JP2989933B2 - 耐光性の改善された高分子材料組成物 - Google Patents
耐光性の改善された高分子材料組成物Info
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- JP2989933B2 JP2989933B2 JP3138733A JP13873391A JP2989933B2 JP 2989933 B2 JP2989933 B2 JP 2989933B2 JP 3138733 A JP3138733 A JP 3138733A JP 13873391 A JP13873391 A JP 13873391A JP 2989933 B2 JP2989933 B2 JP 2989933B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐光性の改善された高
分子材料組成物に関し、詳しくは、特定の２−ヒドロキ
シフェニルベンゾトリアゾールのエステル化物を添加す
ることによって、長期間に渡って耐光性の改善された高
分子材料組成物に関する。
分子材料組成物に関し、詳しくは、特定の２−ヒドロキ
シフェニルベンゾトリアゾールのエステル化物を添加す
ることによって、長期間に渡って耐光性の改善された高
分子材料組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ポリエ
チレン、ポリプロピレン、スチレン系樹脂、ポリ塩化ビ
ニル等の高分子材料は、光の作用により劣化し、変色あ
るいは機械的強度の低下等を引き起こし、長期の使用に
耐えないことが知られている。
チレン、ポリプロピレン、スチレン系樹脂、ポリ塩化ビ
ニル等の高分子材料は、光の作用により劣化し、変色あ
るいは機械的強度の低下等を引き起こし、長期の使用に
耐えないことが知られている。
【０００３】そこで、高分子材料の劣化を防止するため
に、従来から種々の光安定剤が用いられている。これら
の光安定剤としては、ヒンダードアミン系の光安定剤、
ベンゾフェノン系またはベンゾトリアゾール系の紫外線
吸収剤が主として用いられており、特に、２−ヒドロキ
シフェニルベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤はその
安定化効果が大きく、広く用いられている。
に、従来から種々の光安定剤が用いられている。これら
の光安定剤としては、ヒンダードアミン系の光安定剤、
ベンゾフェノン系またはベンゾトリアゾール系の紫外線
吸収剤が主として用いられており、特に、２−ヒドロキ
シフェニルベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤はその
安定化効果が大きく、広く用いられている。
【０００４】しかしながら、従来用いられていたベンゾ
トリアゾール系の化合物はそれ自身、オルソ位に水酸基
が存在しているため、耐熱性に劣り、不安定で、保存中
に黄変するという欠点があった。
トリアゾール系の化合物はそれ自身、オルソ位に水酸基
が存在しているため、耐熱性に劣り、不安定で、保存中
に黄変するという欠点があった。
【０００５】このため、不安定なオルソ位の水酸基を、
芳香族酸でエステル化することにより、紫外線吸収剤自
身の黄変を改良しようとする試みがなされている。（特
開昭５１−６３８４５、特開昭５１−６３８４６、特公
昭５８−３７３１４） しかし、その光安定性はまだま
だ不充分なものであった。
芳香族酸でエステル化することにより、紫外線吸収剤自
身の黄変を改良しようとする試みがなされている。（特
開昭５１−６３８４５、特開昭５１−６３８４６、特公
昭５８−３７３１４） しかし、その光安定性はまだま
だ不充分なものであった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の現
状に鑑み、新規なタイプの高分子材料用の光安定剤を得
るために鋭意検討を重ねた結果、下記一般式（Ｉ）で表
される化合物が安定で、黄変がなく、苛酷な加工条件下
においても、合成樹脂等の高分子材料に長期の耐光性を
付与しえることを知見した。
状に鑑み、新規なタイプの高分子材料用の光安定剤を得
るために鋭意検討を重ねた結果、下記一般式（Ｉ）で表
される化合物が安定で、黄変がなく、苛酷な加工条件下
においても、合成樹脂等の高分子材料に長期の耐光性を
付与しえることを知見した。
【０００７】本発明は、上記知見に基づいてなされたも
ので、高分子材料１００重量部に対して、下記化２（化
１と同じ）で示される一般式（Ｉ）で表されるベンゾト
リアゾール化合物０．００１〜５重量部を添加してな
る、耐光性の改善された高分子材料組成物を提供するも
のである。
ので、高分子材料１００重量部に対して、下記化２（化
１と同じ）で示される一般式（Ｉ）で表されるベンゾト
リアゾール化合物０．００１〜５重量部を添加してな
る、耐光性の改善された高分子材料組成物を提供するも
のである。
【０００８】
【化２】 （Ｒ1 およびＲ2 は水素原子または炭素数１〜８のアル
キル基を示し、Ｒ3 は水素原子または炭素数１〜１２の
アルキル基またはアリールアルキル基を示し、Ｒ4 は水
素原子またはハロゲン原子を示し、ｍは０〜２を示
す。）
キル基を示し、Ｒ3 は水素原子または炭素数１〜１２の
アルキル基またはアリールアルキル基を示し、Ｒ4 は水
素原子またはハロゲン原子を示し、ｍは０〜２を示
す。）
【０００９】以下、上記要旨をもってなる本発明につい
て詳述する。
て詳述する。
【００１０】上記式中、Ｒ1 及びＲ2 で表されるアルキ
ル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブ
チル、アミル、第三アミル、オクチル、第三オクチル等
が挙げられる。Ｒ3 で表されるアルキル基としては、例
えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、第
三アミル、オクチル、第三オクチル、デシル、ドデシル
等が挙げられ、アリールアルキル基としては、ベンジ
ル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル等
が挙げられる。Ｒ 4 のハロゲン原子としては、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、沃素原子がある。
ル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブ
チル、アミル、第三アミル、オクチル、第三オクチル等
が挙げられる。Ｒ3 で表されるアルキル基としては、例
えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、第
三アミル、オクチル、第三オクチル、デシル、ドデシル
等が挙げられ、アリールアルキル基としては、ベンジ
ル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル等
が挙げられる。Ｒ 4 のハロゲン原子としては、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、沃素原子がある。
【００１１】上記一般式（Ｉ）で表される化合物は、２
−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール化合物を、ヒ
ドロキシ安息香酸またはヒドロキシフェニルアルカン酸
等のカルボン酸でエステル化することにより、容易に合
成することができる。
−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール化合物を、ヒ
ドロキシ安息香酸またはヒドロキシフェニルアルカン酸
等のカルボン酸でエステル化することにより、容易に合
成することができる。
【００１２】上記一般式（Ｉ）で表される化合物を製造
するために用いられる２−ヒドロキシフェニルベンゾト
リアゾール化合物としては、例えば、２−（２−ヒドロ
キシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−５−α，α−ジメチルベンジル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第二ブ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロ
キシ−５−第三ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチル
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等が挙げら
れる。
するために用いられる２−ヒドロキシフェニルベンゾト
リアゾール化合物としては、例えば、２−（２−ヒドロ
キシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−５−α，α−ジメチルベンジル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第二ブ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロ
キシ−５−第三ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチル
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等が挙げら
れる。
【００１３】また、上記一般式（Ｉ）で表される化合物
を製造するために用いられるカルボン酸としては、２−
ヒドロキシ安息香酸、２−ヒドロキシ−３−メチル安息
香酸、２−ヒドロキシ−５−第三ブチル安息香酸、２−
ヒドロキシ−５−第三オクチル安息香酸、４−ヒドロキ
シ−３，５−第三ジブチル安息香酸、４−ヒドロキシ−
３−第三ブチル−５−メチル安息香酸、４−ヒドロキシ
−３，５−ジ第三アミル安息香酸、（４−ヒドロキシ−
３，５−ジ第三ブチルフェニル）酢酸、β−（４−ヒド
ロキシ−３，５−第三ジブチルフェニル）プロピオン
酸、β−（４−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチ
ルフェニル）プロピオン酸等が挙げられる。
を製造するために用いられるカルボン酸としては、２−
ヒドロキシ安息香酸、２−ヒドロキシ−３−メチル安息
香酸、２−ヒドロキシ−５−第三ブチル安息香酸、２−
ヒドロキシ−５−第三オクチル安息香酸、４−ヒドロキ
シ−３，５−第三ジブチル安息香酸、４−ヒドロキシ−
３−第三ブチル−５−メチル安息香酸、４−ヒドロキシ
−３，５−ジ第三アミル安息香酸、（４−ヒドロキシ−
３，５−ジ第三ブチルフェニル）酢酸、β−（４−ヒド
ロキシ−３，５−第三ジブチルフェニル）プロピオン
酸、β−（４−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチ
ルフェニル）プロピオン酸等が挙げられる。
【００１４】尚、上記エステル化反応は、トルエン、キ
シレン等の溶媒還流下で行なわれる。
シレン等の溶媒還流下で行なわれる。
【００１５】次に、本発明で用いられる前記一般式
（Ｉ）で表される化合物の具体的な合成例を挙げるが、
本発明は下記の合成例によって制限を受けるものではな
い。
（Ｉ）で表される化合物の具体的な合成例を挙げるが、
本発明は下記の合成例によって制限を受けるものではな
い。
【００１６】合成例１ 〔２−（４−ヒドロキシ−３，５−第三ジブチルベンゾ
イルオキシ）−４−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾー
ル（化３で表される化合物）の合成
イルオキシ）−４−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾー
ル（化３で表される化合物）の合成
【００１７】
【化３】
【００１８】２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール７．５１ｇ、４−ヒドロキシ−
３，５−ジ第三ブチル安息香酸６．７６ｇ、オキシ塩化
リン４．６ｇ、ジメチルホルムアミド０．６６ｇをトル
エン４０ｍｌ中に溶かし、この混合物をトルエン還流
下、１０時間反応させた。反応終了後、トルエン４０ｍ
ｌを加え、水洗後脱水し、減圧下でトルエンを留去し
た。その後、ノルマルヘキサン／トルエン混合溶媒で再
結晶して、融点１３７℃の白色固体を得た。
ル）ベンゾトリアゾール７．５１ｇ、４−ヒドロキシ−
３，５−ジ第三ブチル安息香酸６．７６ｇ、オキシ塩化
リン４．６ｇ、ジメチルホルムアミド０．６６ｇをトル
エン４０ｍｌ中に溶かし、この混合物をトルエン還流
下、１０時間反応させた。反応終了後、トルエン４０ｍ
ｌを加え、水洗後脱水し、減圧下でトルエンを留去し
た。その後、ノルマルヘキサン／トルエン混合溶媒で再
結晶して、融点１３７℃の白色固体を得た。
【００１９】上記白色固体の赤外分光分析の結果、３５
６０及び、１７１０cm-1に吸収が有り、またＵＶスペク
トル吸収分析の結果、Ｍａｘ：２７８ｎｍ、ε：２４，
４００であり、目的物であることを確認した。
６０及び、１７１０cm-1に吸収が有り、またＵＶスペク
トル吸収分析の結果、Ｍａｘ：２７８ｎｍ、ε：２４，
４００であり、目的物であることを確認した。
【００２０】上記合成例１と同様の操作により、下記化
４〜化８の化合物（No.2〜No.6)を合成した。
４〜化８の化合物（No.2〜No.6)を合成した。
【００２１】
【化４】
【００２２】
【化５】
【００２３】
【化６】
【００２４】
【化７】
【００２５】
【化８】
【００２６】本発明は、上記の特定のベンゾトリアゾー
ル化合物を高分子材料用の光安定剤として用いるもので
あり、その添加量は、特に制限を受けないが、高分子材
料１００重量部に対して通常０．００１〜５重量部、好
ましくは０．０１〜３重量部である。
ル化合物を高分子材料用の光安定剤として用いるもので
あり、その添加量は、特に制限を受けないが、高分子材
料１００重量部に対して通常０．００１〜５重量部、好
ましくは０．０１〜３重量部である。
【００２７】本発明における安定性改善の対象となる高
分子材料としては、例えば、高密度、低密度または直鎖
状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
１、ポリ−３−メチルペンテン等のα−オレフィン重合
体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プ
ロピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重
合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポ
リエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリ
デン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩
化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニ
ル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重
合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化
ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体、塩化ビニ
ル−シクロヘキシルマレイミド共重合体等の含ハロゲン
樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢
酸ビニル、アクリル樹脂、スチレン及び／又はα−メチ
ルスチレンと他の単量体（例えば、無水マレイン酸、フ
ェニルマレイミド、メタクリル酸メチル、ブタジエン、
アクリロニトリル等）との共重合体（例えば、ＡＳ樹
脂、ＡＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹脂、耐熱ＡＢＳ樹脂等）、ポ
リメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリエチレ
ンテレフタレート及びポリテトラメチレンテレフタレー
ト等の直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキサイド、
ポリカプロラクタム及びポリヘキサメチレンアジパミド
等のポリアミド、ポリカーボネート、分岐ポリカーボネ
ート、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイド、
ポリウレタン、繊維素系樹脂等の熱可塑性合成樹脂及び
これらのブレンド物、あるいはフェノール樹脂、ユリア
樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステ
ル樹脂等の熱硬化性樹脂を挙げることができる。更に、
イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル−
ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴ
ム等のエラストマーであっても良い。
分子材料としては、例えば、高密度、低密度または直鎖
状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
１、ポリ−３−メチルペンテン等のα−オレフィン重合
体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プ
ロピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重
合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポ
リエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリ
デン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩
化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニ
ル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重
合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化
ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体、塩化ビニ
ル−シクロヘキシルマレイミド共重合体等の含ハロゲン
樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢
酸ビニル、アクリル樹脂、スチレン及び／又はα−メチ
ルスチレンと他の単量体（例えば、無水マレイン酸、フ
ェニルマレイミド、メタクリル酸メチル、ブタジエン、
アクリロニトリル等）との共重合体（例えば、ＡＳ樹
脂、ＡＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹脂、耐熱ＡＢＳ樹脂等）、ポ
リメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリエチレ
ンテレフタレート及びポリテトラメチレンテレフタレー
ト等の直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキサイド、
ポリカプロラクタム及びポリヘキサメチレンアジパミド
等のポリアミド、ポリカーボネート、分岐ポリカーボネ
ート、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイド、
ポリウレタン、繊維素系樹脂等の熱可塑性合成樹脂及び
これらのブレンド物、あるいはフェノール樹脂、ユリア
樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステ
ル樹脂等の熱硬化性樹脂を挙げることができる。更に、
イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル−
ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴ
ム等のエラストマーであっても良い。
【００２８】本発明の組成物には、前記一般式（Ｉ）で
表される化合物と共に、他の汎用の抗酸化剤、安定剤等
の添加剤を併用することができる。
表される化合物と共に、他の汎用の抗酸化剤、安定剤等
の添加剤を併用することができる。
【００２９】これらの添加剤として特に好ましいものと
しては、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の抗
酸化剤、ヒンダードアミン系の光安定剤が挙げられ、特
に、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン化合物に
代表されるヒンダードアミン系の光安定剤は、本発明の
化合物と相乗効果を奏するので好ましい。
しては、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の抗
酸化剤、ヒンダードアミン系の光安定剤が挙げられ、特
に、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン化合物に
代表されるヒンダードアミン系の光安定剤は、本発明の
化合物と相乗効果を奏するので好ましい。
【００３０】上記フェノール系抗酸化剤としては、例え
ば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−
ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステア
リル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオ
ジエチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−
ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサ
メチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビ
ス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール) 、２，２’−メ
チレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三
ブチルフェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロ
キシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕
グリコールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−
第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデン
ビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−
エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェ
ノール) 、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒド
ロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−
第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタ
レート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−
ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−
トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−
トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、
テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２
−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオ
キシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル) フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５. ５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕等が挙げられる。
ば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−
ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステア
リル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオ
ジエチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−
ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサ
メチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビ
ス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール) 、２，２’−メ
チレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三
ブチルフェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロ
キシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕
グリコールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−
第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデン
ビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−
エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェ
ノール) 、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒド
ロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−
第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタ
レート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−
ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−
トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−
トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、
テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２
−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオ
キシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル) フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５. ５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕等が挙げられる。
【００３１】また、上記硫黄系抗酸化剤としては例え
ば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジ
ステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及び
ペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプト
プロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカ
プトプロピオン酸エステル類が挙げられる。
ば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジ
ステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及び
ペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプト
プロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカ
プトプロピオン酸エステル類が挙げられる。
【００３２】また、上記ホスファイト系抗酸化剤として
は、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリ
ス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、ト
リス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェ
ニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチ
ルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニル
ホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ジ (ノニルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェ
ニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−ト
リ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェ
ノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，
４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチ
ルフェノール) ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）
−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−
５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、テ
トラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレ
ンジホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ
−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド等
が挙げられる。
は、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリ
ス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、ト
リス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェ
ニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチ
ルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニル
ホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ジ (ノニルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェ
ニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−ト
リ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェ
ノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，
４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチ
ルフェノール) ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）
−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−
５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、テ
トラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレ
ンジホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ
−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド等
が挙げられる。
【００３３】また、上記ヒンダードアミン系光安定剤と
しては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジルベンゾエート、Ｎ−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミド、
１−〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチル〕−２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル−（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２
−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
マロネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、テ
トラ（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ブタンテトラカルボキシレート、テトラ（１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ブタンテ
トラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタンテ
トラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタ
ンテトラカルボキシレート、３，９−ビス〔１，１−ジ
メチル−２−｛トリス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカル
ボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオ
キサスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，
１−ジメチル−２−｛トリス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）
ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０
−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，
８，１２−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミ
ノ｝−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−１，５，
８，１２−テトラアザドデカン、１−（２−ヒドロキシ
エチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジノール／コハク酸ジメチル縮合物、２−第三オクチル
アミノ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ’
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミン／ジブロモエタン縮合物等が挙げ
られる。
しては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジルベンゾエート、Ｎ−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミド、
１−〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチル〕−２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル−（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２
−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
マロネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、テ
トラ（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ブタンテトラカルボキシレート、テトラ（１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ブタンテ
トラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタンテ
トラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタ
ンテトラカルボキシレート、３，９−ビス〔１，１−ジ
メチル−２−｛トリス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカル
ボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオ
キサスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，
１−ジメチル−２−｛トリス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）
ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０
−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，
８，１２−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミ
ノ｝−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−１，５，
８，１２−テトラアザドデカン、１−（２−ヒドロキシ
エチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジノール／コハク酸ジメチル縮合物、２−第三オクチル
アミノ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ’
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミン／ジブロモエタン縮合物等が挙げ
られる。
【００３４】その他必要に応じて、本発明の組成物には
重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合
物、可塑剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。
重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合
物、可塑剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。
【００３５】本発明によって安定化された高分子材料
は、例えば、農業用資材、自動車用塗料等の高度の耐光
性が要求される分野に特に有用であり、例えば、フィル
ム、繊維、テープ、シート、各種成型材料、塗料、ラッ
カー用結合剤、接着剤、パテ及び写真材料における基材
等に用いることができる。
は、例えば、農業用資材、自動車用塗料等の高度の耐光
性が要求される分野に特に有用であり、例えば、フィル
ム、繊維、テープ、シート、各種成型材料、塗料、ラッ
カー用結合剤、接着剤、パテ及び写真材料における基材
等に用いることができる。
【００３６】
【実施例】次に本発明を実施例によって具体的に説明す
る。
る。
【００３７】実施例１ 下記の配合により、２５０℃で押し出し加工してペレッ
トを作成した。次いで、２５０℃で射出成型して、厚さ
２mmの試験片を作成し、黄色度を測定した。この試験片
について、サンシャインウエザオメーターを用いて、ブ
ラックパネル温度８３℃、１２０分中１８分間の降雨サ
イクルで、耐光性試験を行った。評価方法はクラックの
発生時間の比較で行なった。
トを作成した。次いで、２５０℃で射出成型して、厚さ
２mmの試験片を作成し、黄色度を測定した。この試験片
について、サンシャインウエザオメーターを用いて、ブ
ラックパネル温度８３℃、１２０分中１８分間の降雨サ
イクルで、耐光性試験を行った。評価方法はクラックの
発生時間の比較で行なった。
【００３８】その結果を次の表−１に示す。
【００３９】 〔配合〕 エチレン−プロピレン共重合体 １００重量部 ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフ ０．１ ェニル）プロピオネート トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト ０．０５ ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル ０．３ ）セバケート ステアリン酸カルシウム ０．０５ 試料化合物（表−１参照）
【００４０】
【００４１】
【化９】
【００４２】
【化１０】
【００４３】
【化１１】
【００４４】実施例２ 下記の配合により、２６０℃で押し出し加工してペレッ
トを作成し、次いで、２６０℃で射出成型して、厚さ１
mmの試験片を作成した。この試験片を用いて、８３℃の
サンシャインウェザオメーター（雨なし）による耐候性
試験を行い、４００時間照射後の色差を測定した。
トを作成し、次いで、２６０℃で射出成型して、厚さ１
mmの試験片を作成した。この試験片を用いて、８３℃の
サンシャインウェザオメーター（雨なし）による耐候性
試験を行い、４００時間照射後の色差を測定した。
【００４５】その結果を次の表−２に示した。
【００４６】 〔配合〕 耐熱ＡＢＳ樹脂（α−メチルスチレン共重合体） １００重量部 マグネシウムステアレート ０．４ トリエチレングリコールビス（３−第三ブチル−４−ヒ ０．２ ドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリ ０．２ トールジホスファイト 二酸化チタン ０．５ ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル ０．３ ）−１，２，３，４−テトラカルボキシレート 試料化合物（表−２参照）
【００４７】
【００４８】実施例３ 下記配合物を７０℃で５分間ロール上で混練し、１２０
℃で５分間プレスして厚さ０．５mmの試験片を作成し
た。この試験片を用いて、フェードメーターで５０時間
及び１００時間照射後の伸び残率を測定した。
℃で５分間プレスして厚さ０．５mmの試験片を作成し
た。この試験片を用いて、フェードメーターで５０時間
及び１００時間照射後の伸び残率を測定した。
【００４９】その結果を表−３に示す。
【００５０】 〔配合〕 ポリウレタン樹脂（旭電化製Ｕ−１００） １００重量部 バリウムステアレート ０．７ 亜鉛ステアレート ０．３ ２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール ０．１ アデカスタブＬＡ−６２* ０．３ 試料化合物（表−３参照） ＊旭電化工業製ヒンダードアミン系光安定剤
【００５１】
【００５２】実施例４ 下記の配合物を用い、混練ロールにより混練し、厚さ
０．１mmのフィルムを作成した。このフィルムから試験
片を切取り、ウェザロメーターによる耐候性試験を行っ
た。
０．１mmのフィルムを作成した。このフィルムから試験
片を切取り、ウェザロメーターによる耐候性試験を行っ
た。
【００５３】その結果を表−４に示す。
【００５４】 〔配合〕 塩化ビニル樹脂（重合度1,000) １００重量部 ジオクチルフタレート ４７ トリキシレニルホスフェート ３ 亜鉛ステアレート ０．８ ホスホン酸ノニルフェニルエステルバリウム塩 ０．８ テトラ（トリデシル）ビスフェノールＡジホスファイト ０．８ ビスフェノールＡジグリシジルエーテル ３ メチレンビス（ステアリン酸アミド） ０．５ ソルビタンモノパルミテート ２ ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル ０．５ ）−１，２，３，４−テトラカルボキシレート 試料化合物（表−４参照）
【００５５】
【００５６】上記各実施例の結果から、本発明で光安定
剤として用いられる特定のヒドロキシフェニル基含有カ
ルボン酸でエステル化されたベンゾトリアゾール化合物
を用いた場合は、従来知られていたベンゾトリアゾール
化合物および／または安息香酸エステル化合物を用いた
場合と比較して安定化効果が著しく大きいばかりでな
く、樹脂に着色を与える欠点もないことが明らかであ
る。
剤として用いられる特定のヒドロキシフェニル基含有カ
ルボン酸でエステル化されたベンゾトリアゾール化合物
を用いた場合は、従来知られていたベンゾトリアゾール
化合物および／または安息香酸エステル化合物を用いた
場合と比較して安定化効果が著しく大きいばかりでな
く、樹脂に着色を与える欠点もないことが明らかであ
る。
【００５７】
【発明の効果】本発明の高分子材料組成物は、安定で、
黄変がなく、過酷な加工条件下においても長期の耐光性
を有するものである。
黄変がなく、過酷な加工条件下においても長期の耐光性
を有するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C08K 5/00 - 13/08 C08L 1/00 - 101/14 ＣＡ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 高分子材料１００重量部に、下記化１で
示される一般式（Ｉ）で表されるベンゾトリアゾール化
合物０．００１〜５重量部を添加してなる、耐光性の改
善された高分子材料組成物。 【化１】 （Ｒ1 およびＲ2 は水素原子または炭素数１〜８のアル
キル基を示し、Ｒ3 は水素原子または炭素数１〜１２の
アルキル基またはアリールアルキル基を示し、Ｒ4 は水
素原子またはハロゲン原子を示し、ｍは０〜２を示
す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3138733A JP2989933B2 (ja) | 1991-06-11 | 1991-06-11 | 耐光性の改善された高分子材料組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3138733A JP2989933B2 (ja) | 1991-06-11 | 1991-06-11 | 耐光性の改善された高分子材料組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04363362A JPH04363362A (ja) | 1992-12-16 |
| JP2989933B2 true JP2989933B2 (ja) | 1999-12-13 |
Family
ID=15228900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3138733A Expired - Fee Related JP2989933B2 (ja) | 1991-06-11 | 1991-06-11 | 耐光性の改善された高分子材料組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2989933B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3517533A3 (en) * | 2018-01-24 | 2019-08-28 | Samsung Display Co., Ltd. | Heterocyclic compound and electronic apparatus |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3538332B2 (ja) * | 1998-02-10 | 2004-06-14 | ペンタックス株式会社 | プラスチックレンズ |
| JP3538310B2 (ja) * | 1998-02-10 | 2004-06-14 | ペンタックス株式会社 | プラスチックレンズ |
-
1991
- 1991-06-11 JP JP3138733A patent/JP2989933B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3517533A3 (en) * | 2018-01-24 | 2019-08-28 | Samsung Display Co., Ltd. | Heterocyclic compound and electronic apparatus |
| US11417857B2 (en) | 2018-01-24 | 2022-08-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Heterocyclic compound and electronic apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04363362A (ja) | 1992-12-16 |
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