JPH04215454A - ウエハ用カセットの姿勢制御機構 - Google Patents
ウエハ用カセットの姿勢制御機構Info
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- JPH04215454A JPH04215454A JP2402120A JP40212090A JPH04215454A JP H04215454 A JPH04215454 A JP H04215454A JP 2402120 A JP2402120 A JP 2402120A JP 40212090 A JP40212090 A JP 40212090A JP H04215454 A JPH04215454 A JP H04215454A
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の製造装置,
とくに, カセットに収納されたウエハを逐一取り出
して処理する装置に関する。
とくに, カセットに収納されたウエハを逐一取り出
して処理する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造における自動化にとも
ない, ウエハをカセットに収納された状態で種々の処
理装置に供給する方法が採られている。第3図に示すよ
うに,通常, カセット1内には,ウエハ2が互いに平
行に収納されている。カセット1から逐一ウエハ2を取
り出して所定の処理を施したのち, 別のカセットに収
納するのであるが, この場合, ウエハ2が取り出し
または収納されるごとに,カセット1が載置された載置
台3を,図示しない昇降機構により移動して,カセット
1を上方または下方に所定ピッチだけ移動する。
ない, ウエハをカセットに収納された状態で種々の処
理装置に供給する方法が採られている。第3図に示すよ
うに,通常, カセット1内には,ウエハ2が互いに平
行に収納されている。カセット1から逐一ウエハ2を取
り出して所定の処理を施したのち, 別のカセットに収
納するのであるが, この場合, ウエハ2が取り出し
または収納されるごとに,カセット1が載置された載置
台3を,図示しない昇降機構により移動して,カセット
1を上方または下方に所定ピッチだけ移動する。
【0003】カセット1からウエハ2を取り出すときの
昇降制御は, 従来, カセット1内におけるウエハ2
の間隔, すなわち, 配列ピッチごとにカセット1を
上昇(または下降)し, カセット1の背面側に設置さ
れた光センサ4によりウエハ2の端面が検出されたとき
に昇降を停止して取り出し待機状態とする。一方, カ
セット1へのウエハ2の収納時には, 初期状態をカセ
ット1が空と設定し, 以後, 取り出し時と同様に,
ウエハ2の配列ピッチごとにカセット1を上昇(また
は下降)する。
昇降制御は, 従来, カセット1内におけるウエハ2
の間隔, すなわち, 配列ピッチごとにカセット1を
上昇(または下降)し, カセット1の背面側に設置さ
れた光センサ4によりウエハ2の端面が検出されたとき
に昇降を停止して取り出し待機状態とする。一方, カ
セット1へのウエハ2の収納時には, 初期状態をカセ
ット1が空と設定し, 以後, 取り出し時と同様に,
ウエハ2の配列ピッチごとにカセット1を上昇(また
は下降)する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のカセット昇降制
御は,上記のように,カセット1内におけるウエハ2の
有無の検出およびウエハ2の配列ピッチのみに基づいて
行われていた。したがって, カセット1内におけるウ
エハ2の実際の位置とカセットからウエハを取り出すた
めの機構との相対位置ずれ,または,ウエハ2を挿入す
るためにカセット1に設けられている溝の実際の位置と
カセット1内にウエハ2を収納する機構との相対位置ず
れが生じていても,これを修正することができなかった
。 その結果,ウエハ2の取り出しや収納に失敗したり,あ
るいは,カセット1とウエハ2との接触面に無理な力が
印加され,ウエハ2に塗布されているレジスト膜が剥離
する等の問題があった。前者は,その都度アラームが発
生され処理装置が停止するために,スループットの低下
につながる。また,後者は,剥離したレジスト膜が塵埃
となって被処理ウエハを汚染する原因となる。
御は,上記のように,カセット1内におけるウエハ2の
有無の検出およびウエハ2の配列ピッチのみに基づいて
行われていた。したがって, カセット1内におけるウ
エハ2の実際の位置とカセットからウエハを取り出すた
めの機構との相対位置ずれ,または,ウエハ2を挿入す
るためにカセット1に設けられている溝の実際の位置と
カセット1内にウエハ2を収納する機構との相対位置ず
れが生じていても,これを修正することができなかった
。 その結果,ウエハ2の取り出しや収納に失敗したり,あ
るいは,カセット1とウエハ2との接触面に無理な力が
印加され,ウエハ2に塗布されているレジスト膜が剥離
する等の問題があった。前者は,その都度アラームが発
生され処理装置が停止するために,スループットの低下
につながる。また,後者は,剥離したレジスト膜が塵埃
となって被処理ウエハを汚染する原因となる。
【0005】本発明は,上記従来の問題点を解決し,カ
セットに対するウエハの取り出しおよび収納を確実にす
ることにより,処理工程のスループットの低下ならびに
レジスト膜の剥離による汚染を回避可能とすることを目
的とする。
セットに対するウエハの取り出しおよび収納を確実にす
ることにより,処理工程のスループットの低下ならびに
レジスト膜の剥離による汚染を回避可能とすることを目
的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的は,第1の昇降
機構によって上下される第1の載置台と, ウエハが収
納され且つ該ウエハが通過可能な取り出し面を有するカ
セットが載置され且つ該第1の載置台上に配置された第
2の載置台と, 該カセットの前記取り出し面の背面直
下に配置され且つ該第1の載置台と第2の載置台とを結
合する二軸回動機構と, 各々が該カセットの前記取り
出し面直下に配置され且つ該第1の載置台上に固定され
た固定部と該第2の載置台を支持する可動部とを有する
第2の昇降機構と, 該カセットの前記背面に対向して
配置され且つ前記背面に表出する前記ウエハの端面を検
出する第1の検出器と, 該第1の検出器と同一水平面
内に配置され且つ該カセットの前記取り出し面に表出す
る前記ウエハの端面を検出する第2の検出器と, 該第
2の昇降機構を停止した状態で該第1の昇降機構を作動
し,該第1の検出器によって前記ウエハの端面が検出さ
れたときに該第1の昇降機構を停止するとともに該第2
の検出器によって前記ウエハの端面が検出されるように
該第2の昇降機構を作動する制御装置とを具備して成る
本発明に係るウエハ用カセットの姿勢制御機構,または
,上下に移動可能に支持された第1の載置台と, ウエ
ハが収納される収納面を有するカセットが載置され且つ
該第1の載置台上に配置された第2の載置台と, 該カ
セットの両側面のそれぞれに該ウエハに対応して設けら
れた複数の開口と,該カセットの前記背面直下に配置さ
れ且つ該第1の載置台と第2の載置台とを結合する二軸
回動機構と, 各々が該カセットの前記収納面直下に配
置され且つ該第1の載置台上に固定された固定部と該第
2の載置台を支持する可動部とを有する昇降機構と,
該カセットの前記両側面に対向して配置され且つ前記開
口を通過する光ビームの照射および検出する光源および
検出器と, 該第1の載置台を停止した状態で該昇降機
構を作動し,該開口を通過する前記光ビームが該検出器
によって検出されたときに該昇降機構を停止する制御装
置とを具備して成る本発明に係るウエハ用カセットの姿
勢制御機構によって達成される。
機構によって上下される第1の載置台と, ウエハが収
納され且つ該ウエハが通過可能な取り出し面を有するカ
セットが載置され且つ該第1の載置台上に配置された第
2の載置台と, 該カセットの前記取り出し面の背面直
下に配置され且つ該第1の載置台と第2の載置台とを結
合する二軸回動機構と, 各々が該カセットの前記取り
出し面直下に配置され且つ該第1の載置台上に固定され
た固定部と該第2の載置台を支持する可動部とを有する
第2の昇降機構と, 該カセットの前記背面に対向して
配置され且つ前記背面に表出する前記ウエハの端面を検
出する第1の検出器と, 該第1の検出器と同一水平面
内に配置され且つ該カセットの前記取り出し面に表出す
る前記ウエハの端面を検出する第2の検出器と, 該第
2の昇降機構を停止した状態で該第1の昇降機構を作動
し,該第1の検出器によって前記ウエハの端面が検出さ
れたときに該第1の昇降機構を停止するとともに該第2
の検出器によって前記ウエハの端面が検出されるように
該第2の昇降機構を作動する制御装置とを具備して成る
本発明に係るウエハ用カセットの姿勢制御機構,または
,上下に移動可能に支持された第1の載置台と, ウエ
ハが収納される収納面を有するカセットが載置され且つ
該第1の載置台上に配置された第2の載置台と, 該カ
セットの両側面のそれぞれに該ウエハに対応して設けら
れた複数の開口と,該カセットの前記背面直下に配置さ
れ且つ該第1の載置台と第2の載置台とを結合する二軸
回動機構と, 各々が該カセットの前記収納面直下に配
置され且つ該第1の載置台上に固定された固定部と該第
2の載置台を支持する可動部とを有する昇降機構と,
該カセットの前記両側面に対向して配置され且つ前記開
口を通過する光ビームの照射および検出する光源および
検出器と, 該第1の載置台を停止した状態で該昇降機
構を作動し,該開口を通過する前記光ビームが該検出器
によって検出されたときに該昇降機構を停止する制御装
置とを具備して成る本発明に係るウエハ用カセットの姿
勢制御機構によって達成される。
【0007】
【作用】カセットを上下方向に移動する第1の載置台上
に一つの二軸回動機構と互いに独立に作動可能なレベル
調整用の二つの昇降機構と,これらによってによって三
点支持される第2の載置台を設け,カセット内における
ウエハの配列ピッチずつに第1の載置台を移動させるご
とに,前記レベル調整用昇降機構によって,第2の載置
台上に載置されたカセット中のウエハまたはウエハを収
納しようとするカセットの姿勢を制御する。
に一つの二軸回動機構と互いに独立に作動可能なレベル
調整用の二つの昇降機構と,これらによってによって三
点支持される第2の載置台を設け,カセット内における
ウエハの配列ピッチずつに第1の載置台を移動させるご
とに,前記レベル調整用昇降機構によって,第2の載置
台上に載置されたカセット中のウエハまたはウエハを収
納しようとするカセットの姿勢を制御する。
【0008】
【実施例】第1図は請求項1に記載の本発明の一実施例
を説明するための側面図(a) と正面図(b) であ
って,例えばモータ11と, これにより矢印A方向に
移動する支持軸12から成る昇降機構10によって昇降
する載置台14上には第2の載置台16が配置されてお
り, 載置台16上の所定位置に, カセット1が載置
される。二軸回動機構21は, カセット1の背面(ウ
エハ2の取り出し面に対向する面)のほぼ直下に配置さ
れており, 載置台14と16とを結合している。第2
の昇降機構22と第3の昇降機構23とは, カセット
1の取り出し面のほぼ直下に, それぞれの固定部が載
置台14に固定され, 可動部が載置台16を支持する
ように配置されている。このように, 載置台16は,
二軸回動機構21と昇降機構22および23とによっ
て三点支持される。なお, 二軸回動機構21としては
周知の自在継手を, また, 昇降機構22および23
としては周知のZステージを用いることができる。
を説明するための側面図(a) と正面図(b) であ
って,例えばモータ11と, これにより矢印A方向に
移動する支持軸12から成る昇降機構10によって昇降
する載置台14上には第2の載置台16が配置されてお
り, 載置台16上の所定位置に, カセット1が載置
される。二軸回動機構21は, カセット1の背面(ウ
エハ2の取り出し面に対向する面)のほぼ直下に配置さ
れており, 載置台14と16とを結合している。第2
の昇降機構22と第3の昇降機構23とは, カセット
1の取り出し面のほぼ直下に, それぞれの固定部が載
置台14に固定され, 可動部が載置台16を支持する
ように配置されている。このように, 載置台16は,
二軸回動機構21と昇降機構22および23とによっ
て三点支持される。なお, 二軸回動機構21としては
周知の自在継手を, また, 昇降機構22および23
としては周知のZステージを用いることができる。
【0009】従来と同様に, カセット1の背面には,
ウエハ2の端面を検出するための光センサ4が配置さ
れている。本発明においては, さらに, カセット1
の取り出し面側に, 第1図(c) の平面図に示すよ
うに, 第2および第3の光センサ25および26が配
置されている。光センサ4と光センサ25および26と
は, カセット1の移動とは関係なく, 空間的に固定
されている。光センサ4と光センサ25および26は,
所定の取り出し状態にあるウエハ2と同一平面, 一
般には水平面, 内に配置されていることが望ましい。 これは,これら光センサ相互間の高さずれに対する補正
を不要とし,制御を容易にするためである。また, 光
センサ25および26の配置には, 上記の他に, カ
セット1から取り出されるウエハ2の移動を妨げないよ
うに考慮することが必要である。
ウエハ2の端面を検出するための光センサ4が配置さ
れている。本発明においては, さらに, カセット1
の取り出し面側に, 第1図(c) の平面図に示すよ
うに, 第2および第3の光センサ25および26が配
置されている。光センサ4と光センサ25および26と
は, カセット1の移動とは関係なく, 空間的に固定
されている。光センサ4と光センサ25および26は,
所定の取り出し状態にあるウエハ2と同一平面, 一
般には水平面, 内に配置されていることが望ましい。 これは,これら光センサ相互間の高さずれに対する補正
を不要とし,制御を容易にするためである。また, 光
センサ25および26の配置には, 上記の他に, カ
セット1から取り出されるウエハ2の移動を妨げないよ
うに考慮することが必要である。
【0010】上記の構成によるウエハ2の姿勢制御を行
う制御装置(図示省略)は次のように動作はする。すな
わち, 従来と同様に, 昇降機構10によりカセット
1を, 例えば下方に移動する。そして, 光センサ4
により, 例えばウエハ21の端面が検出されたら,
昇降機構10を停止する。次いで, 例えば昇降機構2
2により,載置台16の支持点を上向きまたは下向きに
移動させ, 光センサ25によりウエハ21の端面が検
出されたら, 昇降機構22を停止する。次いで, 昇
降機構23により, 載置台16の支持点を上向きまた
は下向きに移動させ, 光センサ26により前記ウエハ
21の端面が検出されたら, 昇降機構23を停止する
。 上記における昇降機構22および23による載置台16
の移動量は, カセット1内におけるウエハ2の配列ピ
ッチの1/2 以下とし, この範囲内で載置台16を
上下に移動させてウエハ21の端面を検出するように設
定する。
う制御装置(図示省略)は次のように動作はする。すな
わち, 従来と同様に, 昇降機構10によりカセット
1を, 例えば下方に移動する。そして, 光センサ4
により, 例えばウエハ21の端面が検出されたら,
昇降機構10を停止する。次いで, 例えば昇降機構2
2により,載置台16の支持点を上向きまたは下向きに
移動させ, 光センサ25によりウエハ21の端面が検
出されたら, 昇降機構22を停止する。次いで, 昇
降機構23により, 載置台16の支持点を上向きまた
は下向きに移動させ, 光センサ26により前記ウエハ
21の端面が検出されたら, 昇降機構23を停止する
。 上記における昇降機構22および23による載置台16
の移動量は, カセット1内におけるウエハ2の配列ピ
ッチの1/2 以下とし, この範囲内で載置台16を
上下に移動させてウエハ21の端面を検出するように設
定する。
【0011】上記のようにして, 取り出し位置に到達
するごとにカセット1内の各々のウエハ2は, 光セン
サ4と光センサ25および26によって決まる面, 一
般に水平面, 内に姿勢制御される。したがって, こ
れら光センサの配置される面の位置を, ウエハ2の取
り出し機構に対して最適化しておけば, カセット1か
らウエハ2を確実に取り出すことができ, また, カ
セット1とウエハ2との間の接触面に無理な力が加わる
ことを回避できる。なお, 光センサ4と光センサ25
および26は, 光源と, 光源からの光を射出する光
ファイバと, 被検出物体からの反射光を受光器に入射
させる光ファイバと受光器とが一体化された周知の光セ
ンサ(例えばキーエンス社製の型番FU−22,サンク
ス社製の型番SS−FD10SR,立石電機社製の型番
E32−CC200)等を用いればよい。
するごとにカセット1内の各々のウエハ2は, 光セン
サ4と光センサ25および26によって決まる面, 一
般に水平面, 内に姿勢制御される。したがって, こ
れら光センサの配置される面の位置を, ウエハ2の取
り出し機構に対して最適化しておけば, カセット1か
らウエハ2を確実に取り出すことができ, また, カ
セット1とウエハ2との間の接触面に無理な力が加わる
ことを回避できる。なお, 光センサ4と光センサ25
および26は, 光源と, 光源からの光を射出する光
ファイバと, 被検出物体からの反射光を受光器に入射
させる光ファイバと受光器とが一体化された周知の光セ
ンサ(例えばキーエンス社製の型番FU−22,サンク
ス社製の型番SS−FD10SR,立石電機社製の型番
E32−CC200)等を用いればよい。
【0012】第2図は, 請求項2に記載の本発明の一
実施例を説明するための平面図(a) と側面図(b)
であって,第1図と同じ部分には同一符号を付してあ
る。請求項2の発明は, カセット1にウエハ2を収納
する際のカセット1の姿勢制御機構に関するものであっ
て, 収納面側からカセット1内にウエハ2をを収納す
る場合, カセット1の両側面に設けられている溝6(
第1図(b) 参照)内にウエハ2が確実に挿入される
ことが必要である。このためのウエハ移動機構とカセッ
ト1との相対位置にずれが生じていたり, カセット1
が傾いていたりした場合には, ウエハ2の挿入が不可
能となったり, あるいは, カセット1とウエハ2と
の間の接触面に無理な力が加わって, レジスト膜が剥
離したりする問題が生じる。
実施例を説明するための平面図(a) と側面図(b)
であって,第1図と同じ部分には同一符号を付してあ
る。請求項2の発明は, カセット1にウエハ2を収納
する際のカセット1の姿勢制御機構に関するものであっ
て, 収納面側からカセット1内にウエハ2をを収納す
る場合, カセット1の両側面に設けられている溝6(
第1図(b) 参照)内にウエハ2が確実に挿入される
ことが必要である。このためのウエハ移動機構とカセッ
ト1との相対位置にずれが生じていたり, カセット1
が傾いていたりした場合には, ウエハ2の挿入が不可
能となったり, あるいは, カセット1とウエハ2と
の間の接触面に無理な力が加わって, レジスト膜が剥
離したりする問題が生じる。
【0013】本発明においては,第2図(a) に示す
ように, 光源31と受光器32との対および光源41
と受光器42との対から成る2対の光センサを, カセ
ット1の側面に対向して配置する。光源31と41およ
び受光器32と42は同一平面, 一般には水平面,
内に配置される。カセット1の両側面には,第3図(b
) に示すように,ウエハ2が挿入される前記溝6に沿
って部分的に開口7が設けられている。したがって,
光源31および41と受光器32および42とが配置さ
れる面を, カセット1に挿入されようとするウエハ2
の位置と一致させておき, 光源31および41からの
光ビームが, 受光器32および42にそれぞれ入射す
るようにカセット1の姿勢制御を行えば, ウエハ2を
カセット1内の所定溝6に確実に挿入可能となる。
ように, 光源31と受光器32との対および光源41
と受光器42との対から成る2対の光センサを, カセ
ット1の側面に対向して配置する。光源31と41およ
び受光器32と42は同一平面, 一般には水平面,
内に配置される。カセット1の両側面には,第3図(b
) に示すように,ウエハ2が挿入される前記溝6に沿
って部分的に開口7が設けられている。したがって,
光源31および41と受光器32および42とが配置さ
れる面を, カセット1に挿入されようとするウエハ2
の位置と一致させておき, 光源31および41からの
光ビームが, 受光器32および42にそれぞれ入射す
るようにカセット1の姿勢制御を行えば, ウエハ2を
カセット1内の所定溝6に確実に挿入可能となる。
【0014】この姿勢制御を行うための制御装置(図示
省略)の動作は, まず, 昇降機構10を作動してカ
セット1を上方(または下方)に移動し, 光センサ4
によりカセット1内のウエハ2の有無を検出する。ウエ
ハ2が存在する場合には, ウエハ2が検出されない位
置までカセット1を移動し, 昇降機構10を停止する
。次いで, 昇降機構22を作動し, 光源31または
41からの光ビームが, カセット1の両側面の開口7
を通過して受光器32または42に入射するようにカセ
ット1の姿勢制御を行う。
省略)の動作は, まず, 昇降機構10を作動してカ
セット1を上方(または下方)に移動し, 光センサ4
によりカセット1内のウエハ2の有無を検出する。ウエ
ハ2が存在する場合には, ウエハ2が検出されない位
置までカセット1を移動し, 昇降機構10を停止する
。次いで, 昇降機構22を作動し, 光源31または
41からの光ビームが, カセット1の両側面の開口7
を通過して受光器32または42に入射するようにカセ
ット1の姿勢制御を行う。
【0015】このときに, 光源31および41のそれ
ぞれからの光ビームが, 受光器32および42により
検出されたならば, 姿勢制御を完了とする。上記昇降
機構22の作動によって, 光源31または41の一方
の光ビームのみが検出された場合には, 次いで, 昇
降機構22および23を同一速度で同一方向に作動し,
光源31および41からの光ビームが受光器32およ
び42にそれぞれ入射するようにカセット1の姿勢制御
を行う。このようにして, カセット1に設けられてい
る前記溝6は, 光源31と41および受光器32と4
2の配置面と一致され, 前記溝6にウエハ2を確実に
挿入可能となり, また, カセット1とウエハ2との
接触面に無理な力が加わることが防止され, レジスト
膜の剥離が回避可能となる。
ぞれからの光ビームが, 受光器32および42により
検出されたならば, 姿勢制御を完了とする。上記昇降
機構22の作動によって, 光源31または41の一方
の光ビームのみが検出された場合には, 次いで, 昇
降機構22および23を同一速度で同一方向に作動し,
光源31および41からの光ビームが受光器32およ
び42にそれぞれ入射するようにカセット1の姿勢制御
を行う。このようにして, カセット1に設けられてい
る前記溝6は, 光源31と41および受光器32と4
2の配置面と一致され, 前記溝6にウエハ2を確実に
挿入可能となり, また, カセット1とウエハ2との
接触面に無理な力が加わることが防止され, レジスト
膜の剥離が回避可能となる。
【0016】なお, 光センサ4は前記と同様の光セン
サを用いればよく, また, 光源31と41および受
光器32と42としては, 周知のものを適宜用いるこ
とができる。とくに, 光源からの光を光ファイバによ
ってカセット1の側面に導き, 開口7を通過した光を
光ファイバに入射させて受光器に導く方式の光センサ(
例えばキーエンス社製の型番PS−52,サンクス社製
の型番SS−300, 立石電機社製の型番E32−T
C200B) 等が好適である。
サを用いればよく, また, 光源31と41および受
光器32と42としては, 周知のものを適宜用いるこ
とができる。とくに, 光源からの光を光ファイバによ
ってカセット1の側面に導き, 開口7を通過した光を
光ファイバに入射させて受光器に導く方式の光センサ(
例えばキーエンス社製の型番PS−52,サンクス社製
の型番SS−300, 立石電機社製の型番E32−T
C200B) 等が好適である。
【0017】
【発明の効果】本発明によれば, カセットに対する半
導体ウエハの取り出しおよび収納を確実にすることがで
き, その結果, 工程のスループット向上およびウエ
ハの汚染防止を可能とする効果がある。
導体ウエハの取り出しおよび収納を確実にすることがで
き, その結果, 工程のスループット向上およびウエ
ハの汚染防止を可能とする効果がある。
【図1】 請求項1記載の発明の一実施例説明図
【図
2】 請求項2記載の発明の一実施例説明図
2】 請求項2記載の発明の一実施例説明図
【図3】
従来の問題点説明図
従来の問題点説明図
1はカセット
2はウエハ
3と14と16は載置台
4と25と26は光センサ
6は溝
7は開口
10と22と23は昇降機構
11はモータ
12は支持軸
21は二軸回動機構
31と41は光源
32と42は受光器
Claims (2)
- 【請求項1】 第1の昇降機構によって上下される第
1の載置台と, ウエハが収納され且つ該ウエハが通過
可能な取り出し面を有するカセットが載置され且つ該第
1の載置台上に配置された第2の載置台と, 該カセッ
トの前記取り出し面の背面直下に配置され且つ該第1の
載置台と第2の載置台とを結合する二軸回動機構と,
各々が該カセットの前記取り出し面直下に配置され且つ
該第1の載置台上に固定された固定部と該第2の載置台
を支持する可動部とを有する第2の昇降機構と, 該カ
セットの前記背面に対向して配置され且つ前記背面に表
出する前記ウエハの端面を検出する第1の検出器と,該
第1の検出器と同一水平面内に配置され且つ該カセット
の前記取り出し面に表出する前記ウエハの端面を検出す
る第2の検出器と, 該第2の昇降機構を停止した状態
で該第1の昇降機構を作動し,該第1の検出器によって
前記ウエハの端面が検出されたときに該第1の昇降機構
を停止するとともに該第2の検出器によって前記ウエハ
の端面が検出されるように該第2の昇降機構を作動する
制御装置とを具備して成るウエハ用カセットの姿勢制御
機構。 - 【請求項2】 上下に移動可能に支持された第1の載
置台と, ウエハが収納される収納面を有するカセット
が載置され且つ該第1の載置台上に配置された第2の載
置台と, 該カセットの両側面のそれぞれに該ウエハに
対応して設けられた複数の開口と,該カセットの前記背
面直下に配置され且つ該第1の載置台と第2の載置台と
を結合する二軸回動機構と, 各々が該カセットの前記
収納面直下に配置され且つ該第1の載置台上に固定され
た固定部と該第2の載置台を支持する可動部とを有する
昇降機構と, 該カセットの前記両側面に対向して配置
され且つ前記開口を通過する光ビームの照射および検出
する光源および検出器と, 該第1の載置台を停止した
状態で該昇降機構を作動し,該開口を通過する前記光ビ
ームが該検出器によって検出されたときに該昇降機構を
停止する制御装置とを具備して成るウエハ用カセットの
姿勢制御機構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2402120A JPH04215454A (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | ウエハ用カセットの姿勢制御機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2402120A JPH04215454A (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | ウエハ用カセットの姿勢制御機構 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04215454A true JPH04215454A (ja) | 1992-08-06 |
Family
ID=18511939
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2402120A Withdrawn JPH04215454A (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | ウエハ用カセットの姿勢制御機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04215454A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6419439B2 (en) * | 1995-09-27 | 2002-07-16 | Jenoptik Aktiengesellschaft | Indexer for magazine shelves of a magazine and wafer-shaped objects contained therein |
US6530736B2 (en) * | 2001-07-13 | 2003-03-11 | Asyst Technologies, Inc. | SMIF load port interface including smart port door |
US6648587B1 (en) * | 1999-08-25 | 2003-11-18 | Maxtor Corporation | Material delivery system for clean room-like environments |
JP2013125811A (ja) * | 2011-12-14 | 2013-06-24 | Rozefu Technol:Kk | 積み重ね状態のウエハの傾き補正方法およびウエハのスタッキング装置 |
-
1990
- 1990-12-14 JP JP2402120A patent/JPH04215454A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6419439B2 (en) * | 1995-09-27 | 2002-07-16 | Jenoptik Aktiengesellschaft | Indexer for magazine shelves of a magazine and wafer-shaped objects contained therein |
US6648587B1 (en) * | 1999-08-25 | 2003-11-18 | Maxtor Corporation | Material delivery system for clean room-like environments |
US6530736B2 (en) * | 2001-07-13 | 2003-03-11 | Asyst Technologies, Inc. | SMIF load port interface including smart port door |
JP2013125811A (ja) * | 2011-12-14 | 2013-06-24 | Rozefu Technol:Kk | 積み重ね状態のウエハの傾き補正方法およびウエハのスタッキング装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980312 |