JPH0725710B2 - エチレンオキシド／グリコールプロセスにおける不純物含有液体流の半透膜による処理 - Google Patents
エチレンオキシド／グリコールプロセスにおける不純物含有液体流の半透膜による処理Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D301/00—Preparation of oxiranes
- C07D301/02—Synthesis of the oxirane ring
- C07D301/03—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds
- C07D301/04—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with air or molecular oxygen
- C07D301/08—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with air or molecular oxygen in the gaseous phase
- C07D301/10—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with air or molecular oxygen in the gaseous phase with catalysts containing silver or gold
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/74—Separation; Purification; Use of additives, e.g. for stabilisation
- C07C29/76—Separation; Purification; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
- C07C41/34—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C41/36—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by solid-liquid treatment; by chemisorption
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D301/00—Preparation of oxiranes
- C07D301/32—Separation; Purification
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 発明の背景 1.発明の分野 この発明は液体媒質中に溶解している特別な種々の成分
を半透膜の使用によって分離する技術分野に属する。よ
り詳細には本発明は、１個以上の炭素原子を有する少な
くとも１種類の脂肪族有機酸、そのアルカリ金属又はア
ルカリ土類金属塩、少なくとも１つの紫外線吸収物質又
はその前駆体或いはそれらの組み合わせからエチレング
リコール類を分離することに関する。本発明は、エチレ
ンオキシドからポリエステル級モノエチレングリコール
を製造する方法において特に有用である。
を半透膜の使用によって分離する技術分野に属する。よ
り詳細には本発明は、１個以上の炭素原子を有する少な
くとも１種類の脂肪族有機酸、そのアルカリ金属又はア
ルカリ土類金属塩、少なくとも１つの紫外線吸収物質又
はその前駆体或いはそれらの組み合わせからエチレング
リコール類を分離することに関する。本発明は、エチレ
ンオキシドからポリエステル級モノエチレングリコール
を製造する方法において特に有用である。
2.関連技術の説明 エチレングリコールの製造はこの化合物が種々の用途に
用いられるために科学工業にとって特に重要である。エ
チレングリコールの特に重要な用途はポリエステル繊維
の製造における利用である。一般にポリエステル繊維の
製造において用いられるエチレングリコールは特別に高
い純度のものでなければならず、と言うのはほんの僅か
な量の不純物も得られたポリエステル繊維に有害な作用
を及ぼすからである。エチレングリコールはまた伝熱液
体、除氷液体、凍結防止剤、液圧作動液体にも用いら
れ、そしてアルキド樹脂や種々の溶媒の製造にも用いら
れる。
用いられるために科学工業にとって特に重要である。エ
チレングリコールの特に重要な用途はポリエステル繊維
の製造における利用である。一般にポリエステル繊維の
製造において用いられるエチレングリコールは特別に高
い純度のものでなければならず、と言うのはほんの僅か
な量の不純物も得られたポリエステル繊維に有害な作用
を及ぼすからである。エチレングリコールはまた伝熱液
体、除氷液体、凍結防止剤、液圧作動液体にも用いら
れ、そしてアルキド樹脂や種々の溶媒の製造にも用いら
れる。
エチレングリコール成品の純度を上昇できる能力はポリ
エステル繊維の製造にとって特別に重要である。一般
に、エチレングリコールがほんの僅かな量の不純物を含
んでいる場合でも、製造されるポリエステルの、例えば
繊維染色特性、繊維強度、繊維の着色等の諸性質に悪影
響が及ぼされる。ポリエステルの製造において用いるの
に適した高純度エチレングリコールはポリエステル級エ
チレングリコールと呼ばれる。
エステル繊維の製造にとって特別に重要である。一般
に、エチレングリコールがほんの僅かな量の不純物を含
んでいる場合でも、製造されるポリエステルの、例えば
繊維染色特性、繊維強度、繊維の着色等の諸性質に悪影
響が及ぼされる。ポリエステルの製造において用いるの
に適した高純度エチレングリコールはポリエステル級エ
チレングリコールと呼ばれる。
エチレングリコールがポリエステル級エチレングリコー
ルとして格付けされるためには、厳格な紫外線透過試験
にパスする必要がある。この試験はエチレングリコール
の試料及び蒸留水の試料を透過する指定された波長の紫
外線の透過率を比較することによって行われる。同様な
厚さの蒸留水の試料を透過する紫外線の％で表わした量
がエチレングリコールの透過率％を構成する。一般に用
いられる市販繊維級のエチレングリコール紫外線透過率
基準を次にあげる： 紫外線 波長（nm） 最低透過率％ 220 70 275 90 350 98 本文において用いられる「UV吸収物質」の語はエチレン
グリコールの試料中に存在したときにこの試料を透過す
る紫外線の透過率に望ましくない低下をもたらす物質を
意味する。この語はまた、UV吸収物質の前駆物質、すな
わちその物質自身では紫外線透過率を低下させないけれ
ども、もしこれがモノエチレングリコールの製造の間に
存在するときはそのようなUV吸収物質に移行してしまう
ような物質をも包含することを意味する。或るエチレン
グリコール試料のUV透過率の低下は従って、その試料の
純度の尺度でもある。言い換えるならば、或るエチレン
グリコール試料のUV透過率が大きければ大きい程それは
純粋であり、そしてより価値が高くなるということであ
る。従ってエチレングリコールは上にあげたUV透過率基
準を満足させるばかりでなく、そのUV透過率ができるだ
け高いのが好ましい。
ルとして格付けされるためには、厳格な紫外線透過試験
にパスする必要がある。この試験はエチレングリコール
の試料及び蒸留水の試料を透過する指定された波長の紫
外線の透過率を比較することによって行われる。同様な
厚さの蒸留水の試料を透過する紫外線の％で表わした量
がエチレングリコールの透過率％を構成する。一般に用
いられる市販繊維級のエチレングリコール紫外線透過率
基準を次にあげる： 紫外線 波長（nm） 最低透過率％ 220 70 275 90 350 98 本文において用いられる「UV吸収物質」の語はエチレン
グリコールの試料中に存在したときにこの試料を透過す
る紫外線の透過率に望ましくない低下をもたらす物質を
意味する。この語はまた、UV吸収物質の前駆物質、すな
わちその物質自身では紫外線透過率を低下させないけれ
ども、もしこれがモノエチレングリコールの製造の間に
存在するときはそのようなUV吸収物質に移行してしまう
ような物質をも包含することを意味する。或るエチレン
グリコール試料のUV透過率の低下は従って、その試料の
純度の尺度でもある。言い換えるならば、或るエチレン
グリコール試料のUV透過率が大きければ大きい程それは
純粋であり、そしてより価値が高くなるということであ
る。従ってエチレングリコールは上にあげたUV透過率基
準を満足させるばかりでなく、そのUV透過率ができるだ
け高いのが好ましい。
エチレングリコール類（モノエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール及びテトラ
エチレングリコール）は当業者によく知られたいくつか
の方法によつて実際に製造されている。これらの方法の
一つには２段階反応系が含まれ、その際第１段階はエチ
レンを適当な触媒、典型的には銀含有触媒の上で高めら
れた温度（典型的には100℃ないし500℃）及び大気圧よ
りも高い圧力（２ないし25気圧）において直接空気又は
元素状酸素で酸化させることを必要とする。
チレングリコール、トリエチレングリコール及びテトラ
エチレングリコール）は当業者によく知られたいくつか
の方法によつて実際に製造されている。これらの方法の
一つには２段階反応系が含まれ、その際第１段階はエチ
レンを適当な触媒、典型的には銀含有触媒の上で高めら
れた温度（典型的には100℃ないし500℃）及び大気圧よ
りも高い圧力（２ないし25気圧）において直接空気又は
元素状酸素で酸化させることを必要とする。
米国特許第2,125,333号、同第2,430,443号、同第3,904,
656号及び同第3,970,711号に典型的にあげられているよ
うに、固定床反応器でも流動床反応器でもよいが、反応
器中で造り出されたエチレンオキシドをその反応器のガ
スの流れから取り出してエチレンオキシドスクラッパへ
送り込み、ここでそのガスの流れを水と接触させてその
含有エチレンオキシドを吸収させる。このスクラッパか
らオーバーヘッドとして逸出するガス（これはなお相当
量のエチレンを含んでいる）は次にエチレンオキシド反
応器へ再循環される。スクラッパのボトム液、すなわち
エチレンオキシドの含まれた水は次にストリッパへ送り
込まれる。このストリッパの中に水蒸気又は熱水を導入
し、そしてこれをこの塔に供給されるエチレンオキシド
と通常は向流で接触させてエチレンオキシド生成物をオ
ーバーヘッドとして取り出す。これと異なって、エチレ
ンオキシドの含まれた水を上記ストリッパの中で温度と
圧力との条件に曝してエチレンオキシドをオーバーヘッ
ドとして取り出してもよい。このストリッパからボトム
液として排出される水は一般にエチレンオキシドの吸収
に再使用するためにスクラッパへ再循環される。
656号及び同第3,970,711号に典型的にあげられているよ
うに、固定床反応器でも流動床反応器でもよいが、反応
器中で造り出されたエチレンオキシドをその反応器のガ
スの流れから取り出してエチレンオキシドスクラッパへ
送り込み、ここでそのガスの流れを水と接触させてその
含有エチレンオキシドを吸収させる。このスクラッパか
らオーバーヘッドとして逸出するガス（これはなお相当
量のエチレンを含んでいる）は次にエチレンオキシド反
応器へ再循環される。スクラッパのボトム液、すなわち
エチレンオキシドの含まれた水は次にストリッパへ送り
込まれる。このストリッパの中に水蒸気又は熱水を導入
し、そしてこれをこの塔に供給されるエチレンオキシド
と通常は向流で接触させてエチレンオキシド生成物をオ
ーバーヘッドとして取り出す。これと異なって、エチレ
ンオキシドの含まれた水を上記ストリッパの中で温度と
圧力との条件に曝してエチレンオキシドをオーバーヘッ
ドとして取り出してもよい。このストリッパからボトム
液として排出される水は一般にエチレンオキシドの吸収
に再使用するためにスクラッパへ再循環される。
ストリッパの水性ボトム液が或る密閉系中でスクラッパ
へ再循環されているときに同時にそのエチレンオキシド
反応器中で水が連続的に形成されている限りは、蓄積す
る過剰の水を除去するためにパージ流の抜き出しを必要
とする。しかしながらこのパージ流は一般にかなりの
量、典型的には約10重量％までの量のエチレングリコー
ルを含有している。この含有グリコール類の大部分はモ
ノエチレングリコール（約0.1ないし約10.0重量％）よ
りなり、そして残部はジエチレングリコール（約0.01な
いし約1.0重量％）、トリエチレングリコール（約0.001
ないし約0.1重量％）及びより高分子量のグリコール類
の痕跡程度よりなる。ここで用いる「エチレングリコー
ル類」の語はモノエチレングリコール、ジエチレングリ
コール及びトリエチレングリコール並びにより高分子量
のグリコール類を包含することを意味する。このパージ
流の中のグリコール類の量は、これを単純に廃棄してし
まうのが経済的に好ましくないという程の価値のもので
ある。従ってこれは、エチレンオキシドと水とを反応さ
せてエチレングリコール類を形成するグリコール反応器
の中へ、又はこのグリコール反応器の下流の一連の精製
装置列の中へ導入することができる。このグリコール反
応器中でつくり出されたエチレングリコール類はまず最
初エバポレータへ送り込まれてここで水が除去される。
その生成物グリコール類はエバポレータからボトム液と
して取り出され、次いで一連の蒸留装置列を通して所望
の精製モノエチレングリコール並びに副生物としてのジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラ
エチレングリコール等が得られる。
へ再循環されているときに同時にそのエチレンオキシド
反応器中で水が連続的に形成されている限りは、蓄積す
る過剰の水を除去するためにパージ流の抜き出しを必要
とする。しかしながらこのパージ流は一般にかなりの
量、典型的には約10重量％までの量のエチレングリコー
ルを含有している。この含有グリコール類の大部分はモ
ノエチレングリコール（約0.1ないし約10.0重量％）よ
りなり、そして残部はジエチレングリコール（約0.01な
いし約1.0重量％）、トリエチレングリコール（約0.001
ないし約0.1重量％）及びより高分子量のグリコール類
の痕跡程度よりなる。ここで用いる「エチレングリコー
ル類」の語はモノエチレングリコール、ジエチレングリ
コール及びトリエチレングリコール並びにより高分子量
のグリコール類を包含することを意味する。このパージ
流の中のグリコール類の量は、これを単純に廃棄してし
まうのが経済的に好ましくないという程の価値のもので
ある。従ってこれは、エチレンオキシドと水とを反応さ
せてエチレングリコール類を形成するグリコール反応器
の中へ、又はこのグリコール反応器の下流の一連の精製
装置列の中へ導入することができる。このグリコール反
応器中でつくり出されたエチレングリコール類はまず最
初エバポレータへ送り込まれてここで水が除去される。
その生成物グリコール類はエバポレータからボトム液と
して取り出され、次いで一連の蒸留装置列を通して所望
の精製モノエチレングリコール並びに副生物としてのジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラ
エチレングリコール等が得られる。
しかしながら、上記の有用グリコール類を含んでグリコ
ールプロセスへ送り込まれるパージ流はしばしば、１個
以上の炭素原子を有する脂肪族有機酸類及び／又はそれ
らのアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩のような種
々の不純物を含んでいる。これらの酸類及び／又は塩類
の若干のものがUV吸収物質又はその前駆体を構成するこ
とがある。パージ流はまたグリコール類以外のエチレン
オキシドの１つ以上の高分子量誘導体を含み、そしてこ
れらもUV吸収物質であるか、又は後続の処理段階におい
てUV吸収物質を形成する前駆体である場合がある。従っ
てこれらの不純物は目的とするモノエチレングリコール
生成物にとって有害であり、ポリエステル級と格付けさ
れるのを阻害する。
ールプロセスへ送り込まれるパージ流はしばしば、１個
以上の炭素原子を有する脂肪族有機酸類及び／又はそれ
らのアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩のような種
々の不純物を含んでいる。これらの酸類及び／又は塩類
の若干のものがUV吸収物質又はその前駆体を構成するこ
とがある。パージ流はまたグリコール類以外のエチレン
オキシドの１つ以上の高分子量誘導体を含み、そしてこ
れらもUV吸収物質であるか、又は後続の処理段階におい
てUV吸収物質を形成する前駆体である場合がある。従っ
てこれらの不純物は目的とするモノエチレングリコール
生成物にとって有害であり、ポリエステル級と格付けさ
れるのを阻害する。
従ってグリコール含有パージ流、例えばストリッパの水
性ボトム液からのパージ流の中に含まれている望ましく
ないUV吸収物質及び／又はそれらの前駆体を経済的かつ
効率的に有用なグリコール類と分離する技術を提供する
ことに対する要求が存在している。
性ボトム液からのパージ流の中に含まれている望ましく
ないUV吸収物質及び／又はそれらの前駆体を経済的かつ
効率的に有用なグリコール類と分離する技術を提供する
ことに対する要求が存在している。
発明の要約 本発明によって、ストリッパ塔のボトム液再循環流のパ
ージ流中に含まれている望ましくないUV吸収物質及び／
又はそれらの前駆体を経済的にかつ効率的に分離するこ
とのできる新しい技術が見出された。
ージ流中に含まれている望ましくないUV吸収物質及び／
又はそれらの前駆体を経済的にかつ効率的に分離するこ
とのできる新しい技術が見出された。
より詳細には、それらのUV吸収物質及び／又は前駆体成
分は圧力のもとにそのようなパージ流を適当な半透膜と
接触させて逆浸圧法によりそのような分離を実施するこ
とによって分離することができる。このような半透膜は
この膜の総括分離特性を決定するような薄い分離層を有
する非対称膜を含むことができる。これと異なり、この
半透膜は複合膜をも含むことができ、そしてこの複合膜
がUV吸収物質及び／又はそれらの前駆体成分に関して実
質的になんら分離特性を有しないような多孔質支持層
と、及びこの支持層の上に配置されてその全体の複合膜
の選択的透過特性を実質的に決定するような分離層とか
らなっていてもよい。
分は圧力のもとにそのようなパージ流を適当な半透膜と
接触させて逆浸圧法によりそのような分離を実施するこ
とによって分離することができる。このような半透膜は
この膜の総括分離特性を決定するような薄い分離層を有
する非対称膜を含むことができる。これと異なり、この
半透膜は複合膜をも含むことができ、そしてこの複合膜
がUV吸収物質及び／又はそれらの前駆体成分に関して実
質的になんら分離特性を有しないような多孔質支持層
と、及びこの支持層の上に配置されてその全体の複合膜
の選択的透過特性を実質的に決定するような分離層とか
らなっていてもよい。
すなわち本発明はその具体例の一つにおいて、エチレン
グリコール類と、１個以上の炭素原子を有する脂肪族有
機酸、このような脂肪族有機酸のアルカリ金属塩又はア
ルカリ土類金属塩、或いはそれらの組み或わせを含む少
なくとも１つの不純物成分とに対して溶剤として作用し
得る液体媒質の中に実質的に溶解されている上記グリコ
ール類と上記少なくとも１つの不純物成分との中から上
記エチレングリコール類を分離する方法において、上記
グリコール類と上記少なくとも１つの不純物成分との含
まれた液体媒質を、上記少なくとも１つの不純物成分に
比して上記グリコール類が選択的透過性を示すような半
透膜の一方の表面と接触させ、そしてこの半透膜の反対
側の表面の近傍から、上記液体媒質中の上記少なくとも
１つの不純物成分の濃度よりも低い上記少なくとも１つ
の不純物成分の或る濃度を有する透過液を取り出すこと
よりなるエチレングリコール類の分離方法を対象とす
る。
グリコール類と、１個以上の炭素原子を有する脂肪族有
機酸、このような脂肪族有機酸のアルカリ金属塩又はア
ルカリ土類金属塩、或いはそれらの組み或わせを含む少
なくとも１つの不純物成分とに対して溶剤として作用し
得る液体媒質の中に実質的に溶解されている上記グリコ
ール類と上記少なくとも１つの不純物成分との中から上
記エチレングリコール類を分離する方法において、上記
グリコール類と上記少なくとも１つの不純物成分との含
まれた液体媒質を、上記少なくとも１つの不純物成分に
比して上記グリコール類が選択的透過性を示すような半
透膜の一方の表面と接触させ、そしてこの半透膜の反対
側の表面の近傍から、上記液体媒質中の上記少なくとも
１つの不純物成分の濃度よりも低い上記少なくとも１つ
の不純物成分の或る濃度を有する透過液を取り出すこと
よりなるエチレングリコール類の分離方法を対象とす
る。
もう一つの具体例において本発明は、或る液体媒質中に
含まれているエチレングリコール類からのUV吸収物質の
分離方法を対象とする。詳細にはこの具体例は、エチレ
ングリコール類と、少なくとも１つ以上のUV吸収物質及
び／又はUV吸収物質前駆体とに対して溶剤として作用し
得る液体媒質中に実質的に溶解されている上記グリコー
ル類と上記少なくとも１つのUV吸収物質及び／又はUV吸
収物質前駆体との中から上記エチレングリコール類を分
離する方法において、上記グリコール類と上記少なくと
も１つのUV吸収物質及び／又は上記前駆体との含まれた
液体媒質を、上記少なくとも１つのUV吸収物質及び／又
は上記前駆体に比して上記グリコール類が選択的透過性
を示すような半透膜の一方の表面と接触させ、そしてこ
の半透膜の反対側の表面の近傍から、上記液体媒質中の
上記少なくとも１つのUV吸収物質及び／又は上記前駆体
の濃度よりも低い上記少なくとも１つのUV吸収物質及び
／又は上記前駆体の或る濃度を有する透過液を取り出す
ことよりなる方法である。
含まれているエチレングリコール類からのUV吸収物質の
分離方法を対象とする。詳細にはこの具体例は、エチレ
ングリコール類と、少なくとも１つ以上のUV吸収物質及
び／又はUV吸収物質前駆体とに対して溶剤として作用し
得る液体媒質中に実質的に溶解されている上記グリコー
ル類と上記少なくとも１つのUV吸収物質及び／又はUV吸
収物質前駆体との中から上記エチレングリコール類を分
離する方法において、上記グリコール類と上記少なくと
も１つのUV吸収物質及び／又は上記前駆体との含まれた
液体媒質を、上記少なくとも１つのUV吸収物質及び／又
は上記前駆体に比して上記グリコール類が選択的透過性
を示すような半透膜の一方の表面と接触させ、そしてこ
の半透膜の反対側の表面の近傍から、上記液体媒質中の
上記少なくとも１つのUV吸収物質及び／又は上記前駆体
の濃度よりも低い上記少なくとも１つのUV吸収物質及び
／又は上記前駆体の或る濃度を有する透過液を取り出す
ことよりなる方法である。
更にもう一つの具体例において本発明はエチレンオキシ
ドを製造する方法を対象とし、これは下記の各段階、す
なわち ａ） 酸素とエチレンとを触媒の存在においてエチレン
オキシド形成条件のもとに反応させてエチレンオキシド
をつくり出し、 ｂ） 上記段階ａ）においてつくり出されたエチレンオ
キシドをスクラッバ中で水に吸収させてエチレンオキシ
ド／水の流れをつくり出し、 ｃ） ストリッピング塔の中で上記段階ｂ）においてつ
くり出されたエチレンオキシド／水の流れからエチレン
オキシドをストリッピングしてエチレンオキシドのオー
バーヘッド流と水性ボトム液流とをつくり出し、その際
上記水性ボトム液流は水と、UV吸収物質及び／又はUV吸
収物質前駆体と、及びモノ−、ジ−、トリ−及び／又は
高分子量エチレングリコール類とよりなり、 ｄ） そのストリッピング塔からの水性ボトム液を上記
段階ｂ）のスクラッバへ再循環させる エチレンオキシドの製造方法において、上記段階ｄ）の
ストリッピング塔からの再循環された水性ボトム液の１
部をパージ流として抜き出し、そして上記エチレングリ
コール類と上記少なくとも１つのUV吸収物質及び／又は
UV吸収物質前駆体との含まれたパージ流を、上記少なく
とも１つのUV吸収物質及び／又は上記前駆体に比して上
記グリコール類が選択的透過性を示すような半透膜の一
方の表面と接触させることによって、上記パージ流の少
なくとも１部を処理し、そしてこの半透膜の反対側の表
面の近傍から、上記パージ流中の上記少なくとも１つの
UV吸収物質及び／又は上記前駆体の濃度よりも低い上記
少なくとも１つのUV吸収物質及び／又は上記前駆体の或
る濃度を有する透過液を取り出すことよりなる改良方法
である。
ドを製造する方法を対象とし、これは下記の各段階、す
なわち ａ） 酸素とエチレンとを触媒の存在においてエチレン
オキシド形成条件のもとに反応させてエチレンオキシド
をつくり出し、 ｂ） 上記段階ａ）においてつくり出されたエチレンオ
キシドをスクラッバ中で水に吸収させてエチレンオキシ
ド／水の流れをつくり出し、 ｃ） ストリッピング塔の中で上記段階ｂ）においてつ
くり出されたエチレンオキシド／水の流れからエチレン
オキシドをストリッピングしてエチレンオキシドのオー
バーヘッド流と水性ボトム液流とをつくり出し、その際
上記水性ボトム液流は水と、UV吸収物質及び／又はUV吸
収物質前駆体と、及びモノ−、ジ−、トリ−及び／又は
高分子量エチレングリコール類とよりなり、 ｄ） そのストリッピング塔からの水性ボトム液を上記
段階ｂ）のスクラッバへ再循環させる エチレンオキシドの製造方法において、上記段階ｄ）の
ストリッピング塔からの再循環された水性ボトム液の１
部をパージ流として抜き出し、そして上記エチレングリ
コール類と上記少なくとも１つのUV吸収物質及び／又は
UV吸収物質前駆体との含まれたパージ流を、上記少なく
とも１つのUV吸収物質及び／又は上記前駆体に比して上
記グリコール類が選択的透過性を示すような半透膜の一
方の表面と接触させることによって、上記パージ流の少
なくとも１部を処理し、そしてこの半透膜の反対側の表
面の近傍から、上記パージ流中の上記少なくとも１つの
UV吸収物質及び／又は上記前駆体の濃度よりも低い上記
少なくとも１つのUV吸収物質及び／又は上記前駆体の或
る濃度を有する透過液を取り出すことよりなる改良方法
である。
本発明のいくつかの好ましい具体例においては上記の特
別な分離を達成するために複合膜が用いられる。
別な分離を達成するために複合膜が用いられる。
優れた分離及び透過並びに優れた化学的安定性、及びパ
ージ流の諸成分に対する抵抗性を与える特に好ましい複
合膜はスルホン化されたポリスルホンよりなる分離層と
ポリスルホンの支持層とからなる。
ージ流の諸成分に対する抵抗性を与える特に好ましい複
合膜はスルホン化されたポリスルホンよりなる分離層と
ポリスルホンの支持層とからなる。
図面の簡単な説明 図は本発明に従う膜分離手段を用いてストリッパボトム
液パージ流からUV吸収性不純物を分離する、エチレンオ
キシド／エチレングリコールの複合的製造プロセスの図
式図である。
液パージ流からUV吸収性不純物を分離する、エチレンオ
キシド／エチレングリコールの複合的製造プロセスの図
式図である。
発明の詳細な説明 本発明は本来、エチレンオキシド／エチレングリコール
製造の技術分野、特にポリエステル級エチレングリコー
ルを不純物成分と、UV吸収物質及び／又はUV吸収物質前
駆体との除去によって製造する技術分野を対象とするも
のであるが、この発明はこの技術分野のみに限定されな
いと理解される。というよりはむしろ本発明は、このよ
うなエチレンオキシド／エチレングリコール製造技術に
おいて典型的に見出されるような不純物成分、UV吸収物
質及び／又はUV吸収物質前駆体成分の分離を対象とする
けれども、これらは他の種々のプロセス環境においても
存在するものであろう。
製造の技術分野、特にポリエステル級エチレングリコー
ルを不純物成分と、UV吸収物質及び／又はUV吸収物質前
駆体との除去によって製造する技術分野を対象とするも
のであるが、この発明はこの技術分野のみに限定されな
いと理解される。というよりはむしろ本発明は、このよ
うなエチレンオキシド／エチレングリコール製造技術に
おいて典型的に見出されるような不純物成分、UV吸収物
質及び／又はUV吸収物質前駆体成分の分離を対象とする
けれども、これらは他の種々のプロセス環境においても
存在するものであろう。
前に述べたように、本文において用いられる「UV吸収物
質」の語はエチレンオキシド製造工程において或る工程
流（例えばストリッパ塔からの再循環ボトム液の水性パ
ージ流のような）の中に存在することができ、かつその
ような種々の成分を含むエチレングリコール試料におけ
るUV透過率の低下をもたらすような全ての物質を包含す
ることを意味する。またこの語はUV吸収物質前駆体、す
なわち製造工程の間に変化して最終的にはモノエチレン
グリコール生成物中に見出されるようなUV吸収物質を形
成する物質をも包含することを意味する。これらのUV吸
収物質成分は１個以上の炭素原子を有する脂肪族有機酸
類、又はこれら脂肪族有機酸類のアルカリ金属塩及び／
又はアルカリ土類金属塩を含むことができる。これらの
塩類は、それらのみにかぎるものではないけれども、例
えばナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム
等の、例えば蟻酸、酢酸、グリコール酸、蓚酸等の塩類
を含む。これらの酸類及び／又は塩類は一般に全てエチ
レンオキシド／グリコール製造方法において不純物とし
て特徴づけることができるものであるが、これら全てが
UV吸収物質として特徴づけできるものではない。しかし
ながらそれらをモノエチレングリコール生成物から除去
することは明らかになお望ましいと考えられる。
質」の語はエチレンオキシド製造工程において或る工程
流（例えばストリッパ塔からの再循環ボトム液の水性パ
ージ流のような）の中に存在することができ、かつその
ような種々の成分を含むエチレングリコール試料におけ
るUV透過率の低下をもたらすような全ての物質を包含す
ることを意味する。またこの語はUV吸収物質前駆体、す
なわち製造工程の間に変化して最終的にはモノエチレン
グリコール生成物中に見出されるようなUV吸収物質を形
成する物質をも包含することを意味する。これらのUV吸
収物質成分は１個以上の炭素原子を有する脂肪族有機酸
類、又はこれら脂肪族有機酸類のアルカリ金属塩及び／
又はアルカリ土類金属塩を含むことができる。これらの
塩類は、それらのみにかぎるものではないけれども、例
えばナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム
等の、例えば蟻酸、酢酸、グリコール酸、蓚酸等の塩類
を含む。これらの酸類及び／又は塩類は一般に全てエチ
レンオキシド／グリコール製造方法において不純物とし
て特徴づけることができるものであるが、これら全てが
UV吸収物質として特徴づけできるものではない。しかし
ながらそれらをモノエチレングリコール生成物から除去
することは明らかになお望ましいと考えられる。
上述のパージ流の中に存在することがあって本発明の方
法により分離することのできる他のUV吸収物質及び／又
はUV吸収物質前駆体はモノエチレングリコールの分子量
に少なくともほぼ等しい分子量を有するグリコール以外
のエチレンオキシド誘導体を包含する。このような誘導
体には、それらのみに限定されるものではないが、例え
ば高分子量アルデヒド類等が含まれる。更に本発明の方
法によれば、これまで充分に特定されていなかった、又
は充分に定義されていなかった種々のUV吸収物質及びそ
れらの前駆体を分離することも可能である。これらの未
確認UV吸収物質及び／又はUV吸収物質前駆体はエチレン
オキシド／エチレングリコール製造プロセスの種々のプ
ロセス流の中にそれらを分離して特定するのが極めて困
難であったような僅かな限定的量で存在している。しか
しながらこれらの未確認UV吸収物質及び／又はそれらの
前駆体はそのように僅かな量で存在していても、これら
の不純物の含まれたプロセス流から取り出したエチレン
グリコール試料のUV透過率の低下に重大な影響を有す
る。けれどもこれらは未確認であるとはいっても、それ
にもかかわらず本発明に従い適当な半透膜を用いて逆浸
透圧法で処理した場合にこれらの未確認UV吸収物質やUV
吸収物質前駆体は除去され、これはエチレングリコール
試料のUV透過率の実質的上昇によって認められる。従っ
て本発明はその技術的範囲において、未確認であっても
全てのUV吸収物質及び／又はUV吸収物質前駆体の除去を
包含する。
法により分離することのできる他のUV吸収物質及び／又
はUV吸収物質前駆体はモノエチレングリコールの分子量
に少なくともほぼ等しい分子量を有するグリコール以外
のエチレンオキシド誘導体を包含する。このような誘導
体には、それらのみに限定されるものではないが、例え
ば高分子量アルデヒド類等が含まれる。更に本発明の方
法によれば、これまで充分に特定されていなかった、又
は充分に定義されていなかった種々のUV吸収物質及びそ
れらの前駆体を分離することも可能である。これらの未
確認UV吸収物質及び／又はUV吸収物質前駆体はエチレン
オキシド／エチレングリコール製造プロセスの種々のプ
ロセス流の中にそれらを分離して特定するのが極めて困
難であったような僅かな限定的量で存在している。しか
しながらこれらの未確認UV吸収物質及び／又はそれらの
前駆体はそのように僅かな量で存在していても、これら
の不純物の含まれたプロセス流から取り出したエチレン
グリコール試料のUV透過率の低下に重大な影響を有す
る。けれどもこれらは未確認であるとはいっても、それ
にもかかわらず本発明に従い適当な半透膜を用いて逆浸
透圧法で処理した場合にこれらの未確認UV吸収物質やUV
吸収物質前駆体は除去され、これはエチレングリコール
試料のUV透過率の実質的上昇によって認められる。従っ
て本発明はその技術的範囲において、未確認であっても
全てのUV吸収物質及び／又はUV吸収物質前駆体の除去を
包含する。
本発明によって、エチレングリコール類（モノ−、ジ
−、トリ−及びテトラエチレングリコール並びにより高
分子量のエチレングリコール類）からこれらのUV吸収物
質成分及び／又はそれらの前駆体成分を、これらが或る
液体媒質中に実質的に溶解しているかぎり、適当な半透
膜、特に複合膜により、これを逆浸透圧的方法で使用し
て効率的に分離できることが見出された。典型的にはこ
の液体媒質は水であるが、これは必ずしもそのような溶
媒のみに限定されない。もちろん、分離に用いられる半
透膜は、これが上述のような不純物成分の存在している
溶媒やそのような成分自身によって化学的な変質を受け
ないようなものでなければならない。
−、トリ−及びテトラエチレングリコール並びにより高
分子量のエチレングリコール類）からこれらのUV吸収物
質成分及び／又はそれらの前駆体成分を、これらが或る
液体媒質中に実質的に溶解しているかぎり、適当な半透
膜、特に複合膜により、これを逆浸透圧的方法で使用し
て効率的に分離できることが見出された。典型的にはこ
の液体媒質は水であるが、これは必ずしもそのような溶
媒のみに限定されない。もちろん、分離に用いられる半
透膜は、これが上述のような不純物成分の存在している
溶媒やそのような成分自身によって化学的な変質を受け
ないようなものでなければならない。
本発明において、エチレングリコール類とUV吸収物質と
が含まれている液体媒質を適当な供給圧力のもとで適当
な半透膜と接触させた場合にエチレングリコール類はそ
の半透膜をUV吸収物質の透過速度よりも実質的に高い速
度で透過することが見出されている。これによって実際
に、例えばUV吸収物質等の望ましくない不純物がパージ
流から排除されて実質的に清浄化されたパージ流が作り
出され、これはグリコールプロセスにおいて用いた場合
にポリエステル級エチレングリコールの製造を可能にす
る。
が含まれている液体媒質を適当な供給圧力のもとで適当
な半透膜と接触させた場合にエチレングリコール類はそ
の半透膜をUV吸収物質の透過速度よりも実質的に高い速
度で透過することが見出されている。これによって実際
に、例えばUV吸収物質等の望ましくない不純物がパージ
流から排除されて実質的に清浄化されたパージ流が作り
出され、これはグリコールプロセスにおいて用いた場合
にポリエステル級エチレングリコールの製造を可能にす
る。
しかしながら最も重要なことは、優れた分離特性及び透
過特性を有するばかりでなく、追加的にこれらの成分や
それらが含まれている溶媒に対して化学的に抵抗性のあ
る種々の膜、なかでも複合膜が存在することを本発明者
等が見出したことである。
過特性を有するばかりでなく、追加的にこれらの成分や
それらが含まれている溶媒に対して化学的に抵抗性のあ
る種々の膜、なかでも複合膜が存在することを本発明者
等が見出したことである。
選択的分離を達成するためにはその半透膜は、この膜に
対して加えられた圧力によって液体媒質が力を受けてい
るときにこの液体媒質中に含まれている１つ以上の成分
の透過に対してこの媒質中に含まれる少なくとも１つの
他の成分のそれよりも低い抵抗を示す必要がある。すな
わち選択的分離は少なくとも１つの他の成分に関してそ
の媒体の中の１つ以上の所望の成分の優先的な枯渇又は
濃縮を提供することができ、また従ってその少なくとも
１つの他の成分に対する所望の１つ以上の成分の比率が
その液体媒質中の比率と異なっている生成物がもたらさ
れる。
対して加えられた圧力によって液体媒質が力を受けてい
るときにこの液体媒質中に含まれている１つ以上の成分
の透過に対してこの媒質中に含まれる少なくとも１つの
他の成分のそれよりも低い抵抗を示す必要がある。すな
わち選択的分離は少なくとも１つの他の成分に関してそ
の媒体の中の１つ以上の所望の成分の優先的な枯渇又は
濃縮を提供することができ、また従ってその少なくとも
１つの他の成分に対する所望の１つ以上の成分の比率が
その液体媒質中の比率と異なっている生成物がもたらさ
れる。
しかしながら１つ以上の所望の成分の膜分離が工業的に
魅力あるものであるためにはその膜はその分離操作の間
にさらされる種々の条件に抵抗できる必要があるばかり
でなく、それら所望の１つ以上の成分の適当な選択的分
離、すなわち高い選択係数並びに充分に高いフラック
ス、すなわち高い透過速度をも与える必要があり、従っ
てそのような分離操作の採用は工業的な有利性の基準に
基づいて行われる。
魅力あるものであるためにはその膜はその分離操作の間
にさらされる種々の条件に抵抗できる必要があるばかり
でなく、それら所望の１つ以上の成分の適当な選択的分
離、すなわち高い選択係数並びに充分に高いフラック
ス、すなわち高い透過速度をも与える必要があり、従っ
てそのような分離操作の採用は工業的な有利性の基準に
基づいて行われる。
UV吸収物質及びエチレングリコール類に関して、特にポ
リマー系膜を用いる場合にそれらの成分が水以外の液体
媒質中に含まれているときにその膜の化学構造に変化が
生ずる場合がある。このような変化はこれが長期間の膜
性能の劣化をもたらさない限りは、或る場合に受容でき
るかもしれない。すなわちエチレングリコール類及びそ
れら不純物は、例えばアルコール類、グリコール類、グ
リコールエーテル類、グリコールカーボネート類、それ
らの混合物等のような溶媒中に存在しており、従ってこ
れらはそのような種々の溶媒に対して化学的に抵抗性が
あり、かつ同時になお望ましくは良好な選択性とフラッ
クスとを与えるような膜の使用を要求する。
リマー系膜を用いる場合にそれらの成分が水以外の液体
媒質中に含まれているときにその膜の化学構造に変化が
生ずる場合がある。このような変化はこれが長期間の膜
性能の劣化をもたらさない限りは、或る場合に受容でき
るかもしれない。すなわちエチレングリコール類及びそ
れら不純物は、例えばアルコール類、グリコール類、グ
リコールエーテル類、グリコールカーボネート類、それ
らの混合物等のような溶媒中に存在しており、従ってこ
れらはそのような種々の溶媒に対して化学的に抵抗性が
あり、かつ同時になお望ましくは良好な選択性とフラッ
クスとを与えるような膜の使用を要求する。
本発明によって、好ましい具体例の一つとして種々の複
合膜、特にポリスルホンの上のスルホン化されたポリス
ルホンよりなる複合膜が、上述したようなUV吸収物質と
エチレングリコール類とに関して所望の高い分離係数と
高い透過速度とを与えるとともに、これらの成分が水性
媒質中に存在するときに優れた化学的安定性を示すこと
が見出された。
合膜、特にポリスルホンの上のスルホン化されたポリス
ルホンよりなる複合膜が、上述したようなUV吸収物質と
エチレングリコール類とに関して所望の高い分離係数と
高い透過速度とを与えるとともに、これらの成分が水性
媒質中に存在するときに優れた化学的安定性を示すこと
が見出された。
非対称型膜はその膜構造の中に２つの明確に異なった形
態学的領域の存在することによって区別される単一の透
過膜材料よりなる。その１つの領域は液体混合物の一つ
の成分を選択的に透過させることのできる比較的高密度
の薄い半透膜表皮層よりなる。もう一方の領域はその膜
の上記薄い表皮層領域が圧力のもとでは会するのを防ぐ
役目をする非選択的な多孔質のより密度の低い支持材領
域よりなる。
態学的領域の存在することによって区別される単一の透
過膜材料よりなる。その１つの領域は液体混合物の一つ
の成分を選択的に透過させることのできる比較的高密度
の薄い半透膜表皮層よりなる。もう一方の領域はその膜
の上記薄い表皮層領域が圧力のもとでは会するのを防ぐ
役目をする非選択的な多孔質のより密度の低い支持材領
域よりなる。
一般に複合膜は多孔質基材層の上に重ねられた適当な膜
材料の薄層又は被覆層よりなる。この、本文において分
離層とも表示する被覆層はその複合構造体の分離特性を
決定し、そして上述したような望ましい高い透過性を与
えるように、有利には非常に薄いものである。この基材
層、すなわち支持層はその上に配置された膜層に対する
支持を提供する役目のみを有し、そして分離されるか又
は濃縮される液体媒質については実質的になんら分離特
性を有しない。
材料の薄層又は被覆層よりなる。この、本文において分
離層とも表示する被覆層はその複合構造体の分離特性を
決定し、そして上述したような望ましい高い透過性を与
えるように、有利には非常に薄いものである。この基材
層、すなわち支持層はその上に配置された膜層に対する
支持を提供する役目のみを有し、そして分離されるか又
は濃縮される液体媒質については実質的になんら分離特
性を有しない。
これらの膜は種々の形態で製造されることができ、例え
ば１）フィルタープレスに似た典型的な枠と板との構造
体の中に支えられることのできる平らなシート、２）間
にその膜を挟んで平らなシートをスペーサ材とともにス
パイラル状に巻き、そしてこの巻いたものをスパイラル
状の通路が提供されるように封じてそのコイル状に巻い
た膜の一方の側に供給された供給液が膜の他方の側へ透
過するのを許容するもの、３）或る補強された編み紐の
内側表面がチューブによって裏張りされたもので、その
編み紐自身はときにより大きなチューブ内の１つの成分
であるもの、又は４）封入された末端が開放された中空
繊維の形の膜であって、その膜を通して供給液体混合物
が通過することによってそれら中空繊維の外表面の上の
流れと中空繊維の内孔中の流れとの分離を提供するよう
に構成されたもの等である。このような中空繊維の構造
は本発明の方法において好ましい。
ば１）フィルタープレスに似た典型的な枠と板との構造
体の中に支えられることのできる平らなシート、２）間
にその膜を挟んで平らなシートをスペーサ材とともにス
パイラル状に巻き、そしてこの巻いたものをスパイラル
状の通路が提供されるように封じてそのコイル状に巻い
た膜の一方の側に供給された供給液が膜の他方の側へ透
過するのを許容するもの、３）或る補強された編み紐の
内側表面がチューブによって裏張りされたもので、その
編み紐自身はときにより大きなチューブ内の１つの成分
であるもの、又は４）封入された末端が開放された中空
繊維の形の膜であって、その膜を通して供給液体混合物
が通過することによってそれら中空繊維の外表面の上の
流れと中空繊維の内孔中の流れとの分離を提供するよう
に構成されたもの等である。このような中空繊維の構造
は本発明の方法において好ましい。
以下、本発明を記述の便宜上中空繊維複合膜について更
に記述する。しかしながら本発明の技術的範囲がこの中
空繊維の型の複合構造における膜の使用のみに限定され
ないことを理解すべきである。
に記述する。しかしながら本発明の技術的範囲がこの中
空繊維の型の複合構造における膜の使用のみに限定され
ないことを理解すべきである。
この技術において典型的に用いられる中空繊維膜は外側
表面と内側表面との間に延びる、液体流のための連続し
た多数の通路を有している。しばしば、その基材層の通
孔は約20000Åよりも小さな平均断面直径を有し、そし
て若干の中空繊維においてはその断面直径は約1000又は
5000Åよりも小さい。有利にはそれら中空繊維の壁部は
それらを取り扱うのに特別な装置を必要としない程に充
分に厚いのがよい。しばしば、それら中空繊維は約20な
いし1000ミクロン、一般には約50ないし500ミクロンの
外直径を有し、そして少なくとも約５ミクロン、一般的
には約50ないし450ミクロンの厚さの壁部を有する。或
る中空繊維においてはその壁部の厚さは約200又は300ミ
クロンまでである。被覆層は約0.01から約10ミクロンま
での範囲の厚さ、そして好ましくは約0.05ないし約２ミ
クロンの厚さを有することができる。
表面と内側表面との間に延びる、液体流のための連続し
た多数の通路を有している。しばしば、その基材層の通
孔は約20000Åよりも小さな平均断面直径を有し、そし
て若干の中空繊維においてはその断面直径は約1000又は
5000Åよりも小さい。有利にはそれら中空繊維の壁部は
それらを取り扱うのに特別な装置を必要としない程に充
分に厚いのがよい。しばしば、それら中空繊維は約20な
いし1000ミクロン、一般には約50ないし500ミクロンの
外直径を有し、そして少なくとも約５ミクロン、一般的
には約50ないし450ミクロンの厚さの壁部を有する。或
る中空繊維においてはその壁部の厚さは約200又は300ミ
クロンまでである。被覆層は約0.01から約10ミクロンま
での範囲の厚さ、そして好ましくは約0.05ないし約２ミ
クロンの厚さを有することができる。
中空繊維、特に少なくとも約50ミクロンの厚さの壁部を
有する中空繊維を用いてその中空繊維を通しての好まし
いフラックスを与えるためにそれら中空繊維はかなりの
ボイド体積を有することができる。ボイドとは中空繊維
の壁の内側の領域であって中空繊維の物質欠落部であ
る。すなわちボイドが存在するときはその中空繊維の比
重はこの中空繊維の実質的材料部分の比重よりも小さ
い。ポイドが望ましい場合にしばしば、その中空繊維の
ボイド体積は見かけ体積、すなわち中空繊維の大直径の
内側に含まれた容積の約90％、一般的には約10ないし80
％、そして或る場合には約20又は30ないし70％である。
中空繊維の比重はその厚さの全体にわたり本質的に等し
く、すなわち等方性であることができ、或いはまたこの
中空繊維はその厚さの中にその中空繊維の壁を通しての
液体の流れに対して障壁を構成するように少なくとも１
つ以上の比較的密度の高い領域を有することによって特
徴付けられることができ、すなわちその中空繊維は異方
性であってもよい。一般に異方性中空繊維の比較的密度
の高い領域はその中空繊維の本質的に外側又は内側にあ
り、そして好ましくは被覆層がこの比較的密度の高い領
域に接している。
有する中空繊維を用いてその中空繊維を通しての好まし
いフラックスを与えるためにそれら中空繊維はかなりの
ボイド体積を有することができる。ボイドとは中空繊維
の壁の内側の領域であって中空繊維の物質欠落部であ
る。すなわちボイドが存在するときはその中空繊維の比
重はこの中空繊維の実質的材料部分の比重よりも小さ
い。ポイドが望ましい場合にしばしば、その中空繊維の
ボイド体積は見かけ体積、すなわち中空繊維の大直径の
内側に含まれた容積の約90％、一般的には約10ないし80
％、そして或る場合には約20又は30ないし70％である。
中空繊維の比重はその厚さの全体にわたり本質的に等し
く、すなわち等方性であることができ、或いはまたこの
中空繊維はその厚さの中にその中空繊維の壁を通しての
液体の流れに対して障壁を構成するように少なくとも１
つ以上の比較的密度の高い領域を有することによって特
徴付けられることができ、すなわちその中空繊維は異方
性であってもよい。一般に異方性中空繊維の比較的密度
の高い領域はその中空繊維の本質的に外側又は内側にあ
り、そして好ましくは被覆層がこの比較的密度の高い領
域に接している。
中空繊維として用いられる材料は、点年産の、又は合成
された固体物質であることができる。この中空繊維の材
料の選択はその中空繊維の耐熱性及び／又は機械的強度
並びに本発明の分離方法によって指定される他の種々の
因子及びこれら中空繊維がさらされる条件に基づいてな
される。最も重要なことは、その用いられる物質が多孔
質支持層であろうと、被覆材層であろうとその液体媒質
中の各成分のそれぞれに対し、またこれら成分が含まれ
ている溶媒に対して化学的に安定でなければならないと
いうことである。それら中空繊維は柔軟であっても、又
は実質的に剛質であってもよい。
された固体物質であることができる。この中空繊維の材
料の選択はその中空繊維の耐熱性及び／又は機械的強度
並びに本発明の分離方法によって指定される他の種々の
因子及びこれら中空繊維がさらされる条件に基づいてな
される。最も重要なことは、その用いられる物質が多孔
質支持層であろうと、被覆材層であろうとその液体媒質
中の各成分のそれぞれに対し、またこれら成分が含まれ
ている溶媒に対して化学的に安定でなければならないと
いうことである。それら中空繊維は柔軟であっても、又
は実質的に剛質であってもよい。
それら中空繊維は、例えば中空なガラス、セラミック材
料、燒結金属等のような無機物質よりなることができ
る。重合物の場合には付加重合ポリマー及び重縮合ポリ
マーであって多孔質中空繊維を製造するための全ての適
当な手段により作ることのできるものが含まれる。
料、燒結金属等のような無機物質よりなることができ
る。重合物の場合には付加重合ポリマー及び重縮合ポリ
マーであって多孔質中空繊維を製造するための全ての適
当な手段により作ることのできるものが含まれる。
一般に有機性ポリマー又は無機材料（例えば充填材料）
と混合された有機ポリマーが中空繊維を製造するのに用
いられる。典型的なポリマーは置換された、又は置換さ
れていないポリマー類であることができ、そして例えば
ビスフェノールＡポリスルホン（Amoco Performance Pr
oducts,Inc.社から“Udel"の商標で販売されているも
の）、又はポリエーテルスルホン（Imperial Chemical
Industries社から“Victrex"の商標で販売されているも
の）のようなポリスルホン類、ポリアクリロニトリル
類、ポリエーテル類、ポリアミド類、ポリイミド類、種
々のセルローズ誘導体、例えばポリ（フェニレンオキシ
ド）のようなポリ（エチレンオキシド）類、ポリエーテ
ルケトン類、ポリスルフィド類、例えばポリ（エチレ
ン）、ポリ（プロピレン）、ポリ（ブテン−１）、ポリ
（４−メチル−１−ペンテン）、例えばポリ（塩化ビニ
ル）、ポリ（臭化ビニル）、ポリ（塩化ビニリデン）、
ポリ（臭化ビニリデン）のようなポリビニル類等の、上
述以外のα−オレフィン性不飽和を有するモノマー類か
ら得られたポリマー等より選ばれることができる。
と混合された有機ポリマーが中空繊維を製造するのに用
いられる。典型的なポリマーは置換された、又は置換さ
れていないポリマー類であることができ、そして例えば
ビスフェノールＡポリスルホン（Amoco Performance Pr
oducts,Inc.社から“Udel"の商標で販売されているも
の）、又はポリエーテルスルホン（Imperial Chemical
Industries社から“Victrex"の商標で販売されているも
の）のようなポリスルホン類、ポリアクリロニトリル
類、ポリエーテル類、ポリアミド類、ポリイミド類、種
々のセルローズ誘導体、例えばポリ（フェニレンオキシ
ド）のようなポリ（エチレンオキシド）類、ポリエーテ
ルケトン類、ポリスルフィド類、例えばポリ（エチレ
ン）、ポリ（プロピレン）、ポリ（ブテン−１）、ポリ
（４−メチル−１−ペンテン）、例えばポリ（塩化ビニ
ル）、ポリ（臭化ビニル）、ポリ（塩化ビニリデン）、
ポリ（臭化ビニリデン）のようなポリビニル類等の、上
述以外のα−オレフィン性不飽和を有するモノマー類か
ら得られたポリマー等より選ばれることができる。
ポリスルホンから作られた基材物質が特に好ましい。
本発明の特別な各具体例を実現するのに用いられるポリ
スルホン中空繊維基材物質又は他の中空繊維基材物質は
この技術分野に置いてよく知られた通常の技術によって
作ることができる。中空繊維は一般に所望の繊維ポリマ
ーの配合組成物から紡糸し、急冷し、洗浄し、そして乾
燥させてつくる。雑誌Journal of Appl.Polymer Scienc
eのVol.23,1509−1525（1979）のCabasso等による「複
合中空繊維膜」の報文、及びNational Technical Infor
mation Serviceによつて頒布されたGulf South Researc
h Institute,1985年７月号、US Department of Commerc
e Publication PB248,666の「海水の逆浸透圧法脱塩の
ためのNS−１及び関連するポリスルホン中空繊維の研究
と開発」の報告に記述されているように、ポリスルホン
中空繊維はポリスルホンと、ポリ（ビニルピロリドン）
と、及びジメチルアセトアミドとの３元溶液から、その
溶液中の全ポリマー濃度が好ましくは40重量％から52重
量％までの範囲であって、そのポリスルホン／ポリ（ビ
ニルピロリドン）の比率が1.5:2.0の条件のもとで紡糸
することができる。周知のチューブ中チューブのジェッ
ト技術がこの紡糸過程に好適であり、その際約21℃の水
がその繊維の外側冷却媒体として好ましいことが開示さ
れている。この繊維の中心の冷却媒体はしばしば空気で
ある。急冷に続いて典型的には繊維を例えば好都合には
約50ないし60℃の熱水で洗浄する。このような洗浄に続
いてそれら中空繊維を乾燥させた上で分離膜層を被覆し
て所望の複合膜を形成させる。この目的のために、その
ポリスルホン中空繊維は典型的には熱風乾燥塔を適当な
時間間隔の間に通過させる。
スルホン中空繊維基材物質又は他の中空繊維基材物質は
この技術分野に置いてよく知られた通常の技術によって
作ることができる。中空繊維は一般に所望の繊維ポリマ
ーの配合組成物から紡糸し、急冷し、洗浄し、そして乾
燥させてつくる。雑誌Journal of Appl.Polymer Scienc
eのVol.23,1509−1525（1979）のCabasso等による「複
合中空繊維膜」の報文、及びNational Technical Infor
mation Serviceによつて頒布されたGulf South Researc
h Institute,1985年７月号、US Department of Commerc
e Publication PB248,666の「海水の逆浸透圧法脱塩の
ためのNS−１及び関連するポリスルホン中空繊維の研究
と開発」の報告に記述されているように、ポリスルホン
中空繊維はポリスルホンと、ポリ（ビニルピロリドン）
と、及びジメチルアセトアミドとの３元溶液から、その
溶液中の全ポリマー濃度が好ましくは40重量％から52重
量％までの範囲であって、そのポリスルホン／ポリ（ビ
ニルピロリドン）の比率が1.5:2.0の条件のもとで紡糸
することができる。周知のチューブ中チューブのジェッ
ト技術がこの紡糸過程に好適であり、その際約21℃の水
がその繊維の外側冷却媒体として好ましいことが開示さ
れている。この繊維の中心の冷却媒体はしばしば空気で
ある。急冷に続いて典型的には繊維を例えば好都合には
約50ないし60℃の熱水で洗浄する。このような洗浄に続
いてそれら中空繊維を乾燥させた上で分離膜層を被覆し
て所望の複合膜を形成させる。この目的のために、その
ポリスルホン中空繊維は典型的には熱風乾燥塔を適当な
時間間隔の間に通過させる。
中空繊維基材層は典型的には実質的に多孔質であって、
その表面部空孔度と内部空孔度との範囲は半透膜技術に
習熟した者によく知られている乾燥／湿潤、湿潤、乾燥
又は溶融押出し技術によって制御することがきる。中空
繊維の空孔度は更に溶融アニーリング法又は高温アニー
リング法によっても調節することができる。
その表面部空孔度と内部空孔度との範囲は半透膜技術に
習熟した者によく知られている乾燥／湿潤、湿潤、乾燥
又は溶融押出し技術によって制御することがきる。中空
繊維の空孔度は更に溶融アニーリング法又は高温アニー
リング法によっても調節することができる。
複合膜の被覆層は上記多孔質支持層と接触している実質
的に中断のない膜の形である。
的に中断のない膜の形である。
被覆層用の物質は、特にそれらのみに制限されるもので
はないが、例えばセルローズアセテートのようなセルロ
ーズ誘導体、例えば米国特許第4,277,344号及び同第4,8
30,885号（これら公報の記載は本文において参考文献と
して採用する）に記述されているポリアミド類のよう
な、界面重縮合ポリマー類等を包含する。
はないが、例えばセルローズアセテートのようなセルロ
ーズ誘導体、例えば米国特許第4,277,344号及び同第4,8
30,885号（これら公報の記載は本文において参考文献と
して採用する）に記述されているポリアミド類のよう
な、界面重縮合ポリマー類等を包含する。
最も好ましくは複合膜のための被覆層材料としてスルホ
ン化されたポリスルホンが用いられる。このようなスル
ホン化されたポリスルホン類は、例えば米国特許第3,70
9,841号、米国特許第4,054,707号、米国特許第4,207,18
2号ヨーロッパ特許出願第0,202,849号、ヨーロッパ特許
出願第0,165,077号及びヨーロッパ特許出願第0,202,841
号（これらの全ての内容は本文において参考文献として
採用する）に記述されている。スルホン化されたポリス
ルホン類はまた雑誌Journal of Applied Polymer Scien
ce,Vol.20,1885−1903（1976）のNoshay等による「スル
ホン化されたポリスルホン」の表題の文献（その内容は
本文において同様に参考文献として採用する）にも論述
されている。
ン化されたポリスルホンが用いられる。このようなスル
ホン化されたポリスルホン類は、例えば米国特許第3,70
9,841号、米国特許第4,054,707号、米国特許第4,207,18
2号ヨーロッパ特許出願第0,202,849号、ヨーロッパ特許
出願第0,165,077号及びヨーロッパ特許出願第0,202,841
号（これらの全ての内容は本文において参考文献として
採用する）に記述されている。スルホン化されたポリス
ルホン類はまた雑誌Journal of Applied Polymer Scien
ce,Vol.20,1885−1903（1976）のNoshay等による「スル
ホン化されたポリスルホン」の表題の文献（その内容は
本文において同様に参考文献として採用する）にも論述
されている。
スルホン化されたポリアリールエーテルスルホン類及び
スルホン化されたポリエーテルエーテルスルホン類はと
もに本発明において用いられる膜における被覆層材料と
して使用するのに用いることができる。このようなスル
ホン化されたポリスルホン類、及びそれらの逆浸透圧膜
及び限外濾過膜は米国特許第4,414,368号、同第4,508,8
52号、同第4,268,650号及び同第4,273,903号（これらは
本文において同様に参考文献として採用する）に記述さ
れている。
スルホン化されたポリエーテルエーテルスルホン類はと
もに本発明において用いられる膜における被覆層材料と
して使用するのに用いることができる。このようなスル
ホン化されたポリスルホン類、及びそれらの逆浸透圧膜
及び限外濾過膜は米国特許第4,414,368号、同第4,508,8
52号、同第4,268,650号及び同第4,273,903号（これらは
本文において同様に参考文献として採用する）に記述さ
れている。
スルホン化されたポリエーテルケトン類及びそれらの塩
類の製造方法は雑誌British Polymer Journal,Vol.17,4
−10（1985）のXigao Jin等の報告中に見出すことがで
きる。
類の製造方法は雑誌British Polymer Journal,Vol.17,4
−10（1985）のXigao Jin等の報告中に見出すことがで
きる。
スルホン化されたポリエーテルケトン類から非対称性ス
ルホン化ポリエーテルケトンの逆浸透圧膜を製造するこ
とは米国特許第4,714,725号（これは本文において参考
文献として採用する）に記述されている。
ルホン化ポリエーテルケトンの逆浸透圧膜を製造するこ
とは米国特許第4,714,725号（これは本文において参考
文献として採用する）に記述されている。
芳香族環の１つの上に少なくとも１つのスルホン酸基を
含むポリアリールエーテルスルホンは本発明に利用する
ことのできるより一般的なスルホン化されたポリスルホ
ン化合物の１つである。このようなポリアリールエーテ
ルスルホンは一般に下記の式 を有する。
含むポリアリールエーテルスルホンは本発明に利用する
ことのできるより一般的なスルホン化されたポリスルホ
ン化合物の１つである。このようなポリアリールエーテ
ルスルホンは一般に下記の式 を有する。
スルホン化ビスフェノールＡポリスルホンは複合膜に対
する分離層用コーティングとして特に好ましい。
する分離層用コーティングとして特に好ましい。
本明細書に使用される用語「スルホン基」とは例えば基
−−SO2 -1/n Mn+［式中ＭはNH4 +イオン、アルカリ金属
イオン、アルカリ土類金属イオン又は遷移金属イオン
（原子価ｎ）を表わす］のような随意的に塩化された−
−SO3H基を意味する。
−−SO2 -1/n Mn+［式中ＭはNH4 +イオン、アルカリ金属
イオン、アルカリ土類金属イオン又は遷移金属イオン
（原子価ｎ）を表わす］のような随意的に塩化された−
−SO3H基を意味する。
ポリスルホンのスルホン化は例えば米国特許第3,709,84
1号明細書に記載の手順にしたがって行うことができ
る。適当なスルホン化試薬としては好ましいスルホン化
試薬であるクロロスルホン酸（ClSO3H）を包含する。し
かしながら、例えば三酸化硫黄、及び電子供与原子とし
て酸素を含有するルイス塩基による三酸化硫黄の付加物
を使用することができ、硫酸及び発煙硫酸もまた使用す
ることができる。スルホン化反応は一般的に−50゜ない
し＋80℃、好ましくは−10゜ないし＋35℃において、ス
ルホン化反応に関して不活性な、ポリアリールエーテル
スルホンに対する溶剤中で溶液状態で行われる。ハロゲ
ン化炭化水素、特にメチレンクロリド、1,2−ジクロロ
−エタン及び1,1,2,2−テトラクロロ−エタンは好適な
溶剤である。
1号明細書に記載の手順にしたがって行うことができ
る。適当なスルホン化試薬としては好ましいスルホン化
試薬であるクロロスルホン酸（ClSO3H）を包含する。し
かしながら、例えば三酸化硫黄、及び電子供与原子とし
て酸素を含有するルイス塩基による三酸化硫黄の付加物
を使用することができ、硫酸及び発煙硫酸もまた使用す
ることができる。スルホン化反応は一般的に−50゜ない
し＋80℃、好ましくは−10゜ないし＋35℃において、ス
ルホン化反応に関して不活性な、ポリアリールエーテル
スルホンに対する溶剤中で溶液状態で行われる。ハロゲ
ン化炭化水素、特にメチレンクロリド、1,2−ジクロロ
−エタン及び1,1,2,2−テトラクロロ−エタンは好適な
溶剤である。
スルホン化試薬の使用量は一般的に該スルホン化試薬の
硫黄原子の数対非スルホン化ポリアリールエーテル−ス
ルホンの硫黄原子の数の比が約0.3ないし約６、好まし
くは約1.2ないし４であるような量である。非スルホン
化ポリアリール−エーテルに固定されることのできるス
ルホ基の正確な数は勿論スルホン化条件、特に温度、反
応時間及び試薬の濃度を調整することによって変動させ
ることができる。生成されたスルホン化ポリアリール−
エーテル−スルホンは、例えば米国特許第3,709,841号
又は米国特許第3,875,096号の各明細書に記載の方法に
したがって単離することができる。
硫黄原子の数対非スルホン化ポリアリールエーテル−ス
ルホンの硫黄原子の数の比が約0.3ないし約６、好まし
くは約1.2ないし４であるような量である。非スルホン
化ポリアリール−エーテルに固定されることのできるス
ルホ基の正確な数は勿論スルホン化条件、特に温度、反
応時間及び試薬の濃度を調整することによって変動させ
ることができる。生成されたスルホン化ポリアリール−
エーテル−スルホンは、例えば米国特許第3,709,841号
又は米国特許第3,875,096号の各明細書に記載の方法に
したがって単離することができる。
先行技術から原理的に知られているスルホン化ポリスル
ホンの、その他の製造方法及び単離方法は類推によっ
て、上記スルホン化ポリスルホンの製造に採用すること
ができる。
ホンの、その他の製造方法及び単離方法は類推によっ
て、上記スルホン化ポリスルホンの製造に採用すること
ができる。
メトキシエタノール、ニトロメタン及びアルコール／水
混合物のような溶剤に可溶であり、乾燥重合体約1.0meq
/gと約2.5meq/gとの間の置換度を有するスルホン化ポリ
アリールエーテルスルホンはエチレングリコールからUV
吸収剤を効果的に分離することのできる複合膜の製造に
特に有用である。
混合物のような溶剤に可溶であり、乾燥重合体約1.0meq
/gと約2.5meq/gとの間の置換度を有するスルホン化ポリ
アリールエーテルスルホンはエチレングリコールからUV
吸収剤を効果的に分離することのできる複合膜の製造に
特に有用である。
乾燥されたポリスルホン中空繊維はスルホン化ポリスル
ホンのコーティング溶液でコーティングされ、次いで乾
燥される。このようなコーティング及び乾燥の連続作業
は本明細書に参考として組み入れられるCoplanらの米国
特許第4,467,001号明細書において使用され、かつ記載
されている技術を包含することができる。すなわち該乾
燥された中空戦域はコーティング容器に入れられたコー
ティング溶液を通過し、次いで乾燥炉及び硬化炉を通過
して乾燥空気又はその他の適当なガス、及び高温の硬化
空気又はその他のガスと接触してから巻取機に巻き取ら
れ、又は所望の分離操作に使用するに適した膜モジュー
ル中における最終結合のために加工され、又は貯蔵され
る。本発明の好ましい実施態様である、スルホン化ポリ
スルホンによるポリスルホン中空繊維のコーティングの
ためには約50℃ないし約130℃の乾燥温度を使用するこ
とが一般的に望ましい。当業者は上記に示した別個の硬
化工程を使用することなく支持体層上の分離層を乾燥す
ることもできることを認識するであろう。
ホンのコーティング溶液でコーティングされ、次いで乾
燥される。このようなコーティング及び乾燥の連続作業
は本明細書に参考として組み入れられるCoplanらの米国
特許第4,467,001号明細書において使用され、かつ記載
されている技術を包含することができる。すなわち該乾
燥された中空戦域はコーティング容器に入れられたコー
ティング溶液を通過し、次いで乾燥炉及び硬化炉を通過
して乾燥空気又はその他の適当なガス、及び高温の硬化
空気又はその他のガスと接触してから巻取機に巻き取ら
れ、又は所望の分離操作に使用するに適した膜モジュー
ル中における最終結合のために加工され、又は貯蔵され
る。本発明の好ましい実施態様である、スルホン化ポリ
スルホンによるポリスルホン中空繊維のコーティングの
ためには約50℃ないし約130℃の乾燥温度を使用するこ
とが一般的に望ましい。当業者は上記に示した別個の硬
化工程を使用することなく支持体層上の分離層を乾燥す
ることもできることを認識するであろう。
所望により、支持体層は高温アニーリング法によって改
質することができる。基板を分離層によってコーティン
グするに先立って基板をアニールすることは好ましいけ
れど該アニーリング操作はコーティングされた基板に対
して行うこともできる。上述アニールされた基板から形
成される、得られら複合膜は増大された耐圧性を示すこ
とができる。
質することができる。基板を分離層によってコーティン
グするに先立って基板をアニールすることは好ましいけ
れど該アニーリング操作はコーティングされた基板に対
して行うこともできる。上述アニールされた基板から形
成される、得られら複合膜は増大された耐圧性を示すこ
とができる。
使用に当って、複合膜は一般的に膜分離装置の一部とし
て組み立てられる。該膜装置は液流混合物からの少なく
とも１種の成分の選択的分離を行うように設計されてい
る。該膜装置は典型的には囲いとその中に配置された膜
集成体とより成る。該膜集成体は螺旋巻きカートリッ
ジ、中空繊維束、ひだ付平板膜集成体、及び膜工業界に
おいて通常である同様な集成体の形状に構成されること
ができる。膜集成体は供給表面側と、反対側の浸透出口
側とを有するように構成される。囲いは導入されるべき
供給流混合物が膜の供給面側と接触することができるよ
うに構成される。膜を通して浸透しなかった供給流の一
部を取り出すため、及び膜を通過して浸透成分の分離取
出しのために導管手段が設けられる。
て組み立てられる。該膜装置は液流混合物からの少なく
とも１種の成分の選択的分離を行うように設計されてい
る。該膜装置は典型的には囲いとその中に配置された膜
集成体とより成る。該膜集成体は螺旋巻きカートリッ
ジ、中空繊維束、ひだ付平板膜集成体、及び膜工業界に
おいて通常である同様な集成体の形状に構成されること
ができる。膜集成体は供給表面側と、反対側の浸透出口
側とを有するように構成される。囲いは導入されるべき
供給流混合物が膜の供給面側と接触することができるよ
うに構成される。膜を通して浸透しなかった供給流の一
部を取り出すため、及び膜を通過して浸透成分の分離取
出しのために導管手段が設けられる。
逆浸透は本発明の液体分離を行うための手段である。本
発明の、濃縮を含めて液体分離を行うに当り、膜の出口
側を供給側の圧力以下の圧力に保つ、膜を通しての所望
の浸透に対する駆動力は膜を越えての圧力低下における
差である。浸透成分は膜中に通り、膜を通過して膜の出
口側の付近から取り出されて浸透に対する所望の駆動力
を維持することができる。膜の官能性は供給流の方向、
又は液状供給物媒体によって最初に接触される膜の表面
に関係しない。
発明の、濃縮を含めて液体分離を行うに当り、膜の出口
側を供給側の圧力以下の圧力に保つ、膜を通しての所望
の浸透に対する駆動力は膜を越えての圧力低下における
差である。浸透成分は膜中に通り、膜を通過して膜の出
口側の付近から取り出されて浸透に対する所望の駆動力
を維持することができる。膜の官能性は供給流の方向、
又は液状供給物媒体によって最初に接触される膜の表面
に関係しない。
例えばストリッパーの底部からの水性パージ流のよう
な、膜分離器に送られる液状供給物媒体は約10ないし約
1200psigの範囲、好ましくは約50ないし約1000psigの範
囲、最も好ましくは約200ないし約1000psigの範囲の圧
力において膜分離装置に供給することができる。浸透物
圧力は一般的に供給物圧力よりも低い約30psigないし約
1000psigの圧力に保たれる。
な、膜分離器に送られる液状供給物媒体は約10ないし約
1200psigの範囲、好ましくは約50ないし約1000psigの範
囲、最も好ましくは約200ないし約1000psigの範囲の圧
力において膜分離装置に供給することができる。浸透物
圧力は一般的に供給物圧力よりも低い約30psigないし約
1000psigの圧力に保たれる。
分離装置に導入される液状媒体の温度は周囲温度以下か
ら約100℃まで、一般的には約15℃から約80℃まで、好
ましくは約20℃から約70℃までに変動することができ
る。
ら約100℃まで、一般的には約15℃から約80℃まで、好
ましくは約20℃から約70℃までに変動することができ
る。
UV吸収剤及び／又は例えば有機酸又はそれらの塩などの
それらUV吸収剤の前駆物質のような、プロセス流れにお
ける不純物の濃度は典型的には全く低い。すなわちUV吸
収剤の濃度は０重量％の低さから2.0重量％の高さま
で、一般的には約0.001重量％から約0.1重量％までにわ
たって変動することができる。液状媒体中に存在するエ
チレングリコールの量は広範囲にわたって変動すること
ができる。典型的にはグリコールの濃度は０％の低濃度
から約80.0重量％の高濃度まで、一般的には約0.5重量
％から約10重量％までであることができる。
それらUV吸収剤の前駆物質のような、プロセス流れにお
ける不純物の濃度は典型的には全く低い。すなわちUV吸
収剤の濃度は０重量％の低さから2.0重量％の高さま
で、一般的には約0.001重量％から約0.1重量％までにわ
たって変動することができる。液状媒体中に存在するエ
チレングリコールの量は広範囲にわたって変動すること
ができる。典型的にはグリコールの濃度は０％の低濃度
から約80.0重量％の高濃度まで、一般的には約0.5重量
％から約10重量％までであることができる。
図面において、エチレンオキシド及びポリエステル級エ
チレングリコールの製造方法において本発明がいかに有
効に使用され得るかについて概略図を示す。下記の記載
は単にエチレンオキシド及び／又はエチレングリコール
の製造に対する慣用方法のただ一つの実施態様の説明で
あることを理解すべきである。当業者に周知のこれら方
法に対する多種の変更及び代りの実施態様が存在する。
本発明は特にエチレングリコールからのUV吸収剤、UV吸
収剤前駆物質、及び／又は弱有機酸又はそれらの塩のよ
うなその他の不純物の分離を目的とするので本発明は下
記に論ずる実施態様にのみ限定されるものではないこと
が評価される。むしろ本発明はエチレンオキシド／エチ
レングリコールの任意の製造方法に使用されるのに適切
であり、そしてまさに、エチレングリコールからUV吸収
剤、UV吸収剤前駆物質、及び／又はその他の不純物成分
のような構成成分を分離する必要がある任意の加工環境
において使用されるのに適切である。
チレングリコールの製造方法において本発明がいかに有
効に使用され得るかについて概略図を示す。下記の記載
は単にエチレンオキシド及び／又はエチレングリコール
の製造に対する慣用方法のただ一つの実施態様の説明で
あることを理解すべきである。当業者に周知のこれら方
法に対する多種の変更及び代りの実施態様が存在する。
本発明は特にエチレングリコールからのUV吸収剤、UV吸
収剤前駆物質、及び／又は弱有機酸又はそれらの塩のよ
うなその他の不純物の分離を目的とするので本発明は下
記に論ずる実施態様にのみ限定されるものではないこと
が評価される。むしろ本発明はエチレンオキシド／エチ
レングリコールの任意の製造方法に使用されるのに適切
であり、そしてまさに、エチレングリコールからUV吸収
剤、UV吸収剤前駆物質、及び／又はその他の不純物成分
のような構成成分を分離する必要がある任意の加工環境
において使用されるのに適切である。
特に、銀触媒を満たした反応器100に管路10を経由して
酸素及びエチレンを供給する。エチレン及び酸素は典型
的には約100℃から約500℃までの範囲、好ましくは約20
0℃から360℃までの範囲の温度において触媒の存在下に
反応する。所望される主要生成物はエチレンオキシドで
あるけれど管路12を経由して反応器100を出る生成物の
流れは、水、及びCO2ならびに未反応エチレン及び窒素
又はメタンのような希釈ガスを包含する酸化反応の副生
物をも含有する。次いでエチレンオキシドを含有するこ
の塔頂留出物の流れはスクラッバー150に導入され、そ
こで該流れは管路14においてスクラッバーに入る水と向
流的に接触する。スクラッバー150からの塔頂留出物は
主として未反応エチレン及び希釈ガスより構成され、管
路16を、経由して反応器100に再循環される。管路18に
おいてスクラッバーを出るスクラッバーボトムスは主と
して水に溶解したエチレンオキシド、すなわちエチレン
オキシド−水の流れを含有するけれど典型的にはエチレ
ングリコール及びUV吸収剤、UV吸収剤前駆物質、及び／
又はその他の不純物成分をも含む。エチレングリコール
はエチレンオキシドと水との反応によりスクラッバー中
において生成される。
酸素及びエチレンを供給する。エチレン及び酸素は典型
的には約100℃から約500℃までの範囲、好ましくは約20
0℃から360℃までの範囲の温度において触媒の存在下に
反応する。所望される主要生成物はエチレンオキシドで
あるけれど管路12を経由して反応器100を出る生成物の
流れは、水、及びCO2ならびに未反応エチレン及び窒素
又はメタンのような希釈ガスを包含する酸化反応の副生
物をも含有する。次いでエチレンオキシドを含有するこ
の塔頂留出物の流れはスクラッバー150に導入され、そ
こで該流れは管路14においてスクラッバーに入る水と向
流的に接触する。スクラッバー150からの塔頂留出物は
主として未反応エチレン及び希釈ガスより構成され、管
路16を、経由して反応器100に再循環される。管路18に
おいてスクラッバーを出るスクラッバーボトムスは主と
して水に溶解したエチレンオキシド、すなわちエチレン
オキシド−水の流れを含有するけれど典型的にはエチレ
ングリコール及びUV吸収剤、UV吸収剤前駆物質、及び／
又はその他の不純物成分をも含む。エチレングリコール
はエチレンオキシドと水との反応によりスクラッバー中
において生成される。
エチレンオキシド−水の流れを包含する管路18における
吸収剤ボトムスは次いでストリッパー200に導入され
る。一つの別態様において、管路20を経由してストリッ
パーを出て行くエチレンオキシドを取り出すために、ス
トリッパーにスチーム（図示省略）を通過させることも
できる。もう一つの別態様においては、スチームは導入
しないけれど、むしろストリッパーを、エチレンオキシ
ド−水の流れから塔頂留出物として取り出すのに適当な
温度及び圧力条件下に保つ。
吸収剤ボトムスは次いでストリッパー200に導入され
る。一つの別態様において、管路20を経由してストリッ
パーを出て行くエチレンオキシドを取り出すために、ス
トリッパーにスチーム（図示省略）を通過させることも
できる。もう一つの別態様においては、スチームは導入
しないけれど、むしろストリッパーを、エチレンオキシ
ド−水の流れから塔頂留出物として取り出すのに適当な
温度及び圧力条件下に保つ。
管路20を経由してストリッパー200を出て行くエチレン
オキシドは次いで図面において塔250として示される１
個又は１系列の精製塔に供給され、該精製塔においてエ
チレンオキシドは蒸留などのような慣用の技術によって
精製される。この場合、水、二酸化炭素、グリコールの
ような異物質は流れ22において実質的に純粋なエチレン
オキシドが生成されるように除去される。管路24におい
て精製塔250を出て行くボトムスは典型的には水、エチ
レングリコール及び不純物成分を含有する場合がある。
オキシドは次いで図面において塔250として示される１
個又は１系列の精製塔に供給され、該精製塔においてエ
チレンオキシドは蒸留などのような慣用の技術によって
精製される。この場合、水、二酸化炭素、グリコールの
ような異物質は流れ22において実質的に純粋なエチレン
オキシドが生成されるように除去される。管路24におい
て精製塔250を出て行くボトムスは典型的には水、エチ
レングリコール及び不純物成分を含有する場合がある。
管路14を経由してストリッパー200を出て行く水性ボト
ムスの流れは水ならびにモノ、ジ、及び／又はトリエチ
レングリコールを主として包含し、しかも高分子量グリ
コールをも同様にして含有する場合もある。またこの流
れにはUV吸収剤及び／又はそれらの前駆物質ならびその
他の不純物成分も包含される。この流れはスクラッバー
150に再循環されて必要なスクラッビング水を供給す
る。
ムスの流れは水ならびにモノ、ジ、及び／又はトリエチ
レングリコールを主として包含し、しかも高分子量グリ
コールをも同様にして含有する場合もある。またこの流
れにはUV吸収剤及び／又はそれらの前駆物質ならびその
他の不純物成分も包含される。この流れはスクラッバー
150に再循環されて必要なスクラッビング水を供給す
る。
しかしながら、再循環ループにおける水の蓄積を減少さ
せるために一般的にパージの流れ26を設けなければなら
ない。先行技術においては、このようなパージの流れは
単に廃棄され、その中に含有されるグリコールは単に損
失となった。その代りに、もしもグリコールを再利用す
べきであるならば、このパージの流れに典型的に含有さ
れるUV吸収剤、UV吸収剤前駆物質、及び／又はその他の
不純物成分は、グリコール法において、このパージの流
れを使用して生成されるモノエチレングリコールに対し
て有害な影響を及ぼす。しかしながら本発明において
は、このようなグリコールの損失は回避され、一方にお
いて望ましくないUV吸収剤、UV吸収剤前駆物質、及び／
又はその他の不純物成分は、これら不純物を含有するパ
ージの流れを半透膜分離装置300内に通すことによって
除去される。
せるために一般的にパージの流れ26を設けなければなら
ない。先行技術においては、このようなパージの流れは
単に廃棄され、その中に含有されるグリコールは単に損
失となった。その代りに、もしもグリコールを再利用す
べきであるならば、このパージの流れに典型的に含有さ
れるUV吸収剤、UV吸収剤前駆物質、及び／又はその他の
不純物成分は、グリコール法において、このパージの流
れを使用して生成されるモノエチレングリコールに対し
て有害な影響を及ぼす。しかしながら本発明において
は、このようなグリコールの損失は回避され、一方にお
いて望ましくないUV吸収剤、UV吸収剤前駆物質、及び／
又はその他の不純物成分は、これら不純物を含有するパ
ージの流れを半透膜分離装置300内に通すことによって
除去される。
分離装置300には適当な半透膜、好ましくはポリスルホ
ン基板上のスルホン化ポリスルホンコーティングを包含
する複合膜が設けられてある。浸透物（膜を通過する物
質）は膜を通過しない物質であるラフィネートと比較し
て非常に低い不純物成分、UV吸収剤及び／又はUV吸収剤
前駆物質の濃度を有する。換言すれば膜分離装置はグリ
コールの実質的に大部分を膜を通過させ、一方において
UV吸収剤、UV吸収剤前駆物質、及び／又はその他の不純
物成分が膜を通過するのを拒否し、又は妨げることがで
きるのである。このことにより、望ましくないUV吸収
剤、UV吸収剤前駆物質、及び／又はその他の不純物成分
を実質的に含有せず、主として水及びグリコールを含有
する浸透物が得られる。膜分離装置300に加えられる供
給圧力は約10psigと約1200psigとの間、好ましくは約50
psigと約1000psigとの間である。浸透圧力は約0psigな
いし約1170psig、好ましくは約０ないし約200psigであ
るけれど、供給圧力よりも少なくとも30psi、好ましく
は少なくとも200psiだけ低くあるべきである。膜分離装
置への供給物の温度は典型的には約０℃から約100℃ま
で、好ましくは約15℃から約80℃までの範囲である。
ン基板上のスルホン化ポリスルホンコーティングを包含
する複合膜が設けられてある。浸透物（膜を通過する物
質）は膜を通過しない物質であるラフィネートと比較し
て非常に低い不純物成分、UV吸収剤及び／又はUV吸収剤
前駆物質の濃度を有する。換言すれば膜分離装置はグリ
コールの実質的に大部分を膜を通過させ、一方において
UV吸収剤、UV吸収剤前駆物質、及び／又はその他の不純
物成分が膜を通過するのを拒否し、又は妨げることがで
きるのである。このことにより、望ましくないUV吸収
剤、UV吸収剤前駆物質、及び／又はその他の不純物成分
を実質的に含有せず、主として水及びグリコールを含有
する浸透物が得られる。膜分離装置300に加えられる供
給圧力は約10psigと約1200psigとの間、好ましくは約50
psigと約1000psigとの間である。浸透圧力は約0psigな
いし約1170psig、好ましくは約０ないし約200psigであ
るけれど、供給圧力よりも少なくとも30psi、好ましく
は少なくとも200psiだけ低くあるべきである。膜分離装
置への供給物の温度は典型的には約０℃から約100℃ま
で、好ましくは約15℃から約80℃までの範囲である。
図面は唯１個の膜分離装置の使用を示しているけれど本
発明の範囲は１個以上の分離装置又は「工程」が使用さ
れる実施態様を包含することを理解すべきである。この
ことはエチレングリコールの所望の回収程度に関係す
る。
発明の範囲は１個以上の分離装置又は「工程」が使用さ
れる実施態様を包含することを理解すべきである。この
ことはエチレングリコールの所望の回収程度に関係す
る。
浸透物は次いで管路30を経由して分離装置から排出され
る。いまやUV吸収剤、UV吸収剤前駆物質、及び／又はそ
の他の不純物成分の濃縮量を含有するラフィネートは管
路28を経由して分離装置から排出される。このラフィネ
ートは廃棄してもよく、あるいは所望により別の工程
（図示省略）において更に処理することができる。
る。いまやUV吸収剤、UV吸収剤前駆物質、及び／又はそ
の他の不純物成分の濃縮量を含有するラフィネートは管
路28を経由して分離装置から排出される。このラフィネ
ートは廃棄してもよく、あるいは所望により別の工程
（図示省略）において更に処理することができる。
所望により、水及びグリコールを含有することのある精
製塔250からのボトムスの流れ24は点線によって示され
るように分離装置300に導入して、該流れ中に含有され
るグリコールを回収することもできる。まさにエチレン
オキシドプロセス又はエチレングリコールプロセス内に
おけるいずれかの場合において見出される、いかなる不
純物含有グリコール／水の流れも、上記のような方法に
おいて精製することができる。
製塔250からのボトムスの流れ24は点線によって示され
るように分離装置300に導入して、該流れ中に含有され
るグリコールを回収することもできる。まさにエチレン
オキシドプロセス又はエチレングリコールプロセス内に
おけるいずれかの場合において見出される、いかなる不
純物含有グリコール／水の流れも、上記のような方法に
おいて精製することができる。
管路30からの浸透物は次いでポリエステル級モノエチレ
ングリコールの製造方法に使用することができる。特に
該浸透物は水再循環の流れ32に添加し、次いで水槽350
に導入することができる。槽350からの水は管路38を経
由してグリコール反応器400に通される。所望により追
加の水を管路34を経由して反応器400に導入することも
できる。管路36はエチレンオキシドを供給する。該エチ
レンオキシドの供給源は典型的にはエチレンオキシド製
造工程における精製塔250からのものである。グリコー
ル反応器においてエチレンオキシドと水とが典型的には
約150℃から約310℃までの範囲における温度、約100な
いし約300psigの圧力において反応する。水中における
エチレングリコールを包含する得られた混合物は次いで
管路40を経由して、図面において蒸発器450として示さ
れる１個又はそれ以上の蒸発器に通される。別の実施態
様として、分離装置300からの浸透物を管路30及び40を
経由して直接に蒸発器450に導入することができる（図
示省略）。所望により多重効用蒸発缶を使用することが
できる。蒸発器においてスチームが塔頂留出物として生
成され、凝縮され（図示省略）、次いで管路32を経由し
て水槽350に、次いで反応器400に再循環される。管路42
において蒸発器を出て行くエチレングリコールボトムス
は次いで図面において塔500として示される多数の蒸留
工程に供されて、流れ44における所望のポリエステル級
モノエチレングリコールを、図面において管路46から除
去されるとして示される残りのグリコール類から分離す
る。
ングリコールの製造方法に使用することができる。特に
該浸透物は水再循環の流れ32に添加し、次いで水槽350
に導入することができる。槽350からの水は管路38を経
由してグリコール反応器400に通される。所望により追
加の水を管路34を経由して反応器400に導入することも
できる。管路36はエチレンオキシドを供給する。該エチ
レンオキシドの供給源は典型的にはエチレンオキシド製
造工程における精製塔250からのものである。グリコー
ル反応器においてエチレンオキシドと水とが典型的には
約150℃から約310℃までの範囲における温度、約100な
いし約300psigの圧力において反応する。水中における
エチレングリコールを包含する得られた混合物は次いで
管路40を経由して、図面において蒸発器450として示さ
れる１個又はそれ以上の蒸発器に通される。別の実施態
様として、分離装置300からの浸透物を管路30及び40を
経由して直接に蒸発器450に導入することができる（図
示省略）。所望により多重効用蒸発缶を使用することが
できる。蒸発器においてスチームが塔頂留出物として生
成され、凝縮され（図示省略）、次いで管路32を経由し
て水槽350に、次いで反応器400に再循環される。管路42
において蒸発器を出て行くエチレングリコールボトムス
は次いで図面において塔500として示される多数の蒸留
工程に供されて、流れ44における所望のポリエステル級
モノエチレングリコールを、図面において管路46から除
去されるとして示される残りのグリコール類から分離す
る。
本発明をその種々の例証的実施例に関して下記に更に説
明する。しかしながら、このような実施例は請求の範囲
に記載される本発明の範囲を限定するものとして解釈す
べきでないことを理解すべきである。
明する。しかしながら、このような実施例は請求の範囲
に記載される本発明の範囲を限定するものとして解釈す
べきでないことを理解すべきである。
実 施 例 下記実施例において、得られた結果を記載するのに使用
される単位は下記に定義されるとおりである。
される単位は下記に定義されるとおりである。
「ステージカット（stage cut）」は分離装置モジュー
ルが処理することのできる量の尺度である。該ステージ
カットは浸透物流量対供給物流量の比として定義され
る。ステージカットが高くなればなる程グリコール回収
率は高くなり、かつラフィネート中の不純物の濃度が高
くなる。
ルが処理することのできる量の尺度である。該ステージ
カットは浸透物流量対供給物流量の比として定義され
る。ステージカットが高くなればなる程グリコール回収
率は高くなり、かつラフィネート中の不純物の濃度が高
くなる。
「gfd」は膜を通しての浸透物の流量の尺度であり、ガ
ロン／平方フィート／日を表す。
ロン／平方フィート／日を表す。
「溶質拒否％」はそれぞれの溶質が、それがラフィネー
ト中に残留するように、膜により拒否される量の尺度で
ある。本明細書において「溶質拒否％」は： として定義される。指示された場合を除き、供給物又は 浸透物のいずれにおいても塩の濃度はその電気伝導度
（ミクロモー）によっって測定される。
ト中に残留するように、膜により拒否される量の尺度で
ある。本明細書において「溶質拒否％」は： として定義される。指示された場合を除き、供給物又は 浸透物のいずれにおいても塩の濃度はその電気伝導度
（ミクロモー）によっって測定される。
理想的には、逆浸透分離は、大きなステージカットに対
して高い溶質拒否と大きな浸透速度とを組み合わすべき
である。このような条件下においてUV吸収剤不含有グリ
コール溶液の大きな流れ（flux）と不純物に富む比較的
に小さなラフィネートの流れとを生成する。
して高い溶質拒否と大きな浸透速度とを組み合わすべき
である。このような条件下においてUV吸収剤不含有グリ
コール溶液の大きな流れ（flux）と不純物に富む比較的
に小さなラフィネートの流れとを生成する。
下記表に示される試験結果に対して、使用された個々の
膜を表において示す。伝導度の測定は白金電池、特にコ
ール パーマー（Cole Parmer）デジタル伝導度計を使
用して行った。UV透過率はバリアン（Varian）モデルDM
S100UV可視分光光度計を使用して測定した。
膜を表において示す。伝導度の測定は白金電池、特にコ
ール パーマー（Cole Parmer）デジタル伝導度計を使
用して行った。UV透過率はバリアン（Varian）モデルDM
S100UV可視分光光度計を使用して測定した。
更に、本発明にしたがって調製された浸透物の流れと、
エチレングリコール、プロセスにおける蒸発器を出て行
くエチレングリコールボトムスの流れ（図面における流
れ42）の一部とを、まず混合することによって製造した
試料についてUV透過率データを測定した。次いで、この
混合物を蒸留して水と精製されたエチレングリコールと
を取り出した。次いで、このエチレングリコール試料に
ついてUV透過率を試験した。
エチレングリコール、プロセスにおける蒸発器を出て行
くエチレングリコールボトムスの流れ（図面における流
れ42）の一部とを、まず混合することによって製造した
試料についてUV透過率データを測定した。次いで、この
混合物を蒸留して水と精製されたエチレングリコールと
を取り出した。次いで、このエチレングリコール試料に
ついてUV透過率を試験した。
＊浸透物は、中空繊維より構成されるポリスルホン基板
上の、重合体中においてスルホン酸基1.8meq/gmのスル
ホン化度を有するスルホン化ポリスルホンのコーティン
グを有する複合膜を使用して得られた。該中空繊維は14
ミルの外径及び５ミルの内径を有する。
上の、重合体中においてスルホン酸基1.8meq/gmのスル
ホン化度を有するスルホン化ポリスルホンのコーティン
グを有する複合膜を使用して得られた。該中空繊維は14
ミルの外径及び５ミルの内径を有する。
上表から容易にわかるように、供給物の流れを半透膜を
通過させることにより、精製モノエチレングリコールの
UV透過率が、試験された波長の全部について劇的に改良
される。確かに、精製されたモノエチレングリコールの
UV透過率は浸透物の代りに蒸留水を使用して調製された
精製グリコールのUV透過率に実際に接近する。
通過させることにより、精製モノエチレングリコールの
UV透過率が、試験された波長の全部について劇的に改良
される。確かに、精製されたモノエチレングリコールの
UV透過率は浸透物の代りに蒸留水を使用して調製された
精製グリコールのUV透過率に実際に接近する。
表IIIの実験において使用された膜モジュール１〜４
は、膜のコーティングを包含する重合体の乾燥及び／又
は硬化時間における変動があった点を除いて、さきの実
験に使用されたものと実質的に同一である。このことは
分離特性及び浸透特性に殆んど影響しない。特に、乾燥
温度及び／又は硬化温度が増加するにつれて拒否（reje
ction）が一般的に増加する。また膜モジュール番号１
及び２は10ミルの外径及び3.5モルの内径を有する中空
繊維で製造された。膜モジュール番号３及び４は16ミル
の内径及び５ミルの内径を有する中空繊維で製造され
た。すべての膜は米国特許第4,207,192号明細書に記載
のようにして製造された、らせん状に巻かれ、コーティ
ングされた繊維膜モジュールであった。
は、膜のコーティングを包含する重合体の乾燥及び／又
は硬化時間における変動があった点を除いて、さきの実
験に使用されたものと実質的に同一である。このことは
分離特性及び浸透特性に殆んど影響しない。特に、乾燥
温度及び／又は硬化温度が増加するにつれて拒否（reje
ction）が一般的に増加する。また膜モジュール番号１
及び２は10ミルの外径及び3.5モルの内径を有する中空
繊維で製造された。膜モジュール番号３及び４は16ミル
の内径及び５ミルの内径を有する中空繊維で製造され
た。すべての膜は米国特許第4,207,192号明細書に記載
のようにして製造された、らせん状に巻かれ、コーティ
ングされた繊維膜モジュールであった。
表IIIは膜分離装置に対する温度、圧力及び流量の影響
を示す。該表の結果によって示されるように温度は浸透
及び拒否に影響する。このことは液状媒体の粘度に対し
て温度が有する効果に起因すると思われる。温度が高く
なるほど粘度が減少し、その結果、温度と共に浸透速度
が増加し、拒否が減少する。
を示す。該表の結果によって示されるように温度は浸透
及び拒否に影響する。このことは液状媒体の粘度に対し
て温度が有する効果に起因すると思われる。温度が高く
なるほど粘度が減少し、その結果、温度と共に浸透速度
が増加し、拒否が減少する。
圧力については、表IIIはより高い圧力がより高い浸透
速度を生ずることを示す。大きなステージカットに対し
ては、これは溶質の拒否を減少させる。
速度を生ずることを示す。大きなステージカットに対し
ては、これは溶質の拒否を減少させる。
更に供給物流量が増加するにつれて膜の表面における液
体の粘度が増加する。このこと膜表面において蓄積する
傾向のある塩の層の厚さを減少させる。分極層と呼ばれ
るこの層において塩の濃度は供給物溶液におけるよりも
高い。より高い供給物流量に対しては分極は減少し、膜
表面における塩の濃度は減少する。このことは膜を横切
っての塩の濃度勾配が小さいので塩の拒否を改良する。
体の粘度が増加する。このこと膜表面において蓄積する
傾向のある塩の層の厚さを減少させる。分極層と呼ばれ
るこの層において塩の濃度は供給物溶液におけるよりも
高い。より高い供給物流量に対しては分極は減少し、膜
表面における塩の濃度は減少する。このことは膜を横切
っての塩の濃度勾配が小さいので塩の拒否を改良する。
以下に、本発明の要点を総括して示す。
1.1個又はそれ以上の炭素原子を有する脂肪族有機酸、
上記のような脂肪族有機酸のアルカリ金属塩もしくはア
ルカリ土類金属塩、又はそれらの組合せを包含する少な
くとも１種の不純物成分からエチレングリコールを分離
する方法であって、ここに前記グリコール及び前記少な
くとも１種の不純物成分は前記グリコール及び少なくと
も１種の不純物に対する溶剤として作用することのでき
る液状媒体に実質的に溶解しているものとする前記方法
において、前記グリコール及び少なくとも１種の不純物
を含有する該液状媒体と、該少なくとも１種の不純物の
選択的浸透より以上の選択的浸透をグリコールに対して
示す半透膜の一方の表面とを接触させ、次いで該半透膜
の反対側表面の付近から、該液状媒体中における該少な
くとも１種の不純物の濃度よりも低い該少なくとも１種
の不純物の濃度を有する浸透物を取り出すことを包含し
て成る前記方法。
上記のような脂肪族有機酸のアルカリ金属塩もしくはア
ルカリ土類金属塩、又はそれらの組合せを包含する少な
くとも１種の不純物成分からエチレングリコールを分離
する方法であって、ここに前記グリコール及び前記少な
くとも１種の不純物成分は前記グリコール及び少なくと
も１種の不純物に対する溶剤として作用することのでき
る液状媒体に実質的に溶解しているものとする前記方法
において、前記グリコール及び少なくとも１種の不純物
を含有する該液状媒体と、該少なくとも１種の不純物の
選択的浸透より以上の選択的浸透をグリコールに対して
示す半透膜の一方の表面とを接触させ、次いで該半透膜
の反対側表面の付近から、該液状媒体中における該少な
くとも１種の不純物の濃度よりも低い該少なくとも１種
の不純物の濃度を有する浸透物を取り出すことを包含し
て成る前記方法。
2.エチレングリコールがモノ、ジ、トリ及び／又はテト
ラエチレングリコールを包含する要点１記載の方法。
ラエチレングリコールを包含する要点１記載の方法。
3.半透膜が非対称膜又は複合膜である。要点１記載の方
法。
法。
4.複合膜が、液状媒体に関して分離特性を実質的に有し
ない多孔性支持体層と、該支持体層上に配置され、該複
合膜の選択的浸透特性を実質的に定める分離層とを包含
する要点３記載の方法。
ない多孔性支持体層と、該支持体層上に配置され、該複
合膜の選択的浸透特性を実質的に定める分離層とを包含
する要点３記載の方法。
5.支持体層がポリスルホン、ポリオレフィン、ポリフェ
ニレンスルフィド及びポリエーテルケトンの少なくとも
１種を包含する要点４記載の方法。
ニレンスルフィド及びポリエーテルケトンの少なくとも
１種を包含する要点４記載の方法。
6.支持体層が、ポリスルホンである要点４記載の方法。
7.分離層がスルホン化ポリスルホン、セルロース重合
体、セルロースアセテート、ポリアミド、及びそれらの
混合物の少なくとも１種の包含する要点４記載の方法。
体、セルロースアセテート、ポリアミド、及びそれらの
混合物の少なくとも１種の包含する要点４記載の方法。
8.分離層がスルホン化ポリスルホンである要点４記載の
方法。
方法。
9.スルホン化ポリスルホンがスルホン化ビスフェノール
Ａポリスルホンである要点８記載の方法。
Ａポリスルホンである要点８記載の方法。
10.分離層が約0.01ないし10.0ミクロンの範囲の厚さを
有する要点４記載の方法。
有する要点４記載の方法。
11.分離層が約0.05ないし2.0ミクロンの範囲の厚さを有
する要点４記載の方法。
する要点４記載の方法。
12.分離層がスルホン化ポリスルホンを包含し、かつ支
持体層がポリスルホンを包含する要点４記載の方法。
持体層がポリスルホンを包含する要点４記載の方法。
13.分離層がセルロースアセテートを包含し、かつ支持
体層がポリスルホンを包含する要点４記載の方法。
体層がポリスルホンを包含する要点４記載の方法。
14.複合膜が中空繊維形態である要点３記載の方法。
15.支持体層がアニールされた高分子物質である要点４
記載の方法。
記載の方法。
16.非対称膜がスルホン化ポリスルホン、セルロース重
合体、セルロースアセテート、ポリアミド及びそれら混
合物の少なくとも１種を包含する要点３記載の方法。
合体、セルロースアセテート、ポリアミド及びそれら混
合物の少なくとも１種を包含する要点３記載の方法。
17.非対称膜がスルホン化ポリスルホンである要点３記
載の方法。
載の方法。
18.スルホン化ポリスルホンがスルホン化ビスフェノー
ルＡポリスルホンである要点17記載の方法。
ルＡポリスルホンである要点17記載の方法。
19.前記少なくとも１種の脂肪族有機酸が、ギ酸、酢
酸、グリコール酸、シュウ酸又はそれらの組合せである
要点１記載の方法。
酸、グリコール酸、シュウ酸又はそれらの組合せである
要点１記載の方法。
20.前記少なくとも１種の塩が、ギ酸、酢酸、グリコー
ル酸及び／又はシュウ酸のアルカリ金属塩又はアルカリ
土類金属塩を包含する要点１記載の方法。
ル酸及び／又はシュウ酸のアルカリ金属塩又はアルカリ
土類金属塩を包含する要点１記載の方法。
21.前記グリコールならびに少なくとも１種の塩及び／
又は酸が含有される液状媒体を、水、アルコール、グリ
コール、グリコールエーテル、グリコールカーボネー
ト、又はそれらの混合物より成る群から選択する要点１
記載の方法。
又は酸が含有される液状媒体を、水、アルコール、グリ
コール、グリコールエーテル、グリコールカーボネー
ト、又はそれらの混合物より成る群から選択する要点１
記載の方法。
22.前記グリコールならびに少なくとも１種の塩及び／
又は酸が含有される液状媒体が水である要点１記載の方
法。
又は酸が含有される液状媒体が水である要点１記載の方
法。
23.少なくとも１種のUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆
物質からエチレングリコールを分離する方法であって、
ここに前記グリコールならびに前記少なくとも１種のUV
吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質は前記グリコールな
らびに少なくとも１種のUV吸収剤及び／又は前駆物質に
対する溶剤として作用することのできる液状媒体に実質
的に溶解しているものとする前記方法において、前記グ
リコールならびに少なくとも１種のUV吸収剤及び／又は
前駆物質を含有する該液状媒体と、該少なくとも１種の
UV吸収剤及び／又は前駆物質の選択的浸透より以上の選
択的浸透をグリコールに対して示す半透膜の一方の表面
とを接触させ、次いで、該半透膜の反対側表面の付近か
ら、液状媒体中における該UV吸収剤及び／又は前駆物質
の濃度よりも低い該UV吸収剤及び／又は前駆物質の濃度
を有する浸透物を取り出すことを包含して成る前記方
法。
物質からエチレングリコールを分離する方法であって、
ここに前記グリコールならびに前記少なくとも１種のUV
吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質は前記グリコールな
らびに少なくとも１種のUV吸収剤及び／又は前駆物質に
対する溶剤として作用することのできる液状媒体に実質
的に溶解しているものとする前記方法において、前記グ
リコールならびに少なくとも１種のUV吸収剤及び／又は
前駆物質を含有する該液状媒体と、該少なくとも１種の
UV吸収剤及び／又は前駆物質の選択的浸透より以上の選
択的浸透をグリコールに対して示す半透膜の一方の表面
とを接触させ、次いで、該半透膜の反対側表面の付近か
ら、液状媒体中における該UV吸収剤及び／又は前駆物質
の濃度よりも低い該UV吸収剤及び／又は前駆物質の濃度
を有する浸透物を取り出すことを包含して成る前記方
法。
24.エチレングリコールがモノ、ジ、トリ及び／又はテ
トラエチレングリコールを包含する要点23記載の方法。
トラエチレングリコールを包含する要点23記載の方法。
25.半透膜が非対称膜又は複合膜である要点23記載の方
法。
法。
26.複合膜が、水性媒体に関して分離特性を実質的に有
しない多孔性支持体層と、該支持体層上に配置されて該
複合膜の選択的浸透特性を実質的に定める分離層とを包
含する要点25記載の方法。
しない多孔性支持体層と、該支持体層上に配置されて該
複合膜の選択的浸透特性を実質的に定める分離層とを包
含する要点25記載の方法。
27.支持体層が、ポリスルホン、ポリオレフィン、ポリ
フェニレンスルフィド及びポリエーテルケトンの少なく
とも１種を包含する要点26記載の方法。
フェニレンスルフィド及びポリエーテルケトンの少なく
とも１種を包含する要点26記載の方法。
28.支持体層がポリスルホンである要点26記載の方法。
29.分離層がスルホン化ポリスルホン、セルロース重合
体、セルロースアセテート、ポリアミド、及びそれらの
混合物の少なくとも１種を包含する要点26記載の方法。
体、セルロースアセテート、ポリアミド、及びそれらの
混合物の少なくとも１種を包含する要点26記載の方法。
30.分離層がスルホン化ポリスルホンである要点26記載
の方法。
の方法。
31.スルホン化ポリスルホンがスルホン化ビスフェノー
ルＡポリスルホンである要点30記載の方法。
ルＡポリスルホンである要点30記載の方法。
32.分離層が約0.01ミクロンから10.0ミクロンまでの範
囲における厚さを有する要点26記載の方法。
囲における厚さを有する要点26記載の方法。
33.分離層が約0.05ミクロンから2.0ミクロンまでの範囲
における厚さを有する要点26記載の方法。
における厚さを有する要点26記載の方法。
34.分離層がスルホン化ポリスルホンであり、かつ支持
体層がポリスルホンである要点26記載の方法。
体層がポリスルホンである要点26記載の方法。
35.分離層がセルロースアセテートから構成され、かつ
支持体層がポリスルホンから構成される要点26記載の方
法。
支持体層がポリスルホンから構成される要点26記載の方
法。
36.複合膜が中空繊維形態である要点25記載の方法。
37.支持体層がアニールされた高分子物質である要点26
記載の方法。
記載の方法。
38.非対称膜がスルホン化ポリスルホン、セルロース重
合体、セルロースアセテート、ポリアミド、及びそれら
の混合物の少なくとも１種を包含する要点25記載の方
法。
合体、セルロースアセテート、ポリアミド、及びそれら
の混合物の少なくとも１種を包含する要点25記載の方
法。
39.非対称膜がスルホン化ポリスルホンである要点25記
載の方法。
載の方法。
40.スルホン化ポリスルホンがスルホン化ビスフェノー
ルＡポリスルホンである要点39記載の方法。
ルＡポリスルホンである要点39記載の方法。
41.UV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質が、１個もし
くはそれ以上の炭素原子を有する脂肪族有機酸、そのよ
うな脂肪族有機酸のアルカリ金属塩もしくはアルカリ土
類金属塩、又はそれらの組合せの１種もしくはそれ以上
である要点23記載の方法。
くはそれ以上の炭素原子を有する脂肪族有機酸、そのよ
うな脂肪族有機酸のアルカリ金属塩もしくはアルカリ土
類金属塩、又はそれらの組合せの１種もしくはそれ以上
である要点23記載の方法。
42.前記少なくとも１種の脂肪族有機酸がギ酸、酢酸、
グリコール酸、シュウ酸又はそれらの組合せである要点
41記載の方法。
グリコール酸、シュウ酸又はそれらの組合せである要点
41記載の方法。
43.前記少なくとも１種の塩がギ酸、酢酸、グリコール
酸及び／もしくはシュウ酸のアルカリ金属塩又はアルカ
リ土類金属塩を包含する要点41記載の方法。
酸及び／もしくはシュウ酸のアルカリ金属塩又はアルカ
リ土類金属塩を包含する要点41記載の方法。
44.前記グリコールならびに少なくとも１種のUV吸収剤
及び／又は前駆物質が含有される液状媒体を、水、アル
コール、グリコール、グリコールエーテル、グリコール
カーボネート又はそれらの混合物より成る群から選択す
る要点23記載の方法。
及び／又は前駆物質が含有される液状媒体を、水、アル
コール、グリコール、グリコールエーテル、グリコール
カーボネート又はそれらの混合物より成る群から選択す
る要点23記載の方法。
45.前記グリコールならびに少なくとも１種のUV吸収剤
及び／又は前駆物質が含有される液状媒体が、水である
要点23記載の方法。
及び／又は前駆物質が含有される液状媒体が、水である
要点23記載の方法。
46.a）反応器中において触媒の存在のもとにエチレンオ
キシド生成条件下に酸素とエチレンとを反応させてエチ
レンオキシドを生成させる工程； ｂ）工程（ａ）において生成されたエチレンオキシドを
スクラッバー中において水に吸収させてエチレンオキシ
ド−水の流れを生成させる工程； ｃ）ストリッピング塔において、工程（ｂ）において生
成されたエチレンオキシド−水の流れからエチレンオキ
シドをストリップしてエチレンオキシド塔頂留出物の流
れ及び水性ボトムスの流れを生成させ、ここに前記水性
ボトムスの流れは水、UV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆
物質、ならびにモノ、ジ、及び／又はトリエチレングリ
コールを包含するものとする工程； ｄ）ストリッピング塔からの水性ボトムスを工程（ｂ）
のスクラッバーに再循環させる工程； を包含するエチレンオキシドの製造方法において、再循
環水性ボトムスの一部をパージの流れとして工程（ｄ）
のストリッピング塔から取り出し、次いで前記グリコー
ル及び少なくとも１種のUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前
駆物質を含有するパージの流れを、グリコールに対して
少なくとも１種のUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質
の選択的浸透以上の選択的浸透を示す半透膜の一方の表
面と接触させることにより前記パージの流れの少なくと
も一部を処理し、次いで該パージの流れにおけるUV吸収
剤及び／又はUV吸収剤前駆物質の濃度よりも低いUV吸収
剤及び／又はUV吸収剤前駆物質の濃度を有する浸透物を
半透膜の反対側表面の付近から取り出すことを包含して
成る前記方法の改良方法。
キシド生成条件下に酸素とエチレンとを反応させてエチ
レンオキシドを生成させる工程； ｂ）工程（ａ）において生成されたエチレンオキシドを
スクラッバー中において水に吸収させてエチレンオキシ
ド−水の流れを生成させる工程； ｃ）ストリッピング塔において、工程（ｂ）において生
成されたエチレンオキシド−水の流れからエチレンオキ
シドをストリップしてエチレンオキシド塔頂留出物の流
れ及び水性ボトムスの流れを生成させ、ここに前記水性
ボトムスの流れは水、UV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆
物質、ならびにモノ、ジ、及び／又はトリエチレングリ
コールを包含するものとする工程； ｄ）ストリッピング塔からの水性ボトムスを工程（ｂ）
のスクラッバーに再循環させる工程； を包含するエチレンオキシドの製造方法において、再循
環水性ボトムスの一部をパージの流れとして工程（ｄ）
のストリッピング塔から取り出し、次いで前記グリコー
ル及び少なくとも１種のUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前
駆物質を含有するパージの流れを、グリコールに対して
少なくとも１種のUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質
の選択的浸透以上の選択的浸透を示す半透膜の一方の表
面と接触させることにより前記パージの流れの少なくと
も一部を処理し、次いで該パージの流れにおけるUV吸収
剤及び／又はUV吸収剤前駆物質の濃度よりも低いUV吸収
剤及び／又はUV吸収剤前駆物質の濃度を有する浸透物を
半透膜の反対側表面の付近から取り出すことを包含して
成る前記方法の改良方法。
47.半透膜が非対称膜又は複合膜である要点46記載の方
法。
法。
48.複合膜が、パージの流れに関して分離特性を実質的
に有しない多孔性の支持体層と、該支持体層上に配置さ
れて該複合膜の選択的浸透特性を実質的に定める分離層
とを包含する要点47記載の方法。
に有しない多孔性の支持体層と、該支持体層上に配置さ
れて該複合膜の選択的浸透特性を実質的に定める分離層
とを包含する要点47記載の方法。
49.分離層がスルホン化ポリスルホンであり、かつ支持
体層がポリスルホンである要点48記載の方法。
体層がポリスルホンである要点48記載の方法。
50.支持体層がポリスルホン、ポリオレフィン、ポリフ
ェニレンスルフィド及びポリエーテルケトンの少なくと
も１種を包含する要点48記載の方法。
ェニレンスルフィド及びポリエーテルケトンの少なくと
も１種を包含する要点48記載の方法。
51.支持体層がポリスルホンである要点48記載の方法。
52.分離層がスルホン化ポリスルホン、セルロース重合
体、セルロースアセテート、ポリアミド、及びそれらの
混合物の少なくとも１種を包含する要点48記載の方法。
体、セルロースアセテート、ポリアミド、及びそれらの
混合物の少なくとも１種を包含する要点48記載の方法。
53.分離層がスルホン化ポリスルホンである要点48記載
の方法。
の方法。
54.スルホン化ポリスルホンがスルホン化ビスフェノー
ルＡポリスルホンである要点53記載の方法。
ルＡポリスルホンである要点53記載の方法。
55.分離層が約0.01ないし10.0ミクロンの範囲における
厚さを有する要点48記載の方法。
厚さを有する要点48記載の方法。
56.分離層が約0.05ないし2.0ミクロンの範囲における厚
さを有する要点48記載の方法。
さを有する要点48記載の方法。
57.分離層がスルホン化ポリスルホンを包含し、かつ支
持体層がポリスルホンを包含する要点48記載の方法。
持体層がポリスルホンを包含する要点48記載の方法。
58.分離層がセルロースアセテートにより構成され、か
つ支持体層がポリスルホンにより構成される要点48記載
の方法。
つ支持体層がポリスルホンにより構成される要点48記載
の方法。
59.半透膜が中空繊維形態である要点46記載の方法。
60.支持体層がアニールされた高分子物質である要点48
記載の方法。
記載の方法。
61.非対称膜がスルホン化ポリスルホン、セルロース重
合体、セルロースアセテート、ポリアミド、及びそれら
の混合物の少なくとも１種を包含する要点47記載の方
法。
合体、セルロースアセテート、ポリアミド、及びそれら
の混合物の少なくとも１種を包含する要点47記載の方
法。
62.非対称膜がスルホン化ポリスルホンである要点47記
載の方法。
載の方法。
63.スルホン化ポリスルホンがスルホン化ビスフェノー
ルＡポリスルホンである要点62記載の方法。
ルＡポリスルホンである要点62記載の方法。
64.浸透物をエチレングリコール反応器又は蒸発器系列
に供給する要点48記載の方法。
に供給する要点48記載の方法。
65.UV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質が、１個もし
くはそれ以上の炭素原子を有する脂肪族有機酸、上記脂
肪族有機酸のアルカリ金属塩もしくはアルカリ土類金属
塩、又はそれらの組合せの１種又はそれ以上である要点
46記載の方法。
くはそれ以上の炭素原子を有する脂肪族有機酸、上記脂
肪族有機酸のアルカリ金属塩もしくはアルカリ土類金属
塩、又はそれらの組合せの１種又はそれ以上である要点
46記載の方法。
66.a）反応器中において触媒の存在のもとにエチレンオ
キシド生成条件下に酸素とエチレンとを反応させてエチ
レンオキシドを生成させる工程； ｂ）工程（ａ）において生成されたエチレンオキシドを
スクラッバー中において水に吸収させてエチレンオキシ
ド−水の流れを生成させる工程； ｃ）ストリッピング塔において、工程（ｂ）において生
成されたエチレンオキシド−水の流れからエチレンオキ
シドをストリップしてエチレンオキシド塔頂留出物の流
れ、及び水性ボトムスの流れを生成させ、ここに前記水
性ボトムスの流れは水、UV吸収剤及び／又はUV吸収剤前
駆物質、ならびにモノ、ジ及び／又はトリエチレングリ
コールを包含するものとする工程； ｄ）ストリッピング塔からの水性ボトムスを工程（ｂ）
のスクラッバーに再循環させる工程； ｅ）工程（ｃ）のストリッピング塔からのエチレンオキ
シド塔頂留出物を蒸留によって精製して精製エチレンオ
キシドの流れを生成させ、その流れの少なくとも一部を
グリコール反応器に導入する工程； ｆ）グリコール反応器においてエチレンオキシドと水と
を反応させて水中におけるエチレングリコールを包含す
る生成物の流れを生成させる工程； ｇ）蒸発器において、工程（ｆ）において生成された生
成物の流れからの水を蒸発させてグリコール生成物の流
れを生成させ、次いで蒸発された水をグリコール反応器
に再循環させる工程；及び ｈ）再循環された水性ボトムスの一部を工程（ｄ）のス
トリッピング塔からパージの流れとして取り出し、次い
で該パージの流れを前記グリコール反応器及び／又は蒸
発器に導入する工程； ｉ）工程（ｇ）において生成されたグリコール生成物の
流れを蒸留してモノエチレングリコール生成物を生成さ
せる工程； を包含するエチレンオキシド及びエチレングリコールを
製造する方法において、モノ、ジ及び／又はトリエチレ
ングリコールならびに少なくとも１種のUV吸収剤及び／
又はUV吸収剤前駆物質を含有するパージの流れと、少な
くとも１種のUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質の選
択的浸透以上の選択的浸透をグリコールに対して示す半
透膜の一方の表面とを接触させることにより、工程
（ｄ）のストリッピング塔からの再循環水性ボトムスの
パージの流れを、該流れがグリコール反応器及び／又は
蒸発器に導入されるに先立って処理し、次いでパージの
流れにおけるUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質の濃
度よりも低いUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質の濃
度を有する浸透物を該半透膜の反対側表面の付近から取
り出すことを包含して成る前記方法の改良方法。
キシド生成条件下に酸素とエチレンとを反応させてエチ
レンオキシドを生成させる工程； ｂ）工程（ａ）において生成されたエチレンオキシドを
スクラッバー中において水に吸収させてエチレンオキシ
ド−水の流れを生成させる工程； ｃ）ストリッピング塔において、工程（ｂ）において生
成されたエチレンオキシド−水の流れからエチレンオキ
シドをストリップしてエチレンオキシド塔頂留出物の流
れ、及び水性ボトムスの流れを生成させ、ここに前記水
性ボトムスの流れは水、UV吸収剤及び／又はUV吸収剤前
駆物質、ならびにモノ、ジ及び／又はトリエチレングリ
コールを包含するものとする工程； ｄ）ストリッピング塔からの水性ボトムスを工程（ｂ）
のスクラッバーに再循環させる工程； ｅ）工程（ｃ）のストリッピング塔からのエチレンオキ
シド塔頂留出物を蒸留によって精製して精製エチレンオ
キシドの流れを生成させ、その流れの少なくとも一部を
グリコール反応器に導入する工程； ｆ）グリコール反応器においてエチレンオキシドと水と
を反応させて水中におけるエチレングリコールを包含す
る生成物の流れを生成させる工程； ｇ）蒸発器において、工程（ｆ）において生成された生
成物の流れからの水を蒸発させてグリコール生成物の流
れを生成させ、次いで蒸発された水をグリコール反応器
に再循環させる工程；及び ｈ）再循環された水性ボトムスの一部を工程（ｄ）のス
トリッピング塔からパージの流れとして取り出し、次い
で該パージの流れを前記グリコール反応器及び／又は蒸
発器に導入する工程； ｉ）工程（ｇ）において生成されたグリコール生成物の
流れを蒸留してモノエチレングリコール生成物を生成さ
せる工程； を包含するエチレンオキシド及びエチレングリコールを
製造する方法において、モノ、ジ及び／又はトリエチレ
ングリコールならびに少なくとも１種のUV吸収剤及び／
又はUV吸収剤前駆物質を含有するパージの流れと、少な
くとも１種のUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質の選
択的浸透以上の選択的浸透をグリコールに対して示す半
透膜の一方の表面とを接触させることにより、工程
（ｄ）のストリッピング塔からの再循環水性ボトムスの
パージの流れを、該流れがグリコール反応器及び／又は
蒸発器に導入されるに先立って処理し、次いでパージの
流れにおけるUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質の濃
度よりも低いUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質の濃
度を有する浸透物を該半透膜の反対側表面の付近から取
り出すことを包含して成る前記方法の改良方法。
67.UV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質が、１個もし
くはそれ以上の炭素原子を有する脂肪族有機酸、そのよ
うな脂肪族有機酸のアルカリ金属塩もしくはアルカリ土
類金属塩、又はそれらの組合せの１種もしくはそれ以上
である要点66記載の方法。
くはそれ以上の炭素原子を有する脂肪族有機酸、そのよ
うな脂肪族有機酸のアルカリ金属塩もしくはアルカリ土
類金属塩、又はそれらの組合せの１種もしくはそれ以上
である要点66記載の方法。
68.半透膜が非対称膜又は複合膜である要点66記載の方
法。
法。
69.複合膜がパージの流れに関して実質的に分離特性を
有しない多孔性支持体層と、該支持体層上に配置され、
複合膜の選択的浸透特性を実質的に定める分離層とを包
含する要点68記載の方法。
有しない多孔性支持体層と、該支持体層上に配置され、
複合膜の選択的浸透特性を実質的に定める分離層とを包
含する要点68記載の方法。
70.支持体層がポリスルホン、ポロレフィン、ポリフェ
ニレンスルフィド及びポリエーテルケトンの少なくとも
１種を包含する要点69記載の方法。
ニレンスルフィド及びポリエーテルケトンの少なくとも
１種を包含する要点69記載の方法。
71.支持体層がポリスルホンである要点69記載の方法。
72.分離層が、スルホン化ポリスルホン、セルロース重
合体、セルロースアセテート、ポリアミド、及びそれら
の混合物の少なくとも１種を包含する要点69記載の方
法。
合体、セルロースアセテート、ポリアミド、及びそれら
の混合物の少なくとも１種を包含する要点69記載の方
法。
73.分離層がスルホン化ポリスルホンである要点69記載
の方法。
の方法。
74.スルホン化ポリスルホンがスルホン化ビスフェノー
ルＡポリスルホンである要点73記載の方法。
ルＡポリスルホンである要点73記載の方法。
75.分離層がスルホン化ポリスルホンを包含し、かつ支
持体層がポリスルホンを包含する要点69記載の方法。
持体層がポリスルホンを包含する要点69記載の方法。
76.分離層がセルロースアセテートより構成され、かつ
支持体層がポリスルホンより構成される要点69記載の方
法。
支持体層がポリスルホンより構成される要点69記載の方
法。
77.半透膜が中空繊維形態である要点66記載の方法。
78.支持体層がアニールされた高分子物質である要点69
記載の方法。
記載の方法。
79.非対称膜がスルホン化ポリスルホン、セルロース重
合体、セルロースアセテート、ポリアミド、及びそれら
の混合物の少なくとも１種を包含する要点68記載の方
法。
合体、セルロースアセテート、ポリアミド、及びそれら
の混合物の少なくとも１種を包含する要点68記載の方
法。
80.非対称膜がスルホン化ポリスルホンである要点68記
載の方法。
載の方法。
81.スルホン化ポリスルホンがスルホン化スフェノール
Ａポリスルホンである要点80記載の方法。
Ａポリスルホンである要点80記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｇ 65/40 ＮＱＷ 75/20 ＮＴＶ (72)発明者 ダフロン、リズ アメリカ合衆国、ウエスト・バージニア 州、25314、チャールストン、エイ・ピ ー・ティ．1204、ラウンド・ヒル・ロード 1800番 (72)発明者 ロブソン、ジョン、ハワード アメリカ合衆国、ウエスト・バージニア 州、25314、チャールストン、ウイルキ ー・ドライブ 1429番 (72)発明者 ケラー、ジョージ、アーネスト ザ・セカ ンド アメリカ合衆国、ウエスト・バージニア 州、25303、サウス・チャールストン、エ レン・ドライブ 1207番
Claims (4)
- 【請求項１】１個又はそれ以上の炭素原子を有する脂肪
族有機酸、上記のような脂肪族有機酸のアルカリ金属塩
もしくはアルカリ土類金属塩、又はそれらの組合せを包
含する少なくとも１種の不純物成分からエチレングリコ
ールを分離する方法であって、ここに前記グリコール及
び前記少なくとも１種の不純物成分は前記グリコール及
び少なくとも１種の不純物に対する溶剤として作用する
ことのできる液状媒体に実質的に溶解しているものとす
る前記方法において、前記グリコール及び少なくとも１
種の不純物を含有する該液状媒体と、該少なくとも１種
の不純物の選択的浸透より以上の選択的浸透をグリコー
ルに対して示す半透膜の一方の表面とを接触させ、次い
で該半透膜の反対側表面の付近から、該液状媒体中にお
ける該少なくとも１種の不純物の濃度よりも低い該少な
くとも１種の不純物の濃度を有する浸透物を取り出すこ
とを包含して成る前記方法。 - 【請求項２】少なくとも１種のUV吸収剤及び／又はUV吸
収剤前駆物質からエチレングリコールを分離する方法で
あって、ここに前記グリコールならびに前記少なくとも
１種のUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質は前記グリ
コールならびに少なくとも１種のUV吸収剤及び／又は前
駆物質に対する溶剤として作用することのできる液状媒
体に実質的に溶解しているものとする前記方法におい
て、前記グリコールならびに少なくとも１種のUV吸収剤
及び／又は前駆物質を含有する該液状媒体と、該少なく
とも１種のUV吸収剤及び／又は前駆物質の選択的浸透よ
り以上の選択的浸透をグリコールに対して示す半透膜の
一方の表面とを接触させ、次いで、該半透膜の反対側表
面の付近から、液状媒体中における該UV吸収剤及び／又
は前駆物質の濃度よりも低い該UV吸収剤及び／又は前駆
物質の濃度を有する浸透物を取り出すことを包含して成
る前記方法。 - 【請求項３】ａ）反応器中において触媒の存在のもとに
エチレンオキシド生成条件下に酸素とエチレンとを反応
させてエチレンオキシドを生成させる工程； ｂ）工程（ａ）において生成されたエチレンオキシドを
スクラッバー中において水に吸収させてエチレンオキシ
ド−水の流れを生成させる工程； ｃ）ストリッピング塔において、工程（ｂ）において生
成されたエチレンオキシド−水の流れからエチレンオキ
シドをストリップしてエチレンオキシド塔頂留出物の流
れ及び水性ボトムスの流れを生成させ、ここに前記水性
ボトムスの流れは水、UV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆
物質、ならびにモノ、ジ、及び／又はトリエチレングリ
コールを包含するものとする工程； ｄ）ストリッピング塔からの水性ボトムスを工程（ｂ）
のスクラッバーに再循環させる工程； を包含するエチレンオキシドの製造方法において、再循
環水性ボトムスの一部をパージの流れとして工程（ｄ）
のストリッピング塔から取り出し、次いで前記グリコー
ル及び少なくとも１種のUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前
駆物質を含有するパージの流れを、グリコールに対して
少なくとも１種のUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質
の選択的浸透以上の選択的浸透を示す半透膜の一方の表
面と接触させることにより前記パージの流れの少なくと
も一部を処理し、次いで該パージの流れにおけるUV吸収
剤及び／又はUV吸収剤前駆物質の濃度よりも低いUV吸収
剤及び／又はUV吸収剤前駆物質の濃度を有する浸透物を
半透膜の反対側表面の付近から取り出すことを包含して
成る前記方法の改良方法。 - 【請求項４】ａ）反応器中において触媒の存在のもとに
エチレンオキシド生成条件下に酸素とエチレンとを反応
させてエチレンオキシドを生成させる工程； ｂ）工程（ａ）において生成されたエチレンオキシドを
スクラッバー中において水に吸収させてエチレンオキシ
ド−水の流れを生成させる工程； ｃ）ストリッピング塔において、工程（ｂ）において生
成されたエチレンオキシド−水の流れからエチレンオキ
シドをストリップしてエチレンオキシド塔頂留出物の流
れ、及び水性ボトムスの流れを生成させ、ここに前記水
性ボトムスの流れは水、UV吸収剤及び／又はUV吸収剤前
駆物質、ならびにモノ、ジ及び／又はトリエチレングリ
コールを包含するものとする工程； ｄ）ストリッピング塔からの水性ボトムスを工程（ｂ）
のスクラッパーに再循環させる工程； ｅ）工程（ｃ）のストリッピング塔からのエチレンオキ
シド塔頂留出物を蒸留によって精製して精製エチレンオ
キシドの流れを生成させ、その流れの少なくとも一部を
グリコール反応器に導入する工程； ｆ）グリコール反応器においてエチレンオキシドと水と
を反応させて水中におけるエチレングリコールを包含す
る生成物の流れを生成させる工程； ｇ）蒸発器において、工程（ｆ）において生成された生
成物の流れからの水を蒸発させてグリコール生成物の流
れを生成させ、次いで蒸発された水をグリコール反応器
に再循環させる工程；及び ｈ）再循環された水性ボトムスの一部を工程（ｄ）のス
トリッピング塔からパージの流れとして取り出し、次い
で該パージの流れを前記グリコール反応器及び／又は蒸
発器に導入する工程； ｉ）工程（ｇ）において生成されたグリコール生成物の
流れを蒸留してモノエチレングリコール生成物を生成さ
せる工程； を包含するエチレンオキシド及びエチレングリコールを
製造する方法において、モノ、ジ及び／又はトリエチレ
ングリコールならびに少なくとも１種のUV吸収剤及び／
又はUV吸収剤前駆物質を含有するパージの流れと、少な
くとも１種のUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質の選
択的浸透以上の選択的浸透をグリコールに対して示す半
透膜の一方の表面とを接触させることにより、工程
（ｄ）のストリッピング塔からの再循環水性ボトムスの
パージの流れを、該流れがグリコール反応器及び／又は
蒸発器に導入されるに先立って処理し、次いでパージの
流れにおけるUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質の濃
度よりも低いUV吸収剤及び／又はUV吸収剤前駆物質の濃
度を有する浸透物を該半透膜の反対側表面の付近から取
り出すことを包含して成る前記方法の改良方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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