JPH07175223A

JPH07175223A - 基板現像装置

Info

Publication number: JPH07175223A
Application number: JP32242093A
Authority: JP
Inventors: Izuru Izeki; 出井関
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1993-12-21
Filing date: 1993-12-21
Publication date: 1995-07-14

Abstract

(57)【要約】【目的】小さな装置設置面積とし、しかも処理液の分
別回収を容易に行えるようにする。【構成】基板現像装置１は、基板現像部２と基板洗浄
・乾燥部３と基板搬送部４とを備えている。基板現像部
２は、現像チャンバー５と、現像チャンバー内５で基板
Ｐに現像液を供給する現像液供給部６とを有している。
基板洗浄・乾燥部４は、基板現像部２に並設され、洗浄
・乾燥チャンバー３０と、洗浄・乾燥チャンバー３０内
で現像処理後の基板Ｐに対し洗浄処理及び乾燥処理を行
う洗浄・乾燥処理部３１とを有している。基板搬送部４
は、基板現像部２で現像処理された基板Ｐを基板洗浄・
乾燥部に搬送する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、現像装置、特に、基板
を現像液で現像処理した後に洗浄及び乾燥処理を行う基
板現像装置に関する。

【０００２】

【従来の技術及びその課題】たとえば、半導体や液晶表
示装置の製造工程では、基板に対する現像処理が繰り返
して行われる。一連の現像処理には、基板への現像液の
塗布、基板からの現像液の洗浄及び基板の乾燥が含まれ
る。この種の基板現像装置として、実開平５−４５７１
２号公報に開示されたものが知られている。この基板現
像装置では、３つのチャンバーが（現像室と洗浄室と乾
燥室）１列に配置され、それらの内部に搬送用の搬送ロ
ーラが配置されている。この基板現像装置では、まず基
板を現像室内に配置し、現像液中に浸漬することで基板
表面に現像液を供給して現像処理を行う。次に、基板を
洗浄室内に搬入し、洗浄液によって基板表面に付着した
現像液を洗浄する。最後に、基板を乾燥室内に搬入し、
エアナイフにより基板に付着した洗浄液を吹き飛ばして
乾燥処理を行う。

【０００３】しかし、前記従来の構成では、現像室、洗
浄室及び乾燥室のそれぞれ独立した３つのチャンバーが
必要となるので、装置の設置面積が大きくなるという問
題がある。一方、１つのチャンバー内で、現像、洗浄及
び乾燥の３つの処理を行う装置が、特開平５−１３３２
０号公報、特開平５−５５１３３号公報及び特開平５−
１５８０５号公報に開示されている。この基板現像装置
では、スピンカップ内に基板を真空吸着する回転型の基
板保持部が設けられるとともに、基板表面に現像液を供
給する現像液供給ノズルとリンス液を供給するリンス液
供給ノズルとがスピンカップ内に設けられている。この
基板洗浄装置は、現像処理時には、現像液供給ノズルを
基板表面に対向して配置し、基板を回転させながら現像
液を供給する。また洗浄処理時には、現像液供給ノズル
を退避させ、リンス液供給ノズルを基板表面に対向させ
てリンス液を供給する。乾燥処理時には、基板保持部を
高速回転させて基板に付着したリンス液を除去する。

【０００４】しかし、この構成では、１つのチャンバー
内で現像液と洗浄液との両方が連続して基板に供給され
るので、現像液と洗浄液とを別々に回収しにくい。この
ため現像液を再利用するためには複雑な構造が必要にな
る。本発明の目的は、小さな装置設置面積とし、しかも
処理液の分別回収を用意に行えるようにすることにあ
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明に係る基板現像装
置は、互いに独立したチャンバー内に配置され、それぞ
れ基板を保持する第１及び第２の基板保持手段と、第１
の基板保持手段に保持された基板に現像液を供給する現
像液供給手段と、基板に現像液が供給された後に、該基
板を第１の基板保持手段から第２の基板保持手段に搬送
する搬送手段と、第２の基板保持手段に保持された基板
に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、基板に洗浄液が
供給された後に、該基板を第２の基板保持手段に保持さ
せつつ乾燥させる乾燥手段とを備えている。

【０００６】

【作用】本発明に係る基板現像装置では、第１の基板保
持手段に保持された基板に現像液を供給し、現像処理を
行う。現像処理が終了した基板は、搬送手段により第１
の基板保持手段から第２の基板保持手段に搬送される。
そして、第２の基板保持手段に保持された基板に洗浄液
を供給し、洗浄処理を行う。洗浄処理が終了した基板
は、乾燥手段により第２の基板保持手段に保持されつつ
乾燥される。

【０００７】ここでは、現像処理を行う基板保持手段
と、洗浄処理と乾燥処理を行う基板保持手段がそれぞれ
独立したチャンバー内に配置されているので、現像液と
洗浄液とを容易に別々に回収できる。しかも、装置が２
つのチャンバーで構成されているので、装置の設置面積
は小さい。

【０００８】

【実施例】図１において、本発明の一実施例による基板
現像装置１は、フォトレジスト液が塗布された露光済の
角型基板（以下、単に基板という）Ｐを現像する基板現
像部２と、基板現像部２に並設配置された基板洗浄・乾
燥部３と、基板現像部２から基板洗浄・乾燥部３へ基板
Ｐを搬送する基板搬送部４とを主として有している。

【０００９】基板現像部２は、箱形の現像チャンバー５
と、現像チャンバー５内に配置された現像液供給部６
と、現像処理された基板Ｐから現像液を取り除く現像液
除去部７とを有している。現像チャンバー５の図１の左
右の両側壁には、挿入口１０及び連通口１１が形成され
ている。挿入口１０には入側シャッター１２が、連通口
１１には中間シャッター１３が、それぞれ開閉可能に設
けられている。現像チャンバー５の底面には、排液口１
４が形成されている。排液口１４は、現像液回収弁１５
を介して現像液供給源１６に接続されている。また、現
像チャンバー５内には、基板搬送部４を構成する複数の
現像ローラ１７が水平方向に並べて配置されている。現
像ローラ１７の回転軸は、搬送方向（図１の左右方向）
と直交する方向に配置されており、図示しない駆動源よ
り回転駆動される。

【００１０】現像液供給部６は、現像液吐出ノズル２０
を有している。現像液吐出ノズル２０は、基板Ｐの表面
に向けて現像液を吐出するように配置されており、基板
Ｐの搬送方向と直交する方向に長いスリットノズルを有
している。現像液吐出ノズル２０は、現像液供給弁２１
を介して現像液供給源１６に接続されている。現像液供
給源１６は、新鮮な現像液が適宜補充され得る現像液貯
溜槽と循環ポンプ（共に図示せず）とを有しており、排
液口１４から回収された現像液も現像液供給源１６によ
り現像液吐出ノズル２０に再供給されるようになってい
る。

【００１１】現像液除去部７は、基板Ｐのパスラインを
挟んで上下に対向配置された窒素ガスノズル２２，２３
を有している。また、窒素ガスノズル２２，２３は、そ
れぞれ基板Ｐの表面及び裏面に前方に向けて窒素ガスを
噴出し得るように配置されている。窒素ガスノズル２
２，２３は、それぞれ窒素ガス供給弁２４，２５を介し
て図示しない窒素ガス源に接続されている。

【００１２】基板洗浄・乾燥部３は、洗浄・乾燥チャン
バー３０と、洗浄・乾燥チャンバー３０内に配置された
洗浄・乾燥処理部３１とを有している。洗浄・乾燥チャ
ンバー３０は、図１左右側の側壁が現像チャンバー５の
図１右側の側壁と共通である。また出側（図１右側）の
側壁には、排出口３２が形成されている。排出口３２に
は、開閉可能な出側シャッター３３が設けられている。
洗浄・乾燥チャンバー３０の底面には、排液口３４が形
成されている。排液口３４は、リンス液回収弁３５を介
して図示しないリンス液回収部に接続されている。ま
た、洗浄・乾燥チャンバー３０内には、基板搬送部４を
構成する複数の洗浄ローラ３６が図１の左右方向に並べ
て配置されている。

【００１３】洗浄・乾燥処理部３１は、基板Ｐを吸着保
持する基板保持チャック４０と、基板保持チャック４０
に吸着保持された基板Ｐにリンス液を供給するリンス液
供給部４１とを有している。基板保持チャック４０は、
図示しない真空源に接続された吸着口（図示せず）を有
している。この基板保持チャック４０は、モータ４２に
より回転可能であり、また昇降機構４３により上下動可
能である。

【００１４】リンス液供給部４１は、基板Ｐの表面にリ
ンス液を供給するための複数のノズルが並設配置された
表面リンスノズル４４と、基板Ｐの裏面にリンス液を供
給するための裏面リンスノズル４５とを有している。表
面リンスノズル４４は表面リンス液供給弁４６を介し
て、また裏面リンス液供給ノズル４５は裏面リンス液供
給弁４７を介して、図示しないリンス液供給源にそれぞ
れ接続されている。

【００１５】基板現像装置１は、図２に示す現像制御部
５０及び洗浄・乾燥制御部５１を有している。現像制御
部５０及び洗浄・乾燥制御部５１は、それぞれＣＰＵ，
ＲＯＭ，ＲＡＭを含むマイクロコンピュータから構成さ
れている。現像制御部５０には、入側シャッター１２、
中間シャッター１３、現像ローラ１７、現像液供給弁２
１、現像液回収弁１５、窒素ガス供給弁２４，２５がそ
れぞれ接続されている。また現像制御部５０には、現像
チャンバー５内の基板Ｐの搬送位置を検出するための各
種センサや他の入出力部も接続されている。

【００１６】洗浄・乾燥制御部５１は、現像制御部５０
と双方向に通信可能である。洗浄・乾燥制御部５１に
は、出側シャッター３３、洗浄ローラ３６、モータ４
２、昇降機構４３、表面リンス液供給弁４６、裏面リン
ス液供給弁４７及びリンス液回収弁３５が接続されてい
る。また、洗浄・乾燥制御部５１には、洗浄・乾燥チャ
ンバー３０内の基板Ｐの搬送位置を検出するための各種
センサや他の入出力部も接続されている。

【００１７】次に、上述の実施例の動作について説明す
る。基板現像部２では、現像制御部５０が図３及び図４
に示す制御を行う。まずステップＳ１では初期設定を行
う。ステップＳ２では、前段の処理工程から基板搬入指
令がなされるのを待つ。基板搬入指令がなされるとステ
ップＳ３に移行する。ステップＳ３では入側シャッター
１２を開く。ステップＳ４では現像ローラ１７の回転を
開始し、基板Ｐを搬入する。ステップＳ５では、基板Ｐ
の先端が現像液供給ノズル２０の下方に到達するのを待
つ。基板Ｐが現像液供給ノズル２０の下方に到達すると
ステップＳ６に移行する。ステップＳ６では現像液供給
弁２１を開く。これにより基板Ｐ上に現像液が供給され
る。ステップＳ７では現像液回収弁１５を開く。これに
より、吐出された現像液のうちの余剰の現像液は、現像
液供給源１６に回収され、再利用される。

【００１８】ステップＳ８では、基板Ｐの後端が現像液
供給ノズル２０の下方を通過するのを待つ。基板Ｐの後
端が現像液供給ノズル２０の下方を通過すると、ステッ
プＳ９に移行する。ステップＳ９では現像液供給弁２１
を閉成して現像液の供給を停止し、続くステップＳ１０
で現像ローラ１７の回転を停止する。ステップＳ１１で
は時間Ｔの経過を待つ。この時間Ｔは、現像液が基板Ｐ
に塗布されてから現像が終了するまでに必要な時間であ
る。時間Ｔが経過するとステップＳ１２に移行する。ス
テップＳ１２では、後段の基板洗浄・乾燥部３での乾燥
処理が完了しているか否かをチェックする。これは、洗
浄・乾燥制御部５１から出力される乾燥完了信号（後
述）によって判断される。乾燥処理が完了していると判
断するとステップＳ１３に移行する。

【００１９】ステップＳ１３では中間シャッター１３を
開く。ステップＳ１４では窒素ガス供給弁２４，２５を
開く。ステップＳ１５では現像ローラ１７の回転を開始
する。これによって、窒素ガスノズル２２，２３からの
窒素ガスが基板Ｐに吹き付けられ、基板Ｐから現像液が
除去される。ステップＳ１６では、搬送された基板Ｐの
後端が中間シャッター１３の下方を通過するのを待つ。
基板Ｐが中間シャッター１３の下方を通過すると、ステ
ップＳ１７に移行して中間シャッター１３を閉じる。ス
テップＳ１８では現像ローラ１７の回転を停止する。ス
テップＳ１９では現像液回収弁１５を閉じ、ステップＳ
２に戻る。

【００２０】基板洗浄・乾燥部３では、洗浄・乾燥制御
部５１が図５及び図６に示す制御を行う。ここではステ
ップＰ１で初期設定を行う。ステップＰ２では中間シャ
ッター１３が開くのを待つ。中間シャッター１３が開く
とステップＰ３に移行する。ステップＰ３では洗浄ロー
ラ３６の回転を開始する。そしてステップＰ４で、搬送
された基板Ｐが基板保持位置に到着するのを待つ。

【００２１】基板Ｐが基板保持位置に到達すると、ステ
ップＰ５に移行して中間シャッタ１３を閉じ、ステップ
Ｐ６で洗浄ローラ３６の回転を停止する。ステップＰ７
では、搬送された基板Ｐを基板保持チャック４０に吸着
させる。そして、ステップＰ８で、昇降機構４３により
基板保持チャック４０を上昇させる。ステップＰ９では
リンス液供給弁４６，４７を開き、ステップＰ１０では
リンス液回収弁３５を開く。そして、ステップＰ１１
で、モータ４２を低速（たとえば３０ｒｐｍ）で所定時
間回転させ、基板Ｐを洗浄する。低速回転による洗浄動
作が終了するとステップＰ１２に移行する。ステップＰ
１２ではリンス液供給弁４６，４７をともに閉じる。こ
れにより洗浄処理が終了する。

【００２２】ステップＰ１３では、モータ４２を高速
（たとえば２０００ｒｐｍ）で所定時間回転させ、洗浄
液を振り切って基板Ｐを乾燥させる。ステップＰ１４で
は、基板保持チャック４０を昇降機構４３により下降さ
せる。ステップＰ１５では、基板保持チャック４０によ
る基板Ｐの吸着保持を解除する。ステップＰ１６では、
洗浄ローラ３６の回転を再度開始する。ステップＰ１７
では出側シャッター３３を開く。この結果、基板Ｐは図
１の右方向に移動して、排出口３２を通過する。ステッ
プＰ１８では、基板Ｐの後端が出側シャッター３３の下
方を通過するのを待ち、基板Ｐが出側シャッター３３の
下方を通過するとステップＰ１９に移行する。ステップ
Ｐ１９では、洗浄ローラ３６の回転を停止する。さら
に、ステップＰ２０で出側シャッター３３を閉じ、ステ
ップＰ２１で乾燥完了信号を現像制御部５０に出力し
て、ステップＰ２に戻る。なお、現像制御部５０ではこ
の乾燥完了信号の出力を図４のステップＳ１２で判断す
る。

【００２３】ここでは、現像処理と洗浄・乾燥処理とを
別々のチャンバー５，３０内で個別に行っているので、
現像液とリンス液とを容易に別々に回収できる。また、
装置の設置面積が、現像，洗浄及び乾燥処理を別々に行
う場合に比べて３分の２程度に小さくできる。〔他の実施例〕（ａ）図７に示すように、スピンカップ式の基板現像
部２ａ及び基板洗浄・乾燥部３ａを採用してもよい。

【００２４】ここで、基板現像部２ａは、スピンカップ
５ａと基板保持部４０ａと回転駆動用モータ４２ａとを
有している。また、基板洗浄・乾燥部３ａは、基板現像
部２ａに並設され、スピンカップ３０ａと基板保持部４
０と回転駆動用モータ４２とを有している。基板現像部
２ａと基板洗浄・乾燥部３ａとの間には、基板Ｐを搬送
するための基板搬送ロボット４ａが配置されている。（ｂ）基板現像処理時間が洗浄・乾燥処理時間に比べ
て長い場合には、図８に示すように、基板洗浄・乾燥部
３を挟んでその両側に基板現像部２ｂ，２ｃを設ける構
成としてもよい。

【００２５】ここでは、現像処理が終了した基板Ｐを交
互に洗浄・乾燥処理部３に搬送して洗浄・乾燥処理し、
洗浄・乾燥処理が終了した基板を上方または搬送方向と
直交する方向に排出する。この場合には、従来、６チャ
ンバーで行われている現像、洗浄、乾燥処理を３チャン
バーで行うことができ、さらに装置の設置面積を小さく
できる。（ｃ）角型基板を現像する構成に代えて円形基板を現
像する構成にも本発明を適用できる。

【００２６】

【発明の効果】本発明に係る基板現像装置では、基板現
像部と基板の洗浄・乾燥部とが並設されているので、装
置の設置面積が小さく、しかも現像液と洗浄液とを別々
に回収して容易に再利用できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例による基板現像装置の縦断面
概略図。

【図２】その制御系のブロック図。

【図３】現像制御部の制御フローチャート。

【図４】現像制御部の制御フローチャート。

【図５】洗浄・乾燥制御部の制御フローチャート。

【図６】洗浄・乾燥制御部の制御フローチャート。

【図７】他の実施例の図１に相当する図。

【図８】さらに他の実施例の図１に相当する図。

【符号の説明】

１基板現像装置２，２ａ，２ｂ，２ｃ基板現像部３，３ａ基板洗浄・乾燥部５，現像チャンバー５ａスピンカップ６現像液供給部３０洗浄・乾燥チャンバー３０ａスピンカップ３１洗浄・乾燥処理部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板に現像液を供給して現像処理した後に
該基板に洗浄液を供給して基板を洗浄し乾燥させる基板
現像装置において、互いに独立したチャンバー内に配置され、それぞれ基板
を保持する第１及び第２の基板保持手段と、第１の基板保持手段に保持された基板に現像液を供給す
る現像液供給手段と、基板に現像液が供給された後に、該基板を第１の基板保
持手段から第２の基板保持手段に搬送する搬送手段と、第２の基板保持手段に保持された基板に洗浄液を供給す
る洗浄液供給手段と、基板に洗浄液が供給された後に、該基板を第２の基板保
持手段に保持させつつ乾燥させる乾燥手段と、を備えた
基板現像装置。