JPH07311984A - 相変化光ディスク記録媒体の製造方法 - Google Patents

相変化光ディスク記録媒体の製造方法

Info

Publication number
JPH07311984A
JPH07311984A JP12331094A JP12331094A JPH07311984A JP H07311984 A JPH07311984 A JP H07311984A JP 12331094 A JP12331094 A JP 12331094A JP 12331094 A JP12331094 A JP 12331094A JP H07311984 A JPH07311984 A JP H07311984A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
phase change
guide track
recording medium
optical disk
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12331094A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Itano
勉 板野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP12331094A priority Critical patent/JPH07311984A/ja
Publication of JPH07311984A publication Critical patent/JPH07311984A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 相変化光ディスク記録媒体に形成するガイド
トラックを迅速かつ容易に形成することを可能とする。 【構成】 透明でかつ表面が平坦な基板101上に、誘
電体膜102、相変化膜103、誘電体膜104、反射
膜105を順次積層形成し、基板101の裏面側にガイ
ドトラックパターンを有するフォトマスク106を密着
させ、このフォトマスク106を通して相変化膜103
に光線を照射し、相変化膜103の結晶性を光線の照射
された部分と照射されない部分とで相違させてガイドト
ラック109を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はコンピュータ、画像処理
等の大容量の記録媒体に適した光ディスク記録媒体に関
し、特に書換え可能な相変化光ディスク記録媒体におけ
るガイドトラックの形成及びプリフォーマットの形成を
含む製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の記録、再生、消去等が可能な相変
化光ディスク記録媒体は、相変化膜における結晶状態或
いは非晶質状態における光の反射率の差や位相差を利用
して情報を記録しており、通常では反射率差を利用した
ものが多い。また、この種の光ディスク記録媒体では、
ディスク面上に情報を記録する領域をガイドするための
ガイドトラックが設けられており、従来ではガイドトラ
ック用の溝を設けた基板の表面上に誘電体膜、相変化
膜、誘電体膜、反射膜を順次積層形成し、この溝を利用
することで記録用のトラックを形成している。また、光
ディスクの形成後には、初期化装置を用いて初期化を行
った上で情報の記録が行われる。
【0003】このような、従来の光ディスク記録媒体で
は、記録用トラックを画成するためにガイドトラック用
の溝を有する基板を用いると、基板に対して極めて微細
なトラック溝を形成する必要があり、その製造が困難で
かつ高精度の作業が必要とされるという問題がある。ま
た、トラック溝により凹凸状態とされた基板表面に各種
膜を均一に形成する必要があるため、その製造作業も煩
雑でかつ困難になるという問題がある。
【0004】このようなことから、従来では、光ディス
ク記録媒体の表面に形成される反射膜や誘電体膜の一部
を光学的に識別可能な構成とすることによりガイドトラ
ックを形成したものが提案されている。例えば、特開平
1−171135号公報、特開平1−171134号公
報。或いは、非晶質磁性体薄膜の一部を結晶化してこの
部分を他の部分とは光学的に識別可能とすることにより
ガイドトラックを形成したものが提案されている。例え
ば、特開平1−21544号公報。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】これらの公報に記載さ
れている光ディスク記録媒体は、ガイドトラック用の溝
を有していない平坦な表面の基板を用いて形成できるた
め、製造の簡略化、容易化を実現する上では有効であ
る。しかしながら、この従来の光ディスク記録媒体で
は、反射膜、誘電体膜、或いは非晶質磁性体薄膜の一部
を光学的に識別可能な構成とするために、ガイドトラッ
クと同程度に細く絞った光線、又はX線を光ディスク記
録媒体の表面に投射(走査)する方法が用いられてい
る。
【0006】このため、光ディスク記録媒体には1枚毎
にガイドトラックを形成するための光線やX線の走査を
行う必要があり、1枚の光ディスク記録媒体には極めて
多数のガイドトラックを形成する必要があるために、そ
の製造には多大な時間がかかるとともに、極めて高精度
での光線やX線の走査を行う必要あり、製造が難しいと
いう問題もある。
【0007】
【発明の目的】本発明の目的は、ガイドトラックを迅速
かつ容易に形成することが可能な相変化光ディスク記録
媒体の製造方法を提供することにある。また、本発明の
他の目的は、ガイドトラックの形成と同時にフォーマッ
トの形成を可能にした相変化光ディスク記録媒体の製造
方法を提供する。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の製造方法は、透
明でかつ表面が平坦な基板上に少なくとも情報記録膜と
しての相変化膜を形成し、かつこの相変化膜に対してガ
イドトラックパターンを有するフォトマスクを利用して
光線を選択的に照射し、光線の照射された部分とされな
い部分の結晶性を相違させるように形成することを特徴
とする。
【0009】例えば、透明でかつ表面が平坦な基板上
に、誘電体膜、相変化膜、誘電体膜、反射膜を順次積層
形成する工程と、前記基板の裏面側にガイドトラックパ
ターンを有するフォトマスクを密着させる工程と、この
フォトマスクを通して前記相変化膜にまで光線を照射
し、相変化膜の結晶性を光線の照射された部分と照射さ
れない部分とで相違させる工程と、前記フォトマスクを
除去する工程とを含んでいる。
【0010】また、フォトマスクにはプリフォーマット
のためのパターンが形成されていることが好ましい。更
に、フォトマスクのガイドトラックやプリフォーマット
のための各パターンに金属系材料を用いることが好まし
い。
【0011】
【作用】ガイドトラックのパターンを有するフォトマス
クにより相変化膜に対して光線を照射してガイドトラッ
クを形成することで、光線の照射時間の短縮、及び光線
を走査する際の制御を容易にし、迅速かつ簡易なガイド
トラックの形成が可能となる。また、フォトマスクにガ
イドトラックパターンと共にフォーマットパターンを形
成することで、ガイドトラックの形成と同時に光ディス
ク記録媒体の初期化が可能となる。
【0012】
【実施例】次に、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図1は本発明にかかる書換え可能な相変化光ディ
スク記録媒体の一例を示しており、同図(a)は平面
図、同図(b)はそのA−A線拡大断面図である。相変
化光ディスク記録媒体は、円環状の透明ガラスや樹脂か
らなる基板101の表面に誘電体膜102、相変化膜1
03、誘電体膜104、反射膜105を積層しており、
相変化膜103が情報の記録膜として構成される。そし
て、この相変化膜103には極めて多数の環状をしたガ
イドトラック109が形成されており、このガイドトラ
ック109は相変化膜103の結晶性を部分的に非晶質
にすることにより形成している。また、これらガイドト
ラック109の間の環状の領域は情報を記録するトラッ
クとして構成されるが、このトラックの一部にはプリフ
ォーマット110が形成されており、このプリフォーマ
ット110も相変化膜103の結晶性を非晶質にするこ
とにより形成している。
【0013】図2は前記した相変化光ディスク記録媒体
の製造方法を工程順に示す断面図である。同図(a)の
工程では、表面が平坦なガラス、樹脂等の円形環状の基
板101の平坦な表面に、スパッタ法、蒸着法等により
誘電体膜102を形成し、順次同様に相変化膜103,
誘電体膜104、反射膜105を積層形成する。前記誘
電体膜102、相変化膜103、誘電体膜104、反射
膜105は、その膜厚と材質を変えることにより、光デ
ィスク記録媒体としての波長特性、C/N値、熱特性を
任意に設定することができ、目的にあったものが選択さ
れる。例えば、誘電体膜102,104としては、Zn
S−SiO2 、SiO2 、SiN、TaO等がある。相
変化膜103としては、GeSbTe、InSe、In
Te、TeOx等がある。反射膜105としてはAl、
Au、Ti、Ni等がある。
【0014】図2(b)の工程では、前記各膜を形成し
た後、基板の裏面側にフォトマスク106を密着させ、
このフォトマスク106を通して前記各膜に対して光線
を照射している。フォトマスク106のマスクパターン
107は、図1に示したようなガイドトラック109の
パターンが形成されているが、この実施例では同時にプ
リフォーマット110のパターンも形成されている。こ
のフォトマスク106は、ガラス等の透明基材108の
表面に、クロム等の金属膜を所要のパターンに形成した
マスクパターン107を有するものが用いられる。この
ようにマススパターン107に金属を用いることによ
り、フォトマスクパターンがエマルジョンタイプのもの
に比較して光線を照射した際の熱吸収によるフォトマス
クの熱破損を防止する上で有効となる。
【0015】また、光線は赤外線から紫外線までの広範
囲の波長のものが可能であるが、使用効率の点からは前
記各膜の中でも特に相変化膜103への光学的な吸収率
が大きい波長を選択する。このように、光線がフォトマ
スク106のパターン107に従って相変化膜103に
照射されて吸収されることで、光照射された部分の相変
化膜103が非晶質状態から結晶状態に変化される。こ
のため、照射される光線の出力は、波長と照射面積によ
って決定される。この場合、光線のビーム径を小さく絞
ることで、単位面積当たりの出力を大きくし、これを光
ディスク面に走査するようにする方法が取られる。
【0016】図2(c)の工程では、基板101に密着
させていたフォトマスク106を取り外すと、相変化膜
103は、光線が照射された部分は非晶質状態から結晶
状態に変化されるため、光線が照射されていない非晶質
の部分とは基板101側から見た光学的な反射率が相違
される。したがって、この光線が照射された部分と照射
されない部分とに生じる反射率の相違を光学的に検出す
ることにより、ガイドトラック109が認識されること
になり、結果としてガイドトラック109が形成される
ことになる。また、この実施例では、前記したようにフ
ォトマスク106にはプリフォーマットのフォーマット
パターンが形成されているため、ガイドトラック109
の形成と同時にフォーマットパターン110が形成さ
れ、いわゆる光ディスクの初期化が行われることにな
る。
【0017】このように、本発明の製造方法では、相変
化膜103に部分的に光線を照射し、その光線が照射さ
れた部分とされない部分との相変化膜103における反
射率の相違を利用してガイドトラック109を形成して
いるため、光ディスク記録媒体の基板としてガイドトラ
ック用の溝が形成されていない表面が平坦な基板101
を使用することができ、製造を容易に行うことができ
る。
【0018】また、相変化膜103の反射率を部分的に
相違させるための光線の照射では、ガイドトラックに相
当するパターンを有するフォトマスク106を利用して
いるため、光線をガイドトラックに沿って走査してガイ
ドトラックを形成する方法に比較して、光線の照射時間
を短縮することができる。この場合、所要の光出力を得
るために光線のビーム径を絞って走査状態で照射する場
合でも、その光線走査はガイドトラックの幅寸法よりも
大きなビーム径での走査が可能であり、直接ガイドトラ
ックのパターンを光走査により形成する場合に比較して
迅速にしかも簡単な制御で行うことができる。
【0019】更に、この場合、フォトマスク106のパ
ターン107を金属で形成することにより、エマルジョ
ンタイプのフォトマスクに比較して光線を照射した際の
熱吸収によるフォトマスクの熱破損を防止する上で有効
となる。また、この実施例ではフォトマスク106には
ガイドトラックのパターンと共にプリフォーマットのパ
ターンを形成しているため、ガイドトラックの形成と同
時に光ディスク記録媒体の初期化を行うことができ、光
ディスク記録媒体の形成後に改めて初期化を行う必要が
なく、処理工程の簡略化が可能となる。
【0020】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、表面が平
坦な基板上に情報記録膜としての相変化膜を形成した
後、この相変化膜に対してガイドトラックパターンを有
するフォトマスクを利用して光線を選択的に照射し、光
線の照射された部分とされない部分の結晶性を相違させ
てガイドトラックを形成しているので、ガイドトラック
用の溝を有する基板を用いて光ディスク記録媒体を形成
する場合に比較して、基板自体の形成及び相変化膜の形
成を容易にしかも高精度の膜厚に形成できる。しかも、
フォトマスクによりガイドトラックの光線照射を行うの
で、光線を走査してガイドトラックを形成する方法に比
較して光線照射を容易にかつ迅速に行うことができ、製
造工程の簡略化が可能となる。
【0021】更に、フォトマスクにはプリフォーマット
のためのパターンを形成することにより、ガイドトラッ
クの形成と同時に光ディスク記録媒体の初期化が可能と
なる。また、フォトマスクのガイドトラックやプリフォ
ーマットのための各パターンに金属系材料を用いること
で、エマルジョンタイプのフォトマスクに比較して光線
を照射した際の熱吸収によるフォトマスクの熱破損を防
止することができる効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる相変化光ディスク記録媒体の平
面図とそのA−A線拡大断面図である。
【図2】本発明の相変化光ディスク記録媒体の製造方法
を工程順に示す一部の断面図である。
【符号の説明】
101 基板 102 誘電体膜 103 相変化膜 104 誘電体膜 105 反射膜 106 フォトマスク 107 パターン 109 ガイドトラック 110 フォーマット

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明でかつ表面が平坦な基板上に少なく
    とも情報記録膜としての相変化膜を形成し、かつこの相
    変化膜の一部の結晶性を他の部分と相違させることでガ
    イドトラックを構成してなる相変化光ディスク記録媒体
    において、前記ガイドトラックを形成する際に、結晶性
    が均質な前記相変化膜に対してガイドトラックパターン
    を有するフォトマスクを利用して光線を選択的に照射す
    ることを特徴とする相変化光ディスク記録媒体の製造方
    法。
  2. 【請求項2】 透明でかつ表面が平坦な基板上に、誘電
    体膜、相変化膜、誘電体膜、反射膜を順次積層形成する
    工程と、前記基板の裏面側にガイドトラックパターンを
    有するフォトマスクを密着させる工程と、このフォトマ
    スクを通して前記相変化膜にまで光線を照射し、相変化
    膜の結晶性を光線の照射された部分と照射されない部分
    とで相違させる工程と、前記フォトマスクを除去する工
    程とを含むことを特徴とする相変化光ディスク記録媒体
    の製造方法。
  3. 【請求項3】 フォトマスクにはプリフォーマットのた
    めのパターンが形成されてなる請求項1または2の相変
    化光ディスク記録媒体の製造方法。
  4. 【請求項4】 フォトマスクのガイドトラックやプリフ
    ォーマットのための各パターンに金属系材料を用いてな
    る請求項3の相変化光ディスク記録媒体の製造方法。
JP12331094A 1994-05-13 1994-05-13 相変化光ディスク記録媒体の製造方法 Pending JPH07311984A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12331094A JPH07311984A (ja) 1994-05-13 1994-05-13 相変化光ディスク記録媒体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12331094A JPH07311984A (ja) 1994-05-13 1994-05-13 相変化光ディスク記録媒体の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07311984A true JPH07311984A (ja) 1995-11-28

Family

ID=14857384

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12331094A Pending JPH07311984A (ja) 1994-05-13 1994-05-13 相変化光ディスク記録媒体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07311984A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100468856B1 (ko) * 2002-11-18 2005-01-29 삼성전자주식회사 상변환물질막을 가지는 광기록매체 및 그 제조방법
JP2008192281A (ja) * 2007-01-12 2008-08-21 Ricoh Co Ltd パターン及びその形成方法
EP2141698A1 (en) 2008-06-30 2010-01-06 Deutsche Thomson OHG Compatible optical recording medium

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6478447A (en) * 1987-04-16 1989-03-23 Canon Kk Production of optical recording medium
JPH01171134A (ja) * 1987-12-25 1989-07-06 Sharp Corp 光メモリ素子
JPH02146124A (ja) * 1988-11-28 1990-06-05 Canon Inc 光学的情報記録媒体の複製方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6478447A (en) * 1987-04-16 1989-03-23 Canon Kk Production of optical recording medium
JPH01171134A (ja) * 1987-12-25 1989-07-06 Sharp Corp 光メモリ素子
JPH02146124A (ja) * 1988-11-28 1990-06-05 Canon Inc 光学的情報記録媒体の複製方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100468856B1 (ko) * 2002-11-18 2005-01-29 삼성전자주식회사 상변환물질막을 가지는 광기록매체 및 그 제조방법
US6998162B2 (en) 2002-11-18 2006-02-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Optical recording medium with phase transition layer and method of manufacturing the optical recording medium
JP2008192281A (ja) * 2007-01-12 2008-08-21 Ricoh Co Ltd パターン及びその形成方法
US8295141B2 (en) 2007-01-12 2012-10-23 Ricoh Company, Ltd. Pattern and method for forming the same
EP2141698A1 (en) 2008-06-30 2010-01-06 Deutsche Thomson OHG Compatible optical recording medium

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0155000B1 (en) Method of manufacturing optical memory element
EP1551020B1 (en) Method of producing optical disk-use original and method of producing optical disk
CN101329883A (zh) 记录介质及其制造方法、记录介质的母盘及其制造方法
WO1998038636A1 (fr) Support d'enregistrement optique a modification de phase, procede de fabrication dudit support et procede d'enregistrement d'informations sur ledit support
JPH0453015B2 (ja)
JP4080741B2 (ja) 多層光記録媒体の製造方法および多層光記録媒体
JPH07311984A (ja) 相変化光ディスク記録媒体の製造方法
CA2056308C (en) Method for manufacturing a photomask for an optical memory
JPH10106047A (ja) 光学記録媒体の製造方法
JPH1083567A (ja) 光記録媒体およびその製造方法
JP2730038B2 (ja) 光記録媒体の製造方法
JPH083912B2 (ja) 新規な光記録媒体及びその製造方法
JPH08287527A (ja) 貼り合わせ型の光ディスクの製造方法
JP2847977B2 (ja) 光学記録媒体およびその製造方法
JP3139479B2 (ja) 情報記録媒体、情報記録媒体の製造方法、情報の記録・再生方法、及び、情報の消去方法
JPH05225603A (ja) 短波長用相変化光ディスク媒体
JP2001266405A (ja) 相変化型光デイスク媒体およびその製造方法
JPH01286135A (ja) 光ディスク
JP2650306B2 (ja) 光記録媒体の製造方法
JP2001297486A (ja) 光情報記録媒体
JPH06274941A (ja) 光記録媒体
JPH04102228A (ja) 光ディスクの初期化方法
JPH09306025A (ja) 光記録媒体およびその製造方法
JPH04103029A (ja) 相変化型光ディスクの初期化方法
JPH07169101A (ja) 高密度再生専用相変化光ディスク