JPH0721950A - X線発生装置及びx線照射方法 - Google Patents
X線発生装置及びx線照射方法Info
- Publication number
- JPH0721950A JPH0721950A JP17033992A JP17033992A JPH0721950A JP H0721950 A JPH0721950 A JP H0721950A JP 17033992 A JP17033992 A JP 17033992A JP 17033992 A JP17033992 A JP 17033992A JP H0721950 A JPH0721950 A JP H0721950A
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- Japan
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- film
- ray
- target
- irradiation
- trapping
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 ターゲットの蒸発粒子が被照射物に被着する
ことを防止し、更にX線の多重照射時においてもX線の
減少の無い安定したX線を照射する。 【構成】 真空雰囲気内に設けられたターゲット11に
量子線12を照射しX線14を発生させるX線源部とタ
ーゲットの蒸発物質15を捕獲する捕獲膜18及び真空
雰囲気と外部雰囲気とを隔絶しかつX線を透過するため
の照射窓を有する。
ことを防止し、更にX線の多重照射時においてもX線の
減少の無い安定したX線を照射する。 【構成】 真空雰囲気内に設けられたターゲット11に
量子線12を照射しX線14を発生させるX線源部とタ
ーゲットの蒸発物質15を捕獲する捕獲膜18及び真空
雰囲気と外部雰囲気とを隔絶しかつX線を透過するため
の照射窓を有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は量子線照射によるX線発
生装置に関する。
生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来この種のX線装置では一般にレーザ
ー光線等の量子線をAl等からなるターゲットに照射
し、ターゲット材料のプラズマ化により励起されたAl
等の原子が平衡状態に戻る時に発生するX線を用い、直
接あるいはBe等の窓を通して被照射物にX線照射する
ことが通例である。
ー光線等の量子線をAl等からなるターゲットに照射
し、ターゲット材料のプラズマ化により励起されたAl
等の原子が平衡状態に戻る時に発生するX線を用い、直
接あるいはBe等の窓を通して被照射物にX線照射する
ことが通例である。
【0003】図1に従来のレーザー光線によるX線発生
装置の断面構造図を示す。
装置の断面構造図を示す。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のX線
装置に置いては、真空雰囲気内のAlのターゲット1に
照射されたパルス状レーザー光線2によりAlのターゲ
ットが溶け、Alのプラズマ3が発生すると共に、この
プラズマ部分からX線4が発生すると同時にAlの蒸発
粒子5が発生し、被照射物6の表面にX線が照射される
と共にAlの蒸着膜7が形成される。このため、X線照
射後に被照射物等の表面のAlの蒸着膜7を除去する必
要があったり、多重にX線を照射する場合に照射回毎に
Alの蒸着膜7が厚くなり、X線量が減少するという様
な不都合が生じる。
装置に置いては、真空雰囲気内のAlのターゲット1に
照射されたパルス状レーザー光線2によりAlのターゲ
ットが溶け、Alのプラズマ3が発生すると共に、この
プラズマ部分からX線4が発生すると同時にAlの蒸発
粒子5が発生し、被照射物6の表面にX線が照射される
と共にAlの蒸着膜7が形成される。このため、X線照
射後に被照射物等の表面のAlの蒸着膜7を除去する必
要があったり、多重にX線を照射する場合に照射回毎に
Alの蒸着膜7が厚くなり、X線量が減少するという様
な不都合が生じる。
【0005】この発明は、X線照射量が安定な量子線照
射型X線源を有するX線発生装置を提供することを目的
とするものである。
射型X線源を有するX線発生装置を提供することを目的
とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】真空雰囲気中でX線を発
生させるX線発生装置において、レーザー光線、イオン
線、電子線等の量子線をターゲットに照射することによ
り、X線が発生されるX線源部、前記X線源部とそのX
線源部から発生するX線が照射される大気雰囲気中に設
けられた被照射物との間に存在し、前記X線源部から発
生するX線とともに放出される前記ターゲットの蒸発物
質を捕獲するBe膜、合成樹脂膜、雲母膜、Si膜等X
線透過能の大なる捕獲膜、前記捕獲膜と前記被照射物と
の間に存在し、かつ前記真空雰囲気と前記大気雰囲気を
隔絶するX線透過能の大なる照射窓を有することを特徴
とする。
生させるX線発生装置において、レーザー光線、イオン
線、電子線等の量子線をターゲットに照射することによ
り、X線が発生されるX線源部、前記X線源部とそのX
線源部から発生するX線が照射される大気雰囲気中に設
けられた被照射物との間に存在し、前記X線源部から発
生するX線とともに放出される前記ターゲットの蒸発物
質を捕獲するBe膜、合成樹脂膜、雲母膜、Si膜等X
線透過能の大なる捕獲膜、前記捕獲膜と前記被照射物と
の間に存在し、かつ前記真空雰囲気と前記大気雰囲気を
隔絶するX線透過能の大なる照射窓を有することを特徴
とする。
【0007】
【実施例】図2にこのX線発生の一実施例を示す。図2
において、11はAlの回転ターゲット、12はレーザ
ー光線等の量子線、13は発生したAlのプラズマであ
り、14はX線、15はAlの蒸発粒子であり、16は
被照射物、17はBe等からなる捕獲膜18上に形成さ
れたAlの蒸着膜である。
において、11はAlの回転ターゲット、12はレーザ
ー光線等の量子線、13は発生したAlのプラズマであ
り、14はX線、15はAlの蒸発粒子であり、16は
被照射物、17はBe等からなる捕獲膜18上に形成さ
れたAlの蒸着膜である。
【0008】ターゲット部より放出されたX線は捕獲膜
18がX線透過能下なる材料で形成されているため、捕
獲膜18を通過し、被照射物16に達するのに対し、タ
−ゲット部より放出されたAlの蒸発粒子15は捕獲膜
18により捕獲され、被照射物表面に蒸着することはな
い。しかも、この捕獲膜18を照射毎あるいは連続的に
回転操作等により更新することにより、多重照射時のX
線減少を防ぐことができる。
18がX線透過能下なる材料で形成されているため、捕
獲膜18を通過し、被照射物16に達するのに対し、タ
−ゲット部より放出されたAlの蒸発粒子15は捕獲膜
18により捕獲され、被照射物表面に蒸着することはな
い。しかも、この捕獲膜18を照射毎あるいは連続的に
回転操作等により更新することにより、多重照射時のX
線減少を防ぐことができる。
【0009】なお、上述した実施例では被照射物をター
ゲット及び捕獲膜が設置されたと同一の真空雰囲内に設
置される構成としたが、捕獲膜と被照射物との間に今一
つBe膜等による窓を設け、被照射物を大気中等外部雰
囲気に設置してもよい。
ゲット及び捕獲膜が設置されたと同一の真空雰囲内に設
置される構成としたが、捕獲膜と被照射物との間に今一
つBe膜等による窓を設け、被照射物を大気中等外部雰
囲気に設置してもよい。
【0010】また、量子線はレーザー光線のみならず、
電子線、イオン線等の他の量子線としてもよい。
電子線、イオン線等の他の量子線としてもよい。
【0011】さらには、この発明の捕獲膜はBe膜の
他、合成樹脂膜、Si膜、雲母膜等のx線透過能の大な
る膜を用いてもよい。
他、合成樹脂膜、Si膜、雲母膜等のx線透過能の大な
る膜を用いてもよい。
【0012】
【発明の効果】以上説明したように、この発明は蒸発し
たターゲット材が捕獲膜で捕獲され、かつ捕獲膜が更新
可能なため、安定なX線源を得ることが出来る利点があ
る。
たターゲット材が捕獲膜で捕獲され、かつ捕獲膜が更新
可能なため、安定なX線源を得ることが出来る利点があ
る。
【図1】 従来のX線装置の一例を示す要部の概略構成
を示す図である。
を示す図である。
【図2】 この発明の一実施例を示す図である。
1,11…回転タ−ゲット 2,12…量子線 3,13…プラズマ 4,14…X線 5,15…蒸発粒子 6,16…被照射物 7,17…蒸着膜 18 ……捕獲膜
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年7月29日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】 X線発生装置及びX線照射方法
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0001
【補正方法】変更
【補正内容】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は量子線照射によるX線発
生装置及びX線照射方法に関する。
生装置及びX線照射方法に関する。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0005
【補正方法】変更
【補正内容】
【0005】この発明は、X線照射量が安定な量子線照
射型X線源を有するX線発生装置を提供することを目的
とし、特に被照射対象の自由度の大きなX線発生装置を
提供することを目的とするものである。
射型X線源を有するX線発生装置を提供することを目的
とし、特に被照射対象の自由度の大きなX線発生装置を
提供することを目的とするものである。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0011
【補正方法】変更
【補正内容】
【0011】さらには、この発明の捕獲膜はBe膜の
他、合成樹脂膜、Si膜、雲母膜等のX線透過能の大な
る膜を用いてもよい。また捕獲膜と被照射物との間に今
一つBe膜等による窓を設ける場合においてもBe膜の
他、合成樹脂膜、Si膜、雲母膜等のX線透過能の大な
る膜を用いてもよい。
他、合成樹脂膜、Si膜、雲母膜等のX線透過能の大な
る膜を用いてもよい。また捕獲膜と被照射物との間に今
一つBe膜等による窓を設ける場合においてもBe膜の
他、合成樹脂膜、Si膜、雲母膜等のX線透過能の大な
る膜を用いてもよい。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0012
【補正方法】変更
【補正内容】
【0012】
【発明の効果】以上説明したように、この発明は蒸発し
たターゲット材が捕獲膜で捕獲され、かつ捕獲膜が更新
可能なため、安定なX線源を得ることが出来る利点があ
る。また被照射物を大気雰囲気等の外部雰囲気に設置す
ることにより、被照射物の対象の自由度が増す、言い換
えれば、被対象物の形状、大小にかかわらずX線を照射
することが可能となるという効果を有する。
たターゲット材が捕獲膜で捕獲され、かつ捕獲膜が更新
可能なため、安定なX線源を得ることが出来る利点があ
る。また被照射物を大気雰囲気等の外部雰囲気に設置す
ることにより、被照射物の対象の自由度が増す、言い換
えれば、被対象物の形状、大小にかかわらずX線を照射
することが可能となるという効果を有する。
Claims (1)
- 【請求項1】 真空雰囲気中でX線を発生させるX線発
生装置において、レーザー光線、イオン線、電子線等の
量子線をターゲットに照射することにより、X線が発生
されるX線源部、前記X線源部とそのX線源部から発生
するX線が照射される大気雰囲気中に設けられた被照射
物との間に存在し、前記X線源部から発生するX線とと
もに放出される前記ターゲットの蒸発物質を捕獲するB
e膜、合成樹脂膜、雲母膜、Si膜等X線透過能の大な
る捕獲膜、前記捕獲膜と前記被照射物との間に存在し、
かつ前記真空雰囲気と前記大気雰囲気を隔絶するX線透
過能の大なる照射窓を有することを特徴とするX線発生
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17033992A JPH0721950A (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | X線発生装置及びx線照射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17033992A JPH0721950A (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | X線発生装置及びx線照射方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56016146A Division JPS57130350A (en) | 1981-02-05 | 1981-02-05 | X-ray device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0721950A true JPH0721950A (ja) | 1995-01-24 |
Family
ID=15903097
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17033992A Pending JPH0721950A (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | X線発生装置及びx線照射方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0721950A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007259057A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Alps Electric Co Ltd | 車載用信号受信装置及び信号受信方法 |
KR20190001992A (ko) * | 2017-06-29 | 2019-01-08 | (주)선재하이테크 | 탈부착 가능한 방수형 연x선관 모듈을 가진 이오나이저 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5342694A (en) * | 1976-09-30 | 1978-04-18 | Toshiba Corp | X-ray tube |
JPS5367673A (en) * | 1976-11-29 | 1978-06-16 | Ebara Corp | Exchanging method for window foil of incidence window of reactor fortreating exhaust gas irradiated with radioactive rays |
JPS549594A (en) * | 1977-06-23 | 1979-01-24 | Nec Corp | X-ray generator |
-
1992
- 1992-06-29 JP JP17033992A patent/JPH0721950A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5342694A (en) * | 1976-09-30 | 1978-04-18 | Toshiba Corp | X-ray tube |
JPS5367673A (en) * | 1976-11-29 | 1978-06-16 | Ebara Corp | Exchanging method for window foil of incidence window of reactor fortreating exhaust gas irradiated with radioactive rays |
JPS549594A (en) * | 1977-06-23 | 1979-01-24 | Nec Corp | X-ray generator |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007259057A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Alps Electric Co Ltd | 車載用信号受信装置及び信号受信方法 |
KR20190001992A (ko) * | 2017-06-29 | 2019-01-08 | (주)선재하이테크 | 탈부착 가능한 방수형 연x선관 모듈을 가진 이오나이저 |
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