JPH0732072B2 - プラズマ励起装置および方法ならびにプラズマ発生装置 - Google Patents

プラズマ励起装置および方法ならびにプラズマ発生装置

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JPH0732072B2
JPH0732072B2 JP61130429A JP13042986A JPH0732072B2 JP H0732072 B2 JPH0732072 B2 JP H0732072B2 JP 61130429 A JP61130429 A JP 61130429A JP 13042986 A JP13042986 A JP 13042986A JP H0732072 B2 JPH0732072 B2 JP H0732072B2
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セントル・ナシヨナル・ド・ラ・ルシエルシエ・サイエンテイ フイツクーセ・エン・エール・エス
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプラズマ励起装置および方法に関し、より詳細
には、電子サイクロトロン共鳴においてマイクロ波を使
用するプラズマ励起装置および方法、さらには多量かつ
高密度の同質プラズマ発生装置に関するものである。
プラズマの発生は表面処理またはイオンビームの発生の
ごとく多数の用途において使用されることができる。
研究所においてかつ工業用に適用される殆んどのプラズ
マ励起技術は連続放電またはその結合が一般に容量的で
ある無線周波放電を使用している。
種々の励起装置が極めて特定のマイクロ波領域について
知られている。
第１の型の励起装置はマイクロ波キャビティ内にカップ
リングを使用し、これは比較的高い圧力（10-1ないし10
2Pa）でかつ小さな寸法の体積内に閉じ込められたプラ
ズマを発生する。
第２の型の励起装置において、カップリングは表面波
（サーファトロン、サーファガイド）によって行なわれ
る。この場合に、利用できる圧力範囲は広い（10-1ない
し約105Pa）。この場合一般に、小径のプラズマ円柱が
得られる。
プラズマの励起はまた電子サイクロトロン共鳴周波数に
おいて磁界内のカップリングにより得られることができ
る。この場合に、共鳴は関係、 によって関連づけられた磁界Ｂおよび励起周波数ｆにつ
いて得られる。ここでｍおよびｅは電子の質量および電
荷である。例として、2.45GHzの周波数については、共
鳴を得るために875ガウスの磁界を使用することを要す
る。
この特定の型の励起によれば、プラズマは非常に低圧、
約10-2Paで得られることができる。
プラズマの励起はまた「リジタノ」型アンテナにより達
成された。プラズマはアンテナが電子サイクロトロン共
鳴を得るのに十分大きい一様な磁界内に入れられるなら
ば点火されることができる。
上述した種々の励起装置はすべて、広い圧力範囲におけ
る高密度の多量の同質プラズマを有する必要があると
き、幾つかの用途についての適合に幾つかの問題があ
る。このような要求はとくに蒸着、蝕刻または励起作業
のため冶金ならびにマイクロエレクトロニクスにおける
プラズマによる表面処理について存する。
例えば、フランス特許出願第83−10116号には、良好な
同質性を有するプラズマを得るために多極磁気閉じ込め
を行ないかつ集中マイクロ波源を使用することが提案さ
れている。しかしながら、このような装置はイオンの平
均自由通路がプラズマより大きさが大きくないならばほ
ぼ等しいことを必要とする。これは約10-1ないし10-3Pa
の低圧で作業しなければならないことを強要する。それ
ゆえ、電子サイクロトロン共鳴はこの場合にそのような
プラズマを励起するのに使用される。しかし、このよう
な装置によって得ることができるプラズマの密度には１
つの重要な制限がある。実際に、プラズマ密度の増加は
マイクロ波源の表面の増加またはマイクロ波源の数の増
加を意味する。
しかしながら、これら２つの解決はコイルを使用するこ
とにより多量の磁界を発生する問題に直面する。電源の
コストの他に、コイルから離れた高標遊磁界の存在がプ
ラズマを異方性にするために制限がある。さらに、石英
またはアルミナのごとく誘電体材料の窓を通して真空中
でマイクロ波電圧を導入する必要があり、これは幾つか
の用途において技術的な問題を生起する。最後に、プラ
ズマ中の残留マイクロ波電力の存在は樹脂マスクによる
蝕刻のごとき幾つかの技術について問題であることを証
明することができる。
マイクロ波周波数を増大することにより電源の密度を増
大することもできない。実際に、この場合、共鳴に必要
な磁界はまた非常に増大され、これは上述した問題を増
大する。加えて、主モードの高周波数において、利得
は、導波管の横断面であるので、減じられる。
本発明の目的は、上述した欠点を克服しかつマイクロ波
励起により、プラズマが多量、低圧か高密度の同質の等
方性プラズマ、すなわち間欠的な電磁界のないプラズマ
でありかつ前記プラズマが該プラズマの発生パラメータ
と処理されるべき基板との相互作用のパラメータとの間
の独立を有するという条件において、プラズマの発生を
許容することを目的とするものである。
それゆえ、本発明の目的は磁界およびマイクロ波エネル
ギのない主要量のプラズマを発生することにある。
このため、本発明は、電子サイクロトロン共鳴に対応す
る一定強度の磁界表面を形成する少なくとも１つの永久
磁石、マイクロ波領域のエネルギーを印加するため同軸
構造に接続され、かつ電子サイクロトロン共鳴に対応す
る一定強度の磁界表面上に配置された少なくとも１つの
アンテナとから構成されるとともに、プラズマが前記中
心体積内の電磁場に存在しないことを特徴とするプラズ
マ励起装置を提案する。
好都合には、永久磁石は棒状磁石によって構成され、か
つアンテナは電子サイクロトロン共鳴に対応する一定強
度の磁界表面と棒状磁石の面の中心部との交点に配置さ
れる。
同軸構造は、同軸ケーブルによって構成されても良い。
励起装置はさらに、アンテナに沿って冷却流体の流れを
引き起すための手段を備えることもできる。
イオン化されるガスの導入用流入手段は、アンテナに近
接して設けることができ、前記手段は全てアンテナに沿
って穿孔されている。
本発明はとくに、その内部を予め定められた圧力に維持
するためのポンピング回路およびガス媒体を導入するた
めの回路が接続された密封エンクロージャ、多極磁気閉
じ込め構造、電子サイクロトロン共鳴においてマイクロ
波によってガス媒体を励起するための装置から構成され
るとともに、前記マイクロ波励起装置は多極閉じ込め構
造内にマイクロ波エネルギーを導入するための少なくと
も一つの同軸構造およびマイクロ波エネルギーの局所的
な導入のために前記同軸構造に接続された少なくとも一
つのアンテナからなり、さらに一定磁界を有し、かつ局
所的に電子サイクロトロン共鳴に対応する強度が存在す
る網目状表面を構築する永久磁石の組からなる多極磁気
閉じ込め構造を備え、さらに前記アンテナが電子サイク
ロトロン共鳴に対応する強度をもつ領域内において、網
目状の一定磁界表面上に配置されるプラズマ発生装置に
関する。
この場合に、多極永久型の磁界はプラズマを閉じ込め、
かつ発生するのに使用される。
本発明の特別な実施例によれば、多極磁気閉じ込め構造
は複数の棒状永久磁石により形成される多極ケージによ
って構築され、前記棒状磁石は閉じ込め構造により規定
される体積の一方向に平行に延び、かつ連続して異なる
極性の面を備え、アンテナは前記棒状磁石の面中心部と
電子サイクロトロン共鳴に対応する強度を有する一定磁
界表面との交点において、前記棒状磁石と平行に配置さ
れる。
マイクロ波励起装置は、前記多極磁気閉じ込め構造に沿
って分布された複数のアンテナからなることができる。
多極ケージを形成する多極磁気閉じ込め構造は、前記多
極ケージの外部で磁気回路の閉止を保証する構造に作動
的に結合され、前記閉止構造は永久磁石または高透磁性
材料からなる。このような構造は、密封エンクロージャ
の内部または外部に部分的にまたは全体的に配置され
る。
本発明の特別な実施例によれば、イオン化されるべきガ
スを導入するための少なくとも１本の管が、各アンテナ
に近接してかつそれに平行に配置されるとともに、各管
はその長さにわたって分布されかつ前記管の直径に比し
て小径を有する１組の孔を備えている。
本発明のさらに他の目的は、多極磁気閉じ込め構造内で
電子サイクロトロン共鳴に十分な強度の磁界を局部的に
発生し、電子サイクロトロン共鳴を発生する磁界の領域
において、アンテナを介して、局部的にマイクロ波エネ
ルギーを導入すしてなる、多量かつ高密度の同質かつ等
方性のプラズマを発生するために、電子サイクロトロン
共鳴においてマイクロ波を使用するプラズマ励起方法を
提案することにある。
以下に、本発明をより理解し易くするために添付図面に
基づいて説明する。
第１図、第４図および第５図はケージを形成しかつ中心
区域内にプラズマを閉じ込める永久磁石から構成される
多極磁気構造100を示す。前記多極磁気構造100は磁界が
電子サイクロトロン共鳴を局部的に得るのに十分に大き
い強度からなるように設計される。例えば、2.45GHzの
励起周波数について、磁界の強度は3500ガウスでなけれ
ばならない。マイクロ波エネルギは体積全体にではなく
局部的な方法で、閉じ込め表面２に近接して配置された
少なくとも１つのアンテナ５によって、共鳴を許容する
磁界区域内に多極ケージ100に導入される。
例として、第１図、第４図および第５図は閉止磁気表面
を構成するために、第１図に示すごとくプラズマに交番
極性を連続的に呈し、平行に配置された棒状永久磁石１
によって構成される永久磁石からなる多極閉じ込め構造
100を示す。プラズマはかくして、第１図および第４図
に略示される磁界２の花綱ラインの内部の区域８に閉じ
込められる。このような構造100はさらにそれらの間で
電子サイクロトロン共鳴に対応する強度の表要３を有す
る一定磁界の網目状表面によって特徴づけられる。前記
表面３は第１図に、ならびに第3aおよび3b図に点線で示
したように、各々磁化された壁を被覆する。
電子サイクロトロン共鳴は磁極から適宜な距離、すなわ
ち約数mmにおいて十分な磁界強度を供給する永久磁石１
の使用を要する。例えばバリウムフェライト（BaO,6Fe2
O3）またはストロンチウムフエライトの磁石、またはサ
マリウムコバルト（SmCO5）の磁石を使用することがで
きる。
前に示したごとく、マイクロ波エネルギ（パワー）は多
極ケージ100内に導入されねばならずそして関連のエネ
ルギは共鳴区域に近接して集中されねばならない。この
ため、同軸ケーブルまたは他の同等な同軸構造、または
同様に導波管が使用され、この内部にマイクロ波パワー
が伝達される。加えて、このパワーは導波管に直接結合
されることができるかまたは第２図に略示したように同
軸ケーブル４の中心コア41から延びるアンテナ５によっ
て共鳴区域に注入される。前記アンテナ５は棒状永久磁
石１に対して考え得る配置において表面３に少なくとも
近接されるべく位置される。前記アンテナはまた垂直に
配置されても良い。第2,3aおよび3b図に示されるとくに
有効な位置は電子サイクロトロン共鳴に対応する一定磁
界および強度の表面３と棒状永久磁石の面の中心部との
交点において、前記棒状永久磁石１に沿ってアンテナ５
を配置することからなる。かかる実施例によればアンテ
ナと質量平面との間の電磁エネルギの閉じ込めは改善さ
れ、かくして区域８中の間欠的な電磁界の存在を回避す
る。
本発明による実施例は変更することができる。
多えば、多極ケージ100は第４図に示すような平行六面
体かまたは、第１図および第５図に示すような円筒状か
または、長円形がまたは球形にしても良く、また同様に
他の幾何学的形状を有しても良い。また、１またはそれ
以上のアンテナ５を使用することもできる。１以上のア
ンテナが使用されるならば、これらのアンテナ５は閉じ
込め表面２上に規則的に分布されるかまたは非対称的に
分布されることができ、それらの数は達成されるべきプ
ラズマの最大密度に適合される。
幾つかの場合において、体積によるマイクロ波パワーの
レベルは、一旦プラズマが励起されてしまうと、提案さ
れた用途に依存する問題を残す。その場合、第１図に示
したように、プラズマ励起の外方区域７と使用の中心区
域８との間に、ファラディケージとして作用する金属ス
クリーン９を挿入することができる。前記スクリーン９
の電位は変動を避けるために予め設定されるべきであ
る。スクリーンメッシュがハイパー周波数の波の長さに
比して小さく、かつプラズマのデバイ長さに比して大き
いならば、プラズマの拡散は困難なく達成されるが、ハ
イパー周波数放射は励起区域に閉じ込められたままであ
る。
永久磁石１によって供給された磁界はまたケージ100外
部の磁気回路が閉止されるならば、永久磁石または他に
真空エンクロージャ（第１図および第４図参照）の構造
に一体にされても良い軟鉄のごとき高透磁性材料10によ
って増加されることができる。この特別な予防措置は各
棒状磁石の反対極性の相反する作用を除去しかくして使
用区域８に対向して配置された作動極の表面に近接した
磁界を増加する。
永久磁石１は温度の作用に非常に感応することができ
る。磁石１によるマイクロ波の直接吸収を阻止するため
に、磁石を冷却しないならば、金属、好ましくは非磁性
材料により、アンテナ５およびプラズマに向い合う表面
側で、磁石を少なくとも被覆するのが有用である。同様
に、絶縁によってアンテナ５を、ならびにガス流入口お
よびプラズマと直接接触する多極構造100の部分を絶縁
することができる。
さらに、流体の流れを使用することにより、多極ケージ
100へのエネルギの導入およびその表面上のその分布を
許容するアンテナ５および同軸ケーブル４の中心コアを
冷却するのが有利である。これは、冷却が伝導によって
のみかまたは放射への露出によって達成されることがで
きる部分真空下でなおさら必要である。使用されるアン
テナの直径に依存して、前記冷却はアンテナ内の簡単な
流れによって、またはアンテナ５に対して内部の同軸構
造を使用する２重の流れよって行なわれることができ
る。この冷却の利点は注入されるマイクロ波パワーが如
何なる危険もなく増加され、その結果プラズマ密度を増
大するということである。本発明の他の特徴はアンテナ
５の実際のレベルにおいてイオン化ガスを導入する可能
性に存する。アンテナが冷却されないならば、それは前
記アンテナ内部に次いで流れるガスを分配するため直接
役立つ。一般的な場合であるアンテナが冷却される場
合、ガス分配はアンテナに適宜に結合される（第3a図）
か、またはその近傍に配置される（第3b図）ことができ
る他の管６を介して行なわれることができる。ガスの規
則的な分布を得るために、ガス流入管６は該管６の内径
に比してより小径の多数の孔がその長さにわたって穿た
れる。この型のガス分配によれば、ガス圧は励起レベル
において最大でありかつプラズマの中心体積内で最小で
ある。
第４図は本発明による方法を使用するプラズマ発生装置
を示す断面図である。前記装置は密閉磁気または非磁気
エンクロージャ10、ポンピング装置11およびイオン化さ
れるべきガスの圧力が所望の値、例えば約10-3〜10-1Pa
に保持されるこことができるガス導入装置12からなる。
多極磁気閉じ込め構造100は、該構造に近接して上示の
ごとく、電子サイクロトロン共鳴を得るのに十分である
磁界を付与する永久磁石１から形成される。発生器13に
よって供給されるマイクロ波パワーはエンクロージャ10
内に、次いで多極ケージ100内に、導波管によって置き
換えられる同軸ケーブル４を介して導入される。同調は
例えば「Ｔ」ハイブリッドによって構成されても良いイ
ンピーダンスアダプタ14を介して達成される。プラズマ
励起は、磁気閉じ込め表面の少なくとも一部分にわたっ
て分布されるアンテナ５により、共鳴区域において達成
される。結果として生じるプラズマはラングミュア探針
15のごとき装置によって特徴づけられる。プラズマは、
使用区域８において、表面処理への使用を可能にする。
サンプル16は図示してない導入室を経て、サンプルキャ
リヤ17上に置かれかつ、発生器18により、プラズマの電
位に対して分極される。前記分極は全体的にプラズマの
発生および閉じ込めのパラメータと独立している。
例えば、2.45GHzの周波数で1011/cm3および10.0GHzの周
波数で1012/cm3の密度を得ることができた。
また、例えば、簡単な15cmの長さのアンテナにより、バ
リウムフエライト永久磁石および2.45GHzでの励起を使
用する15リットルの体積の多極反応炉において、注入さ
れたマイクロ波パワー100ワットで圧力10-1Pa、密度ｎ
＝３×1010cm3のアルゴンプラズマを得ることができ
た。この場合に、電子温度は約18,000K（1.6電子ボル
ト）である。表面にわたって分布された３つのアンテナ
により、得られる密度は1011cm3に近い。
本発明の顕著な利点のうちには、マイクロ波源の表面、
すなわちアンテナの長さを簡単に増加することにより多
極閉じ込め構造内部のプラズマの密度を増加させること
ができることである。プラズマ密度はマイクロ波周波
数、それゆえ臨界密度を単に増加することにより増大さ
れることができる。
他の利点は常に高価でかつ面倒でそして電源および冷却
装置を包含するコイルのごとき他の特別な磁気構造がな
いことである。また電磁コイルのないことは区域８内に
強い残留磁界の存在の必要を除去する。
マイクロ波パワーおよびガス分配の電子サイクロトロン
共鳴区域の同時集中化を使用する場合に閉じ込め体積の
途中で、10-3Paと同じ位の非常に低い圧力でプラズマを
得ることができる。
アンテナが閉じ込め表面にわたって分布されるならば、
プラズマの同質性は、衝突がもはや監視されることがで
きない約10-1Paの高圧力においても同様に改善される。
同軸ケーブルが使用される場合において、マイクロ波エ
ネルギの搬送は安価でかつ機械に容易に統合し得る。ま
たそれは完全に閉止された閉じ込め構造を構築する。
留意されるべき他の事実は本発明による装置の構造が種
々の用途に使用できるということである。プラズマがな
い場合に、反応炉に導入されたマイクロ波パワーは、エ
ンクロージャ10内の極めて有効な脱気を行い、フッ素化
させられたプラズマおよび塩素化されたプラズマのよう
な特別問題となる蒸気の除去をとくに助ける。
第１図、第４図および第５図に示した場合は閉止した多
極構造内でのプラズマの発生およびその閉じ込めの場合
である。閉じ込めおよびプラズマ均質性条件が厳しくな
い幾つかの用途において、プラズマを発生するためだけ
の、第２図、第3aおよび3b図に示したような棒状磁石お
よびアンテナに例えば関連づけられた本発明による励起
装置を使用することができる。種々の磁石はまたすべて
の条件がプラズマの導入に関連づけられかつその閉じ込
めに関連づけられない非閉止構造上に配置されても良
い。この場合に、磁石の位置についての条件は厳しくな
く、また例えば磁極の非交番配置が許容される。このよ
うな装置は、例えばプラズマトンネルのごとき大型プラ
ズマ源の形成およびイオンの発生に十分適合される。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明によるプラズマ発生装置の半径方向平面
に沿う概略断面図、 第２図は本発明による基本的な励起装置を示す概略側面
図、 第3a図および第3b図は第２図の基本的な装置の２つの変
形実施例を示す半径方向平面に沿う断面図、 第４図は本発明によるプラズマ発生装置構体を示す半径
方向概略断面図、 第５図は多極磁気閉じ込めケージおよび局部的なマイク
ロ波励起アンテナからなるプラズマ励起装置を示す一部
分解斜視図である。 図中、符号１は永久磁石（棒状磁石）、２は磁界（閉じ
込め表面）、４は同軸構造（同軸ケーブル）、５はアン
テナ、６はガス流入管、10は密閉エンクロージャ、11は
ポンピング回路、12はガス導入装置、100は多極磁気閉
じ込め構造（多極ケージ）である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ミシエール・ピコー フランス国、38100グルノーブル、シユマ ン・ドウ・クーヴアン 11 (72)発明者 ジヤツク・ペレテイエ フランス国、38400サン・マルタン・デ レ、”ル・ムリエ”（番地なし) (72)発明者 イヴ・アーナル フランス国、38230エイベン、リユ・テオ ドール・デユボア５ (56)参考文献 特開 昭58−125820（ＪＰ，Ａ)

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】電子サイクロトロン共鳴においてマイクロ
    波を使用することによりプラズマの中心体積を発生させ
    るプラズマ励起装置において、 前記中心体積を規定する容器と、 前記中心体積から離間し、電子サイクロトロン共鳴に対
    応する一定強度の磁界表面を形成するために前記中心体
    積から離間して配置される少なくとも１つの永久磁石
    と、 プラズマを前記体積中心から離間し、かつ前記少なくと
    も一つの永久磁石に関して局所的に励起するために、マ
    イクロ波領域のエネルギーを印加するため同軸構造に接
    続され、かつ電子サイクロトロン共鳴に対応する一定強
    度の磁界表面上に配置された少なくとも１つのアンテナ
    とから構成されるとともに、 プラズマが前記中心体積内の電磁場に存在しないことを
    特徴とするプラズマ励起装置。
  2. 【請求項２】前記永久磁石は棒状磁石によって構成さ
    れ、かつ前記アンテナは電子サイクロトロン共鳴に対応
    する一定強度の磁界表面と前記棒状磁石の面の中心部と
    の交点に配置されていることを特徴とする特許請求の範
    囲第１項に記載のプラズマ励起装置。
  3. 【請求項３】前記アンテナに沿って冷却流体の流れを引
    き起すための手段が設けられることを特徴とする特許請
    求の範囲第１項に記載のプラズマ励起装置。
  4. 【請求項４】イオン化されるべきガスを導入するための
    手段が設けられ、該手段は前記アンテナに近接して置か
    れかつ前記アンテナに沿って分布された孔が穿孔されて
    いることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のプ
    ラズマ励起装置。
  5. 【請求項５】前記同軸構造は同軸ケーブルによって構成
    されることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の
    プラズマ励起装置。
  6. 【請求項６】その内部を予め定められた圧力に維持する
    ためのポンピング回路およびガス媒体の導入路が接続さ
    れた密封エンクロージャと、 多極磁気閉じ込め構造と、 電子サイクロトロン共鳴においてマイクロ波によってガ
    ス媒体を励起するための装置から構成されるとともに、
    多量かつ高密度で均一、等方性かつ無磁界プラズマを生
    成するための装置であって、 前記装置は、マイクロ波励起装置が多極閉じ込め構造内
    にマイクロ波エネルギーを導入するための少なくとも一
    つの同軸構造と、 マイクロ波エネルギーの局所的な導入のために前記同軸
    構造に接続された少なくとも一つのアンテナと、一定磁
    界を有し、かつ局所的に電子サイクロトロン共鳴に対応
    する強度が存在する網目状表面を構築する永久磁石の組
    からなる多極磁気閉じ込め構造を備えるとともに、 前記アンテナが、電子サイクロトロン共鳴に対応する強
    度をもつ領域内において、網目状の一定磁界表面上に配
    置されていることを特徴とするプラズマ発生装置。
  7. 【請求項７】前記多極磁気閉じ込め構造は、複数の棒状
    永久磁石から形成される多極ケージによって構成され、 前記棒状磁石は閉じ込め構造により規定される体積の一
    方向に平行に延び、かつ連続して異なる極性を有する面
    を備え、 アンテナは前記棒状磁石の面の中心部と電子サイクロト
    ロン共鳴に対応する強度を有する一定磁界表面との交点
    において、前記棒状磁石と平行に配置されることを特徴
    とする特許請求の範囲第６項に記載のプラズマ発生装
    置。
  8. 【請求項８】前記マイクロ波励起装置は、前記多極磁気
    閉じ込め構造に沿って分布された複数のアンテナからな
    ることを特徴とする特許請求の範囲第６項に記載のプラ
    ズマ発生装置。
  9. 【請求項９】前記多極磁気閉じ込め構造は、前記密封エ
    ンクロージャ内に配置されることを特徴とする特許請求
    の範囲第６項に記載のプラズマ発生装置。
  10. 【請求項１０】前記多極ケージを形成する前記多極磁気
    閉じ込め構造に、前記多極ケージの外部で磁気回路の閉
    止を保証する構造に作動的に結合されるとともに、前記
    閉止構造は永久磁石または高透磁性材料からなることを
    特徴とする特許請求の範囲第６項に記載のプラズマ発生
    装置。
  11. 【請求項１１】高秀磁性材料からなる前記閉止構造は、
    前記密封エンクロージャと一体化されていることを特徴
    とする特許請求の範囲第10項に記載のプラズマ発生装
    置。
  12. 【請求項１２】前記イオン化されるべきガスを導入する
    ための少なくとも１本の管が、各アンテナに近接してか
    つそれに平行に配置されるとともに、 各管はその長さにわたって分布されかつ前記管の直径に
    比して小径を有する１組の孔を備えていることを特徴と
    する特許請求の範囲第８項に記載のプラズマ発生装置。
  13. 【請求項１３】冷却流体またはイオン化されるガスの流
    れを前記アンテナ内に発生させるための手段を備えるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第６項に記載のプラズマ
    発生装置。
  14. 【請求項１４】多量かつ高密度の均質で等方性のプラズ
    マを発生するために、電子サイクロトロン共鳴において
    マイクロ波を使用するプラズマ励起方法において、 多極磁気閉じ込め構造内で電子サイクロトロン共鳴に十
    分な強度の磁界を局部的に発生し、 電子サイクロトロン共鳴を発生する磁界の領域におい
    て、アンテナを介して、局部的にマイクロ波エネルギー
    を導入することを特徴とするプラズマ励起方法。
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