JPH0717759B2 - プロピレン系樹脂成形品 - Google Patents
プロピレン系樹脂成形品Info
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- JPH0717759B2 JPH0717759B2 JP61177323A JP17732386A JPH0717759B2 JP H0717759 B2 JPH0717759 B2 JP H0717759B2 JP 61177323 A JP61177323 A JP 61177323A JP 17732386 A JP17732386 A JP 17732386A JP H0717759 B2 JPH0717759 B2 JP H0717759B2
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- Japan
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- tert
- butyl
- bis
- hydroxy
- molded product
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/12—Chemical modification
- C08J7/123—Treatment by wave energy or particle radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2023/00—Use of polyalkenes or derivatives thereof as moulding material
- B29K2023/10—Polymers of propylene
- B29K2023/12—PP, i.e. polypropylene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2323/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers
- C08J2323/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers not modified by chemical after treatment
- C08J2323/10—Homopolymers or copolymers of propene
- C08J2323/12—Polypropene
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、特定の添加剤を含有し、表面を低温プラズマ
処理してなるポリプロピレン系樹脂成形品に関し、詳し
くは、ポリプロピレン系樹脂に対し、1−アルキルまた
はアシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル基を有す
る化合物を含有せしめた成形品を、低温プラズマ処理し
てなる耐候性及び塗装性の改良された、ポリプロピレン
系樹脂成形品に関する。
処理してなるポリプロピレン系樹脂成形品に関し、詳し
くは、ポリプロピレン系樹脂に対し、1−アルキルまた
はアシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル基を有す
る化合物を含有せしめた成形品を、低温プラズマ処理し
てなる耐候性及び塗装性の改良された、ポリプロピレン
系樹脂成形品に関する。
ポリプロピレン系樹脂は、力学的性質、熱的性質、成形
性等が優れており、また、軽量であり、比較的安価であ
ることから各種の成形品として用いられている。
性等が優れており、また、軽量であり、比較的安価であ
ることから各種の成形品として用いられている。
しかしながら、ポリプロピレン系樹脂は、塗料に対する
接着性に劣るため、塗装、印刷あるいは接着を要する用
途での使用は限定されざるを得ず、このため、ポリプロ
ピレン系樹脂の接着性を改良することが検討されてい
る。
接着性に劣るため、塗装、印刷あるいは接着を要する用
途での使用は限定されざるを得ず、このため、ポリプロ
ピレン系樹脂の接着性を改良することが検討されてい
る。
従来、ポリプロピレン系樹脂の接着性を改良するため
に、特殊なプライマ塗装が行われていたが、作業性が悪
く、高コストであることから、近年は酸化性ガスによる
プラズマ表面処理により、成形品表面の接着性を改良す
ることが行われており、この方法により、ポリプロピレ
ン系樹脂の接着性はほぼ満足しえるまでに改良されてい
る。
に、特殊なプライマ塗装が行われていたが、作業性が悪
く、高コストであることから、近年は酸化性ガスによる
プラズマ表面処理により、成形品表面の接着性を改良す
ることが行われており、この方法により、ポリプロピレ
ン系樹脂の接着性はほぼ満足しえるまでに改良されてい
る。
また、ポリプロピレン系樹脂は、耐候性が劣る欠点があ
り、例えば、自動車バンパ等の如く屋外で使用される成
形品については、耐候性を改良することが必須であり、
この耐候性を改良するために、各種の安定剤が使用され
ている。
り、例えば、自動車バンパ等の如く屋外で使用される成
形品については、耐候性を改良することが必須であり、
この耐候性を改良するために、各種の安定剤が使用され
ている。
これらの安定剤の内でも、分子中に2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル基を有する化合物はその安定化効果が大
きく、塗装を施される成形品にも、未塗装部分からの劣
化を防止するために添加されている。
チルピペリジル基を有する化合物はその安定化効果が大
きく、塗装を施される成形品にも、未塗装部分からの劣
化を防止するために添加されている。
しかしながら、分子中に2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジル基を有する化合物を含有するポリプロピレン系樹脂
成形品の接着性を改良するために、低温プラズマ処理を
行った場合、接着性の改善の程度が著しく低下し、塗膜
の剥がれあるいは膨れを生ずることが多く、大きな問題
となっていた。
ジル基を有する化合物を含有するポリプロピレン系樹脂
成形品の接着性を改良するために、低温プラズマ処理を
行った場合、接着性の改善の程度が著しく低下し、塗膜
の剥がれあるいは膨れを生ずることが多く、大きな問題
となっていた。
本発明は、このような現状に鑑み、ポリプロピレン系樹
脂に対し、次の一般式(I)で表される基を有する1−
アルキルまたはアシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジル基を有する化合物およびフェノール系酸化防止剤を
含有せしめた成形品を、低温プラズマ処理してなる耐候
性及び接着性に優れたポリプロピレン系樹脂成形品を提
供するものである。
脂に対し、次の一般式(I)で表される基を有する1−
アルキルまたはアシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジル基を有する化合物およびフェノール系酸化防止剤を
含有せしめた成形品を、低温プラズマ処理してなる耐候
性及び接着性に優れたポリプロピレン系樹脂成形品を提
供するものである。
(式中、Rは炭素原子数1〜18のアルキル基または炭素
原子数1〜18のアシル基を示す。) 以下、上記要旨をもってなる本発明について詳述する。
原子数1〜18のアシル基を示す。) 以下、上記要旨をもってなる本発明について詳述する。
上記式(I)において、Rで表されるアルキル基として
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、2−
エチルヘキシル、デシル、ドデシル、テトラデシル、オ
クタデシル等の非置換アルキル基及びベンジル、フェニ
ルエチル、2−ヒドロキシエチル、2,3−エポキシプロ
ピル等の置換アルキル基があげられ、また、アシル基と
しては、アセチル、プロピオニル、アクリロイル、メタ
クリロイル、ブチロイル、オクタノイル、デカノイル、
ドデカノイル、オクタデカノイル、ベンゾイル、4−第
3ブチルベンゾイル等があげられる。
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、2−
エチルヘキシル、デシル、ドデシル、テトラデシル、オ
クタデシル等の非置換アルキル基及びベンジル、フェニ
ルエチル、2−ヒドロキシエチル、2,3−エポキシプロ
ピル等の置換アルキル基があげられ、また、アシル基と
しては、アセチル、プロピオニル、アクリロイル、メタ
クリロイル、ブチロイル、オクタノイル、デカノイル、
ドデカノイル、オクタデカノイル、ベンゾイル、4−第
3ブチルベンゾイル等があげられる。
本発明で用いられる、分子中に1−アルキルまたはアシ
ル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル基を有する化合
物としては、例えば、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−
ピペリジルベンゾエート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1−ベンジ
ル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケ
ート、ビス(1−アセチル−2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)セバケート、テトラキス(1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジル)ブタンテラカルボキ
シレート、テトラキス(1−オクチル−2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)ブタンテラカルボキシレー
ト、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジ
ル)−2−ブチル−2−(3,5ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)マロネート、ビス(1−アクリロイル
−22,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−2−ブチ
ル−2−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)マロネート、ビス〔1,2,2,6,6−ペンタメチル−4
−ピペリジル)ジ(トリデシル)ブタンテトラカルボキ
シレート、ビス〔1−(2,3−エポキシプロピル)−2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ジ(トリデシ
ル)ブタンテトラカルボキシレート、N−(1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジル)ドデシルコハク酸イ
ミド、3,9−ビス〔1,1−ジメチル−2−トリス(1,2,2,
6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルオキシカルボニ
ル)ブチルカルボニルオキシエチル〕−2,4,8,10−テト
ラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン、1,3,8−トリアザ−
7,7,9,9−テトラメチル−3−ドデシル−8−アセチル
スピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、ビス(3−エチル
−8,8,9,10,10−ペンタメチル−1,5−ジオキサスピロ
〔5.5〕−3−ウンデシルメチルエーテル等があげられ
る。
ル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル基を有する化合
物としては、例えば、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−
ピペリジルベンゾエート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1−ベンジ
ル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケ
ート、ビス(1−アセチル−2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)セバケート、テトラキス(1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジル)ブタンテラカルボキ
シレート、テトラキス(1−オクチル−2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)ブタンテラカルボキシレー
ト、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジ
ル)−2−ブチル−2−(3,5ジ第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)マロネート、ビス(1−アクリロイル
−22,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−2−ブチ
ル−2−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)マロネート、ビス〔1,2,2,6,6−ペンタメチル−4
−ピペリジル)ジ(トリデシル)ブタンテトラカルボキ
シレート、ビス〔1−(2,3−エポキシプロピル)−2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ジ(トリデシ
ル)ブタンテトラカルボキシレート、N−(1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジル)ドデシルコハク酸イ
ミド、3,9−ビス〔1,1−ジメチル−2−トリス(1,2,2,
6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルオキシカルボニ
ル)ブチルカルボニルオキシエチル〕−2,4,8,10−テト
ラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン、1,3,8−トリアザ−
7,7,9,9−テトラメチル−3−ドデシル−8−アセチル
スピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、ビス(3−エチル
−8,8,9,10,10−ペンタメチル−1,5−ジオキサスピロ
〔5.5〕−3−ウンデシルメチルエーテル等があげられ
る。
これらの化合物の添加量は、樹脂100重量部に対し、0.0
01〜5、好ましくは0.01〜3重量部である。
01〜5、好ましくは0.01〜3重量部である。
本発明で用いられるポリプロピレン系樹脂は、プロピレ
ン単独重合体、エチレンまたは他のα−オレフィンを1
〜30重量%含有するプロピレンとα−オレフィンとのラ
ンダムまたはブロック共重合体等であり、また、上記樹
脂と、低〜高密度ポリエチレン、エチレン/酢酸ビニル
共重合体、エチレン/プロピレン共重合ラバー、スチレ
ン/ブタジエンブロック共重合ラバー等とのブレンドも
あげられる。
ン単独重合体、エチレンまたは他のα−オレフィンを1
〜30重量%含有するプロピレンとα−オレフィンとのラ
ンダムまたはブロック共重合体等であり、また、上記樹
脂と、低〜高密度ポリエチレン、エチレン/酢酸ビニル
共重合体、エチレン/プロピレン共重合ラバー、スチレ
ン/ブタジエンブロック共重合ラバー等とのブレンドも
あげられる。
また、本発明のポリプロピレン系樹脂の酸化安定性を改
善するためにフェノール系酸化防止剤が使用される。
善するためにフェノール系酸化防止剤が使用される。
本発明で使用できるフェノール系酸化防止剤としては、
2,6−ジ第3ブチル−p−クレゾール、2,6−ジフェニル
−4−オクタデシロキシフェノール、ステアリル(3,5
−ジ第3ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ
ート、ジステアリル(3,5−ジ第3ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)ホスホネート、チオジエチレングリコー
ルビス〔(3,5−ジ第3ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオネート〕、4,4′−チオビス(6−第3ブ
チル−m−クレゾール)、2−オクチルチオ−4,6−ジ
(3,5−ジヒドロキシフェノキシ)−s−トリアジン、
2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−第3ブチルフ
ェノール)、2,2,′−メチレンビス(4−エチル−6−
第3ブチルフェノール)、ビス〔3,3−(4−ヒドロキ
シ−3−第3ブチルフェニル)ブチリックアシッド〕グ
リコールエステル、4,4′−ブチリデンビス(6−第3
ブチル−m−クレゾール)、2,2′−エチリデンビス
(4,6−ジ第3ブチルフェノール)、2,2′−エチリデン
ビス(4−第2ブチル−6−第3ブチルフェノール)、
1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第
3ブチルフェニル)ブタン、ビス〔2−第3ブチル−4
−メチル−6−(2−ヒドロキシ−3−第3ブチル−5
−メチルベンジル)フェニル〕テレフタレート、1,3,5
−トリス(2,6−ジメチル−3−ヒドロキシ−4−第3
ブチルベンジル〕イソシアヌレート、1,3,5−トリス
(3,5−ジ第3ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ル)
イソシアヌレート、1,3,5−トリス(3,5−ジ第3ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベン
ゼン、1,3,5−トリス〔3,5−ジ第3ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌ
レート、テトラキス〔メチレン−3−(3,5−ジ第3ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタ
ン、2−第3ブチル−4−メチル−6−(2′−アクリ
ロイルオキシ−3′−第3ブチル−5′−メチルベンジ
ル)フェノール、3,9−ビス(1′,1′−ジメチル−
2′−ヒドロキシエチル)−2,4,8,10−テトラオキサス
ピロ〔5.5〕ウンデカンビス〔β−(3−第3ブチル−
4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオネー
ト〕、トリエチレングリコールビス〔β−(3−第3ブ
チル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオ
ネート〕等が挙げられる。
2,6−ジ第3ブチル−p−クレゾール、2,6−ジフェニル
−4−オクタデシロキシフェノール、ステアリル(3,5
−ジ第3ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ
ート、ジステアリル(3,5−ジ第3ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)ホスホネート、チオジエチレングリコー
ルビス〔(3,5−ジ第3ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオネート〕、4,4′−チオビス(6−第3ブ
チル−m−クレゾール)、2−オクチルチオ−4,6−ジ
(3,5−ジヒドロキシフェノキシ)−s−トリアジン、
2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−第3ブチルフ
ェノール)、2,2,′−メチレンビス(4−エチル−6−
第3ブチルフェノール)、ビス〔3,3−(4−ヒドロキ
シ−3−第3ブチルフェニル)ブチリックアシッド〕グ
リコールエステル、4,4′−ブチリデンビス(6−第3
ブチル−m−クレゾール)、2,2′−エチリデンビス
(4,6−ジ第3ブチルフェノール)、2,2′−エチリデン
ビス(4−第2ブチル−6−第3ブチルフェノール)、
1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第
3ブチルフェニル)ブタン、ビス〔2−第3ブチル−4
−メチル−6−(2−ヒドロキシ−3−第3ブチル−5
−メチルベンジル)フェニル〕テレフタレート、1,3,5
−トリス(2,6−ジメチル−3−ヒドロキシ−4−第3
ブチルベンジル〕イソシアヌレート、1,3,5−トリス
(3,5−ジ第3ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ル)
イソシアヌレート、1,3,5−トリス(3,5−ジ第3ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベン
ゼン、1,3,5−トリス〔3,5−ジ第3ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌ
レート、テトラキス〔メチレン−3−(3,5−ジ第3ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタ
ン、2−第3ブチル−4−メチル−6−(2′−アクリ
ロイルオキシ−3′−第3ブチル−5′−メチルベンジ
ル)フェノール、3,9−ビス(1′,1′−ジメチル−
2′−ヒドロキシエチル)−2,4,8,10−テトラオキサス
ピロ〔5.5〕ウンデカンビス〔β−(3−第3ブチル−
4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオネー
ト〕、トリエチレングリコールビス〔β−(3−第3ブ
チル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオ
ネート〕等が挙げられる。
これらのフェノール系抗酸化剤の添加量は、樹脂100重
量部に対し0.001〜5、好ましくは0.01〜3重量部であ
る。
量部に対し0.001〜5、好ましくは0.01〜3重量部であ
る。
また、本発明のポリプロピレン系樹脂には、必要に応じ
て、チオエーテル系酸化防止剤、有機ホスファイト化合
物等の有機燐化合物、紫外線吸収剤を加え、その酸化安
定性及び光安定性を更に改善することができる。
て、チオエーテル系酸化防止剤、有機ホスファイト化合
物等の有機燐化合物、紫外線吸収剤を加え、その酸化安
定性及び光安定性を更に改善することができる。
チオエーテル系抗酸化剤としては、チオジプロピオン酸
のジラウリル、ジミリスチル、ジステアリルエステル等
のジアルキルチオジプロピオネート類及びペンタエリス
リトールテトラ(β−ドデシルメルカプトプロピオネー
ト)等のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロピオ
ン酸エステル類があげられる。
のジラウリル、ジミリスチル、ジステアリルエステル等
のジアルキルチオジプロピオネート類及びペンタエリス
リトールテトラ(β−ドデシルメルカプトプロピオネー
ト)等のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロピオ
ン酸エステル類があげられる。
有機含燐化合物としては、トリスノニルフェニルホスフ
ァイト、トリス(2,4−ジ第3ブチルフェニル)ホスフ
ァイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニル
ホスファイト、ジ(トリデシル)ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリ
トールジホスファイト、ビス(2,4−ジ第三ブチルフェ
ニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,
6−ジ第三ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリス
リトールジホスファイト、テトラ(トリデシル)イソプ
ロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ(トリ
デシル)4,4′−n−ブチリデンビス(2−第三ブチル
−5−メチルフェノール)ジホスファイト、ヘキサ(ト
リデシル)1,1,3−トリス(3−第三ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)ブタントリホスファイ
ト、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ビフェ
ニレンジホスホナイト等があげられる。
ァイト、トリス(2,4−ジ第3ブチルフェニル)ホスフ
ァイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニル
ホスファイト、ジ(トリデシル)ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリ
トールジホスファイト、ビス(2,4−ジ第三ブチルフェ
ニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,
6−ジ第三ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリス
リトールジホスファイト、テトラ(トリデシル)イソプ
ロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ(トリ
デシル)4,4′−n−ブチリデンビス(2−第三ブチル
−5−メチルフェノール)ジホスファイト、ヘキサ(ト
リデシル)1,1,3−トリス(3−第三ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)ブタントリホスファイ
ト、テトラキス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ビフェ
ニレンジホスホナイト等があげられる。
紫外線吸収剤としては、2,4−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、
2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、5,
5′−メチレンビス(2−ヒドロキシ−4−メトキシベ
ンゾフェノン)等の2−ヒドロキシベンゾフェノン類;2
−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ
第三ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′
−ヒドロキシ−3′,5′−ジ第三ブチルフェニル)−5
−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ
−3′−第三ブチル−5′−メチルフェニル)−5−ク
ロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−
5′−第三オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジクミルフェニル)
ベンゾトリアゾール、2,2′−メチレンビス(4−第三
オクチル−6−ベンゾトリアゾリル)フェノール等の2
−(2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール
類:フェニルサリシレート、レゾルシノールモノベンゾ
エート、2,4−ジ第三ブチルフェニル−3′,5′−ジ第
三ブチル−4′−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシ
ル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート
等のベンゾエート類;2−エチル−2′−エトキシオキザ
ニリド、2−エトキシ−4′−ドデシルオキザニリド等
の置換オキザニリド類;エチル−α−シアノ−β,β−
ジフェニルアクリレート、メチル−2−シアノ−3−メ
チル−3−(p−メトキシフェニル)アクリレート等の
シアノアクリレート類があげられる。
ノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、
2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、5,
5′−メチレンビス(2−ヒドロキシ−4−メトキシベ
ンゾフェノン)等の2−ヒドロキシベンゾフェノン類;2
−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ
第三ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′
−ヒドロキシ−3′,5′−ジ第三ブチルフェニル)−5
−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ
−3′−第三ブチル−5′−メチルフェニル)−5−ク
ロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−
5′−第三オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジクミルフェニル)
ベンゾトリアゾール、2,2′−メチレンビス(4−第三
オクチル−6−ベンゾトリアゾリル)フェノール等の2
−(2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール
類:フェニルサリシレート、レゾルシノールモノベンゾ
エート、2,4−ジ第三ブチルフェニル−3′,5′−ジ第
三ブチル−4′−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシ
ル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート
等のベンゾエート類;2−エチル−2′−エトキシオキザ
ニリド、2−エトキシ−4′−ドデシルオキザニリド等
の置換オキザニリド類;エチル−α−シアノ−β,β−
ジフェニルアクリレート、メチル−2−シアノ−3−メ
チル−3−(p−メトキシフェニル)アクリレート等の
シアノアクリレート類があげられる。
その他、本発明のポリプロピレン系樹脂には、タルク、
炭酸カルシウム、ガラス繊維等の無機充填剤、カルシウ
ムステアレート、ステアリル乳酸カルシウム等の金属石
鹸、造核剤等が所望に応じて加えられてもよい。
炭酸カルシウム、ガラス繊維等の無機充填剤、カルシウ
ムステアレート、ステアリル乳酸カルシウム等の金属石
鹸、造核剤等が所望に応じて加えられてもよい。
本発明の成形品は、射出成形、押し出し成形、ブロー成
形等の従来公知の何れの方法で成形したものでもよく、
成形方法により制限を受けるものではない。
形等の従来公知の何れの方法で成形したものでもよく、
成形方法により制限を受けるものではない。
低温プラズマ処理は、高周波放電、マイクロ波放電等で
低圧の酸化性ガス、例えば酸素またはこれに窒素、空
気、アルゴン、炭酸ガス、塩素ガス等を混入させたガス
を励起して活性ガスを発生させ、これを前記成形品の表
面に接触させることによって行う。処理条件は特に制限
はないが、通常0.1〜10torrの圧力で5秒〜15分処理す
ることによって目的とする表面処理が達成される。
低圧の酸化性ガス、例えば酸素またはこれに窒素、空
気、アルゴン、炭酸ガス、塩素ガス等を混入させたガス
を励起して活性ガスを発生させ、これを前記成形品の表
面に接触させることによって行う。処理条件は特に制限
はないが、通常0.1〜10torrの圧力で5秒〜15分処理す
ることによって目的とする表面処理が達成される。
実施例により本発明の効果を具体的に示す。
実施例1 下記の配合物を、高速ミキサーで均一に混合した後、50
φの一軸押し出し機で230℃で押し出し加工して、ペレ
ットを作成した。
φの一軸押し出し機で230℃で押し出し加工して、ペレ
ットを作成した。
このペレットを用い、射出成形により、100×100×3
(mm)の試験片を作成した。
(mm)の試験片を作成した。
この試験片をマイクロ波プラズマ処理装置(東芝製TMZ
−9602B)にて、酸素ガスを用い流量400cc/分、圧力0.5
torr、出力400Wで10秒間処理した。
−9602B)にて、酸素ガスを用い流量400cc/分、圧力0.5
torr、出力400Wで10秒間処理した。
プラズマ処理後の試験片に、二液硬化型ウレタン塗料
(日本ビーケミカル社製、R−263)を膜厚約100〜120
μになるように吹きつけた後、90℃で40分間焼きつけ
た。次いで、塗膜に幅10mmの切れ目を入れ、その一端か
ら帯状の塗膜を引き剥がして反対方向に折り返し、20mm
/分の引っ張り速度で180度ピール試験を行った。また、
塗装した試験片を40℃の温水に10日間浸漬した後の塗膜
の膨れの有無を観察した。
(日本ビーケミカル社製、R−263)を膜厚約100〜120
μになるように吹きつけた後、90℃で40分間焼きつけ
た。次いで、塗膜に幅10mmの切れ目を入れ、その一端か
ら帯状の塗膜を引き剥がして反対方向に折り返し、20mm
/分の引っ張り速度で180度ピール試験を行った。また、
塗装した試験片を40℃の温水に10日間浸漬した後の塗膜
の膨れの有無を観察した。
また、未塗装・未処理及び未塗装・処理後の試験片を用
い、83℃のサンシャインウェザロメーターにより光安定
性を測定した。その結果を表−1に示す。
い、83℃のサンシャインウェザロメーターにより光安定
性を測定した。その結果を表−1に示す。
〔配合〕 重量部 プロピレンホモポリマー 100 ステアリン酸カルシウム 0.1 テトラキス〔メチレン−3−(3,5−ジ第 0.1 三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プ ロピオネート〕メタン 2−(2′−ヒドロキシ−3′−第三ブチル−5′−0.
2 メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリ アゾール 試料化合物 0.2 実施例2 下記の配合を用い、実施例1と同様にして試験片を作成
し、実施例1と同様の試験を行った。その結果を、表2
に示す。
2 メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリ アゾール 試料化合物 0.2 実施例2 下記の配合を用い、実施例1と同様にして試験片を作成
し、実施例1と同様の試験を行った。その結果を、表2
に示す。
〔配合〕 重量部 エチレン/プロピレンランダムコポ 100 リマー(エチレン含有量12重量%) ステアリン酸カルシウム 0.05 テトラキス〔メチレン−3−(3,5−3ジ 0.05 第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル) プロピオネート〕メタン 2,6−ジ第三ブチル−p−クレゾール 0.05 トリス(2,4−ジ第三ブチルフェニル) 0.1 ホスファイト 2−(2′−ヒドロキシ−3′−第三ブチル−5′−0.
2 メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリ アゾール 試料化合物 0.2 実施例3 下記の配合物を用い、実施例1と同様にして試験片を作
成し、実施例1と同様の試験を行った。その結果を、表
2に示す。
2 メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリ アゾール 試料化合物 0.2 実施例3 下記の配合物を用い、実施例1と同様にして試験片を作
成し、実施例1と同様の試験を行った。その結果を、表
2に示す。
〔配合〕 重量部 プロピレンホモポリマー 90 エチレンプロピレンラバー 10 日本イーピーラバー社製品、EP02P) ステアリン酸カルシウム 0.05 テトラキス〔メチレン−3−(3,5−ジ 0.2 第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル) プロピオネート〕メタン 2−(2′−ヒドロキシ−3′−第三ブチル−5′−0.
2 メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリ アゾール 試料化合物 0.2 実施例1〜3の結果から、本発明で用いられる1−置換
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル基を有する化合物
を含有するポリプロピレン系樹脂成型品は、対応する1
−非置換−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル基を有す
る化合物を含有するポリプロピレン系樹脂成型品と比較
して、プラズマ処理後の光安定性に優れ、また、塗膜と
の接着性も低下させないことが明らかである。
2 メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリ アゾール 試料化合物 0.2 実施例1〜3の結果から、本発明で用いられる1−置換
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル基を有する化合物
を含有するポリプロピレン系樹脂成型品は、対応する1
−非置換−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル基を有す
る化合物を含有するポリプロピレン系樹脂成型品と比較
して、プラズマ処理後の光安定性に優れ、また、塗膜と
の接着性も低下させないことが明らかである。
フロントページの続き (72)発明者 園田 尚利 埼玉県浦和市白幡5丁目2番13号 アデ カ・アーガス化学株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−155368(JP,A) 特開 昭58−222117(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】プロピレン系樹脂100重量部に対し、次の
一般式(I)で表される基を有する化合物の少なくとも
一種0.001〜5重量部およびフェノール系酸化防止剤の
少なくとも一種0.001〜5重量部を含有せしめた成形品
を、低温プラズマ処理してなるポリプロピレン系樹脂成
形品。 (式中、Rは炭素原子数1〜18のアルキル基または炭素
原子数1〜18のアシル基を示す。)
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61177323A JPH0717759B2 (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | プロピレン系樹脂成形品 |
KR1019870008101A KR940011587B1 (ko) | 1986-07-28 | 1987-07-25 | 프리필렌계수지 성형품 |
DE8787110872T DE3768585D1 (de) | 1986-07-28 | 1987-07-27 | Wetterbestaendigkeit und haftfaehigkeit von polypropylen. |
EP87110872A EP0257321B1 (en) | 1986-07-28 | 1987-07-27 | Improving weatherability and adherence of polypropylene |
US07/376,088 US4997888A (en) | 1986-07-28 | 1989-07-06 | Weatherability and adherence of polypropylene |
US07/446,757 US4994529A (en) | 1986-07-28 | 1989-12-06 | Weatherability and adherence of polypropylene |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61177323A JPH0717759B2 (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | プロピレン系樹脂成形品 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6333426A JPS6333426A (ja) | 1988-02-13 |
JPH0717759B2 true JPH0717759B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=16028969
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61177323A Expired - Lifetime JPH0717759B2 (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | プロピレン系樹脂成形品 |
Country Status (5)
Country | Link |
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US (2) | US4997888A (ja) |
EP (1) | EP0257321B1 (ja) |
JP (1) | JPH0717759B2 (ja) |
KR (1) | KR940011587B1 (ja) |
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JP3010977B2 (ja) * | 1992-12-28 | 2000-02-21 | 豊田合成株式会社 | ポリオレフィン樹脂成形物の表面改質方法及びその表面塗装方法 |
US5414034A (en) * | 1993-03-29 | 1995-05-09 | General Electric Company | Processing stabilizer formulations |
US5849231A (en) * | 1993-03-29 | 1998-12-15 | General Electric Company | Melt extrusion process |
US5543102A (en) * | 1993-07-22 | 1996-08-06 | General Electric Company | Melt extrusion process |
US5371129A (en) * | 1993-10-26 | 1994-12-06 | Phillips Petroleum Company | Poly(mono-1-olefin) compositions |
BE1008320A3 (fr) * | 1994-04-19 | 1996-04-02 | Solvay | Procede pour le traitement superficiel d'articles comprenant au moins une matiere plastique. |
BE1008319A3 (fr) * | 1994-04-19 | 1996-04-02 | Solvay | Articles a base de polyolefines imprimes au moyen d'encres pour pvc et procedes pour leur fabrication. |
US20030124265A1 (en) * | 2001-12-04 | 2003-07-03 | 3M Innovative Properties Company | Method and materials for transferring a material onto a plasma treated surface according to a pattern |
CN102702169B (zh) * | 2012-06-19 | 2013-10-16 | 南通惠康国际企业有限公司 | 光稳定剂3-十二烷基-1-(1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)-吡咯-2,5-二烷酮的制备方法 |
DE102020111667A1 (de) | 2020-04-29 | 2021-11-04 | Kautex Maschinenbau Gmbh | Fertigung mehrlagiger Funktionskörper |
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US4429077A (en) * | 1980-12-19 | 1984-01-31 | Ciba-Geigy Corporation | Process for curing stoving lacquers |
JPS57177053A (en) * | 1981-04-23 | 1982-10-30 | Adeka Argus Chem Co Ltd | Synthetic resin composition |
JPS585319A (ja) * | 1981-07-03 | 1983-01-12 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 安定化された合成樹脂組成物 |
JPS58179240A (ja) * | 1982-04-15 | 1983-10-20 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 成形体の表面処理方法 |
JPS58222117A (ja) * | 1982-06-21 | 1983-12-23 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | プロピレン系樹脂成形物の表面処理方法 |
JPS61155368A (ja) * | 1984-12-28 | 1986-07-15 | Sumitomo Chem Co Ltd | ピペリジン誘導体、その製造方法およびこれを有効成分とする有機物質用安定剤 |
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- 1986-07-28 JP JP61177323A patent/JPH0717759B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-07-25 KR KR1019870008101A patent/KR940011587B1/ko not_active IP Right Cessation
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- 1987-07-27 DE DE8787110872T patent/DE3768585D1/de not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-07-06 US US07/376,088 patent/US4997888A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-12-06 US US07/446,757 patent/US4994529A/en not_active Expired - Fee Related
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EP0257321A2 (en) | 1988-03-02 |
EP0257321B1 (en) | 1991-03-13 |
US4997888A (en) | 1991-03-05 |
JPS6333426A (ja) | 1988-02-13 |
KR880001404A (ko) | 1988-04-23 |
US4994529A (en) | 1991-02-19 |
DE3768585D1 (de) | 1991-04-18 |
EP0257321A3 (en) | 1989-07-12 |
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