KR200300384Y1 - 반도체 제조장비의 포커스링 - Google Patents

Abstract

본 고안은 반도체 제조장비의 포커스링에 관한 것으로, 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 안착링(11)의 내주벽 및 외주벽을 플랫존이 형성된 웨이퍼의 형태와 동일하게 형성하고, 이 웨이퍼 안착링(11)을 지지하기 위해 그 외곽에 밀착되도록 설치되는 지지링(12)의 내주벽을 상기 웨이퍼 안착링(11)의 외주벽과 대응되도록 형성하거나, 웨이퍼 안착링의 외주벽 하단부에 결합홈 또는 돌출턱을 형성하고, 지지링의 내주벽 하단부에는 상기 결합홈 또는 돌출턱에 대응되도록 돌출턱 또는 결합홈을 형성함으로써 웨이퍼 안착링과 지지링의 상호 유동을 방지하여 웨이퍼 안착링에 웨이퍼가 정확히 안착되도록 함으로써 공정 불량을 방지하게 된다.

Description

반도체 제조장비의 포커스링{FOCUS RING OF SEMICONDUCTOR FABRICATING DEVICE}

본 고안은 반도체 제조장비의 포커스링에 관한 것으로, 특히 포커스링의 유동을 방지하여 웨이퍼가 정확히 안착되도록 하기 위한 것이다.

일반적으로 반도체 제조공정에서는 웨이퍼척의 상면에 웨이퍼가 안착되어 공정을 진행하게 되는데, 이때 웨이퍼척의 외주면에는 웨이퍼의 유동 및 이탈을 방지하기 위한 포커스링이 결합된다.

도 1 및 도 2는 종래 기술에 의한 포커스링을 보인 평면도 및 단면도로서, 종래 포커스링은 실리콘 재질의 웨이퍼 안착링(1)과, 이 웨이퍼 안착링(1)의 외곽에 밀착되도록 설치되어 웨이퍼 안착링(1)을 지지하는 쿼츠 재질의 지지링(2)으로 구성된다.

상기 웨이퍼 안착링(1)의 외부는 원형으로 이루어지고, 내부는 웨이퍼와 동일한 형태, 즉 플랫존이 형성된 형태의 웨이퍼 안착턱(1a)이 형성되어 웨이퍼가 안착된다.

상기 지지링(2)은 내부 및 외부가 모두 원형으로 이루어져 상기 웨이퍼 안착링(1)이 중앙에 끼움 결합된다.

따라서, 식각 등의 소정의 반도체 제조공정에서는 상기 웨이퍼 안착링(1)과 지지링(2)을 상호 결합하고, 상기 웨이퍼 안착링(1)의 중앙부에 웨이퍼척을 삽입 결합한 후, 이 웨이퍼 안착링(1)의 웨이퍼 안착턱(1a)에 웨이퍼를 로딩하여 공정을진행하게 된다.

그러나, 상기와 같은 종래 포커스링은 도 3에 도시한 바와 같이 웨이퍼 안착링(1)의 외부와 지지링(2)의 내부가 원형으로 이루어져 있기 때문에 외부의 압력 등에 의해 상호 회전이 가능하게 되며, 따라서 웨이퍼 안착링(1)과 지지링(2)이 정렬되지 않으면 도 4와 같이 웨이퍼는 웨이퍼 안착링(1)에 정확히 안착되지 못하는 문제점이 있었다.

본 고안은 이러한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 웨이퍼 안착링과 지지링을 상호 결합되도록 형성하여 그 유동을 방지함으로써 웨이퍼가 정확히 안착되도록 하기 위한 반도체 제조장비의 포커스링을 제공하는데 그 목적이 있다.

도 1은 종래 기술에 의한 포커스링을 보인 평면도.

도 2는 도 1의 포커스링을 보인 단면도.

도 3은 종래 포커스링이 정렬되지 않은 상태를 보인 평면도.

도 4는 도 3의 포커스링에 웨이퍼가 안착된 상태를 보인 단면도.

도 5는 본 고안에 의한 포커스링을 보인 평면도.

도 6은 본 고안의 다른 실시예를 보인 단면도.

**도면의 주요부분에 대한 부호의 설명**

11,11' ; 웨이퍼 안착링 11e ; 유동방지용 플랫부

12,12' ; 지지링 12b ; 유동방지용 플랫부

11'a ; 결합홈 12'a ; 돌출턱

상기 목적을 달성하기 위한 본 고안은 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 안착링의 안착턱 주위의 내주벽에 웨이퍼의 플랫존에 대응하는 플랫부를 형성한 것에 있어서, 상기 웨이퍼 안착링의 외주벽과 이 웨이퍼 안착링이 삽입 지지되는 지지링의 내주벽에 각각 서로 대응되는 유동방지용 플랫부를 형성하여 웨이퍼 안착링이 지지링에 대하여 임의로 회전하지 않도록 한 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 포커스링을 제공한다.

이하, 본 고안에 의한 반도체 제조장비의 포커스링을 첨부도면에 도시한 실시예에 따라 설명하면 다음과 같다.

본 고안의 포커스링은 도 5에 도시한 바와 같이, 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 안착링(11)의 안착턱(11a) 주위의 내주벽(11b)에 웨이퍼의 플랫존에 대응하는 플랫부(11c)가 형성됨과 아울러 웨이퍼 안착링(11)의 외주벽(11d)와 이 웨이퍼 안착링(11)이 삽입 지지되는 지지링(12)의 내주벽(12a)에는 각각 서로 대응되는 유동방지용 플랫부(11e,12b)가 형성된다.

즉, 상기 웨이퍼 안착링(11)의 외주벽(11d)에는 플랫부로 된 유동방지용 플랫부(11e)를 형성하고, 지지링(12)의 내주벽(12a)에는 상기 유동방지용 플랫부(11e)에 대응하는 플랫부로 된 유동방지용 플랫부(12b)를 형성한다.

따라서, 공정 진행시 웨이퍼는 그 플랫존이 웨이퍼 안착링(11)의 내주벽(11b)에 형성된 플랫부(11c)에 대응되어 웨이퍼가 웨이퍼 안착링(11)에 대하여 임의로 회전하는 일이 없게 됨과 아울러 상기 웨이퍼 안착링(11)과 지지링(12)은 유동방지용 플랫부(11e)(12b)에 의해 상호 유동이 방지됨으로써 웨이퍼가 항상 웨이퍼 안착링(11)의 웨이퍼 안착턱(11b)에 정확히 안착될 수 있도록 하여 공정 불량을 방지하게 된다.

도 6은 본 고안의 다른 실시예를 보인 것으로, 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 안착링(11)의 안착턱(11a) 주위의 내주벽(11b)에 웨이퍼의 플랫존에 대응하는 플랫부(11c)가 형성되는 구성은 상술한 실시예에서와 동일하며, 웨이퍼 안착링(11')의 외주벽 하단부에 결합홈(11'a)을 형성하고, 지지링(12')의 내주벽 하단부에는 상기 결합홈(11'a)에 대응되도록 돌출턱(12'a)을 형성하여 상기 웨이퍼 안착링(11')과 지지링(12')이 상호 결합되어 유동이 방지된다.

또는, 상기 웨이퍼 안착링의 외주벽 하단부에 돌출턱을 형성하고, 지지링의 내주벽 하단부에는 상기 돌출턱에 대응되도록 결합홈을 형성하여도 무방하다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 고안에 의하면 웨이퍼 안착링에 대한 웨이퍼의 회전이 방지됨과 아울러 웨이퍼 안착링과 지지링의 상호 유동을 방지하여 웨이퍼 안착링에 웨이퍼가 정확히 안착되도록 함으로써 공정 불량을 방지하게 된다.

Claims (2)

1. 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 안착링의 안착턱 주위의 내주벽에 웨이퍼의 플랫존에 대응하는 플랫부를 형성한 것에 있어서, 상기 웨이퍼 안착링의 외주벽과 이 웨이퍼 안착링이 삽입 지지되는 지지링의 내주벽에 각각 서로 대응되는 유동방지용 플랫부를 형성하여 웨이퍼 안착링이 지지링에 대하여 임의로 회전하지 않도록 한 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 포커스링.
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