979557B2 (ja) | 軟磁性膜 | |
JPH0439905A (ja) | 軟磁性合金膜 | |
JP3233538B2 (ja) | 軟磁性合金、軟磁性薄膜および多層膜 | |
JP3087265B2 (ja) | 磁性合金 | |
JP2551008B2 (ja) | 軟磁性薄膜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090515 Year of fee payment: 14 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090515 Year of fee payment: 14 |