JPH07178655A - ガラス板の研磨方法 - Google Patents

ガラス板の研磨方法

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JPH07178655A
JPH07178655A JP32760893A JP32760893A JPH07178655A JP H07178655 A JPH07178655 A JP H07178655A JP 32760893 A JP32760893 A JP 32760893A JP 32760893 A JP32760893 A JP 32760893A JP H07178655 A JPH07178655 A JP H07178655A
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polishing
center
rotating
glass plate
revolution
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JP32760893A
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Yoshihiro Kitagawa
良弘 北川
Yasuo Teranishi
妥夫 寺西
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Nippon Electric Glass Co Ltd
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  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 液晶用等の精度の高い平坦度、平面度を必要
とするガラス板を均一に研磨し得る方法を提供するこ
と。 【構成】 複数の研磨円板5の中心を遊星回転機構6の
自転中心7から偏心させて取り付け、かつ、研磨円板5
が公転中心8を通過するように偏心回転させて、複数の
研磨円板5間の相互干渉を回避しつつ公転中心8部に研
磨不能領域が発生することを防止した。もう1つは、遊
星回転する複数の研磨板5’を楕円形又は長方形とし、
その回転中心を遊星回転機構6の自転中心7に一致させ
て取り付け、かつ、研磨板5’が公転中心8を通過する
ように回転させて、複数の研磨板5’間の相互干渉を回
避しつつ公転中心8部に研磨不能領域が発生することを
防止した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス板の表面を研磨
する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来この種のガラス板の研磨方法とし
て、複数の研磨円板を自転させつつ公転させる方法が多
く採用されている。図3は、従来の研磨方法の平面説明
図であり、(2)は研磨円板(1)の自転中心を、
(3)は公転中心を示している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の研磨方法では、
複数の研磨円板間の相互干渉を回避するため、公転中心
部に研磨不能領域(4)が発生し、この部分のガラス板
の表面に研磨円板の外周軌跡が残り、研磨面の平坦度、
平面度が悪いという欠点があった。
【0004】本発明の目的は、前記従来の研磨方法に比
べて、液晶用等の精度の高い平坦度、平面度を必要とす
るガラス板を均一に研磨し得る方法を提供することにあ
る。
【課題を解決するための手段】
【0005】上記目的を達成するため、本発明の1つ
は、複数の研磨円板を遊星回転機構により自転させつつ
公転させるガラス板の研磨方法において、研磨円板の中
心を遊星回転機構の自転中心から偏心させて取り付け、
かつ、研磨円板が公転中心を通過するように偏心回転さ
せて研磨するものである。
【0006】本発明のもう1つは、複数の研磨板を遊星
回転機構により自転させつつ公転させるガラス板の研磨
方法において、研磨板を楕円形又は長方形とし、その回
転中心を遊星回転機構の自転中心と一致させて取り付
け、かつ、研磨板が公転中心を通過するように回転させ
て研磨するものである。
【0007】
【作用】本発明の第1の方法は、複数の研磨円板の中心
を遊星回転機構の自転中心から偏心させ、かつ、研磨円
板が公転中心を通過するように偏心回転させたから、複
数の研磨円板間の相互干渉を回避しつつ公転中心部に研
磨不能領域が発生することを防止できる。
【0008】本発明の第2の方法は、遊星回転する複数
の研磨板を楕円形又は長方形とし、その回転中心を遊星
回転機構の自転中心と一致させて取り付け、かつ、研磨
板が公転中心を通過するように回転させたから、複数の
研磨板間の相互干渉を回避しつつ公転中心部に研磨不能
領域が発生することを防止できる。
【0009】
【実施例】図1の(A)(B)は、第1発明の研磨方法
の平面説明図及び研磨ヘッドの実施例を示す縦断側面図
であって、複数(図は3個)の研磨円板(5)を遊星回
転機構(6)により自転させつつ公転させるガラス板の
研磨方法において、研磨円板(5)の中心を遊星回転機
構の自転中心(7)から偏心させて取り付け、かつ、研
磨円板(5)が公転中心(8)を通過するように偏心回
転させてガラス板(9)を研磨するものである。
【0010】上記遊星回転機構(6)は、研磨ヘッド
(図示省略)に回転可能に軸受けされた公転軸(6a)
の周囲に基板(6c)及び軸受け筒(6d)を介して自
転軸(6b)を120度の間隔で同心円上に配置し、各
自転軸(6b)は、同一方向に同一速度で自転し、公転
軸(6a)は、自転軸(6b)と同一方向又は逆方向に
公転駆動される。
【0011】上記各自転軸(6b)には、研磨円板
(5)を図1の(A)及び(B)に示す関係位相に偏心
させて取り付ける。この研磨円板(5)の研磨面には、
研磨用フェルトや研磨用バフ等の研磨具(5a)を取り
付けるものである。また、各自転軸(6b)には、バラ
ンスウエイト(6e)を取り付けて、各研磨円板(5)
の偏心回転による軸振動の発生を相殺させるようにして
いる。なお、研磨ヘッドは、ガラス板(9)の研磨中、
図1の(A)に矢印(x)で示す方向にシリンダ等の往
復動手段で往復動可能とされている。また、ガラス板
(9)は、その研磨中、図1の(A)に矢印(y)で示
す方向に移動可能とされている。
【0012】上記第1発明の研磨方法によれば、図1の
(A)に示すような回転軌跡を描いて各研磨円板(5)
が相互干渉することなく自転しながら公転し、各研磨円
板(5)が公転中心(8)を通過するため、公転中心
(8)付近に研磨不能領域が発生せず、ガラス板(9)
を均一に研磨することができる。なお、ガラス板(9)
の研磨に際しては、適当な粒径の酸化セリウムやベンガ
ラ等を水その他の液体に混入した研磨剤をガラス板
(9)の表面と研磨円板(5)の研磨具(5a)との間
に供給する。この研磨剤の供給は、各自転軸(6b)の
中心孔、公転軸(6a)の中心孔、外部ノズルの何れか
を経由して行うものである。
【0013】次に、図2の(A)(B)は、第2発明の
研磨方法の平面説明図及び研磨ヘッドの実施例を示す縦
断側面図であって、複数(図は2個)の研磨板(5’)
を楕円形とし、その回転中心を遊星回転機構(6)の自
転中心(7)に一致させて取り付け、かつ、研磨板
(5’)が遊星回転機構(6)の公転中心(8)を通過
するように回転させてガラス板(9)を研磨するもので
ある。
【0014】上記遊星回転機構(6)は、研磨ヘッド
(図示省略)に回転可能に軸受けされた公転軸(6a)
の周囲に基板(6c)及び軸受け筒(6d)を介して自
転軸(6b)を180度の間隔で同心円上に配置し、各
自転軸(6b)は、同一方向又は逆方向に同一速度で自
転し、公転軸(6a)は、自転軸(6b)と同一方向又
は逆方向に公転駆動される。
【0015】上記各自転軸(6b)には、研磨板
(5’)を図2の(A)及び(B)に示す関係位相(9
0度の位相差)で取り付ける。この研磨板(5’)の研
磨面には、研磨用フェルトや研磨用バフ等の研磨具(5
a’)を取り付けるものである。なお、研磨ヘッドは、
ガラス板(9)の研磨中、図2の(A)に矢印(x)で
示す方向にシリンダ等の往復動手段で往復動可能とされ
ている。また、ガラス板(9)は、その研磨中、図2の
(A)に矢印(y)で示す方向に移動可能とされてい
る。
【0016】上記第2発明の研磨方法によれば、図2の
(A)に示すような回転軌跡を描いて各研磨板(5’)
が相互干渉することなく自転しながら公転し、各研磨板
(5’)が公転中心(8)を通過するため、公転中心
(8)付近に研磨不能領域が発生せず、ガラス板(9)
を均一に研磨することができる。なお、ガラス板(9)
の研磨に際しては、適当な研磨剤を供給して行うもので
ある。
【0017】上記第2発明は、楕円形の研磨板(5’)
を用いて実施した場合を例示したが、これに代えて、長
方形の研磨板を使用しても同様な作用効果が得られる。
【0018】また、第1発明及び第2発明の実施例は、
研磨ヘッド(図示省略)及びガラス板(9)を往復動及
び移動させる場合を例示したが、何れか一方を固定した
状態で実施することも可能である。
【0019】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、複数の研磨円
板の中心を遊星回転機構の自転中心から偏心させて取り
付け、かつ、研磨円板が公転中心を通過するように偏心
回転させたから、複数の研磨円板間の相互干渉を回避し
つつ公転中心部に研磨不能領域が発生することを防止で
き、均一で、最大外周跡が残らず、精度の高い平坦度、
平面度を必要とするガラス板製品を提供することができ
る。
【0020】請求項2の発明によれば、遊星回転する複
数の研磨板を楕円形又は長方形とし、その回転中心を遊
星回転機構の自転中心と一致させて取り付け、かつ、研
磨板が公転中心を通過するように回転させたから、複数
の研磨板間の相互干渉を回避しつつ公転中心部に研磨不
能領域が発生することを防止でき、均一で、最大外周跡
が残らず、精度の高い平坦度、平面度を必要とするガラ
ス板製品を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)は第1発明の研磨方法の平面説明図、
(B)はその研磨ヘッドの実施例を示す側面図で、左半
分は断面を示す。
【図2】(A)は第2発明の研磨方法の平面説明図、
(B)はその研磨ヘッドの実施例を示す側面図で、左半
分は断面を示す。
【図3】従来の研磨方法の平面説明図である。
【符号の説明】
5 研磨円板 5’ 研磨板 6 遊星回転機構 7 自転中心 8 公転中心 9 ガラス板

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の研磨円板を遊星回転機構により自
    転させつつ公転させるガラス板の研磨方法において、研
    磨円板の中心を遊星回転機構の自転中心から偏心させて
    取り付け、かつ、研磨円板が公転中心を通過するように
    偏心回転させて研磨することを特徴とするガラス板の研
    磨方法。
  2. 【請求項2】 複数の研磨板を遊星回転機構により自転
    させつつ公転させるガラス板の研磨方法において、研磨
    板を楕円形又は長方形とし、その回転中心を遊星回転機
    構の自転中心と一致させて取り付け、かつ、研磨板が公
    転中心を通過するように回転させて研磨することを特徴
    とするガラス板の研磨方法。
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