JPH07142553A - ボート側ウェーハ位置検知方法及び装置 - Google Patents
ボート側ウェーハ位置検知方法及び装置Info
- Publication number
- JPH07142553A JPH07142553A JP15936693A JP15936693A JPH07142553A JP H07142553 A JPH07142553 A JP H07142553A JP 15936693 A JP15936693 A JP 15936693A JP 15936693 A JP15936693 A JP 15936693A JP H07142553 A JPH07142553 A JP H07142553A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- boat
- wafer
- wafers
- position detection
- sensor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ボートへのウェーハの移載及びボートからの
ウェーハの移載のための位置調整時間を短縮し、かつボ
ートとツィーザ又はウェーハとの接触を回避してボート
又はウェーハの破損を防止し、ウェーハ移載を円滑に確
実に行う。 【構成】 移載機３を上昇，下降し、既に主制御部６に
登録されているボート２の最上部，最下部など各部３枚
のウェーハを移載機３に取付けたウェーハ位置検知セン
サ４により検知し、実測値と登録の値（ボート最上部，
最下部のウェーハの距離、各部３枚のウェーハピッチ平
均、基準位置のずれ）を比較し、許容範囲内のずれであ
れば主制御部６に登録することを特徴とする。
ウェーハの移載のための位置調整時間を短縮し、かつボ
ートとツィーザ又はウェーハとの接触を回避してボート
又はウェーハの破損を防止し、ウェーハ移載を円滑に確
実に行う。 【構成】 移載機３を上昇，下降し、既に主制御部６に
登録されているボート２の最上部，最下部など各部３枚
のウェーハを移載機３に取付けたウェーハ位置検知セン
サ４により検知し、実測値と登録の値（ボート最上部，
最下部のウェーハの距離、各部３枚のウェーハピッチ平
均、基準位置のずれ）を比較し、許容範囲内のずれであ
れば主制御部６に登録することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は縦型拡散ＣＶＤ装置等の
半導体製造装置におけるボート側ウェーハ位置検知方法
に関する。
半導体製造装置におけるボート側ウェーハ位置検知方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置の１つに縦型拡散ＣＶＤ
装置がある。この装置はカセットに装填されたウェーハ
を移載機によってボートに移載し、該ボートを炉内の反
応室へ挿入して加熱反応させるものである。通常、ウェ
ーハカセットからボートへウェーハ移載機により移載す
る場合、移載機を制御している主制御部に、カセットの
ウェーハ位置及び枚数に対し、ボートのウェーハ挿入位
置を登録しなければならない。
装置がある。この装置はカセットに装填されたウェーハ
を移載機によってボートに移載し、該ボートを炉内の反
応室へ挿入して加熱反応させるものである。通常、ウェ
ーハカセットからボートへウェーハ移載機により移載す
る場合、移載機を制御している主制御部に、カセットの
ウェーハ位置及び枚数に対し、ボートのウェーハ挿入位
置を登録しなければならない。
【０００３】カセットのウェーハ位置及び枚数はカセッ
トステージに載せたウェーハカセットに対し、ウェーハ
検知センサを垂直方向に相対的に走査させ、ウェーハ検
知を行う。その方法の１例として、特願平２−３４４６
９号（特開平３−２３７７３９号）公報に記載されてい
る方法がある。あるいは、カセットステージからカセッ
トを複数列、多段に収納するカセットストッカにカセッ
トを載せ、移載機の昇降テーブルに取付けたウェーハ検
知センサを使う方法の１例として、特願平２−１７８９
４２号（特開平４−６７２８３号）公報に記載されてい
る方法があり、これらの方法などにより、カセットのウ
ェーハ位置及び枚数の自動検知及び登録が可能である。
トステージに載せたウェーハカセットに対し、ウェーハ
検知センサを垂直方向に相対的に走査させ、ウェーハ検
知を行う。その方法の１例として、特願平２−３４４６
９号（特開平３−２３７７３９号）公報に記載されてい
る方法がある。あるいは、カセットステージからカセッ
トを複数列、多段に収納するカセットストッカにカセッ
トを載せ、移載機の昇降テーブルに取付けたウェーハ検
知センサを使う方法の１例として、特願平２−１７８９
４２号（特開平４−６７２８３号）公報に記載されてい
る方法があり、これらの方法などにより、カセットのウ
ェーハ位置及び枚数の自動検知及び登録が可能である。
【０００４】ボートのウェーハ挿入位置（ウェーハピッ
チ間隔及び搭載枚数）登録は、従来、カセット内ウェー
ハをツィーザで取り出し、石英ボートに移載するに当
り、正確にボート上の溝部分に入れるため、実際にウェ
ーハあるいは相当品を使用して移載動作をさせて、人間
の目視により、図３に示すように石英ボート２の所定の
溝、例えば最上，最下位の溝にウェーハ１を１枚挿入
し、最適位置を探し出し基準値として主制御部（メイン
コントローラ）に登録し、また、ウェーハピッチ間隔及
び搭載枚数は主制御部（メインコントローラ）に接続さ
れている操作部１３から入力する。この後、ボート各溝
に、プロセス，ダミー，モニターウェーハを挿入載置，
反応室に挿入，加熱反応させるが、幾度と石英ボートを
使用している間に、該石英ボートは熱変形をおこし、反
応室から引き出すことになる。
チ間隔及び搭載枚数）登録は、従来、カセット内ウェー
ハをツィーザで取り出し、石英ボートに移載するに当
り、正確にボート上の溝部分に入れるため、実際にウェ
ーハあるいは相当品を使用して移載動作をさせて、人間
の目視により、図３に示すように石英ボート２の所定の
溝、例えば最上，最下位の溝にウェーハ１を１枚挿入
し、最適位置を探し出し基準値として主制御部（メイン
コントローラ）に登録し、また、ウェーハピッチ間隔及
び搭載枚数は主制御部（メインコントローラ）に接続さ
れている操作部１３から入力する。この後、ボート各溝
に、プロセス，ダミー，モニターウェーハを挿入載置，
反応室に挿入，加熱反応させるが、幾度と石英ボートを
使用している間に、該石英ボートは熱変形をおこし、反
応室から引き出すことになる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例にあって
は、ボート２からウェーハ１を、移載機３のツィーザ３
Ａにより引き出す場合に、搬送エラー（吸着エラー等）
を起こす場合があり、最悪の場合には、ウェーハ１とツ
ィーザ３Ａが接触し、ボートへのウェーハ挿入時の場合
にボート２とウェーハ１が接触し衝突して、ウェーハ１
あるいはボート２の破損につながり、移載の正しい機能
が果たせないという課題がある。又、移載機３のボート
２へのウェーハ１挿入のポジション登録は、人の目視，
感等，人手により最下位置のボート２の溝にウェーハ１
を触れないように挿入出来る位置を探し出し、それを人
の手により主制御部に登録するという方法を採っている
ため、ウェーハ挿入の調整に熟練した技術と多大な時間
を必要とするという課題がある。
は、ボート２からウェーハ１を、移載機３のツィーザ３
Ａにより引き出す場合に、搬送エラー（吸着エラー等）
を起こす場合があり、最悪の場合には、ウェーハ１とツ
ィーザ３Ａが接触し、ボートへのウェーハ挿入時の場合
にボート２とウェーハ１が接触し衝突して、ウェーハ１
あるいはボート２の破損につながり、移載の正しい機能
が果たせないという課題がある。又、移載機３のボート
２へのウェーハ１挿入のポジション登録は、人の目視，
感等，人手により最下位置のボート２の溝にウェーハ１
を触れないように挿入出来る位置を探し出し、それを人
の手により主制御部に登録するという方法を採っている
ため、ウェーハ挿入の調整に熟練した技術と多大な時間
を必要とするという課題がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を解
決するためになされたもので、自動的にボートへのウェ
ーハ挿入位置を探し出し、主制御部に登録を行うことが
できるボート側ウェーハ位置検知方法及び装置を提供し
ようとするものである。即ち、本発明方法及び装置は図
１に示すように、移載機３を上昇，下降し、既に主制御
部６に登録されているボート２の最上部，最下部など各
部３枚のウェーハ１Ｕ，１Ｄを移載機３に取付けたウェ
ーハ位置検知センサ４により検知し、実測値と登録の値
（ボート最上部，最下部のウェーハの距離、各部３枚の
ウェーハピッチ平均、基準位置のずれ）を比較し、許容
範囲内のずれであれば主制御部６に登録することを特徴
とする。
決するためになされたもので、自動的にボートへのウェ
ーハ挿入位置を探し出し、主制御部に登録を行うことが
できるボート側ウェーハ位置検知方法及び装置を提供し
ようとするものである。即ち、本発明方法及び装置は図
１に示すように、移載機３を上昇，下降し、既に主制御
部６に登録されているボート２の最上部，最下部など各
部３枚のウェーハ１Ｕ，１Ｄを移載機３に取付けたウェ
ーハ位置検知センサ４により検知し、実測値と登録の値
（ボート最上部，最下部のウェーハの距離、各部３枚の
ウェーハピッチ平均、基準位置のずれ）を比較し、許容
範囲内のずれであれば主制御部６に登録することを特徴
とする。
【０００７】
【実施例】図１は本発明方法及び装置の１実施例の構成
を示す説明図、図２（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ本実施例
におけるウェーハ位置検知の説明図及びボートの説明図
である。本実施例は、図１及び図２に示すように、ボー
ト２の最上部、最下部の各溝に、既に主制御部（メイン
コントローラ）６に登録された基準位置の溝位置、ウェ
ーハピッチをもとに計算し、移載機３で自動的に、ある
いは人為的に３枚のウェーハ１Ｕ，１Ｄをボート２に挿
入する。超音波方式の反射型ウェーハ位置検知センサ４
が取付けられた移載機３を昇降させる移載機昇降機構９
を構成する例えばモータ７により、ネジ軸１４を回転さ
せ、これに螺合せしめた昇降テーブル及びこの昇降テー
ブル上の水平方向に移動するツィーザ３Ａからなる移載
機３を上昇または下降せしめる構成になっている。５は
キャップである。
を示す説明図、図２（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ本実施例
におけるウェーハ位置検知の説明図及びボートの説明図
である。本実施例は、図１及び図２に示すように、ボー
ト２の最上部、最下部の各溝に、既に主制御部（メイン
コントローラ）６に登録された基準位置の溝位置、ウェ
ーハピッチをもとに計算し、移載機３で自動的に、ある
いは人為的に３枚のウェーハ１Ｕ，１Ｄをボート２に挿
入する。超音波方式の反射型ウェーハ位置検知センサ４
が取付けられた移載機３を昇降させる移載機昇降機構９
を構成する例えばモータ７により、ネジ軸１４を回転さ
せ、これに螺合せしめた昇降テーブル及びこの昇降テー
ブル上の水平方向に移動するツィーザ３Ａからなる移載
機３を上昇または下降せしめる構成になっている。５は
キャップである。
【０００８】図２に示すごとく、始めに基準位置の溝
が、ボート２の最下部とした場合、反射型ウェーハ位置
検知センサ４を、主制御部６の登録の値に従い、基準位
置より下の位置に移動する。次に図１に示すごとく、モ
ータ７によりセンサ４を上昇させ、実際のセンサ４移動
はロータリエンコーダ８により得られ、図２に示すごと
く、ボート２の最下部の各溝に挿入された３枚のウェー
ハ１Ｄを検知する。図１に示すごとく、反射型ウェーハ
位置検知センサ４から出力されたウェーハ位置検知（有
無）信号と、ロータリエンコーダ８のセンサ位置検出信
号の値を、ウェーハ検出部１０に入力し、とある処理に
より基準位置のずれ、ボート２の最下部の各溝に挿入さ
れたウェーハピッチの平均値が求まる。主制御部６で予
めパラメータとして設定したウェーハ検知幅に対し、そ
の許容範囲に入っているか否か、またウェーハピッチ間
隔が登録されている値の許容範囲に収まっているか判定
する。例えば、特願平３−２１６３２５号公報のような
処理が考えられる。
が、ボート２の最下部とした場合、反射型ウェーハ位置
検知センサ４を、主制御部６の登録の値に従い、基準位
置より下の位置に移動する。次に図１に示すごとく、モ
ータ７によりセンサ４を上昇させ、実際のセンサ４移動
はロータリエンコーダ８により得られ、図２に示すごと
く、ボート２の最下部の各溝に挿入された３枚のウェー
ハ１Ｄを検知する。図１に示すごとく、反射型ウェーハ
位置検知センサ４から出力されたウェーハ位置検知（有
無）信号と、ロータリエンコーダ８のセンサ位置検出信
号の値を、ウェーハ検出部１０に入力し、とある処理に
より基準位置のずれ、ボート２の最下部の各溝に挿入さ
れたウェーハピッチの平均値が求まる。主制御部６で予
めパラメータとして設定したウェーハ検知幅に対し、そ
の許容範囲に入っているか否か、またウェーハピッチ間
隔が登録されている値の許容範囲に収まっているか判定
する。例えば、特願平３−２１６３２５号公報のような
処理が考えられる。
【０００９】次に反射型ウェーハ位置検知センサ４を、
主制御部６に登録の値に従い、ボート２の最上部の各溝
に挿入された３枚のウェーハ１Ｕを検知する。これによ
りボート２の最上部，最下部のウェーハ１Ｕ，１Ｄの距
離およびボート２の最上部に挿入されたウェーハピッチ
の平均値が求まり、上記同様の判定が行われる。許容範
囲であれば、主制御部６に、補正データとして登録を行
うことで、より正確に確実にウェーハ搬送が可能であ
る。又、センサ調整状態により、測定値が許容範囲に収
まらない場合には、再度調整を行うが、表示部において
ウェーハ位置検知センサ４の位置調整が表示されるの
で、再調整を容易に行なえる。尚、本実施例ではボート
２の最上部，最下部の３つの各溝にウェーハ１を装填
し、検知用ウェーハを３枚としたが、３枚以上でもよ
く、３枚以上とすることにより、より高精確な検知が行
える。図１に示すように、反応処理、使用中のボートの
検知するウェーハの位置、ウェーハの数はこれに限定さ
れるものではない。また、センサ４は超音波センサに代
えて光反射型センサであってもよく、又反射型でなく透
過型でもよい。
主制御部６に登録の値に従い、ボート２の最上部の各溝
に挿入された３枚のウェーハ１Ｕを検知する。これによ
りボート２の最上部，最下部のウェーハ１Ｕ，１Ｄの距
離およびボート２の最上部に挿入されたウェーハピッチ
の平均値が求まり、上記同様の判定が行われる。許容範
囲であれば、主制御部６に、補正データとして登録を行
うことで、より正確に確実にウェーハ搬送が可能であ
る。又、センサ調整状態により、測定値が許容範囲に収
まらない場合には、再度調整を行うが、表示部において
ウェーハ位置検知センサ４の位置調整が表示されるの
で、再調整を容易に行なえる。尚、本実施例ではボート
２の最上部，最下部の３つの各溝にウェーハ１を装填
し、検知用ウェーハを３枚としたが、３枚以上でもよ
く、３枚以上とすることにより、より高精確な検知が行
える。図１に示すように、反応処理、使用中のボートの
検知するウェーハの位置、ウェーハの数はこれに限定さ
れるものではない。また、センサ４は超音波センサに代
えて光反射型センサであってもよく、又反射型でなく透
過型でもよい。
【００１０】上記のように本実施例においては、ボート
２の上部，下部にそれぞれウェーハ１Ｕ，１Ｄを３枚ず
つ入れておく。移載機３を上下方向に移動させて、入れ
ておいたウェーハ１Ｕ，１Ｄを移載機３に取り付けたセ
ンサ４で読み取る。読み取った位置データよりウェーハ
１間の平均値を求め、ボート２の溝数に合わせ均等に振
り分ける。この値より、ウェーハ１がボート２に触れず
に挿入載置できる位置の幅を割り出し、その値をウェー
ハ挿入の位置として主制御部６に登録する。本実施例に
よれば、ボート２へのウェーハ１の移載及びボート２か
らのウェーハ１の移載のための位置登録調整時間を大幅
に短縮することができ、かつボート２とツィーザ３Ａ又
はウェーハ１との接触を回避してボート２又はウェーハ
１の破損を防止し、ウェーハ移載を円滑に確実に行うこ
とができることになる。
２の上部，下部にそれぞれウェーハ１Ｕ，１Ｄを３枚ず
つ入れておく。移載機３を上下方向に移動させて、入れ
ておいたウェーハ１Ｕ，１Ｄを移載機３に取り付けたセ
ンサ４で読み取る。読み取った位置データよりウェーハ
１間の平均値を求め、ボート２の溝数に合わせ均等に振
り分ける。この値より、ウェーハ１がボート２に触れず
に挿入載置できる位置の幅を割り出し、その値をウェー
ハ挿入の位置として主制御部６に登録する。本実施例に
よれば、ボート２へのウェーハ１の移載及びボート２か
らのウェーハ１の移載のための位置登録調整時間を大幅
に短縮することができ、かつボート２とツィーザ３Ａ又
はウェーハ１との接触を回避してボート２又はウェーハ
１の破損を防止し、ウェーハ移載を円滑に確実に行うこ
とができることになる。
【００１１】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、移載機３
を上昇，下降し、既に主制御部６に登録されているボー
ト２の最上部，最下部など各部３枚のウェーハ１Ｕ，１
Ｄを移載機３に取付けたウェーハ位置検知センサ４によ
り検知し、実測値と登録の値（ボート最上部，最下部の
ウェーハの距離、各部３枚のウェーハピッチ平均、基準
位置のずれ）を比較し、許容範囲内のずれであれば主制
御部６に登録することを特徴とする方法及び装置である
ため、ボート２へのウェーハ１の移載及びボート２から
のウェーハ１の移載のための位置登録調整時間を大幅に
短縮することができ、かつボート２とツィーザ３Ａ又は
ウェーハ１との接触を回避してボート２又はウェーハ１
の破損を防止し、ウェーハ移載を円滑に確実に行うこと
ができる。
を上昇，下降し、既に主制御部６に登録されているボー
ト２の最上部，最下部など各部３枚のウェーハ１Ｕ，１
Ｄを移載機３に取付けたウェーハ位置検知センサ４によ
り検知し、実測値と登録の値（ボート最上部，最下部の
ウェーハの距離、各部３枚のウェーハピッチ平均、基準
位置のずれ）を比較し、許容範囲内のずれであれば主制
御部６に登録することを特徴とする方法及び装置である
ため、ボート２へのウェーハ１の移載及びボート２から
のウェーハ１の移載のための位置登録調整時間を大幅に
短縮することができ、かつボート２とツィーザ３Ａ又は
ウェーハ１との接触を回避してボート２又はウェーハ１
の破損を防止し、ウェーハ移載を円滑に確実に行うこと
ができる。
【図１】本発明方法及び装置の１実施例の構成を示す説
明図である。
明図である。
【図２】（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ本実施例におけるウ
ェーハ位置検知の説明図及びボートの説明図である。
ェーハ位置検知の説明図及びボートの説明図である。
【図３】従来方法及び装置の１例の構成を示す要部の説
明図である。
明図である。
１ ウェーハ １Ｕ （最）上部のウェーハ １Ｄ （最）下部のウェーハ ２ ボート ３ 移載機 ３Ａ ツィーザ ４ ウェーハ位置検知センサ ６ 主制御部（メインコントローラ） ７ 駆動部（モータ） ８ センサ位置検出部（ロータリエンコーダ） ９ 移載機昇降機構 １０ ウェーハ検出部 １１ 駆動部（モータ）コントローラ １２ 駆動部（モータ）ドライバ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池田 和人 東京都港区虎ノ門二丁目３番13号 国際電 気株式会社内 (72)発明者 開発 秀樹 東京都港区虎ノ門二丁目３番13号 国際電 気株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 ボート（２）の上，下部にそれぞれ３枚
以上のウェーハ（１Ｕ，１Ｄ）を挿入載置しておき、こ
の上，下部のウェーハ（１Ｕ，１Ｄ）を，移載機（３）
を上下方向に移動させてこれに取付けられたウェーハ位
置検知センサ（４）により検知すると共にセンサの移動
をセンサ位置検出部（８）により検出し、ウェーハ位置
検知信号とセンサ位置検出信号をウェーハ検出部（１
０）に入力し、主制御部（６）に予めパラメータとして
設定した値に対し許容範囲にあるかどうか判定すること
を特徴とするボート側ウェーハ位置検知方法。 - 【請求項２】 ウェーハ位置の値が許容範囲内にある場
合、その値を補正データとして主制御部（６）に登録
し、その補正データにより移載機（３）の動作を補正す
ることを特徴とする請求項１のボート側ウェーハ位置検
知方法。 - 【請求項３】 ボート（２）の上，下部にそれぞれ挿入
載置された３枚以上のウェーハ（１Ｕ，１Ｄ）を検知す
るウェーハ位置検知センサ（４）を，移載機昇降機構
（９）により昇降される移載機（３）に取付け、該ウェ
ーハ位置検知センサ（４）の移動をセンサ位置検出部
（８）により検出し、ウェーハ位置検知信号とセンサ位
置検出信号をウェーハ検出部（１０）に入力して予めパ
ラメータとして設定した値に対し許容範囲内にあるか否
かを判定する主制御部（６），この主制御部（６）の出
力で前記移載機昇降機構（９）の駆動部（７）を制御す
る駆動部コントローラ（１１）及び該駆動部コントロー
ラ（１１）により駆動部（７）を作動する駆動部ドライ
バ（１２）を具備してなるボート側ウェーハ位置検知装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15936693A JPH07142553A (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | ボート側ウェーハ位置検知方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15936693A JPH07142553A (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | ボート側ウェーハ位置検知方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07142553A true JPH07142553A (ja) | 1995-06-02 |
Family
ID=15692273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15936693A Pending JPH07142553A (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | ボート側ウェーハ位置検知方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07142553A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100431874B1 (ko) * | 1995-06-22 | 2004-10-20 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 피처리체의이재암의티칭방법 |
| JPWO2006038584A1 (ja) * | 2004-10-06 | 2008-05-15 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 |
| JP2009194184A (ja) * | 2008-02-15 | 2009-08-27 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JP2010056469A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置及び熱処理方法並びに記憶媒体 |
| KR20140104912A (ko) * | 2013-02-20 | 2014-08-29 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 반송 장치, 기판 처리 장치 및 기판 수용 방법 |
-
1993
- 1993-06-29 JP JP15936693A patent/JPH07142553A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100431874B1 (ko) * | 1995-06-22 | 2004-10-20 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 피처리체의이재암의티칭방법 |
| JPWO2006038584A1 (ja) * | 2004-10-06 | 2008-05-15 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 |
| US7751922B2 (en) | 2004-10-06 | 2010-07-06 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Semiconductor manufacturing apparatus and manufacturing of a semiconductor device |
| JP4555302B2 (ja) * | 2004-10-06 | 2010-09-29 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置、半導体装置の製造方法、及び検出方法 |
| JP2009194184A (ja) * | 2008-02-15 | 2009-08-27 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JP2010056469A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置及び熱処理方法並びに記憶媒体 |
| US8423175B2 (en) | 2008-08-29 | 2013-04-16 | Tokyo Electron Limited | Thermal processing apparatus, thermal processing method, and storage medium |
| US8565911B2 (en) | 2008-08-29 | 2013-10-22 | Tokyo Electron Limited | Thermal processing apparatus, thermal processing method, and storage medium |
| KR20140104912A (ko) * | 2013-02-20 | 2014-08-29 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 반송 장치, 기판 처리 장치 및 기판 수용 방법 |
| JP2014160775A (ja) * | 2013-02-20 | 2014-09-04 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置、基板処理装置および基板収容方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5813819A (en) | Substrate transfer apparatus, and method of transferring substrates | |
| US6522942B2 (en) | Transfer apparatus for semiconductor process | |
| JPH08335622A (ja) | 基板搬送装置 | |
| JP4357744B2 (ja) | ロボットアライメントシステムおよびそのシステムを利用したアライメント方法 | |
| KR101245464B1 (ko) | 열처리 장치, 열처리 방법 및 기억 매체 | |
| US20050186063A1 (en) | Calibration of high speed loader to substrate transport system | |
| JPH07142553A (ja) | ボート側ウェーハ位置検知方法及び装置 | |
| JP2009049200A (ja) | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | |
| JPH07260455A (ja) | 基板位置決め方法及び装置 | |
| JP3674063B2 (ja) | ウェハ搬送装置 | |
| JP2008028206A (ja) | 半導体製造装置およびボート載置台 | |
| JPH05114641A (ja) | 半導体ウエハカセツトキヤリア | |
| JPH06211320A (ja) | ウエハ搬出搬入装置 | |
| JP2935060B2 (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPH0656228A (ja) | 搬送用ロボットの基準位置自動教示方法 | |
| JP4580719B2 (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送方法 | |
| KR20210092906A (ko) | 기판 이송 방법 및 기판 이송 장치 | |
| US20240109197A1 (en) | Transfer system and transfer method | |
| JP2882746B2 (ja) | 基板搬送装置 | |
| KR20070082144A (ko) | 오버레이 설비용 웨이퍼 티칭장치 및 방법 | |
| JPH04215454A (ja) | ウエハ用カセットの姿勢制御機構 | |
| JPH0590185A (ja) | ボートの設置状態検出装置 | |
| JPH05238513A (ja) | 半導体ウェハー収納カセットと半導体ウェハー搬送機構との位置決め方法 | |
| JPH0530362Y2 (ja) | ||
| JPH0563060A (ja) | ウエーハ枚数計数装置 |