JP2639719B2 - 磁気ヘッド用磁性体膜 - Google Patents
磁気ヘッド用磁性体膜Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、高密度磁気記録用の磁気ヘッド材料に好適
な磁気ヘッド用磁性体膜に関する。
な磁気ヘッド用磁性体膜に関する。
［従来の技術］ 最近の磁気記録技術においては記録媒体の高保磁力化
や垂直磁気記録の開発が進められ、それらに対応するた
め磁気ヘッドに高飽和磁化が要求されている。
や垂直磁気記録の開発が進められ、それらに対応するた
め磁気ヘッドに高飽和磁化が要求されている。
従来よく使われている磁気ヘッド材料は、フェライ
ト，パーマロイ，センダスト,Co系アモルファス合金等
である。これらの材料の飽和磁束密度は上記の順に高い
ことから、センダスト,Co系アモルファス合金等の金属
磁性材料が将来有望なヘッド材料とされている。
ト，パーマロイ，センダスト,Co系アモルファス合金等
である。これらの材料の飽和磁束密度は上記の順に高い
ことから、センダスト,Co系アモルファス合金等の金属
磁性材料が将来有望なヘッド材料とされている。
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、センダスト系もアモルファス系も飽和
磁化は10kGぐらいが限度で、これからの高密度記録に対
応していくのは難しい。また、従来の磁気ヘッドでは、
大気又は媒体に触れる面から磁性体（コア）が経時的に
腐食し、それによって飽和磁化が低下するという問題が
あった。
磁化は10kGぐらいが限度で、これからの高密度記録に対
応していくのは難しい。また、従来の磁気ヘッドでは、
大気又は媒体に触れる面から磁性体（コア）が経時的に
腐食し、それによって飽和磁化が低下するという問題が
あった。
一方、特開昭63−113908号「磁性合金膜」には、高飽
和磁化を有し、耐熱性に優れ、かつ柔軟性の磁気ヘッド
材料として使用できるFe−Si系合金膜からなる磁気ヘッ
ド用磁性体膜が開示されている。この磁気ヘッド用磁性
体膜は、組成がFexSiyCrzで、膜面方向の80％以上が（1
10）面となるよう配向された磁性合金膜を、単層もしく
はFe−Si−Alやアモルファス合金と積層して形成したも
のである。すなわち、Fe−Siを適当な条件でスパッタリ
ングし、（110）面を基板面方向にほぼ配向させ、かつ
その面が＜110＞軸の回りに回転した結晶を多数集合さ
せたものである。
和磁化を有し、耐熱性に優れ、かつ柔軟性の磁気ヘッド
材料として使用できるFe−Si系合金膜からなる磁気ヘッ
ド用磁性体膜が開示されている。この磁気ヘッド用磁性
体膜は、組成がFexSiyCrzで、膜面方向の80％以上が（1
10）面となるよう配向された磁性合金膜を、単層もしく
はFe−Si−Alやアモルファス合金と積層して形成したも
のである。すなわち、Fe−Siを適当な条件でスパッタリ
ングし、（110）面を基板面方向にほぼ配向させ、かつ
その面が＜110＞軸の回りに回転した結晶を多数集合さ
せたものである。
しかしながら、（110）面は、体心立方格子の対角線
上の面であり、単なるスパッタリングだけでは最密面を
形成してしまうために、当然のことながら（110）面が
膜面と平行に配向された結晶体が作られることは明らか
である。（110）面配向結晶を、仮に体心立方格子の各
面すなわち（100）面を膜面に平行に配向した（100）面
配向結晶と比較した場合、結晶磁気異方性エネルギは後
者の方が遥かに小さく、保磁力の低減余地が相当に残さ
れているため、ヒステリシス損の低減が徹底できていな
いといった課題を抱えるものであった。
上の面であり、単なるスパッタリングだけでは最密面を
形成してしまうために、当然のことながら（110）面が
膜面と平行に配向された結晶体が作られることは明らか
である。（110）面配向結晶を、仮に体心立方格子の各
面すなわち（100）面を膜面に平行に配向した（100）面
配向結晶と比較した場合、結晶磁気異方性エネルギは後
者の方が遥かに小さく、保磁力の低減余地が相当に残さ
れているため、ヒステリシス損の低減が徹底できていな
いといった課題を抱えるものであった。
さらに、特開昭63−293707号「Fe−Co磁性多層膜及び
磁気ヘッド」には、面内一軸磁気異方性と低保磁力と高
飽和時速密度を有するFe−Co多層膜及びこれをコア材料
として用いた磁気ヘッドが開始されている。しかしなが
ら、このものも、結晶が（110）面を基板面内に優先配
向した膜構造を採用しており、結晶磁気異方性エネルギ
や保持力の低減余地が相当に残されているため、ヒステ
リシス損の低減が徹底できていないといった課題を抱え
るものであった。
磁気ヘッド」には、面内一軸磁気異方性と低保磁力と高
飽和時速密度を有するFe−Co多層膜及びこれをコア材料
として用いた磁気ヘッドが開始されている。しかしなが
ら、このものも、結晶が（110）面を基板面内に優先配
向した膜構造を採用しており、結晶磁気異方性エネルギ
や保持力の低減余地が相当に残されているため、ヒステ
リシス損の低減が徹底できていないといった課題を抱え
るものであった。
さらにまた、特開昭63−254709号「積層磁性薄膜およ
びこれを用いた磁気ヘッド」には、Fe薄膜或いはFeを主
成分とする合金膜に、非磁性金属を介して積層構造とし
た磁気ヘッド用磁性体膜が開示されている。このもの
は、積層磁性薄膜に熱処理を加えることにより保磁力を
低減するため、Fe−12at％Si合金とCu中間層を用いた積
層磁性薄膜に対し、300℃で１時間の熱処理を加え、保
磁力0.7Oeに低減させた実施例を例示している。しかし
ながら、この熱処理は磁界中で行うものではなく、この
ため結晶は依然として（110）面が基板面内に優先配向
した膜構造であり、結晶磁気異方性エネルギや保磁力に
低減余地を相当に残すものであった。
びこれを用いた磁気ヘッド」には、Fe薄膜或いはFeを主
成分とする合金膜に、非磁性金属を介して積層構造とし
た磁気ヘッド用磁性体膜が開示されている。このもの
は、積層磁性薄膜に熱処理を加えることにより保磁力を
低減するため、Fe−12at％Si合金とCu中間層を用いた積
層磁性薄膜に対し、300℃で１時間の熱処理を加え、保
磁力0.7Oeに低減させた実施例を例示している。しかし
ながら、この熱処理は磁界中で行うものではなく、この
ため結晶は依然として（110）面が基板面内に優先配向
した膜構造であり、結晶磁気異方性エネルギや保磁力に
低減余地を相当に残すものであった。
本発明は、上述したような従来の磁気ヘッド材料にお
ける問題点を解決したものであり、優れた軟磁気特性
（高飽和磁化・低保磁力）を示すとともに優れた耐蝕性
を有する磁気ヘッド用磁性体膜を提供することを目的と
する。
ける問題点を解決したものであり、優れた軟磁気特性
（高飽和磁化・低保磁力）を示すとともに優れた耐蝕性
を有する磁気ヘッド用磁性体膜を提供することを目的と
する。
［課題を解決するための手段］ 上記の目的を達成するため、本発明の磁気ヘッド用磁
性体膜は、Fe膜又はFeを主成分とする合金膜からなり、
該合金膜の各結晶の（100）面を膜面に対し平行に配向
して結晶磁気異方性エネルギを最小化した主磁性層と、
非磁性膜からなる中間層とを具備し、前記主磁性層を前
記中間層を介して多層に積層したことを特徴とするもの
である。
性体膜は、Fe膜又はFeを主成分とする合金膜からなり、
該合金膜の各結晶の（100）面を膜面に対し平行に配向
して結晶磁気異方性エネルギを最小化した主磁性層と、
非磁性膜からなる中間層とを具備し、前記主磁性層を前
記中間層を介して多層に積層したことを特徴とするもの
である。
主磁性層として、特に低い保磁力が得られるのは、Fe
膜あるいはSi,Al,Ge,Gaのうちの少なくとも１つを成分
とする鉄基合金膜であり、各主磁性層がそれらの膜のい
ずれかであれば互いに異なる材質でもよい。
膜あるいはSi,Al,Ge,Gaのうちの少なくとも１つを成分
とする鉄基合金膜であり、各主磁性層がそれらの膜のい
ずれかであれば互いに異なる材質でもよい。
中間層として、特に大きな耐蝕性が得られる金属膜
は、Ni,Co,Cr,Nb,Ta,Zr,W,Ptのうちの少なくとも１つを
含む金属膜である。また、中間層として、特に大きな耐
蝕性が得られる絶縁膜は、SiO2,ZnO,Al2O3膜であり、そ
れらの膜のいずれかであれば各中間層間で異なっていて
もよい。さらに、カーボン膜を中間層に用いても、大き
な耐蝕性が得られる。
は、Ni,Co,Cr,Nb,Ta,Zr,W,Ptのうちの少なくとも１つを
含む金属膜である。また、中間層として、特に大きな耐
蝕性が得られる絶縁膜は、SiO2,ZnO,Al2O3膜であり、そ
れらの膜のいずれかであれば各中間層間で異なっていて
もよい。さらに、カーボン膜を中間層に用いても、大き
な耐蝕性が得られる。
また、良好な軟磁気特性を確保するには主磁性層の各
々の膜厚は3000Å以下とし、良好な耐蝕性を確保するに
は中間層の各々の膜厚を1000Å以下とするのが好まし
い。
々の膜厚は3000Å以下とし、良好な耐蝕性を確保するに
は中間層の各々の膜厚を1000Å以下とするのが好まし
い。
［作用］ 本発明の磁気ヘッド用磁性体膜では、主磁性層がFeを
母材とするために書い飽和磁化が得られ、主磁性体膜の
（100）面が膜面に対して平行に配向しているために結
晶磁気異方性エネルギが最小となり低い保磁力が得られ
る。さらに、各主磁性層間に中間層が介在するために鋳
にくく、大きな耐蝕性が得られる。
母材とするために書い飽和磁化が得られ、主磁性体膜の
（100）面が膜面に対して平行に配向しているために結
晶磁気異方性エネルギが最小となり低い保磁力が得られ
る。さらに、各主磁性層間に中間層が介在するために鋳
にくく、大きな耐蝕性が得られる。
［実施例］ 以下、図面を参照して本発明を実施例について説明す
る。第１図は、本発明の磁気ヘッド用磁性体膜の一実施
例の積層構造を示す要部縦断面図、第２図は、第１図に
示した磁気ヘッド用磁性体膜と参考例のそれぞれの耐蝕
度を比較して示す図である。
る。第１図は、本発明の磁気ヘッド用磁性体膜の一実施
例の積層構造を示す要部縦断面図、第２図は、第１図に
示した磁気ヘッド用磁性体膜と参考例のそれぞれの耐蝕
度を比較して示す図である。
第１図に示す磁性体膜10は、ガラス又はセラミック製
の基板12の上に、Feを母材とする例えばFeSi膜からなる
主磁性層14,14,..と例えばSiO2膜からなる中間層16,1
6,..とを交互に積層したものである。このものは、後述
するごとく、磁界中の焼鈍処理により、各主磁性層14の
（100）面を、膜面に対して平行に配向させてある。従
って、磁気記録又は再生用の磁界は、膜面に対して平行
に通される。
の基板12の上に、Feを母材とする例えばFeSi膜からなる
主磁性層14,14,..と例えばSiO2膜からなる中間層16,1
6,..とを交互に積層したものである。このものは、後述
するごとく、磁界中の焼鈍処理により、各主磁性層14の
（100）面を、膜面に対して平行に配向させてある。従
って、磁気記録又は再生用の磁界は、膜面に対して平行
に通される。
かかる構造の磁性体膜10は、例えば次のような製造方
法によって製作される。まず、イオンビーム・スパッタ
法により基板12上にFeSiとSiO2とをそれぞれ1000Å,500
Åの厚さで交互に堆積させて、図示のようなFeSi/SiO2
多層膜を形成する。次に、1000エルステッド（Oe）の回
転磁界を印加しながら高真空中（例えば、１×10-5Torr
に満たない気圧下）で、温度600℃にて５時間のアニー
ル（焼鈍）を施す。これによって、FeSi層（主磁性層）
14においては、各結晶の（100）面が膜面に対して平行
に配向するような結晶構造が得られる。
法によって製作される。まず、イオンビーム・スパッタ
法により基板12上にFeSiとSiO2とをそれぞれ1000Å,500
Åの厚さで交互に堆積させて、図示のようなFeSi/SiO2
多層膜を形成する。次に、1000エルステッド（Oe）の回
転磁界を印加しながら高真空中（例えば、１×10-5Torr
に満たない気圧下）で、温度600℃にて５時間のアニー
ル（焼鈍）を施す。これによって、FeSi層（主磁性層）
14においては、各結晶の（100）面が膜面に対して平行
に配向するような結晶構造が得られる。
こうして製作さた磁性体膜10は、飽和磁化４πMs≧13
kG,保磁力HC＜1.0エルステッド（Oe）という優れた軟磁
気特性を示す。このような非常に大きい飽和磁化が得ら
れるのは各主磁性層14がFeを母材とするからであり、ま
た非常に低い保磁力が得られるのは、磁界中で焼鈍処理
を施したことで、各主磁性層14の（100）面が膜面に対
して平行に配向し、結晶磁気異方性エネルギが最小化さ
れるからである。
kG,保磁力HC＜1.0エルステッド（Oe）という優れた軟磁
気特性を示す。このような非常に大きい飽和磁化が得ら
れるのは各主磁性層14がFeを母材とするからであり、ま
た非常に低い保磁力が得られるのは、磁界中で焼鈍処理
を施したことで、各主磁性層14の（100）面が膜面に対
して平行に配向し、結晶磁気異方性エネルギが最小化さ
れるからである。
球面座標（r,θ，φ）上のｒ＝１の点における結晶磁
気異方性エネルギEaは、係数をK1とすると、 Ea＝（K1/64）｛（３−4cos2θ＋cos4）（１ −cos4φ）＋８（１−cos4θ）｝ で表され、（100）面配向結晶ではφ＝π/2であり、（1
10）面配向結晶ではφ＝−π/4であるから、（100）面
配向結晶の結晶磁気異方性エネルギEaは、 Ea＝K1（１−cos4θ）/8 となるのに対し、（110）面配向結晶では、結晶磁気異
方性エネルギが、上記Eaよりも ΔEa＝K1（３−4cos2θ＋cos4θ）/32 だけ大きな値をとることになる。
気異方性エネルギEaは、係数をK1とすると、 Ea＝（K1/64）｛（３−4cos2θ＋cos4）（１ −cos4φ）＋８（１−cos4θ）｝ で表され、（100）面配向結晶ではφ＝π/2であり、（1
10）面配向結晶ではφ＝−π/4であるから、（100）面
配向結晶の結晶磁気異方性エネルギEaは、 Ea＝K1（１−cos4θ）/8 となるのに対し、（110）面配向結晶では、結晶磁気異
方性エネルギが、上記Eaよりも ΔEa＝K1（３−4cos2θ＋cos4θ）/32 だけ大きな値をとることになる。
また、Eaの平均値Eamについても、 Eam＝（1/π）∫ Ea dθ なる計算式から、（110）面配向結晶と（100）面配向結
晶とでは大差があり、係数K1を4.72×106erg/ccとした
ときに、（110）面配向結晶の場合は約11×104erg/ccと
なるのに対し、（100）面配向結晶の場合は約７×104er
g/ccと、63％程度にまで結晶磁気異方性エネルギ平均値
が低減できることが判っている。
晶とでは大差があり、係数K1を4.72×106erg/ccとした
ときに、（110）面配向結晶の場合は約11×104erg/ccと
なるのに対し、（100）面配向結晶の場合は約７×104er
g/ccと、63％程度にまで結晶磁気異方性エネルギ平均値
が低減できることが判っている。
さらに、第２図に示したように、この磁性体膜10は、
SiO2膜を中間層とする多層膜構造を有するため、優れた
耐蝕性が得られる。この耐蝕試験は、60℃で90％RHの環
境下で行われたものであるが、長時間（1000時間）経過
しても磁性体膜10（FeSi/SiO2）の飽和磁化４πMsは殆
ど低下しないことが判っている。また、NiFe膜を中間層
とした場合（FeSi/NiFe）も、同様な耐蝕性が得られる
ことが判っている。これに対し、中間層を介さずに主磁
性層（FeSi）14だけで構成した磁性体膜（参考例）で
は、時間が経過するにつれて飽和磁化４πMsが著しく低
下することも確かめられている。
SiO2膜を中間層とする多層膜構造を有するため、優れた
耐蝕性が得られる。この耐蝕試験は、60℃で90％RHの環
境下で行われたものであるが、長時間（1000時間）経過
しても磁性体膜10（FeSi/SiO2）の飽和磁化４πMsは殆
ど低下しないことが判っている。また、NiFe膜を中間層
とした場合（FeSi/NiFe）も、同様な耐蝕性が得られる
ことが判っている。これに対し、中間層を介さずに主磁
性層（FeSi）14だけで構成した磁性体膜（参考例）で
は、時間が経過するにつれて飽和磁化４πMsが著しく低
下することも確かめられている。
なお、主磁性層は、FeSi膜に限らず、例えばFe膜或い
はSi,Al,Ge,Gaのうちの少なくとも１つを成分とする鉄
基合金膜であればよく、それらの膜でも上記実施例と同
等な低保磁力を得ることができる。また、多層に積層さ
れる各主磁性層は、上記の膜のいずれかであればよく、
必ずしも同一のものでなくてもよい。従って、例えば、
ある主磁性層がFeSi膜で、他の主磁性層がFeGe膜であっ
てもよい。
はSi,Al,Ge,Gaのうちの少なくとも１つを成分とする鉄
基合金膜であればよく、それらの膜でも上記実施例と同
等な低保磁力を得ることができる。また、多層に積層さ
れる各主磁性層は、上記の膜のいずれかであればよく、
必ずしも同一のものでなくてもよい。従って、例えば、
ある主磁性層がFeSi膜で、他の主磁性層がFeGe膜であっ
てもよい。
また、中間層は、SiO2膜以外に、ZnO,Al2O3膜等の絶
縁膜であっても上記実施例と同等な耐蝕性が得られる。
また、金属膜も可能であり、例えばNi,Co,Cr,Nb,Ta,Zr,
W,Ptのうちの少なくとも１つを含む金属膜が好適であ
る。また、カーボン（Ｃ）膜であっても、大きな耐蝕性
が得られる。
縁膜であっても上記実施例と同等な耐蝕性が得られる。
また、金属膜も可能であり、例えばNi,Co,Cr,Nb,Ta,Zr,
W,Ptのうちの少なくとも１つを含む金属膜が好適であ
る。また、カーボン（Ｃ）膜であっても、大きな耐蝕性
が得られる。
なお、膜厚に関しては、主磁性層は3000Å以下、中間
層は1000Å以下とするのが好ましい。これ以上厚くした
場合は、耐蝕性効果が弱まるので注意が必要である。
層は1000Å以下とするのが好ましい。これ以上厚くした
場合は、耐蝕性効果が弱まるので注意が必要である。
［発明の効果］ 本発明の磁気ヘッド用磁性体膜は、Fe膜又はFeを主成
分とする合金膜からなり、該合金膜の各結晶の（100）
面を膜面に対し平行に配向して結晶磁気異方性エネルギ
を最小化した主磁性層と、非磁性膜からなる中間層とを
具備し、前記主磁性層を前記中間層を介して多層に積層
したから、Feを母材とする各主磁性層の飽和磁化が非常
に大きく、このため強い記録磁界を発生することがで
き、また保磁力が非常に小さいため、残留磁束密度が小
さく、ヘッドコアの帯磁が少なくヒステリシス損が少な
く、例えば磁界中で焼鈍処理を施すことで、各主磁性層
の（100）面が膜面に対して平行に配向し、結晶磁気異
方性エネルギが最小化され、係数をK1とし球面座標（r,
θ，φ）上のｒ＝１の点における結晶磁気異方性エネル
ギEaで見たときに、（110）面配向結晶に比べ、K1（３
−4cos2θ＋cos4θ）/32だけエネルギが減少してK1（１
−cos4θ）/8にまで低減するため、保磁力の低減効果は
非常に大きく、結晶磁気異方性エネルギEaの平均値につ
いても、（110）面配向結晶と（100）面配向結晶とでは
差が大きく、（110）面配向結晶に対し、（100）面配向
結晶の場合は63％程度にまで低減され、単なる配向面の
違いと片付けることのできないほど、ヒステリシス損の
低減効果は大きく、さらに非磁性体膜を中間層とする多
層膜構造に仕上げてあるため、優れた耐蝕性を得ること
ができ、60℃で90％RHの環境下で行った耐蝕試験では、
1000時間が経過しても飽和磁化が殆ど低下しないなどの
優れた耐蝕性が得られ、高性能・高密度記録に十分に対
応できる磁気ヘッドを提供することができる等の優れた
効果を奏する。
分とする合金膜からなり、該合金膜の各結晶の（100）
面を膜面に対し平行に配向して結晶磁気異方性エネルギ
を最小化した主磁性層と、非磁性膜からなる中間層とを
具備し、前記主磁性層を前記中間層を介して多層に積層
したから、Feを母材とする各主磁性層の飽和磁化が非常
に大きく、このため強い記録磁界を発生することがで
き、また保磁力が非常に小さいため、残留磁束密度が小
さく、ヘッドコアの帯磁が少なくヒステリシス損が少な
く、例えば磁界中で焼鈍処理を施すことで、各主磁性層
の（100）面が膜面に対して平行に配向し、結晶磁気異
方性エネルギが最小化され、係数をK1とし球面座標（r,
θ，φ）上のｒ＝１の点における結晶磁気異方性エネル
ギEaで見たときに、（110）面配向結晶に比べ、K1（３
−4cos2θ＋cos4θ）/32だけエネルギが減少してK1（１
−cos4θ）/8にまで低減するため、保磁力の低減効果は
非常に大きく、結晶磁気異方性エネルギEaの平均値につ
いても、（110）面配向結晶と（100）面配向結晶とでは
差が大きく、（110）面配向結晶に対し、（100）面配向
結晶の場合は63％程度にまで低減され、単なる配向面の
違いと片付けることのできないほど、ヒステリシス損の
低減効果は大きく、さらに非磁性体膜を中間層とする多
層膜構造に仕上げてあるため、優れた耐蝕性を得ること
ができ、60℃で90％RHの環境下で行った耐蝕試験では、
1000時間が経過しても飽和磁化が殆ど低下しないなどの
優れた耐蝕性が得られ、高性能・高密度記録に十分に対
応できる磁気ヘッドを提供することができる等の優れた
効果を奏する。
また、本発明の磁気ヘッド用磁性体膜によれば、主磁
性層の各々のFe膜もしくはSi,Al,Ga,Geのうちの少なく
とも１つを成分とする鉄基合金膜としたことで、特に優
れた低保磁力を得ることができ、ヒステリシス損を低減
することができる等の効果を奏する。
性層の各々のFe膜もしくはSi,Al,Ga,Geのうちの少なく
とも１つを成分とする鉄基合金膜としたことで、特に優
れた低保磁力を得ることができ、ヒステリシス損を低減
することができる等の効果を奏する。
また、本発明の磁気ヘッド用磁性体膜によれば、中間
層の各々をNi,Co,Cr,Nb,Ta,Zr,W,Ptのうちの少なくとも
１つを含む金属膜としたから、特に優れた耐蝕性を得る
ことができる等の効果を奏する。
層の各々をNi,Co,Cr,Nb,Ta,Zr,W,Ptのうちの少なくとも
１つを含む金属膜としたから、特に優れた耐蝕性を得る
ことができる等の効果を奏する。
また、本発明の磁気ヘッド用磁性体膜によれば、中間
層の各々をSiO2,ZnO,Al2O3のいずれかの絶縁膜としたか
ら、特に優れた耐蝕性を得ることができる等の効果を奏
する。
層の各々をSiO2,ZnO,Al2O3のいずれかの絶縁膜としたか
ら、特に優れた耐蝕性を得ることができる等の効果を奏
する。
さらに、本発明の磁気ヘッド用磁性体膜によれば、中
間層をカーボン（Ｃ）膜とすることで、特に優れた耐蝕
性が得られる等の効果を奏する。
間層をカーボン（Ｃ）膜とすることで、特に優れた耐蝕
性が得られる等の効果を奏する。
さらにまた、本発明の磁気ヘッド用磁性体膜によれ
ば、中間層を金属膜，絶縁膜，カーボン膜のうちの１つ
または２つ以上の組み合わせとすることで、特に優れた
耐蝕性が得られる等の効果を奏する。
ば、中間層を金属膜，絶縁膜，カーボン膜のうちの１つ
または２つ以上の組み合わせとすることで、特に優れた
耐蝕性が得られる等の効果を奏する。
また、本発明の磁気ヘッド用磁性体膜によれば主磁性
層の各膜厚を3000Å以下とすることで、良好な軟磁気持
性が確保できる等の効果を奏する。
層の各膜厚を3000Å以下とすることで、良好な軟磁気持
性が確保できる等の効果を奏する。
また、本発明の磁気ヘッド用磁性体膜によれば、中間
層の各膜厚を1000Å以下とすることで、良好な耐蝕性が
確保できる等の効果を奏する。
層の各膜厚を1000Å以下とすることで、良好な耐蝕性が
確保できる等の効果を奏する。
第１図は、本発明の磁気ヘッド用磁性体膜の一実施例の
積層構造を示す要部縦断面図、第２図は、第１図に示し
た磁気ヘッド用磁性体膜と参考例のそれぞれの耐蝕度を
比較して示す図である。 10……磁性体膜 12……基板 14……主磁性層 16……中間層
積層構造を示す要部縦断面図、第２図は、第１図に示し
た磁気ヘッド用磁性体膜と参考例のそれぞれの耐蝕度を
比較して示す図である。 10……磁性体膜 12……基板 14……主磁性層 16……中間層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−113908（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−293707（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−254709（ＪＰ，Ａ)
Claims (8)
- 【請求項１】Fe膜又はFeを主成分とする合金膜からな
り、該合金膜の各結晶の（100）面を膜面に対し平行に
配向して結晶磁気異方性エネルギを最小化した主磁性層
と、非磁性膜からなる中間層とを具備し、前記主磁性層
を前記中間層を介して多層に積層したことを特徴とする
磁気ヘッド用磁性体膜。 - 【請求項２】前記主磁性層は、Fe膜もしくはFeを主成分
としSi,Al,Ca,Geのうちの少なくとも１つ以上を含む合
金膜であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の磁気ヘッド用磁性体膜。 - 【請求項３】前記中間層は、Ni,Co,Cr,Nb,Ta,Zr,W,Ptの
うちの少なくとも１つ以上を含む金属膜であることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド用磁性
体膜。 - 【請求項４】前記中間層は、SiO2,ZnO,Al2O3のうちの少
なくとも１つ以上からなる絶縁膜であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド用磁性体膜。 - 【請求項５】前記中間層は、カーボン（Ｃ）膜であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド
用磁性体膜。 - 【請求項６】前記中間層は、金属膜，絶縁膜，カーボン
膜のうちの１つ又は２つ以上の組み合わせからなること
を特徴とする特許請求の範囲第1,3,4又は５項記載の磁
気ヘッド用磁性体膜。 - 【請求項７】前記主磁性層の各膜厚は、3000Å以下であ
る特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド用磁性体膜。 - 【請求項８】前記中間層の各膜厚は、1000Å以下である
特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド用磁性体膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63333406A JP2639719B2 (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 磁気ヘッド用磁性体膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63333406A JP2639719B2 (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 磁気ヘッド用磁性体膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02179909A JPH02179909A (ja) | 1990-07-12 |
| JP2639719B2 true JP2639719B2 (ja) | 1997-08-13 |
Family
ID=18265756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63333406A Expired - Lifetime JP2639719B2 (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 磁気ヘッド用磁性体膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2639719B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0760766B2 (ja) * | 1986-10-31 | 1995-06-28 | 松下電器産業株式会社 | 磁性合金膜 |
| JP2690893B2 (ja) * | 1987-04-13 | 1997-12-17 | 株式会社日立製作所 | 積層磁性薄膜およびこれを用いた磁気ヘツド |
| JPH0727822B2 (ja) * | 1987-05-27 | 1995-03-29 | 株式会社日立製作所 | Ｆｅ−Ｃｏ磁性多層膜及び磁気ヘッド |
-
1988
- 1988-12-29 JP JP63333406A patent/JP2639719B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02179909A (ja) | 1990-07-12 |
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